JP3196303B2 - 含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂 - Google Patents
含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な含フッ素ポリエス
テルカーボーネート樹脂に関する。
テルカーボーネート樹脂に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は工業的に広く使
用されている合成樹脂であって、通常２,２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下ビスフェ
ノールＡと略記する）に代表される二価のフェノールの
ようなジオール成分とホスゲンのような炭酸誘導体との
反応により製造されている。ビスフェノールＡから製造
されるポリカーボネート樹脂は、対衝撃性に優れた特性
を有しているが、近年、樹脂の用途開発が活発になるに
ともない、従来なかった構造を有し、新たな特性を有す
るポリカーボネート樹脂の開発への期待が高まってい
る。
用されている合成樹脂であって、通常２,２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下ビスフェ
ノールＡと略記する）に代表される二価のフェノールの
ようなジオール成分とホスゲンのような炭酸誘導体との
反応により製造されている。ビスフェノールＡから製造
されるポリカーボネート樹脂は、対衝撃性に優れた特性
を有しているが、近年、樹脂の用途開発が活発になるに
ともない、従来なかった構造を有し、新たな特性を有す
るポリカーボネート樹脂の開発への期待が高まってい
る。
【０００３】本出願人は特願平３−８９３３７号、特願
平３−２４２４９０号においてシクロヘキサノールの含
フッ素ポリエステルカーボネート樹脂を発明したが、光
ディスクなどに要求される樹脂が融点１００〜２２０℃
程度であるのに対し、いずれも融点が高いため物性的に
満足できるものではなかった。
平３−２４２４９０号においてシクロヘキサノールの含
フッ素ポリエステルカーボネート樹脂を発明したが、光
ディスクなどに要求される樹脂が融点１００〜２２０℃
程度であるのに対し、いずれも融点が高いため物性的に
満足できるものではなかった。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従
来存在しなかった構造単位を有する新規なポリカーボネ
ート樹脂を提供することである。また、ポリカーボネー
ト樹脂の成形性を改善することである。
来存在しなかった構造単位を有する新規なポリカーボネ
ート樹脂を提供することである。また、ポリカーボネー
ト樹脂の成形性を改善することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため種々の検討を重ねた結果、ジオール成
分として２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンを用い、あるいは該化合物とビスフェノー
ルＡとを組合せ用いることにより熱成形性に優れた新規
なポリエステルカーボネート樹脂を得ることを見いだ
し、本発明を完成した。
題を解決するため種々の検討を重ねた結果、ジオール成
分として２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンを用い、あるいは該化合物とビスフェノー
ルＡとを組合せ用いることにより熱成形性に優れた新規
なポリエステルカーボネート樹脂を得ることを見いだ
し、本発明を完成した。
【０００６】即ち、本発明の含フッ素ポリエステルカー
ボネート樹脂は １．式［１］で示される構造単位の繰り返しからなる含
フッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
ボネート樹脂は １．式［１］で示される構造単位の繰り返しからなる含
フッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
【化３】
【０００７】２．式［１］で示される構造単位と式
［２］で示される構造単位とを繰り返し単位として含む
含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
［２］で示される構造単位とを繰り返し単位として含む
含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
【化４】
【０００８】３．式［１］で示される構造単位を得るた
めのジオール成分として２,２−ビス（４−ヒドロキシ
エトキシカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンを用い、式［２］で示され
る構造単位を得るためのジオール成分として２，２−ビ
ス（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンを用いること
によって得られる請求項１または請求項２記載の含フッ
素ポリエステルカーボネート樹脂
めのジオール成分として２,２−ビス（４−ヒドロキシ
エトキシカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンを用い、式［２］で示され
る構造単位を得るためのジオール成分として２，２−ビ
ス（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンを用いること
によって得られる請求項１または請求項２記載の含フッ
素ポリエステルカーボネート樹脂
