JP3205072B2 - 光電検出装置 - Google Patents
光電検出装置Info
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Description
プタを使用して被検出物体の位置検出を行う光電検出装
置に関するものである。
用して被検出物体の位置検出を行う光電検出装置は種々
のものが提案あるいは実用化され、その構成としては、
例えば図4に略断面図で示したような構成を備えるもの
が極めて一般的である。
1は、例えば発光ダイオ−ドからなる投光部2と例えば
フォトトランジスタからなる受光部3とを備え、装着部
材4に支持されている。投光部2と受光部3は、各々視
野を共有して並列配置されている。
ォトインタラプタ1と対向して配置されている。
ンタラプタ1との間に何も存在しない場合、投光部2の
投光面2aから射出された投光をその反射面5aで反射
することにより受光部3の受光面3aに導くように配置
されている。換言すれば、反射部材5は反射型フォトイ
ンタラプタ1と協働して図中に一点鎖線で示した検出光
路Lを形成する。
と反射部材5との間に位置せしめられ、例えば矢印A方
向に移動する。また、被検出体6には、光が通過できる
透光スリット6a,6bが形成されている。
置における被検出体6の位置検出動作について簡単に述
べる。
わち被検出体6の一部が検出光路Lの全域を横切ってい
る状態とすると、かかる初期状態においては投光部2か
らの投光は上記被検出体6によって遮断され、したがっ
て被検出体6の反射率を小さく設定すれば上記投光が受
光部3に到達しないと見做すことができる。
その透光スリット6aあるいは6bが検出光路Lに到達
すると、投光部2からの投光は透光スリット6aあるい
は6bを通過して反射部材5の反射面5aで反射され、
再び透光スリット6aあるいは6bを通過して受光部3
に入射することになる。
なり、かかる場合、投光の受光部3への入射はフォトト
ランジスタのオン動作という電気的な出力として検知さ
れることになる。
bの大きさを被検出体6の検出したい位置を考慮して設
定しておけば、被検出体6が検出したい位置にある時に
検出光路Lが、すなわち投光部2からの投光が反射部材
5によって反射され受光部3に到達する光路が遮断され
ることはなくなる。このため、上記設定により被検出体
6が検出したい位置にある時を、受光部3の出力によっ
て検知できる。
場合、検出光路Lは被検出体6の透光スリット6a,6
bにて開閉され、透光スリット6a,6bが検出光路L
を通過する毎に検出光路Lが形成される。このため、受
光部3にはパルス状に投光が入射することになり、受光
部3は透光スリット6a,6bが検出光路Lを通過する
毎にパルス出力を発生し、これにより被検出体6が検出
したい位置にある時を検出できる。
6a,6bは、被検出体6の検出したい位置情報数によ
り2個以上設けても良いことは詳述するまでもない。
ンタラプタを使用した光電検出装置の一般的な例につい
て述べたが、受光部による投光の受光検出動作を詳細に
見てみると、基本的には反射部材の反射面と被検出体の
検出光路を遮断する面との反射率差に基づいていること
は明らかである。
仮定され、よって投光部から射出された投光の拡散、散
乱あるいは被検出体までの距離および反射率を考える
と、反射率を小さく設定した被検出体による図4に示し
た検出光路の遮断状態においても受光部に入射する光が
存在することになる。実際には、かかる状態における入
射光による受光部の出力レベルと、透光スリットを介し
て投光が入射された場合における受光部の出力レベルの
差に基づき、先に述べたような被検出体の位置検出動作
を行っているわけである。
の二乗に反比例し、このため被検出体と反射部材の反射
率に大きな差を設けても光電検出装置としてのS/N比
についてみてみると、余裕は得られず、例えば反射型フ
ォトインタラプタ、反射部材、被検出体の位置関係が設
定位置関係と少しでも異なれば所望の検出動作を期待で
きなくなる不都合点を有していた。
射部材等の配置自由度が極めて小さく、この結果、光電
検出装置としての位置検出精度も高精度にできない不都
合点を有していた。
複数とするような展開の場合、より大きく影響し、実用
化には反射型フォトインタラプタ、反射部材等の配置精
度により大きな注意を払う必要のある不都合点を有して
いた。
もので、S/N比が高く、よって被検出体の位置検出精
度を高精度にできる反射型フォトインタラプタを使用し
た光電検出装置を提供することを目的とする。
置は、反射型フォトインタラプタと、反射部材と、光路
規制手段とを有し、反射型フォトインタラプタは視野を
共有して並設された投光部と受光部とからなり、投光部
から射出された投光が視野内の物体で反射されて受光部
