JP3203461B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JP3203461B2
JP3203461B2 JP34518293A JP34518293A JP3203461B2 JP 3203461 B2 JP3203461 B2 JP 3203461B2 JP 34518293 A JP34518293 A JP 34518293A JP 34518293 A JP34518293 A JP 34518293A JP 3203461 B2 JP3203461 B2 JP 3203461B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
weight
composition according
group
photosensitive composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP34518293A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06228413A (ja
Inventor
シュタインマン ベッチナ
ヲルフ ジェン−ピエール
シュルトヘス アドリアン
フンツィカー マックス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Original Assignee
Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=4266050&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP3203461(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH filed Critical Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Publication of JPH06228413A publication Critical patent/JPH06228413A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3203461B2 publication Critical patent/JP3203461B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037Production of three-dimensional images
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y70/00Materials specially adapted for additive manufacturing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/10Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polymers containing more than one epoxy radical per molecule
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性組成物、化学線
により該組成物を重合する方法、および光重合した層
の製造、特に幾つかの光重合した層からなる三次元物品
の製造に於ける該組成物の使用に関する。
【0002】
【従来の技術】公知のように、放射線に敏感な液体樹脂
もしくは樹脂系は様々な用途で、特に被覆組成物、接着
剤もしくはホトレジストとして使用される。特に通常
液体樹脂もしくは樹脂系はまた米国特許第457533
0に記載のステレオリグラフィー法による三次元物品
の製造に適している;しかし多くの樹脂はあまりにも粘
稠であり、光硬化後、寸法正確性に関する高い要求を完
全に満足させるものではなく、現今では、これが物品ま
たは成形物品の材料である。
【0003】公知のように、ステレオリグラフィー法
は複雑な三次元物品を液体、光重合樹脂から製造するた
めに使用されうる。該物品は層中で形成され、それぞれ
の新しい硬化性樹脂層はUV/VIS光を用いた予備
硬化により予め予備硬化された層に強固に結合される。
三次元物品の全体的な構造はコンピューター制御により
製造される。薄い層の連続的な重合方法に於いて、一般
に、どの層も完全に硬化することはない。完全に硬化し
ていない物品は、未硬化型として公知であり、また未硬
化型の引張強度および曲げ強さまた、未処理強度と呼
ばれる。未硬化型は通常UV/VIS光、例えば水銀ま
たはキノンアークランプにより硬化される。従って、
材の未処理強度は重要なパラメーターを構成し、なぜな
ら低い未処理強度を有する物品はそれ自身の重量により
分解するか、または硬化中に沈澱または崩壊するからで
ある。
【0004】ステレオリグラフィー法に於いて公知で
ある判断基準は、いわゆるカール因子(carl fa
ctor)である。カール因子は、使用される樹脂系か
製造された物品または成形物品の収縮現象の測定に使
用されている。カール因子の測定法は、例えば、“Pr
oceedings 2nd Int.Conferen
ce in Rapid Prototyping”,
Dayton,Ohio(1991)に記載されてい
る。
【0005】最近、ステレオリグラフィー法に使用さ
れる樹脂系を発展させる努力がなされている。特開平2
75618号に、エポキシ樹脂、アクリレート、カチ
オン性およびラジカル光開始剤、およびまたOH−末端
ポリエステルからなる混合物が開示されている。使用さ
れるアクリレート成分は少なくとも50重量%の3つ
り多い二重結合を有するアクリレートモノマーからな
る。
【0006】欧州特許第360869号に、照射−硬化
性もしくはカチオン性重合性有機化合物およびカチオン
性光開始剤から成形のための樹脂混合物、また適
当ならば他のラジカル−重合成分、例えばポリアクリレ
ートの付随使用が可能であることが開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明により、付加的
に、ポリオール、OH−末端ポリエステルまたはOH−
末端ポリウレタンからなる照射−感光性エポキシアクリ
レート混成物がステレオリグラフィー法に使用されう
ることが見出された。該樹脂系は未硬化状態および完全
硬化後に於いて、とても低い粘度、とても低いカール因
子および良好な機械特性特徴とする
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)少なく
とも1種の、エポキシ価が2以上の液体エポキシ樹脂4
0−80重量%、 (B)成分A)のための少なくとも1種のカチオン性光
開始剤0.1−10重量%、 (C)少なくとも1種の、液体環状脂肪族または芳香族
ジアクリレート5−40重量%、 (D)少なくとも1種の、(メタ−)アクリレート価数
が2より大きい液体ポリ(メタ−)アクリレート0−1
5重量%;該成分D)の比率は、(メタ−)アクリレー
トの全含有量の最高50重量%、 (E)成分C)のおよび適当ならば成分D)のための、
少なくとも1種の、ラジカル光開始剤0.1−10重量
%、および、 (F)少なくとも1種の、OH末端のポリエーテル、ポ
リエステルまたはポリウレタン5−40重量%、からな
る感光性組成物に関する。
【0009】上記の成分A)ないしF)の重量%は使用
される全成分の合計が常に100重量%であると解され
るべきである。
【0010】成分D)の比率が(メタ−)アクリレート
の全含有量の最高40重量%である組成物が好ましい。
【0011】感光性組成物は、好ましくは、(A)少な
くとも1種の、エポキシ価が2以上の液体エポキシ樹脂
50−75重量%、 (B)成分A)のための少なくとも1種の、カチオン性
光開始剤0.2−5重量%、 (C)少なくとも1種の、液体環状脂肪族または芳香族
ジアクリレート5−20重量%、 (D)少なくとも1種の、アクリレート価数が2より大
きい液体ポリアクリレート0−10重量%;該成分D)
の比率はアクリレートの全含有量の最高50重量%、 (E)成分C)および適当ならば成分D)のための少な
くとも1種の、ラジカル光開始剤0.2−5重量%、お
よび、 (F)少なくとも1種の、OH末端ポリエーテル、ポリ
エステルまたはポリウレタン10−40重量%からな
る。
【0012】本発明の組成物に使用される液体エポキシ
樹脂は、分子中に1,2−エポキシを平均して1個よ
りも多く有する化合物である。
【0013】該樹脂は脂肪族、芳香族、環状脂肪族、芳
香族脂肪族または複素環状構造を有すことができ;それ
らは側鎖としてエポキシからなるか、または脂環式の
もしくは複素環系の一部を形成する基からなる。該型の
エポキシ樹脂は一般に公知でありまた商業的に入手可能
である。
【0014】該型のエポキシ樹脂の例が以下に示され
る: I)1分子中に少なくとも2個のカルボキシ基を有する
化合物とエピクロロヒドリンまたはグリセロールジクロ
ロヒドリンもしくはβ−メチル−エピクロロヒドリンの
反応から得られる、ポリグリシジルおよびポリ(β−メ
チルグリシジル)エステル。反応は都合良くは塩基の存
在下で行なわれる。脂肪族ポリカルボン酸は分子中に少
なくとも2個のカルボキシ基を有する化合物として使用
される。該ポリカルボン酸の例はグルタール酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、セバシン酸、アゼライック酸、セバ
シン酸または二量化もしくは三量化リノリン酸である。
しかしながら、また環状脂肪族ポリカルボン酸、例えば
テトラヒドロフタール酸、4−メチルテトラヒドロフタ
ール酸、ヘキサヒドロフタール酸または4−メチルヘキ
サヒドロフタール酸を使用することも可能である。また
芳香族ポリカルボン酸、例えばフタール酸、イソフター
ル酸、トリメリット酸またはピロメリット酸を使用する
ことも可能である。カルボキシ基に中断された付加物、
例えばトリメリック酸およびポリオール、例えばグリセ
ロールまたは2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキ
シル)プロパンである。
【0015】II)少なくとも2個の遊離アルコホール
性ヒドロキシ基および/またはフェノール性ヒドロキシ
基および適当に置換されたエピクロロヒドリンをアルカ
リ条件下、または酸触媒の存在下の反応の後にアルカリ
で処理することから得られる、ポリグリシジルまたはポ
リ(β−メチルグリシジル)エーテル。該型のエーテル
は、例えば非環式アルコール、例えばエチレングリコー
ル、ジエチレングリコールおよび高級ポリ(オキシレ
ン)グリコール、プロパン−1,2−ジオール、または
ポリ(オキシプロピレン)グリコール、プロパン−1,
3−ジオール、ブタン−1,4−ジオール、ポリ(オキ
シテトラメチレン)グリコール、ペンタン−1,5−ジ
オール、ヘキサン−1,6−ジオール、ヘキサン−2,
4,6−トリオール、グリセロール、1,1,1−トリ
メチロールプロパン、ビストリメチロールプロパン、ペ
ンタエリトリトール、ソルビトール、およびまたポリエ
ピクロロヒドリンから誘導される。しかしながら、それ
らはまた例えば、環状脂肪族アルコール、例えば1,3
−または1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、ビス
(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンまたは
1,1−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキシ−3−
エンから誘導されるか、またはそれらは芳香族核、例え
ばN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリンまた
はp,p’−ビス(2−ヒドロキシエチルアミノ)ジフ
ェニルメタンを有する。エポキシ化合物はまた単核フェ
ノール、例えばレゾルシノールまたはヒドロキノンから
誘導される、またはそれらは多核フェノール、例えばビ
ス(4−ヒドロキシフェノール)メタン(ビスフェノー
ルF)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロパン(ビスフェノールA)に基づいて、または縮合生
成物に基づいて、フェノールまたはクレゾールのフェノ
ールの酸条件下で、ノボラックおよびクレゾールノボラ
ックといったアルデヒドにより得られる。
【0016】III)ポリ(N−グリシジル)化合物
は、例えばエピクロロヒドリンと少なくとも2個のアミ
ン水素原子からなるアミンとの反応生成物の脱塩酸によ
り得られる。該アミンは、例えば、n−ブチルアミン、
アニリン、トルイジン、m−キシレンジアミン、ビス
(4−アミノフェニル)メタンまたはビス(4−メチル
アミノフェニル)メタンである。しかしながら、ポリ
(N−グリシジル)化合物はまた、シクロアルキレンウ
レアのN,N’−ジグリシジル誘導体、例えばエチレン
ウレアまたは1,3−プロピレンウレア、およびヒダン
トインのN,N’−ジグリシジル誘導体、例えば5,5
−ジメチルヒダントインである。
【0017】IV)ポリ(S−グリシジル)化合物の例
は、ジ−S−グリシジル誘導体であり、それはジチオー
ル、例えばエタン−1,2−ジチオールまたはビス(4
−メルカプトメチルフェニル)エーテルから誘導され
る。
【0018】V)エポキシ基が非環式または複素環状環
系の一部を形成する、エポキシ化合物の例は、ビス
(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2,3
−エポキシシクロペンチルグリシジルエーテル、1,2
−ビス(2,3−エポキシシクロペンチルオキシ)エタ
ン、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタンジグ
リシジルエーテル、2,2−ビス(4−ヒドロキシシク
ロヘキシル)プロパンジグリシジルエーテル、3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−
メチル−シクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ジ−(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル)ヘキサンジオエー
ト、ジ−(3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキ
シルメチル)ヘキサンジオエート、エチレンビス(3,
4−エポキシ−シクロヘキサンカルボキシレート)、エ
タンジオールジ−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジ
シクロペンタジエンジエポキシドまたは2−(3,4−
エポキシシクロヘキシ−5,5−スピロ−3,4−エポ
キシ)シクロヘキサン−1,3−ジオキサンである。
【0019】しかしながら、また1,2−エポキシ基が
異なる複素原子または官能基に結合しているエポキシ樹
脂を使用することも可能である。該化合物は、例えば、
4−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘
導体、サリチル酸のグリシジルエーテルグリシジルエス
テル、N−グリシジル−N’(2−グリシジルオキシプ
ロピル)−5,5−ジメチルヒダントインまたは2−グ
リシジルオキシ−1,3−ビス(5,5−ジメチル−1
−グリシジルヒダントイン−3−イル)プロパンであ
る。
【0020】更に、該エポキシ樹脂の液体予備反応付加
物と硬化剤は、エポキシ樹脂に適する。
【0021】本発明の組成物中のエポキシ樹脂の混合物
を使用することがまた可能である。
【0022】成分A)が環状脂肪族ジエポキシドの少な
くとも50重量%からなる組成物が好ましい。
【0023】環状脂肪族ジエポキシドがビス(4−ヒド
ロキシシクロヘキシル)メタンジグリシジルエーテル、
2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパ
ンジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキ
サンカルボキシレート、ジ−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、ジ−(3,4−
エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル)ヘキサ
ンジオエート、エチレンビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート)、エタンジオールジ−
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテルま
たは2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−1,3−
ジオキサンである組成物が特に好ましい。
【0024】本発明の組成物の成分B)として、多くの
公知および技術的に証明されたエポキシ樹脂のカチオン
性光開始剤が使用される。それらは例えば、弱い求核性
のアニオンとのオニウム塩である。例えば、ハロニウム
塩、イオドジル塩またはスルホニウム塩であり、それは
欧州特許第153904号に開示されており、スルホキ
ソニウム塩は、例えば欧州特許第35969、4427
4、54509および16314号に開示されてい
る、またはジアゾニウム塩、例えば米国特許第3708
296号に開示されている。他のカチオン性光開始剤
は、メタロセン(metallocene)塩、例えば欧州特許第9
4914および94915号に開示されたようなもので
ある。
【0025】他の最近のオニウム塩開始剤および/また
はメタロセン塩について研究は“UV−Curing,
Science and Technology”,
(Editor:S.P.Pappas,Techno
logy MarketingCorp.,642 W
estover Road,Stanford,Con
neticut,USA)または“Chemistry
& Technology of UV & EB
Formulation for Coatings,
Inks & Paints”,Vol.3(edit
ed by P.K.T.Oldring)に記載され
ている。
【0026】成分B)として次式I,IIまたはIII
【化7】 (式中 R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR
7 が、各々独立して未置換または適した基により置換さ
れた炭素原子数6ないし18のアリール基を表し、Lが
硼素原子、燐原子、砒素原子またはアンチモン原子を表
し、Qがハロゲン原子を表すか、またはアニオンLQm
- 中の基Qの幾つかがヒドロキシ基を表し、またmがL
の原子価+1に相当する整数を表す。)で表わされる化
合物を含む組成物が好ましい。
【0027】炭素原子数6ないし18のアリール基の例
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェ
ナントリル基である。適した基に存在する置換基は、ア
ルキル基、好ましくは炭素原子数1ないし6のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル
基、第三−ブチル基またはある種のペンチル基またはヘ
キシル異性体、アルコキシ基、好ましくは炭素原子数1
ないし6のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基またはヘ
キシルオキシ基、アルキルチオ基、好ましくは炭素原子
数1ないし6のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、
エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチ
ルチオ基またはヘキシルチオ基、ハロゲン原子、例えば
弗素原子、塩素原子、硼素原子または硫黄原子、アミノ
、シアノ、ニトロ基またはアリールチオ基、例えば
フェニルチオ基である。
【0028】好ましいハロゲン原子Qの例は、塩素原子
および好ましくは弗素原子である。好ましいアニオンL
m - はBF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 -
およびSbF5 (OH)- である。
【0029】成分B)として、R5,R6およびR7がア
リール基、特にアリール基がフェニル基またはビフェニ
ル基である式IIIの化合物からなるか、または該2つ
の化合物の混合物からなる組成物が特に好ましい。
【0030】成分B)として次式IV
【化8】 (式中 cが1または2を表し、dが1,2,3,4ま
たは5を表し、Xが求核性でないアニオン、特にPF6
- ,AsF6 - ,SbF6 - ,CF3 SO3 - ,C2
5 SO3 - ,n−C3 7 SO3 - ,n−C4 9 SO
3 - ,n−C6 1 3 SO3 - またはn−C8 1 7
3 - を表し、R8 がπ−アリーン基を表し、およびR
9 がπ−アリーン基のアニオン、特にシクロペンタジエ
ニルアニオンを表す。)で表わされる化合物を含む組成
物がまた好ましい。
【0031】R8として好ましいπ−アリーン基の例
は、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メ
トキシベンゼン、メチルナフタレン、ピレン、ペリレ
ン、スチルベン、ジフェニレンオキサイドおよびジフェ
ニレンスルフィドである。
【0032】クメン、メチルナフタレンまたはスチルベ
ンが特に好ましい。
【0033】求核アニオンX-の例はFSO3 -、有機
スルホン酸、カルボン酸のアニオン、または前記と同じ
意味を表すアニオンLQm -である。
【0034】好ましいアニオンは、部分的にフルオロ−
もしくはペルフルオロ−脂肪族または部分的にフルオロ
−もしくはペルフルオロ−芳香族カルボン酸、または特
に、部分的にフルオロ−もしくはペルフルオロ−脂肪族
または部分的にフルオロ−もしくはペルフルオロ−芳香
族有機スルホン酸から誘導されるか、またはそれらは好
ましくはアニオンLQm - である。
【0035】アニオンXの例は、BF4 -、PF6 -、As
6 -、SbF6 -、SbF5(OH)-、CF3SO3 -、C2
5SO3 -、n−C37SO3 -、n−C49SO3 -、n
−C613SO3 -、n−C817SO3 -、C65SO3 -
タングステン酸燐(PO4012 3-)またはタングステン
酸ケイ素(SiO4012 4-)である。
【0036】PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、CF
3 SO3 - 、C2 5 SO3 - 、n−C3 7
3 - 、n−C4 9 SO3 - 、n−C6 13SO3 -
およびn−C8 1 7 SO3 - が好ましい。
【0037】メタロセン塩はまた酸化剤と共に使用され
うる。該組成物は欧州特許第126712号に開示され
ている。