【０００９】４．２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０モル％
とからなるジオール成分を用いることによって得られる
請求項１から請求項３のうち、何れか１項に記載の含フ
ッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
シカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０モル％
とからなるジオール成分を用いることによって得られる
請求項１から請求項３のうち、何れか１項に記載の含フ
ッ素ポリエステルカーボネート樹脂、
【００１０】５．還元粘度が０.１から２．０（２５
℃、０.５ｇ／ｄｌクロロホルム）である請求項１から
請求項４のうち、何れか１項に記載の含フッ素ポリエス
テルカーボネート樹脂、以上
℃、０.５ｇ／ｄｌクロロホルム）である請求項１から
請求項４のうち、何れか１項に記載の含フッ素ポリエス
テルカーボネート樹脂、以上
【００１１】６．２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０％とか
らなるジオール成分を用い、酸受容体の存在下クロロギ
酸トリクロロメチルもしくはホスゲンを反応させること
を特徴とする含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂の
製造法である。
シカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０％とか
らなるジオール成分を用い、酸受容体の存在下クロロギ
酸トリクロロメチルもしくはホスゲンを反応させること
を特徴とする含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂の
製造法である。
【００１２】本発明の含フッ素ポリエステルカーボネー
ト樹脂は融点が１２３．２℃と低いものも作れ、また、
融点と分解温度との間に９４〜１８１℃と差があるの
で、成形が容易である。さらに、分解温度が２９４．４
〜３６４．１℃であるので耐熱性にも優れている。ま
た、透明性に優れた膜とすることもできて、しかもフッ
素を含むため複屈折の改善が期待できる。
ト樹脂は融点が１２３．２℃と低いものも作れ、また、
融点と分解温度との間に９４〜１８１℃と差があるの
で、成形が容易である。さらに、分解温度が２９４．４
〜３６４．１℃であるので耐熱性にも優れている。ま
た、透明性に優れた膜とすることもできて、しかもフッ
素を含むため複屈折の改善が期待できる。
【００１３】本発明の含フッ素ポリエステルカーボネー
ト樹脂は式［１］で示される構造単位を得るためのジオ
ール成分として２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシ
カルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパン５〜１００モル％、式［２］で示さ
れる構造単位を得るためのジオール成分としてビスフェ
ノールＡ９５〜０モル％からなるジオール成分を用いる
ことによって得られる。
ト樹脂は式［１］で示される構造単位を得るためのジオ
ール成分として２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシ
カルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパン５〜１００モル％、式［２］で示さ
れる構造単位を得るためのジオール成分としてビスフェ
ノールＡ９５〜０モル％からなるジオール成分を用いる
ことによって得られる。
【００１４】本発明の含フッ素ポリエステルカーボネー
ト樹脂の製造法は、まず、式［３］
ト樹脂の製造法は、まず、式［３］
【化５】 で示される２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシカル
ボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパンを次式で示すように，２，２，−ビス
（４−カルボキシフェニル−１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパンジクロリドと過剰のエチレング
リコールを適宜混合しピリジンなどの酸受容体の存在下
で反応して製造する。
ボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパンを次式で示すように，２，２，−ビス
（４−カルボキシフェニル−１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパンジクロリドと過剰のエチレング
リコールを適宜混合しピリジンなどの酸受容体の存在下
で反応して製造する。
【化６】 こうしてできた２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシ
カルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパン５〜１００モル％と式［４］
カルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパン５〜１００モル％と式［４］
【化７】 で示されるビスフェノールＡ９５〜０モル％とを混合
し、ピリジンなどの酸受容体の存在下、式［５］
し、ピリジンなどの酸受容体の存在下、式［５］
【化８】 で示されるクロロギ酸トリクロロメチルと反応させる。
上記製造法においてクロロギ酸トリクロロメチルの代わ
りにホスゲンを使用することもできる。反応温度、反応