で受光されるか否かを検知するものであり、反射部材は
反射型フォトインタラプタとその視野内において対向配
置され、反射型フォトインタラプタと協働してその視野
内に投光部から射出された投光を受光部に入射させる検
出光路を形成するものであり、光路規制手段は投光部と
受光部との間で、かつ夫々の投光面、受光面から視野側
の空間内に配置され、反射部材以外による投光の反射、
拡散、散乱による光が検出光路内に入ることを防止して
検出光路内を通過した投光のみが受光部に入射するよう
に投光の検出光路以外からの受光部への入射を阻止する
ものであり、被検出体を反射型フォトインタラプタと反
射部材との間に光路規制手段を介して位置させ、被検出
体による投光の反射、拡散、散乱による光を光路規制手
段にて防止して検出光路を形成できないように遮断する
ことにより被検出体の検出動作を行うように構成されて
いる。
されることから、投光部からの投光は、被検出体が検出
光路内に存在しない場合、反射部材にて反射され、すな
わち検出光路内を通って受光部に到達することになる。
合、投光部からの投光は反射部材に到達せず、すなわち
検出光路が遮断されるため受光部に到達することはな
い。
でないことおよび投光の拡散、散乱等を考えると、被検
出体によって反射され受光部へ入射しようとする光が発
生するが、かかる光は検出光路を形成することはなく、
よって光路規制手段による制御、規制を受け、受光部に
は殆ど到達できないことになる。
れば、被検出体の反射率がある程度高くても、検出光路
遮断時の不要な受光部への到達光を光路規制手段により
著しく少なく制御、規制できることから、上記検出光路
遮断時を確実に検知できることになる。
検出装置は、従来受光部による受光検出動作が反射部材
の反射面と被検出体の検出光路を遮断する面との反射率
差に基づいてなされていたのに対し、受光部による受光
検出動作を被検出体と反射部材の反射率差にあまり関係
なく行えることになる。
を高くでき、このため、反射型フォトインタラプタ、反
射部材等の配置自由度を極めて大きくすることができ、
さらに光電検出装置としての位置検出精度も高精度にで
きることになる。
を示す略断面図であり、図中、図4と同符号の要素は同
一機能の要素を示している。
との間の空間X内で、かつ夫々の投光面2a、受光面3
aから視野側、すなわち図1では下方に延出して配置さ
れ、投光部2からの投光の検出光路L以外からの受光部
3への入射を阻止する光路規制手段を示し、本実施例に
おいては、装着部材4と一体的に形成された遮光壁とし
て構成されている。
被検出体6の位置検出動作について述べるが、光路規制
手段7だけが図4に示した従来例の構成と異なり、よっ
て上記検出動作は基本的には先の従来例と同様の動作と
なる。
域を横切っている図1に示した状態であるが、投光部2
からの投光は被検出体6によって遮られ、反射部材5を
介しての検出光路Lが形成されないことから、先の従来
例同様、被検出体6の反射率を小さく設定すれば上記投
光が受光部3に到達しないと見做すことができる。
率が0%でないことおよび投光の拡散、散乱等を考える
と、被検出体6によって反射され受光部へ入射しようと
する不要光が発生する。
は、反射型フォトインタラプタ1と反射部材5との協動
により形成される検出光路Lを通った光のみが受光部3
に入射できるように投光部2からの投光を規制、換言す
れば検出光路L以外を通った光が受光部3に入射しない
ように制御する光路規制手段7を備え、一方、上述した
不要光は検出光路Lを形成しないことは詳述するまでも
なく、この結果、上記不要光は光路規制手段7による制
御、規制を受け、具体的には受光部3に向かっても光路
規制手段7に遮られ、受光部3には殆ど到達できないこ
とになる。
検出光路Lの遮断時に生じる不要光の受光部への到達を
光路規制手段7により著しく少なく制御、規制できるこ
とから、検出光路Lの遮断時を極めて高いS/N比をも
って検出できることになる。換言すれば、被検出体6の
反射率に大きな影響を受けることなく、検出光路Lの遮
断時を確実に検知できることになる。
その透光スリット6aあるいは6bが検出光路Lに到達
すると、先の従来例同様、投光部2からの投光は透光ス
リット6aあるいは6bを通過して反射部材5の反射面
5aで反射され、再び透光スリット6aあるいは6bを
通過して受光部3に入射する。
部3への入射は電気的な出力として検知され、透光スリ
ット6aあるいは6bの大きさを被検出体6の検出した
い位置を考慮して設定しておけば、被検出体6が検出し
たい位置にある時を、受光部3の出力によって検知でき
る。
場合、検出光路Lは被検出体6の透光スリット6a,6
bにて開閉され、このため、受光部3は透光スリット6
a,6bが検出光路Lを通過する毎にパルス出力を発生
し、これにより被検出体6が検出したい位置にある時を