【0038】光効率を増加するために、開始剤の型に依
存して、増感剤を使用することも可能である。例はポリ
環状芳香族炭化水素または芳香族ケト化合物である。好
ましい増感剤の特別な例は欧州特許第153904号に
開示されている。
【0039】成分C)として適したものは、例えば、環
状脂肪族または芳香族ジオールのジアクリレート、例え
ば1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、ビ
ス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、ヒドロキ
ノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、エトキ
シ化またはプロポキシ化ビスフェノールA、エトキシ化
もしくはプロポキシ化ビスフェノールFまたは、エトキ
シ化もしくはプロポキシ化ビスフェノールSである。該
ジアクリレートは公知であり、またそのうちの幾つかは
商業的に入手可能である。
【0040】成分C)として次式V,VI,VIIまた
はVIII
【化7】 (式中 Yが直接結合,炭素原子数1ないし6のアルキ
レン基,−S−,−O−,−SO−,−SO2−または
−CO−を表し、R10が炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、未置換または1以上の炭素原子数1ないし4の
アルキル基、ヒドロキシ基もしくはハロゲン原子により
置換されたフェニル基、または式−CH2−OR11で表
わされる基を表し、R11が炭素原子数1ないし8のアル
キル基またはフェニル基を表し、および、Aが次式
【化8】 で表わされる基を表す。)で表わされる化合物を含む
か、または成分C)として次式IXaないしIXd
【化9】
【化10】 で表わされるいずれかの化合物および相当する異性体
含む組成物が好ましい。
【0041】置換基が炭素原子数1ないし4のアルキル
基または炭素原子数1ないし8のアルキル基である場
合、それは直鎖であるかまたは分枝鎖である。炭素原子
数1ないし4のアルキル基は、例えば、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、第二−ブチル基、イソブチル基または第三−ブチル
基であり、また炭素原子数1ないし8のアルキル基は付
加的に、例えば幾つかのペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基またはオクチル基の異性体である。
【0042】置換基がハロゲン原子の場合、弗素原子、
塩素原子、臭素原子または硫黄原子であるが、特には塩
素原子または臭素原子である。
【0043】置換基が炭素原子数1ないし6のアルキレ
ン基の場合、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン(メチルエチレン)基、トリメチレン基、1,1−
プロパンジイル基、2,2−プロパンジイル基、テトラ
メチレン基、エチルメチレン基、1,1−ブタンジイル
基、2,2−ブタンジイル基、ペンタメチレン基または
ヘキサメチレン基である。アルキレンはまた、ハロゲン
原子により置換されうる。ハロゲン化アルキレン基の例
は、−C(CCl32−および−C(CF32−であ
る。
【0044】組成物の中で特に好ましいのは、Yが−C
2 −または−C(CH3 2 −である式V,VIまた
はVIIの化合物である。
【0045】また特に好ましいのは、R10がn−ブチル
基、フェニル基、n−ブトキシメチル基またはフェノキ
シメチル基である式VIIの化合物である。
【0046】適当ならば、本発明の成分中で、成分D)
として使用される、2価より多い(メタ−)アクリレー
ト価を有する液体ポリ(メタ−)アクリレートは、例え
ば、トリ−、テトラ−またはペンタ−官能性単量体また
は低重合体脂肪族、環状脂肪族または芳香族アクリレー
トまたはメタアクリレートである。
【0047】脂肪族多官能性(メタ−)アクリレートと
して適したものは、例えば、ヘキサン−2,4,6−ト
リオールグリセロールまたは1,1,1−トリメチロー
ルプロパンのトリアクリレートおよびトリメタクリレー
ト、エトキシル化もしくはプロポキシ化グリセロールま
たは1,1,1−トリメチロールプロパンおよびヒドロ
キシ基含有トリメタクリレートであり、それは、トリエ
ポキシ化合物、例えば前記したトリオールと(メタ−)
アクリル酸のトリグリシジリエーテルの反応により得ら
れる。また例えば、ペンタエリトリトールテトラアクリ
レート、ビストリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリ−アクリ
レートもしくはメタアクリレートまたはジペンタエリト
リトールモノヒドロキシペンタ−アクリレートもしくは
−メタアクリレートを使用することも可能である。
【0048】六官能性ウレタンアクリレートまたはウレ
タンメタアクリレートを使用することがまた可能であ
る。該ウレタン(メタ−)アクリレートは当業者に公知
であり、また公知の方法により製造されうる、例えばヒ
ドロキシ基末端のポリウレタンとアクリル酸もしくはメ
タクリル酸を反応させることにより、またはイソシアネ
ート基末端のプレポリマーとヒドロキシアルキル(メタ
−)アクリレートの反応によりウレタン(メタ−)アク
リレートを形成する反応によってである。
【0049】芳香族トリ(メタ−)アクリレートとして
適したものは、例えば、トリヒドリックフェノールのト
リグリシジルエーテル、および3つのヒドロキシ基を有
するフェノールまたはクレゾールノボラックと(メタ
−)アクリル酸との反応生成物である。
【0050】成分D)として使用される(メタ−)アク
リレートは公知の化合物であり、また幾つかは商業的
に、例えばサートーマー社(SARTOMER Com
pany)およびUCBから入手可能である。
【0051】成分D)がトリ(メタ−)アクリレートま
たはペンタ(メタ−)アクリレートである組成物が好ま
しい。
【0052】成分D)がジペンタエリトリトールモノヒ
ドロキシペンタ(メタ−)アクリレートである組成物が
特に好ましい。
【0053】好適に照射された場合に、遊離基を形成す
るどの様な種類の光開始剤でも、本新規組成物における
成分(E)として用いることができる。代表的な公知の
光開始剤は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルおよびベンゾ
インアセテートを包含するベンゾイン類、ベンゾインエ
ーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシアセト
フェノンおよび1,1−ジクロロアセトフェノンを包含
するアセトフェノン類;ベンジル、ベンジルケタール類
例えばベンジルジメチルケタールおよびベンジルジエチ
ルケタール;2−メチルアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−第3ブチルアントラキノン、1−ク
ロロアントラキノンおよび2−アミルアントラキノンを
包含するアントラキノン類、トリフェニルホスフィン;
ベンゾイルホスフィンオキシド例えば2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド〔ルツ
ィリン(Luzirin )TPO〕;ベンゾフェノン類例えば
ベンゾフェノンおよび4,4′−ビス(N,N′−ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノン;チオキサントン類および
キサントン類;アクリジン誘導体;フェナジン誘導体;
キノキサリン誘導体または1−フェニル−1,2−プロ
パンジオン、2−O−ベンゾイルオキシム;1−アミノ
フェニルケトン、または1−ヒドロキシフェニルケトン
例えば1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
フェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンおよび4−
イソプロピルフェニル1−ヒドロキシイソプロピルケト
ンである。
【0054】通常、光源としてのHeCdレーザーと
組み合わせて使用される特に適当な光開始剤は、2,2
−ジアルコキシベンゾフェノンのようなアセトフェノン
および−ヒドロキシフェニルケトン、典型的には1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンもしくは(2
−ヒドロキシイソプロピル)フェニルケトン(=2−ヒ
ドロキシ−2,2−ジメチルアセトフェノン)であるが
特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンであ
る。
【0055】アルゴン−イオンレーザーが使用される際
に通常使用される、光開始剤E)の他の類は、ベンジル
ケタールからなり、それは、例えば、ベンジルジメチル
ケタールからなる。特にα−ヒドロキシフェニルケト
ン、ベンジルジメチルケタールまたは2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが光
開始剤として使用される。
【0056】他の適当な光開始剤(E)はイオン染料−
カウンターイオン化合物からなる。該化合物は化学線を
吸収し、そしてアクリレーの重合を開始させる遊離基
を生成することができる。イオン染料−カウンターイオ
ン化合物を含む本発明の組成物を、400ないし700
nmの調節可能な波長範囲内の可視光を使用する、より
可変性の方法で硬化することができる。イオン染料−カ
ウンターイオン化合物およびその作用の態様は公知であ
る、例えばEP−A−0223587および米国特許
4751102;4772530および4772541
に開示されている。代表的な適したイオン染料−カウン
ターイオン化合物の例はアニオン染料−ヨードニウムイ
オン錯体、アニオン染料−ピリリウムイオン錯体および
特に次式:
【化11】 (式中 D+はカチオン染料およびR12、R13、R14
よびR15は各々独立してアルキル基、アリール基、アル
カリル基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基もし
くはアルキニル基、脂環式または飽和もしくは不飽和ヘ
テロ環式基を表す。)で表されるカチオン染料−ボレー
トアニオン錯体である。R12ないしR15の好ましい定義
は、例えば欧州特許第223587号に開示されてい
る。
【0057】公知のように、光開始剤の有効量、即ち組
成物の全含有量の0.1ないし10重量%が添加され
る。本発明の組成物がステレオリグラフィー法に使用
される場合、レーザービームが通常使用され、組成物の
吸収容量を型および光開始剤の濃度を調製して、通常の
レーザー速度に於ける硬化深度を約0.1ないし2.5
mmにすることが必要である。
【0058】好ましくは、本発明の組成物は光開始剤
E)として、1−ヒドロキシフェニルケトン、特には1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンからなる。
【0059】成分F)として使用される、OH末端のポ
リエーテル、ポリエステルまたはポリウレタンは当業者
に公知であり、またその内の幾つかは商業的に入手可能
である。例えば、ユニオンカーバイト社で製造されてい
る商標名TONE Polyol 0301 またはバ
イエルAG(Bayer AG)で製造されている商標
名Desmophen 1600およびDesmoph
en 1915である。
【0060】成分F)として直鎖または分枝鎖状ポリエ
ステルポリオールからなる組成物が好ましい。