時間は特に限定しないが好ましくは２０〜１００℃、１
〜５時間である。クロロギ酸トリクロロメチル、ホスゲ
ンの使用量は特に限定しないがジオールの成分の合計と
等モルまたは、やや過剰であることが好ましい。
上記製造法においてクロロギ酸トリクロロメチルの代わ
りにホスゲンを使用することもできる。反応温度、反応
時間は特に限定しないが好ましくは２０〜１００℃、１
〜５時間である。クロロギ酸トリクロロメチル、ホスゲ
ンの使用量は特に限定しないがジオールの成分の合計と
等モルまたは、やや過剰であることが好ましい。
【００１５】また、金属酸化物等のエステル交換触媒の
存在下に、上記のジオール成分と炭酸ジアリールエステ
ルとを２００〜３００℃で４〜１０時間反応させる方法
でも製造できる。これらの方法において分子量調整剤を
ジオール成分に対し１〜１０モル％必要により添加する
ことができる。分子量調整剤としては一価のフェノー
ル、例えばフェノール，ｐ−ターシャリーブチルフェノ
ール、ｐ−クミルフェノールなどをあげることができ
る。また、溶媒としてジクロロメタン、クロロベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素の他にエーテル系のテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等、また酸受容体として、ピリジン、
トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，
０］−７−ウンデセンなどの３級アミン、水酸化ナトリ
ウムのような無機塩基など、炭酸誘導体としてはホスゲ
ン、クロロギ酸トリクロロメチルなど、炭酸ジアリール
エステルとしては炭酸ジフェニルなどをあげることがで
きる。
存在下に、上記のジオール成分と炭酸ジアリールエステ
ルとを２００〜３００℃で４〜１０時間反応させる方法
でも製造できる。これらの方法において分子量調整剤を
ジオール成分に対し１〜１０モル％必要により添加する
ことができる。分子量調整剤としては一価のフェノー
ル、例えばフェノール，ｐ−ターシャリーブチルフェノ
ール、ｐ−クミルフェノールなどをあげることができ
る。また、溶媒としてジクロロメタン、クロロベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素の他にエーテル系のテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等、また酸受容体として、ピリジン、
トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，
０］−７−ウンデセンなどの３級アミン、水酸化ナトリ
ウムのような無機塩基など、炭酸誘導体としてはホスゲ
ン、クロロギ酸トリクロロメチルなど、炭酸ジアリール
エステルとしては炭酸ジフェニルなどをあげることがで
きる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定され
るものではない。まず、実施例で得られた含フッ素ポリ
エステルカーボネート樹脂の物性の測定方法を示す。 還元粘度：クロロホルムを溶媒として２５℃、０．５ｇ
／ｄｌの濃度で測定した。 融点（Ｔｍ）：偏光顕微鏡にホットステージ（メトラー
社製ＦＰ−８２）を装着して毎分３℃の昇温温度で測定
した。 分解温度（Ｔｄ）：セイコー電子工業社製ＴＧ／ＤＴＡ
−２２０型を用い毎分１０℃の昇温温度で測定し、重量
減少５％の温度を測定した。 また、収率はジオール成分を基準として求めた理論収量
で含フッ素ポリカーボネート樹脂の収量を割ることによ
り算出した。
明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定され
るものではない。まず、実施例で得られた含フッ素ポリ
エステルカーボネート樹脂の物性の測定方法を示す。 還元粘度：クロロホルムを溶媒として２５℃、０．５ｇ
／ｄｌの濃度で測定した。 融点（Ｔｍ）：偏光顕微鏡にホットステージ（メトラー
社製ＦＰ−８２）を装着して毎分３℃の昇温温度で測定
した。 分解温度（Ｔｄ）：セイコー電子工業社製ＴＧ／ＤＴＡ
−２２０型を用い毎分１０℃の昇温温度で測定し、重量
減少５％の温度を測定した。 また、収率はジオール成分を基準として求めた理論収量
で含フッ素ポリカーボネート樹脂の収量を割ることによ
り算出した。
【００１７】実施例１ 式［１］で示される構造単位、および式［２］で示され
る構造単位からなる含フッ素ポリエステルカーボネート
樹脂の製造： １）２，２−ビス（４−カルボニルフェニル）−１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンジクロリ
ドの製造。 ２００ｍｌのナスフラスコに２，２−ビス（４−カルボ
キシフェニル）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン２０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）と塩化チオニ
ル３０ｍｌを加え、１００℃で２時間反応させた。反応
終了後、減圧下過剰の塩化チオニルを留去し、残査にト
ルエンを加え熱時ろ過し不溶分を除いた。ろ液を濃縮
し、淡黄色シラップを１８．９ｇ（収率８８．１％）得
た。この成分をこのまま次の反応に用いた。 ２）２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボニ
ルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン、式［３］の製造。 冷却器、攪拌機をつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに
ピリジン１４ｍｌ、エチレングリコール２００ｍｌを入
れて１００℃で攪拌した。これに２，２−ビス（４−カ
ルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロパンジクロリド１８．９ｇ（０．０４ｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶かした溶液を６
０分で滴下して、２４時間反応を行った。反応終了後こ
の反応液を１リットルの水に加えて、酢酸エチル１．５
リットルで抽出した。続いて有機層を３Ｎ塩酸で３回、
１Ｎ水酸化ナトリウムで３回、さらに水で洗浄した。得
られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下留去して残ったシラップを冷却し結晶
化させ２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン１３．６ｇ（収率６３．３％）を得た。融
点は３８〜４２℃であった。得られものをそのまま重合
に用いた。 ３）溶液重縮合 １００ｍｌの三ツ口フラスコに２，２，−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシカルボニルフェニル）−１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパン０．１４ｇ（０．
３０ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ０．６２ｇ（２．７
０ｍｍｏｌ）、ピリジン１ｍｌおよび１，２−ジクロロ
エタン（以下、ＤＣＥと称する）５ｍｌを入れて攪拌
し、次いで、この液をマントルヒーターで９０℃に保
ち、還流下にクロロギ酸トリクロロメチル０．３３ｇ
（１．７ｍｍｏｌ）をＤＣＥ２ｍｌに溶かした溶液を２
０分間で滴下し、そのまま３時間反応を行った。得られ
た反応液を放冷した後メタノール３００ｍｌに注ぎ、析
出した沈澱物をろ過した。このろ過物を熱メタノール中
で洗浄し、次いで乾燥して０．７７ｇ（収率９２．４
％）の含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂が得られ
た。この含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂は、還
元粘度０．９４、融点２４１．３〜２７０．３℃、ガラ
ス転移温度は１４５．０℃、分解温度３６４．１℃であ
った。また、このポリマーのクロロホルム溶液をガラス
板上にキャストし乾燥したところ透明な含フッ素ポリエ
ステルカーボネート樹脂が得られた。また、ガラスプレ
ートにポリマーをのせ、３００℃に熱し、溶融した後に
冷却しても良好なフィルムが得られた。
る構造単位からなる含フッ素ポリエステルカーボネート
樹脂の製造： １）２，２−ビス（４−カルボニルフェニル）−１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンジクロリ
ドの製造。 ２００ｍｌのナスフラスコに２，２−ビス（４−カルボ
キシフェニル）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン２０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）と塩化チオニ
ル３０ｍｌを加え、１００℃で２時間反応させた。反応
終了後、減圧下過剰の塩化チオニルを留去し、残査にト
ルエンを加え熱時ろ過し不溶分を除いた。ろ液を濃縮
し、淡黄色シラップを１８．９ｇ（収率８８．１％）得
た。この成分をこのまま次の反応に用いた。 ２）２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボニ
ルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン、式［３］の製造。 冷却器、攪拌機をつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに
ピリジン１４ｍｌ、エチレングリコール２００ｍｌを入
れて１００℃で攪拌した。これに２，２−ビス（４−カ
ルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロパンジクロリド１８．９ｇ（０．０４ｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶かした溶液を６
０分で滴下して、２４時間反応を行った。反応終了後こ
の反応液を１リットルの水に加えて、酢酸エチル１．５
リットルで抽出した。続いて有機層を３Ｎ塩酸で３回、
１Ｎ水酸化ナトリウムで３回、さらに水で洗浄した。得
られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下留去して残ったシラップを冷却し結晶
化させ２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン１３．６ｇ（収率６３．３％）を得た。融
点は３８〜４２℃であった。得られものをそのまま重合
に用いた。 ３）溶液重縮合 １００ｍｌの三ツ口フラスコに２，２，−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシカルボニルフェニル）−１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパン０．１４ｇ（０．