検出できる。
来例同様、被検出体6の検出したい位置情報数により2
個以上設けても良いことは詳述するまでもなく、また装
着部材4と一体的に設けた光路規制手段7は必要に応じ
て独立構成としたり、あるいは反射型フォトインタラプ
タ1に対して一体的あるいは非一体的に形成しても良い
ことももちろんである。
施例を示す略断面図であり、図中、図1と同符号の要素
は同一機能の要素を示している。
の実施例における光路規制手段7の装着部材4との一体
化をさらに進めた例である。
部材4の厚みを利用して形成された構成となされてい
る。
を、検出光路Lの規制領域を考慮して装着部材4に特別
に遮光壁として一体形成していたが、本実施例は、あら
かじめ上記規制領域を考慮した厚みを有する装着部材4
を選定し、光路となる挿通孔4a、4bを形成すること
により構成している。
材4の製造に関し、コスト面、強度面で先の実施例より
有利となることが考えられる。
/N比については、先に述べた実施例と同等の作用、効
果を得られることになり、説明は省略する。
他の実施例を示す略断面図であり、図中、図1、図2と
同符号の要素は同一機能の要素を示している。
に有効な実施例であり、図3からも明らかなように先の
実施例とは異なり、適宜の開口8aを有し、光路規制手
段7と反射部材5との間に配置された絞り部材8を備え
ている。
らの投光を受光部3に入射させる検出光路Laは、反射
型フォトインタラプタ1と反射部材5および絞り部材8
が互いに協働することにより形成される。すなわち、検
出光路Laは、絞り部材8の開口8aを介して供給され
る投光部2からの投光を反射部材5が反射し、再度絞り
部材8の開口8aを介して受光部3に入射させる光路と
なる。
と絞り部材8との間に、第2被検出体6Bは絞り部材8
と反射部材5との間に位置させている。
の場合、複数の被検出体を検知しようとしていることか
ら、光路規制手段7と被検出体の関係について見てみる
と、第1被検出体6Aと光路規制手段7との関係は、先
の二つの実施例と同一であるが、第2被検出体6Bと光
路規制手段7との関係については先の二つの実施例と異
なっている。
ら、第2被検出体6Bは必然的に光路規制手段7から離
れた位置に配置されることになる。
光路Laの遮断時における不要光の制御、規制状態は先
の二つの実施例と同等となるが、第2被検出体6Bによ
る検出光路Laの遮断時における不要光の制御、規制状
態は、光路規制手段7から離れた分だけ不要光の遮断が
不十分となる不都合を生じることが考えられる。
制手段7と反射部材5との間に適宜の開口8aを有した
絞り部材8を配置し、かつ第2被検出体6Bを絞り部材
8と反射部材5間に位置せしめるように構成している。
側に存在する光は、開口8aを通らない限り第2被検出
体6Bあるいは反射部材5に到達することはできず、ま
た絞り部材8よりより反射部材5側に存在する光は、開
口8aを通らない限り受光部3に入射することはできな
いことになる。
Laの遮断時における不要光の発生および受光部3への
入射は、上述した絞り部材8の作用を介しての発生、入
射となり、例えば、検出光路Laの形成および上記不要
光の発生および受光部3への入射状態をあらかじめ考慮
して絞り部材8の開口8aの形状を設定することによ
り、光路規制手段7から離れた分だけ光路規制手段7に
よる不要光の遮断が不十分となる不都合を実用レベルに
十分な状態まで改善できることになる。
検出体6A、6Bの検知動作は、基本的な動作、すなわ
ち検出光路Laの遮断の有無により検知する動作は先に
述べた二つの実施例と同様の動作となると共に、そのS
/N比についても先に述べた二つの実施例と同様十分に
高いS/N比を得られることになる。
a,6bの形成数および光路規制手段7の形成形態につ
いては先の従来例同様、種々展開できる。
ように反射型フォトインタラプタと反射部材との協動に
より形成される検出光路を通った光のみが受光部に入射
できるように投光部からの投光を規制する光路規制手段
を備えて構成されるため、検出光路Lの遮断時に生じる
不要光の受光部への到達を著しく少なく制御、規制でき
ることになり、この結果、検出光路の遮断時を極めて高
いS/N比をもって検出できることになる効果を有して
いる。
響を受けることなく、検出光路の遮断時を確実に検知で
きることになり、反射型フォトインタラプタ、反射部材
等の配置自由度を比較的高くでき、この結果、光電検出
装置としての位置検出精度を極めて高精度にできる効果
を有している。
宜開口を有した絞り部材を配置し、かつ被検出体を絞り
部材と反射部材間に位置せしめるように構成したことか
ら、被検出体を複数とする展開の場合でも、極めて高い
S/N比をもって複数の被検出体を検出でき、よって光
電検出装置としての位置検出精度を極めて高精度にでき
る効果を有している。