【0061】成分F)として三官能性OH末端ポリカプ
ロラクトンが同様に好ましい。
【0062】成分(A)として環状脂肪族ジエポキシド
および脂肪族ポリグリシジルエーテル成分(B)とし
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネ
ート成分(C)としてYが−CH2−または−C(C
32−である式VIの化合物成分(D)としてトリ
(メタ−)アクリレートまたはペンタ(メタ−)アクリ
レート成分(E)として1−ヒドロキシフェニルケト
また成分(F)として直線または分枝鎖状ポリエス
テルポリオールを含む感光性組成物が特に好ましい。
【0063】所望ならば、慣用の添加剤G)、例えば安
定剤、例えばUV安定剤、重合禁止剤、離型剤、湿潤
剤、均染剤、増感剤、沈澱防止剤、界面活性剤、染料、
顔料または充填剤を本発明の組成物に添加することが可
能である。
【0064】本発明の組成物は公知の方法により製造方
法されうる、例えば、個々の成分を予備混合し、そして
続いて、該予備混合物を混合するか、または全ての成分
を例えば羽根車式混合機といった既存の装置により、都
合良くは光を遮り、適当ならば、僅かに加熱された温度
に於いて混合することにより製造されうる。
【0065】本新規感光性組成物は、化学線、代表的に
は電子ビーム、X線、UVまたはVIS光、すなわち2
80−650nmの波長範囲内の輻射線を用いて照射す
ることによって重合することができる。特に適する光源
は、HeCd、アルゴンまたは窒素レーザー光並びに
複数の振動数を有する金属蒸気およびNdYAGレーザ
ーである。当業者にとって、各々の選択された光源のた
めに適した光開始剤を選択し、そして必要に応じて増感
なければならないということは公知である。重合さ
るべき組成物への輻射線の浸透深さおよび加工速度
は、前記光開始剤の吸収係数および濃度に直接的に相間
するということが判った。ステレオリグラフィーにお
いては、最も多くの結果として生じる遊離基を発生させ
かつ重合すべき組成物に最も深く浸透することができる
光開始剤を使用することが好ましい。
【0066】本新規組成物は、異なる波長の放射線に対
して異なる放射感度を有する他の光開始剤を含んでもよ
い。そのような光開始剤の含有は、異なる波長の放射線
を輻射するUV/VIS光源のより好ましい利用に効果
がある。前記の他の光開始剤を選択そして使用され
る放射線により均一な光学的吸収が行われるような濃度
に於いてそれらを使用する場合、それは都合良い。
【0067】本発明はまた、光学線により照射される本
発明の組成物の重合方法にも関する。得られたポリマー
が、例えば被覆組成物、ホトレジストまたは接着剤に使
用されうる。
【0068】上記量の芳香族または環状脂肪族を有する
ジアクリレートからなる本発明の組成物から、ステレオ
グラフィー操作により、非常に小さいカールを示す
か(歪み現象)またはカールが測定できない物品または
成形物品を製造することが可能であろうことは予測され
得ず、特にそれは成分CおよびD重量に基づいた特別
な比率で使用する場合である。通常、ジアクリレート
を、高い官能性のアクリレートの実質的添加を行なわず
に使用する場合、暴露操作の後に更に重合する配合物が
得られるので、ステレオリソグラフィー的に製造された
有益な部分は得られない
【0069】本発明は、本発明の組成物の層の表面を、
照射領域内において所望の層厚で層が固化するようにU
V/VIS光源を用いて全表面にわたってまたは予め決
定されたパターンで照射し、次いで組成物の新しい層
を固化層の上に形成し、これを同様に全表面にわたって
または予め決定されたパターンで照射し、そして層化
よび照射を繰り返すことによって互いに接着している複
数の固化からなる三次元物品を形成することからなる
リソグラフィー特にステレオリグラフィーによる
発明の組成物からの三次元物品を製造する方法に関す
る。
【0070】該方法に於いて、特に好ましい具体例であ
るレーザービームは、コンピューターにより制御され、
好ましくはUV/VIS光源として使用される。
【0071】本発明の組成物が被覆組成物として使用さ
れた場合、透明な硬い被覆が木材、紙、金属、セラミッ
クスまたは他の表面上に得られる。被覆の厚さは約1μ
mないし約1mmに大きく変化する。
【0072】プリント回路、版画のリリーフイメージ
は、混合物に照射すること、例えばコンピューターによ
り適した波長に制御されたレザービームにより、または
ホトマスクおよび相当する光源を使用することにより、
本発明の混合物から直接得られる。
【0073】他の可能な応用例は光硬化性接着剤として
本発明の組成物を使用することである。
【0074】本発明の組成物は好ましくは、光硬化され
た層の形成に於いて、特には幾つかの固層が互いに接着
しあう三次元物品の形態で使用される。
【0075】以下に本発明の他の例を示す。実施例1: 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート64g、三
能性の、OH末端のポリカプロラクトン(ユニオンカー
バイト社から提供される、商標名TONE Polyo
l 0301)22g、およびビスフェノールAジグリ
シジルエーテルジアクリレート(Radcureで生産
されている、商標名Novacure 3700)12
gが60度に於いて混合される。1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン(チバーガイギーで生産されて
いる、商標名Igacure 184)1gおよびト
リアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
(ユニオンカーバイト社で生産されている、商標名Cy
racure UVI 6974)1gが添加され、そ
して混合物を混合し、透明な均質の混合物が形成される
まで攪拌する。液体配合剤は30℃に於いて618mP
a.sの粘度を有する。成形物品は、He/Cdレーザ
ー(照射エネルギー:40mJ/cm2)を使用するこ
とで成形される。レーザー硬化(未硬化型)後の、該成
形物品は以下の性質を有する: 弾性率 1100N/mm2 (DIN53371により測定した弾性率;未処理強
度); 引き裂き点伸び : 6.3% (DIN53455により測定) 完全硬化のために、未硬化型はUV光により30分照射
され、また130℃に於いて30分間加熱される。成形
物品は以下の性質を有する。 弾性率 : 1450N/mm2 引き裂き点伸び : 2.5% カール因子 : CF6:0.01 CF11:0.02 カール因子は、ステレオリグラフィー法に於いて、他
の化合物と幾つかの混合物の収縮現象を比較する判断基
準として公知である。(例えば、“Proceedin
gs 2nd Int.Conference in R
apid Prototyping”,Dayton,
Ohio(1991)を参照)示されるカール因子は、
0.076mmの層の厚みに調製された成形物品を使用
することにより判断される。実施例2: 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート55gブタ
ンジオールジグリシジルエーテル18g、官能性の、
OH末端のポリカプロラクトン(ユニオンカーバイト社
から提供される、商標名TONE Polyol 03
01)13g、およびエトキシ化ビスフェノールAジア
クリレート(サートーマー社で生産されている、商標名
SR 349)12gが60度に於いて混合される。1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバーガ
イギーで生産されている、商標名Igacure 1
84)1gおよびトリアリールスルホニウムヘキサフル
オロアンチモネート(ユニオンカーバイト社で生産され
ている、商標名Cyracure UVI 6974)
1gが添加され、そして混合物を混合し、透明な均質の
混合物が形成されるまで攪拌する。液体配合剤は30℃
に於いて138mPa.sの粘度を有する。成形物品
は、He/Cdレーザー(照射エネルギー:320mJ
/cm2 )を使用することで成形される。レーザー硬化
(未硬化型)の後に、該成形品は以下の性質を有する: 弾性率 1320N/mm2 引き裂き点伸び : 6.4% 完全硬化のために、未硬化型はUV光により30分照射
され、また130℃に於いて30分間加熱される。成形
物品が以下の性質を有する。 弾性率 : 1450N/mm2 引き裂き点伸び : 2.5% カール因子 : CF6:0.01 CF11:0.02実施例3−13: 表1に示される成分からなる配合物が実施例1により製
造される。量のデータは、相当する組成物の全含有量に
基づいて重量%で示される。該混合物の粘度がまた表1
に示される。成形物品は、He/Cdレーザーを使用す
ることで成形される。得られた成形物品の性質は表2に
示される。表1
【表1】 1)EPI(エポキシ樹脂):3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、 EPII(エポキシ樹脂):ジ−(3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル)ヘキサンジオエート EPIII(エポキシ樹脂):1,4−ブタンジオールジグリシ
ジルエーテル 2)シアクール(Cyracure)UVI 6974:トリアリールスル
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート(ユニオンカー
バイト社) 3)次式
【化12】 ジアクリレートIV:ビスフェノールA ジグリシジルエー
テルジアクリレート(ノバクール 3700,ラドクール) 4)SR 351:トリメチロールプロパントリアクリレート(サ
ートーマー社) 5)イルガクール(Irgacure)184:1−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン(チバ−ガイギー社) 6)トーンポリオール(TONE Polyol)0301:官能性、OH
−末端ポリカプロラクトン(ユニオンカーバイト社) デスモフェン(Desmophen)1600:OH−末端、直鎖ポリエ
ーテル(バイエル社(bayer)) デスモフェン(Desmophen)1915:分枝鎖状ポリエーテルポ
リオール(バイエル社(bayer))表2
【表2】 2)表示された照射エネルギーに於けるレーザー硬化後
の値 3)完全硬化後の値(UVによる照射30分間、130
℃に於いて30分間) 4)カール因子(層厚が0.076mmの成形物品につ
いて判断される)実施例14: 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート48.4g
ブタンジオールジグリシジルエーテル18g、官能性
の、OH末端ポリカプロラクトン(ユニオンカーバイト
社から提供される、商標名TONE Polyol 0
301)20g、ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ルジアクリレート(Radcure社で生産されてい
る、商標名Novacure 3700)8g、および
ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート(サートーマー社で生産されている、商標名SR
399)4gが60度に於いて混合される。1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(チバーガイギーで
生産されている、商標名Irgacure 184)