３０ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ０．６２ｇ（２．７
０ｍｍｏｌ）、ピリジン１ｍｌおよび１，２−ジクロロ
エタン（以下、ＤＣＥと称する）５ｍｌを入れて攪拌
し、次いで、この液をマントルヒーターで９０℃に保
ち、還流下にクロロギ酸トリクロロメチル０．３３ｇ
（１．７ｍｍｏｌ）をＤＣＥ２ｍｌに溶かした溶液を２
０分間で滴下し、そのまま３時間反応を行った。得られ
た反応液を放冷した後メタノール３００ｍｌに注ぎ、析
出した沈澱物をろ過した。このろ過物を熱メタノール中
で洗浄し、次いで乾燥して０．７７ｇ（収率９２．４
％）の含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂が得られ
た。この含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂は、還
元粘度０．９４、融点２４１．３〜２７０．３℃、ガラ
ス転移温度は１４５．０℃、分解温度３６４．１℃であ
った。また、このポリマーのクロロホルム溶液をガラス
板上にキャストし乾燥したところ透明な含フッ素ポリエ
ステルカーボネート樹脂が得られた。また、ガラスプレ
ートにポリマーをのせ、３００℃に熱し、溶融した後に
冷却しても良好なフィルムが得られた。
【００１８】実施例２〜４ ２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボニルフ
ェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプ
ロパン、およびビスフェノールＡの成分比を変える以外
は、実施例１に準拠して行った。その成分比と得られた
含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂の物性値を表１
に示す。
ェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプ
ロパン、およびビスフェノールＡの成分比を変える以外
は、実施例１に準拠して行った。その成分比と得られた
含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂の物性値を表１
に示す。
【００１９】実施例５ 式［１］で示される構造単位からなる含フッ素ポリエス
テルカーボネート樹脂の製造：１００ｍｌの三つ口フラ
スコに２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン１．４４ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、ピリジン
１ｍｌおよびＤＣＥ５ｍｌを入れて攪拌し、次いで、こ
の液をマントルヒーターで９０℃に保ち、還流下にクロ
ロギ酸トリクロロメチル０．３３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）
をＤＣＥ２ｍｌに溶かした溶液を２０分間で滴下し、そ
のまま３時間反応を行った。得られた反応液を放冷した
後メタノール３００ｍｌに注ぎ、析出した沈澱物をろ過
した。このろ過物を熱メタノール中で洗浄し、次いで乾
燥して１．３７ｇ（収率９０．０％）の含フッ素ポリエ
ステルカーボネート樹脂が得られた。この含フッ素ポリ
エステルカーボネート樹脂は、還元粘度０．１６、融点
１２３．２〜１３５．９℃、ガラス転移温度は９６．３
℃、分解温度２９４．４℃であった。また、このポリマ
ーのクロロホルム溶液をガラス板上にキャストし乾燥し
たところ透明な含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂
が得られた。
テルカーボネート樹脂の製造：１００ｍｌの三つ口フラ
スコに２，２，−ビス（４−ヒドロキシエトキシカルボ
ニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン１．４４ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、ピリジン
１ｍｌおよびＤＣＥ５ｍｌを入れて攪拌し、次いで、こ
の液をマントルヒーターで９０℃に保ち、還流下にクロ
ロギ酸トリクロロメチル０．３３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）
をＤＣＥ２ｍｌに溶かした溶液を２０分間で滴下し、そ
のまま３時間反応を行った。得られた反応液を放冷した
後メタノール３００ｍｌに注ぎ、析出した沈澱物をろ過
した。このろ過物を熱メタノール中で洗浄し、次いで乾
燥して１．３７ｇ（収率９０．０％）の含フッ素ポリエ
ステルカーボネート樹脂が得られた。この含フッ素ポリ
エステルカーボネート樹脂は、還元粘度０．１６、融点
１２３．２〜１３５．９℃、ガラス転移温度は９６．３
℃、分解温度２９４．４℃であった。また、このポリマ
ーのクロロホルム溶液をガラス板上にキャストし乾燥し
たところ透明な含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂
が得られた。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】本発明の含フッ素ポリエステルカーボネ
ート樹脂は融点が１２３．２〜２７０．３℃、融点と分
解温度との間に９４〜１８１℃と差があり、樹脂の成形
が容易である。また、本発明の樹脂は分解温度を２９
４．４℃以上にもつので、他の樹脂と比べ高温での使用
が可能である。また、透明性に優れた膜を作ることもで
き、特に光学記録基板等の光学樹脂材料として有用であ
る。このように、本発明の含フッ素ポリエステルカーボ
ネート樹脂は、それ自体で有用なものであるが、他の公
知の樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リメチルメタクリレート、ＡＢＳ、ポリアミド類、ポリ
アクリレート類、ポリカーボネート類、ポリエチレンテ
レフタレートのようなポリエステル類またはポリフェニ
レンオキシド類などと混合し、これら樹脂の熱成形性の
改良を図るとともに複屈折性の低減など新しい性質を付
加することも期待できる。
ート樹脂は融点が１２３．２〜２７０．３℃、融点と分
解温度との間に９４〜１８１℃と差があり、樹脂の成形
が容易である。また、本発明の樹脂は分解温度を２９
４．４℃以上にもつので、他の樹脂と比べ高温での使用
が可能である。また、透明性に優れた膜を作ることもで
き、特に光学記録基板等の光学樹脂材料として有用であ
る。このように、本発明の含フッ素ポリエステルカーボ
ネート樹脂は、それ自体で有用なものであるが、他の公
知の樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リメチルメタクリレート、ＡＢＳ、ポリアミド類、ポリ
アクリレート類、ポリカーボネート類、ポリエチレンテ
レフタレートのようなポリエステル類またはポリフェニ
レンオキシド類などと混合し、これら樹脂の熱成形性の
改良を図るとともに複屈折性の低減など新しい性質を付
加することも期待できる。
Claims (6)
- 【請求項１】式［１］で示される構造単位の繰り返しか
らなる含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂。 【化１】 - 【請求項２】式［１］で示される構造単位と式［２］で
示される構造単位とを繰り返し単位として含む含フッ素
ポリエステルカーボネート樹脂。 【化２】 - 【請求項３】式［１］で示される構造単位を得るための
ジオール成分として２,２−ビス（４−ヒドロキシエト
キシカルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパンを用い、式［２］で示される構
造単位を得るためのジオール成分として２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンを用いることに
よって得られる請求項１または請求項２記載の含フッ素
ポリエステルカーボネート樹脂。 - 【請求項４】２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキシカ
ルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０モル％
とからなるジオール成分を用いることによって得られる
請求項１から請求項３のうち、何れか１項に記載の含フ
ッ素ポリエステルカーボネート樹脂。 - 【請求項５】還元粘度が０.１から２．０（２５℃、０.
５ｇ／ｄｌクロロホルム）である請求項１から請求項４
のうち、何れか１項に記載の含フッ素ポリエステルカー
ボネート樹脂。 - 【請求項６】２,２−ビス（４−ヒドロキシエトキシカ
ルボニルフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロパン５〜１００モル％と２，２−ビス
（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン９５〜０％とか
らなるジオール成分を用い、酸受容体の存在下クロロギ
酸トリクロロメチルもしくはホスゲンを反応させること
を特徴とする含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08763792A JP3196303B2 (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08763792A JP3196303B2 (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255494A JPH05255494A (ja) | 1993-10-05 |
| JP3196303B2 true JP3196303B2 (ja) | 2001-08-06 |
Family
ID=13920500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08763792A Expired - Fee Related JP3196303B2 (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 含フッ素ポリエステルカーボネート樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3196303B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452339B1 (ko) * | 2001-12-29 | 2004-10-08 | 주식회사 효성 | 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-펜타플루오로페닐-에탄 및그의 제조방법 |
-
1992
- 1992-03-11 JP JP08763792A patent/JP3196303B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255494A (ja) | 1993-10-05 |
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