断面図
略断面図
を示す略断面図
Claims (3)
- 【請求項1】 反射型フォトインタラプタと、反射部材
と、光路規制手段とを有し、反射型フォトインタラプタ
は視野を共有して並設された投光部と受光部とからな
り、投光部から射出された投光が視野内の物体で反射さ
れて受光部で受光されるか否かを検知するものであり、
反射部材は反射型フォトインタラプタとその視野内にお
いて対向配置され、反射型フォトインタラプタと協働し
てその視野内に投光部から射出された投光を受光部に入
射させる検出光路を形成するものであり、光路規制手段
は投光部と受光部との間で、かつ夫々の投光面、受光面
から視野側の空間内に配置され、反射部材以外による投
光の反射、拡散、散乱による光が検出光路内に入ること
を防止して検出光路内を通過した投光のみが受光部に入
射するように投光の検出光路以外からの受光部への入射
を阻止するものであり、被検出体を反射型フォトインタ
ラプタと反射部材との間に光路規制手段を介して位置さ
せ、被検出体による投光の反射、拡散、散乱による光を
光路規制手段にて防止して検出光路を形成できないよう
に遮断することにより被検出体の検出動作を行う光電検
出装置。 - 【請求項2】光路規制手段は、反射型フォトインタラプ
タを装着する装着部に、装着部材の厚みを利用して形成
された規制壁である請求項1記載の光電検出装置。 - 【請求項3】反射型フォトインタラプタと、反射部材
と、光路規制手段と、絞り部材とを有し、反射型フォト
インタラプタは視野を共有して並設された投光部と受光
部とからなり、投光部からの投光が視野内の物体で反射
されて受光部で受光されるか否かを検知するものであ
り、反射部材は反射型フォトインタラプタとその視野内
において対向配置され、光路規制手段は投光部と受光部
との間の空間内で、かつ夫々の投光面、受光面から視野
側に延出して配置され、絞り部材は光路規制手段と反射
部材との間に配置され、反射部材と反射型フォトインタ
ラプタおよび絞り部材は互いに協働して、絞り部材を介
して供給される投光部からの投光を反射し絞り部材を介
して受光部に入射させる検出光路を形成し、光路規制手
段は投光の検出光路以外からの受光部への入射を阻止
し、第1被検出体を光路規制手段と絞り部材との間に、
第2被検出体を絞り部材と反射部材との間に位置させて
夫々に検出光路を遮断させることにより第1、第2の被
検出体の検出動作を行う光電検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25249692A JP3205072B2 (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 光電検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25249692A JP3205072B2 (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 光電検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06102351A JPH06102351A (ja) | 1994-04-15 |
JP3205072B2 true JP3205072B2 (ja) | 2001-09-04 |
Family
ID=17238186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25249692A Expired - Lifetime JP3205072B2 (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 光電検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3205072B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JP2006296951A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Samii Kk | 遊技機用メダル選別装置 |
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JP6819635B2 (ja) * | 2018-03-14 | 2021-01-27 | オムロン株式会社 | 光電センサ |
-
1992
- 1992-09-22 JP JP25249692A patent/JP3205072B2/ja not_active Expired - Lifetime
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