0.8gおよびトリアリールスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート(ユニオンカーバイト社で生産されて
いる、商標名Cyracure UVI 6974)
0.8gが添加され、そして混合物を混合し、透明な均
質の混合物が形成されるまで攪拌する。液体配合剤は3
0℃に於いて194mPa.sの粘度を有する。成形物
品は、He/Cdレーザー(照射エネルギー:160m
J/cm2)を使用することで成形される。レーザー硬
化(未硬化型)後の該成形物品は、以下の性質を有す
る: 弾性率 55.4N/mm2 引き裂き点伸び : 17% 完全硬化のために、未硬化型はUV光により30分照射
され、また130℃に於いて30分間加熱される。成形
物品は以下の性質を有する。 弾性率 : 2466N/mm2 引き裂き点伸び : 11.2% カール因子 : CF6組織*−0.02 *“CF6組織”は“組織”構造で構成された試料に於
いて測定される(“Rapid Prototypin
g and Manufacturing,Funda
mentals of Stereolothogra
phy,P.F.Jacobs ed.,SME 19
92,page 199ff 参照)。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G03F 7/029 G03F 7/029 (72)発明者 アドリアン シュルトヘス スイス国,1734 テントリンゲン,ウフ エム ベルク 22 (72)発明者 マックス フンツィカー スイス国,3186 デューディンゲン,カ ッセラルストラーセ 8 (56)参考文献 特開 昭59−147017(JP,A) 特開 昭62−112619(JP,A) 特開 平1−149848(JP,A) 特開 平1−150529(JP,A) 特開 平2−58529(JP,A) 特開 平5−249669(JP,A) 特表 昭61−500974(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/68 - 59/72 C08G 59/62 C08G 59/14 G03F 7/027 G03F 7/029 G03C 9/08

Claims (22)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)少なくとも1種の、エポキシ価が
    2以上の液体エポキシ樹脂40−80重量%、 (B)成分A)のための少なくとも1種のカチオン性光
    開始剤0.1−10重量%、 (C)少なくとも1種の、液体環状脂肪族または芳香族
    ジアクリレート5−40重量%、 (D)少なくとも1種の、(メタ−)アクリレート価数
    が2より大きい液体ポリ(メタ−)アクリレート0−1
    5重量%;該成分D)の比率は、(メタ−)アクリレー
    トの全含有量の最高50重量%、 (E)成分C)のおよび適当ならば成分D)のための、
    少なくとも1種の、ラジカル光開始剤0.1−10重量
    %、および、 (F)少なくとも1種の、OH末端のポリエーテル、ポ
    リエステルまたはポリウレタン5−40重量%からなる
    感光性組成物。
  2. 【請求項2】 成分D)の比率が(メタ−)アクリレー
    トの全含有量の最高40重量%である、請求項1記載の
    感光性組成物。
  3. 【請求項3】 (A)少なくとも1種の、エポキシ価が
    2以上の液体エポキシ樹脂50−75重量%、 (B)成分A)のための少なくとも1種の、カチオン性
    光開始剤0.2−5重量%、 (C)少なくとも1種の、液体環状脂肪族または芳香族
    ジアクリレート5−20重量%、 (D)少なくとも1種の、アクリレート価数が2より大
    きい液体ポリアクリレート0−10重量%;該成分D)
    の比率はアクリレートの全含有量の最高50重量%、 (E)成分C)および適当ならば成分D)のための少な
    くとも1種の、ラジカル光開始剤0.2−5重量%、お
    よび、 (F)少なくとも1種の、OH末端ポリエーテル、ポリ
    エステルまたはポリウレタン10−40重量%からなる
    請求項1記載の感光性組成物。
  4. 【請求項4】 成分A)が少なくとも50重量%の環状
    脂肪族ジエポキシドからなる請求項1記載の感光性組成
    物。
  5. 【請求項5】 環状脂肪族ジエポキシドがビス(4−ヒ
    ドロキシシクロヘキシル)メタンジグリシジルエーテ
    ル、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プ
    ロパンジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロ
    ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
    ボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロ
    ヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロ
    ヘキサンカルボキシレート、ジ−(3,4−エポキシシ
    クロヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、ジ−(3,
    4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル)ヘ
    キサンジオエート、エチレンビス(3,4−エポキシシ
    クロヘキサンカルボキシレート)、エタンジオールジ−
    (3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテルま
    たは2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
    スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−1,3−
    ジオキサンである請求項4記載の感光性組成物。
  6. 【請求項6】 成分B)として次式I,IIまたはII
    I 【化1】 (式中 R1,R2,R3,R4,R5,R6およびR7が、
    各々独立して未置換または適した基により置換された炭
    素原子数6ないし18のアリール基を表し、 Lが硼素原子、燐原子、砒素原子またはアンチモン原子
    を表し、 Qがハロゲン原子を表すか、またはアニオンLQm -中の
    基Qの幾つかがヒドロキシ基を表し、またmがLの原子
    価+1に相当する整数を表す。)で表わされる化合物よ
    りなる請求項1記載の感光性組成物。
  7. 【請求項7】 成分B)として次式IV 【化2】 (式中 cが1または2を表し、 dが1,2,3,4または5を表し、 Xが求核性でないアニオン、特にPF6 -,AsF6 -,S
    bF6 -,CF3SO3 -,C25SO3 -,n−C37SO3
    -,n−C49SO3 -,n−C613SO3 -またはn−C
    817SO3 -を表し、 R8がπ−アリーン基を表し、およびR9がπ−アリーン
    基のアニオン、特にシクロペンタジエニルアニオンを表
    す。)で表わされる化合物よりなる請求項1記載の感光
    性組成物。
  8. 【請求項8】 成分B)として、R5,R6およびR7
    アリール基である式IIIの化合物よりなる請求項6記
    載の感光性組成物。
  9. 【請求項9】 成分C)として次式V,VI,VIIま
    たはVIII 【化3】 (式中 Yが直接結合,炭素原子数1ないし6のアルキ
    レン基,−S−,−O−,−SO−,−SO2−または
    −CO−を表し、 R10が炭素原子数1ないし8のアルキル基、未置換また
    は1個以上の炭素原子数1ないし4のアルキル基、ヒド
    ロキシ基もしくはハロゲン原子により置換されたフェニ
    ル基、または式−CH2−OR11で表わされる基を表
    し、 R11が炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニ
    ル基を表し、および、 Aが次式 【化4】 で表わされる基を表す。)で表わされる化合物よりなる
    か、または成分C)として次式IXaないしIXd 【化5】 【化6】 で表わされるいずれかの化合物および相当する異性体よ
    りなる請求項1記載の感光性組成物。
  10. 【請求項10】 式V,VIまたはVII中、アルキレ
    ン基としてのYが−CH2−または−C(CH32−で
    ある請求項9記載の感光性組成物。
  11. 【請求項11】 式VII中のR10がn−ブチル基、フ
    ェニル基、n−ブトキシメチル基またはフェノキシメチ
    ル基である請求項9記載の感光性組成物。
  12. 【請求項12】 成分D)がトリ(メタ−)アクリレー
    トまたはペンタ(メタ−)アクリレートである請求項1
    記載の感光性組成物。
  13. 【請求項13】 ペンタ(メタ−)アクリレートがジペ
    ンタエリトリトールモノヒドロキシペンタ(メタ−)ア
    クリレートである請求項12記載の感光性組成物。
  14. 【請求項14】 成分E)として1−ヒドロキシフェニ
    ルケトンよりなる請求項1記載の感光性組成物。
  15. 【請求項15】 1−ヒドロキシフェニルケトンが1−
    ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンである請求項
    14記載の感光性組成物。
  16. 【請求項16】 成分F)として直鎖または分枝鎖状ポ
    リエステルポリオールよりなる請求項1記載の感光性組
    成物。
  17. 【請求項17】 成分F)として三官能性、OH−末端
    ポリカプロラクトンよりなる請求項1記載の感光性組成
    物。
  18. 【請求項18】 成分(A)として環状脂肪族ジエポキ
    シドおよび脂肪族ポリグリシジルエーテル、成分(B)
    としてトリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチ
    モネート、成分(C)としてYが−CH2−または−C
    (CH32−である式VIの化合物、成分(D)として
    トリ(メタ−)アクリレートまたはペンタ(メタ−)ア
    クリレート、成分(E)として1−ヒドロキシフェニル
    ケトン、また成分(F)として直鎖または分枝鎖状ポリ
    エステルポリオールよりなる請求項1記載の感光性組成
    物。
  19. 【請求項19】 光学線を照射することにより請求項1
    記載の組成物を重合する方法。
  20. 【請求項20】 請求項1記載の組成物の層の表面を、
    照射領域内において所望の層厚で層が固化するようにU
    V/VIS光源を用いて全表面にわたってまたは予め決
    定されたパターンで照射し、次いで該組成物の新しい層
    を固化層の上に形成し、これを同様に全表面にわたって
    または予め決定されたパターンで照射し、そして層化お
    よび照射を繰り返すことによって互いに接着している複
    数の固化層からなる三次元物品を形成することからな
    る、リソグラフィーによる請求項1記載の組成物からの
    三次元物品を製造する方法。
  21. 【請求項21】 UV/VIS光源がレーザービーム、
    好ましくはコンピューターにより制御されたレーザービ
    ームである請求項20記載の製造方法。
  22. 【請求項22】 光重合された層の製造に於ける、特
    に、幾つかの固化層が互いに接着している三次元物品の
    形態に於ける請求項1記載の組成物の使用方法。
JP34518293A 1992-12-21 1993-12-21 感光性組成物 Expired - Fee Related JP3203461B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH3906/92-7 1992-12-21
CH390692 1992-12-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06228413A JPH06228413A (ja) 1994-08-16
JP3203461B2 true JP3203461B2 (ja) 2001-08-27

Family

ID=4266050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34518293A Expired - Fee Related JP3203461B2 (ja) 1992-12-21 1993-12-21 感光性組成物

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5476748A (ja)
EP (1) EP0605361B1 (ja)
JP (1) JP3203461B2 (ja)
KR (1) KR100282273B1 (ja)
AT (1) ATE151085T1 (ja)
AU (1) AU658780B2 (ja)
CA (1) CA2111718C (ja)
DE (1) DE59306034D1 (ja)
ES (1) ES2100513T3 (ja)
TW (1) TW269017B (ja)

Families Citing this family (102)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01187424A (ja) * 1988-01-22 1989-07-26 Toshiba Corp トルクセンサ
TW311923B (ja) * 1992-01-27 1997-08-01 Ciba Sc Holding Ag
JPH07291673A (ja) * 1994-04-28 1995-11-07 Kobe Steel Ltd 可撓性を有する光ファイバーケーブル用複合強化材
JP3475528B2 (ja) * 1994-11-18 2003-12-08 東洋インキ製造株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物およびこれを含む被覆剤
JP3117394B2 (ja) * 1994-11-29 2000-12-11 帝人製機株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
DE59505535D1 (de) * 1994-12-09 1999-05-06 Siemens Ag Oberflächenwellenbauelement und verfahren zur erzeugung einer dämpfungsstruktur dafür
TW418215B (en) * 1995-03-13 2001-01-11 Ciba Sc Holding Ag A process for the production of three-dimensional articles in a stereolithography bath comprising the step of sequentially irradiating a plurality of layers of a liquid radiation-curable composition
US5639413A (en) * 1995-03-30 1997-06-17 Crivello; James Vincent Methods and compositions related to stereolithography
DE69629809T2 (de) * 1995-05-12 2004-07-15 Asahi Denka Kogyo K.K. Stereolithographisches verfahren und kunststoffharz dazu
US5707780A (en) * 1995-06-07 1998-01-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photohardenable epoxy composition
DE19630705A1 (de) 1995-08-30 1997-03-20 Deutsche Telekom Ag Verfahren zur Herstellung von 3-dimensional strukturierten Polymerschichten für die integrierte Optik
DE19534664A1 (de) * 1995-09-19 1997-03-20 Thera Ges Fuer Patente Lichtinitiiert kationisch härtende, dauerflexible Epoxidharzmasse und ihre Verwendung
DE19534668A1 (de) * 1995-09-19 1997-03-20 Thera Ges Fuer Patente Kettenverlängerte Epoxidharze enthaltende, vorwiegend kationisch härtende Masse
DE19534594B4 (de) * 1995-09-19 2007-07-26 Delo Industrieklebstoffe Gmbh & Co. Kg Kationisch härtende, flexible Epoxidharzmassen und ihre Verwendung zum Auftragen dünner Schichten
DE19541075C1 (de) * 1995-11-03 1997-04-24 Siemens Ag Photohärtbares Harz mit geringem Schwund und dessen Verwendung in einem Stereolithographieverfahren
JP3626275B2 (ja) * 1996-04-09 2005-03-02 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
WO1997042549A1 (en) * 1996-05-09 1997-11-13 Dsm N.V. Photosensitive resin composition for rapid prototyping and a process for the manufacture of 3-dimensional objects
DE59701299D1 (de) * 1996-07-29 2000-04-27 Ciba Sc Holding Ag Flüssige, strahlungshärtbare Zusammensetzung, insbesondere für die Stereolithographie
JP3825506B2 (ja) * 1996-09-02 2006-09-27 Jsr株式会社 液状硬化性樹脂組成物
US5766277A (en) * 1996-09-20 1998-06-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive article and method of making same
JP3724893B2 (ja) * 1996-09-25 2005-12-07 ナブテスコ株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
JP3786480B2 (ja) * 1996-10-14 2006-06-14 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3844824B2 (ja) 1996-11-26 2006-11-15 株式会社Adeka エネルギー線硬化性エポキシ樹脂組成物、光学的立体造形用樹脂組成物及び光学的立体造形方法
JP3626302B2 (ja) * 1996-12-10 2005-03-09 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3650238B2 (ja) * 1996-12-10 2005-05-18 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
FR2757530A1 (fr) * 1996-12-24 1998-06-26 Rhodia Chimie Sa Utilisation pour la stereophotolithographie - d'une composition liquide photoreticulable par voie cationique comprenant un photoamorceur du type sels d'onium ou de complexes organometalliques
US6054250A (en) * 1997-02-18 2000-04-25 Alliedsignal Inc. High temperature performance polymers for stereolithography
WO1998036323A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Alliedsignal Inc. High temperature performance polymers for stereolithography
EP0887706A1 (en) 1997-06-25 1998-12-30 Wako Pure Chemical Industries Ltd Resist composition containing specific cross-linking agent
ATE212734T1 (de) * 1997-06-30 2002-02-15 Siemens Ag Reaktionsharzmischungen und deren verwendung
DE69940916D1 (de) * 1998-02-18 2009-07-09 Dsm Ip Assets Bv Fotohärtbare flüssige Harzzusammensetzung
US6448346B1 (en) * 1998-03-10 2002-09-10 Canon Kabushiki Kaisha Fluorine-containing epoxy resin composition, and surface modification process, ink jet recording head and ink jet recording apparatus making use of the same
US6472129B2 (en) * 1998-03-10 2002-10-29 Canon Kabushiki Kaisha Fluorine-containing epoxy resin composition, and surface modification process, ink jet recording head and ink jet recording apparatus making use of the same
US6344526B1 (en) * 1998-03-10 2002-02-05 Canon Kabushiki Kaisha Fluorine-containing epoxy resin composition, and surface modification process, ink jet recording head and ink jet recording apparatus using same
US6136497A (en) * 1998-03-30 2000-10-24 Vantico, Inc. Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography
US6100007A (en) * 1998-04-06 2000-08-08 Ciba Specialty Chemicals Corp. Liquid radiation-curable composition especially for producing cured articles by stereolithography having high heat deflection temperatures
JP3907144B2 (ja) * 1998-04-09 2007-04-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法、レーザ走査露光用平版印刷版原版、および光重合性組成物
US6379866B2 (en) 2000-03-31 2002-04-30 Dsm Desotech Inc Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6287748B1 (en) * 1998-07-10 2001-09-11 Dsm N.V. Solid imaging compositions for preparing polyethylene-like articles
US6762002B2 (en) 1998-07-10 2004-07-13 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US20060154175A9 (en) * 1998-07-10 2006-07-13 Lawton John A Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6638690B1 (en) 1998-09-18 2003-10-28 Vantico, Inc. Method for producing multi-layer circuits
CN1422394B (zh) * 2000-02-08 2012-08-22 范蒂科股份公司 尤其可用于立体石印法的液态的辐射固化组合物
US6350792B1 (en) 2000-07-13 2002-02-26 Suncolor Corporation Radiation-curable compositions and cured articles
US6579914B1 (en) * 2000-07-14 2003-06-17 Alcatel Coating compositions for optical waveguides and optical waveguides coated therewith
JP4839525B2 (ja) * 2000-09-29 2011-12-21 大日本印刷株式会社 感光性樹脂組成物および液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
US6811937B2 (en) * 2001-06-21 2004-11-02 Dsm Desotech, Inc. Radiation-curable resin composition and rapid prototyping process using the same
US20030149124A1 (en) * 2001-11-27 2003-08-07 Thommes Glen A. Radiation curable resin composition for making colored three dimensional objects
US20030198824A1 (en) * 2002-04-19 2003-10-23 Fong John W. Photocurable compositions containing reactive polysiloxane particles
WO2003093901A1 (en) * 2002-05-03 2003-11-13 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable resin composition and rapid prototyping process using the same
GB0212977D0 (en) * 2002-06-06 2002-07-17 Vantico Ag Actinic radiation curable compositions and their use
US6989225B2 (en) * 2002-07-18 2006-01-24 3D Systems, Inc. Stereolithographic resins with high temperature and high impact resistance
US20040077745A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-22 Jigeng Xu Curable compositions and rapid prototyping process using the same
US20040087687A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-06 Vantico A&T Us Inc. Photocurable compositions with phosphite viscosity stabilizers
US20040170923A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-02 3D Systems, Inc. Colored stereolithographic resins
US20040229002A1 (en) * 2003-05-15 2004-11-18 3D Systems, Inc. Stereolithographic seal and support structure for semiconductor wafer
US7232850B2 (en) 2003-10-03 2007-06-19 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable compositions for articles having stable tensile properties
US20070149667A1 (en) * 2003-10-16 2007-06-28 Dsm Ip Assets B.V. Curable compositions and rapid prototyping process using the same
DE10349394A1 (de) * 2003-10-21 2005-05-25 Marabuwerke Gmbh & Co. Kg UV-härtendes Bindemittel für Farben oder Lacke zur Bedruckung von Glas und Verfahren zur Bedruckung von Glassubstraten
US20050101684A1 (en) * 2003-11-06 2005-05-12 Xiaorong You Curable compositions and rapid prototyping process using the same
US20050165127A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-28 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polyethylene-like articles
US20050158660A1 (en) * 2004-01-20 2005-07-21 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
JP2007523974A (ja) * 2004-01-27 2007-08-23 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 熱安定性のカチオン光硬化性組成物
KR101474174B1 (ko) * 2004-03-22 2014-12-17 3디 시스템즈 인코오퍼레이티드 광경화성 조성물
US20070267134A1 (en) * 2004-09-03 2007-11-22 Konarski Mark M Photoinitiated Cationic Epoxy Compositions
WO2006135054A1 (ja) 2005-06-16 2006-12-21 Dsm Ip Assets B.V. 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを硬化させて得られる光造形物
JP4873239B2 (ja) * 2005-09-28 2012-02-08 Dic株式会社 紫外線硬化性樹脂組成物
US20070092733A1 (en) * 2005-10-26 2007-04-26 3M Innovative Properties Company Concurrently curable hybrid adhesive composition
DE102006000867A1 (de) * 2006-01-05 2007-07-12 Marabuwerke Gmbh & Co. Kg UV-härtende Glasdruckfarbe und UV-härtender Glasdrucklack sowie Verfahren zum Bedrucken von Glassubstraten
US20080103226A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Dsm Ip Assets B.V. Photo-curable resin composition
JP2008201913A (ja) 2007-02-20 2008-09-04 Fujifilm Corp 光重合性組成物
US9207373B2 (en) 2007-04-10 2015-12-08 Stoncor Group, Inc. Methods for fabrication and highway marking usage of agglomerated retroreflective beads
KR100959190B1 (ko) * 2007-12-21 2010-05-24 제일모직주식회사 현상액에 용해 가능한 근자외선 바닥 반사방지막 조성물 및이를 이용한 패턴화된 재료 형성 방법
CN102161801B (zh) * 2011-03-07 2013-03-27 沭阳优唯新材料有限公司 紫外光深度交联三元乙丙橡胶电缆料及其绝缘或护套层的制备方法
CN102181099B (zh) * 2011-03-07 2013-03-27 黑龙江省润特科技有限公司 紫外光深度交联无卤阻燃乙丙橡胶电缆料及其绝缘或护套层的制备方法
CN102153802B (zh) * 2011-03-07 2013-03-27 沭阳优唯新材料有限公司 紫外光深度交联无卤阻燃聚烯烃电缆料及其绝缘或护套层的制备方法
JP6273213B2 (ja) 2012-02-17 2018-01-31 ハンツマン・アドバンスド・マテリアルズ・アメリカズ・エルエルシー ベンズオキサジン、エポキシ及び無水物の混合物
US9861452B2 (en) 2013-08-09 2018-01-09 Dsm Ip Assets B.V. Low-viscosity liquid radiation curable dental aligner mold resin compositions for additive manufacturing
JP6802710B2 (ja) 2014-05-14 2020-12-16 ハンツマン・アドバンスド・マテリアルズ・アメリカズ・エルエルシー 保護コーティング用多官能ポリアミド
KR20170023977A (ko) 2014-06-23 2017-03-06 카본, 인크. 3차원 물체의 제조에 사용하기 위한, 다중 경화 메커니즘을 갖는 폴리우레탄 수지
JP6578660B2 (ja) * 2015-01-22 2019-09-25 富士ゼロックス株式会社 三次元造形用支持材、三次元造形用組成物セット、および三次元造形装置、三次元造形物の製造方法
KR101853387B1 (ko) * 2015-03-27 2018-04-30 동우 화인켐 주식회사 플렉서블 디스플레이용 하드코팅 필름
JP6372887B2 (ja) * 2015-05-14 2018-08-15 信越化学工業株式会社 有機膜材料、有機膜形成方法、パターン形成方法、及び化合物
WO2016193032A1 (en) 2015-06-02 2016-12-08 Basf Se Diglycidyl ethers of tetrahydrofuran diglycol derivatives and oligomers thereof as curable epoxy resins
JP6097815B1 (ja) * 2015-12-18 2017-03-15 古河電気工業株式会社 接着剤組成物、これを用いた被着体の接合方法および積層体の製造方法
PT3472221T (pt) 2016-06-16 2021-11-30 Huntsman Petrochemical Llc Mistura para curar composições de resina epóxi
US11104792B2 (en) 2016-08-19 2021-08-31 Huntsman Advanced Materials Americas Llc Adducts and uses thereof
WO2018087868A1 (ja) * 2016-11-10 2018-05-17 積水化学工業株式会社 エポキシフラン化合物、その製造方法、エポキシフラン化合物を含む硬化性組成物、及びその硬化物
BR112019009678A2 (pt) 2017-02-06 2019-08-06 Huntsman Petrochemical Llc agente de cura, composição curável, e, artigo curado.
CN109963892B (zh) 2017-02-06 2023-04-04 亨斯迈石油化学有限责任公司 用于环氧树脂的固化剂
JP7068270B2 (ja) * 2017-03-06 2022-05-16 マクセル株式会社 モデル材インクセット、サポート材組成物、インクセット、立体造形物および立体造形物の製造方法
ES2685280B2 (es) * 2017-03-31 2019-06-21 Centro Tecnologico De Nanomateriales Avanzados S L Composición de resina curable por radiación y procedimiento para su obtención
CN110636912B (zh) 2017-06-12 2022-09-20 奥梅特电路股份有限公司 具良好工作寿命及热传导性的金属粘合性组合物、其制造方法及其用途
JP6886588B2 (ja) * 2017-08-30 2021-06-16 Dic株式会社 エポキシ樹脂改質剤
US11633908B2 (en) * 2018-03-02 2023-04-25 Formlabs, Inc. Latent cure resins and related methods
EP3597668A1 (en) 2018-07-20 2020-01-22 Clariant International Ltd Photo-curable resin composition for 3d printing
CN109897189B (zh) * 2019-02-27 2021-05-25 黑龙江省科学院石油化学研究院 一种原位接枝氧化石墨烯改性耐高温环氧树脂复合材料的制备方法
CN111072871A (zh) * 2019-12-24 2020-04-28 无锡市腰果新材料有限公司 一种耐高温sla型3d打印光固化材料及其制备方法
RU2757595C1 (ru) * 2020-08-31 2021-10-19 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова» (КБГУ) Полимерный композиционный материал
US20220111582A1 (en) 2020-10-13 2022-04-14 Cabot Corporation Conductive photo-curable compositions for additive manufacturing
KR20230148365A (ko) 2021-02-25 2023-10-24 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스 라이센싱 (스위처랜드) 게엠베하 세류 함침을 위한 1액형 중합성 조성물

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH490444A (de) * 1967-04-19 1970-05-15 Ciba Geigy Neue, heisshärtbare Mischungen aus Polyepoxydverbindungen, Polyestern und Polycarbonsäureanhydriden
CA1240439A (en) * 1983-02-07 1988-08-09 Union Carbide Corporation Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content
JPS61500974A (ja) * 1983-10-28 1986-05-15 ロクタイト.コ−ポレ−シヨン 2つの硬化タイプのプレポリマ−を含む光硬化性組成物
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
DE3671028D1 (de) * 1985-11-07 1990-06-13 Uvexs Inc Uv-haertbare polymerverbindungen auf der basis von epoxyden und siloxanen.
EP0320237B1 (en) * 1987-12-08 1993-04-28 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition and optical recording medium having cured product of the composition
ATE161860T1 (de) * 1988-02-19 1998-01-15 Asahi Denka Kogyo Kk Kunststoffzusammensetzung für optisches modellieren
JPH07103218B2 (ja) * 1988-09-13 1995-11-08 旭電化工業株式会社 光学的造形用樹脂組成物
TW363999B (en) * 1991-06-04 1999-07-11 Vantico Ag Photosensitive compositions

Also Published As

Publication number Publication date
EP0605361A2 (de) 1994-07-06
JPH06228413A (ja) 1994-08-16
AU5252493A (en) 1994-06-30
US5476748A (en) 1995-12-19
AU658780B2 (en) 1995-04-27
KR100282273B1 (ko) 2001-03-02
ES2100513T3 (es) 1997-06-16
DE59306034D1 (de) 1997-05-07
CA2111718A1 (en) 1994-06-22
ATE151085T1 (de) 1997-04-15
KR940015712A (ko) 1994-07-21
CA2111718C (en) 2004-10-05
TW269017B (ja) 1996-01-21
EP0605361B1 (de) 1997-04-02
EP0605361A3 (de) 1995-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3203461B2 (ja) 感光性組成物
JP3564650B2 (ja) とりわけステレオリトグラフィーのための、液体の、輻射線硬化性組成物
JP4798846B2 (ja) 特に高熱撓み温度を有するステレオリソグラフ法による柔軟な硬化物品を製造するための液体放射線硬化性組成物
US6811937B2 (en) Radiation-curable resin composition and rapid prototyping process using the same
EP1080392B1 (en) Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography
EP1099138B1 (en) Stereolithographic compositions for preparing polyethylene-like articles
EP1269261B1 (en) Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US5476749A (en) Photosensitive compositions based on acrylates
KR100808954B1 (ko) 특히 입체리소그래피에 적합한 액체 방사선―경화성 조성물
JPH07233112A (ja) ビニルエーテル基の外に付加的な官能性基を有するビニルエーテル化合物及び硬化性組成物の製造におけるその用途
US20040054025A1 (en) Compositions comprising a benzophenone photoinitiator

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees