JP3185102B2 - 非線形磁気圧縮モジュールにおけるステージ不整合による反射エネルギーの除去方法及び装置 - Google Patents

非線形磁気圧縮モジュールにおけるステージ不整合による反射エネルギーの除去方法及び装置

Info

Publication number
JP3185102B2
JP3185102B2 JP03456398A JP3456398A JP3185102B2 JP 3185102 B2 JP3185102 B2 JP 3185102B2 JP 03456398 A JP03456398 A JP 03456398A JP 3456398 A JP3456398 A JP 3456398A JP 3185102 B2 JP3185102 B2 JP 3185102B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capacitor
pulse
circuit
stage
charge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP03456398A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10323057A (ja
Inventor
ウイリアム・エヌ・パルトロー
リチャード・エル・サンドストローム
ダニエル・エル・ブリックス
リチャード・モンス・ネス
Original Assignee
サイマー・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サイマー・インコーポレーテッド filed Critical サイマー・インコーポレーテッド
Publication of JPH10323057A publication Critical patent/JPH10323057A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3185102B2 publication Critical patent/JP3185102B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/80Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using non-linear magnetic devices; using non-linear dielectric devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/02Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
    • H03K3/53Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use of an energy-accumulating element discharged through the load by a switching device controlled by an external signal and not incorporating positive feedback
    • H03K3/57Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use of an energy-accumulating element discharged through the load by a switching device controlled by an external signal and not incorporating positive feedback the switching device being a semiconductor device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • H01S5/0428Electrical excitation ; Circuits therefor for applying pulses to the laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、概してパルス電源
に関し、さらに詳細には、ガス放電レーザ用非線形磁気
圧縮パルス電源におけるステージ不整合による二次パル
スを除去する装置及び方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】パルス化レーザが長時間動作する場合に
は、エネルギー効率、長期にわたる信頼性及び長寿命の
構成部品が必要とされる。その際、信頼性及び実用寿命
延長のため、固体スイッチとともに磁気圧縮器回路がパ
ルス電力の供給に使用されるようになってきた。
【0003】一般に、このような磁気圧縮器回路では、
電力圧縮を提供する多段LCネットワークが利用され
る。一般に、これらのネットワークは米国特許第5,3
13,481号に従っている。
【0004】多段(マルチ・ステージ)磁気圧縮の使用
に伴う1つの特に困難な問題は、1つのステージを次の
ステージに完全に整合できないため、1つのステージか
ら次のステージへの完全なエネルギー移送が行われない
ということである。この問題は、一段又は多段のステー
ジが異なる温度環境に置かれる場合一層増大される。こ
れら高電圧システムで代表的に使用されるコンデンサの
温度感度が高いので、各ステージの温度の値が異なるに
つれて、ステージ間に不整合が生ずる。
【0005】連続している圧縮ステージ間の不整合によ
って、順方向進行パルスのエネルギーの幾分かは各圧縮
ステージに残留する。このエネルギーは、各ステージの
コンデンサに一時的に蓄えられる。ある条件下で、残留
エネルギーは第2電気パルスを形成し、第2電気パルス
は主パルス(通過)後のある時間、負荷に向って放出さ
れる。例えば、このような二次パルスは、ガス放電レー
ザの電極の損傷を引起こす。
【0006】図1に、いくつかの小さな不整合を示すス
テージを有する磁気パルス圧縮器回路を実装する代表的
なパルス電力システムを示す。図1のシステムでは、C
0 、L0及びC1は1つのC−L−C回路を形成し、一
方、C1、L1及びC2 は別のC−L−C回路を形成して
いる。第1C−L−C回路において、C0 はソース・コ
ンデンサであり、第2C−L−C回路において、C1
ソース・コンデンサである。正規動作中、コマンド電荷
電源はDC蓄積コンデンサC0 を所望の電圧に充電する
のに使用される。コマンドの際、非線形磁気パルス圧縮
ネットワークへの入力時に、絶縁ゲート・バイポーラ・
トランジスタ(IGBT)、又はシリコン制御整流器
(SCR)スイッチなどの半導体スイッチが(ピーク電
流を制限するL0 を通して)C0をC1に放出する。非線
形磁気圧縮ネットワークは、誘導鉄心内に含まれる非線
形磁心材料の飽和に関連する大きなインダクタンス変化
による蓄積エネルギーの一時的な圧縮をもたらす。
【0007】一旦、圧縮されたパルスがガス放電レーザ
などの負荷に到達すると、負荷と出力ステージ間の不整
合により圧縮ステージを通していくらかの反射エネルギ
ーの逆方向への進行が引き起こされる。この反射エネル
ギーは、一方向にのみ電流を流す半導体スイッチを使用
することによりC0に捕捉される。これにより、C0のエ
ネルギーが圧縮ステージを通して再び順方向へ進行しな
いようにする。理想的なシステムでは、各ステージの容
量値は正確に整合され、その結果、隣接するステージに
よってもたらされるC−L−C回路のソース・コンデン
サの電圧にはオーバーシュートもアンダーシュートも存
在しない。
【0008】前述のように、C0、C1及びC2 の容量値
は、各ステージの温度の変化にともなって、同一の容量
値にはとどまらない。容量の不整合が存在すると、隣接
するステージへのエネルギーの移送の際に、ソース・コ
ンデンサの電圧はゼロ電圧に低下しない。ソース・コン
デンサが所望より幾分大きい場合には、ソース・コンデ
ンサの電圧はゼロでない正の値になる。ソース・コンデ
ンサが所望より幾分小さい場合には、ソース・コンデン
サの電圧はゼロ電圧からオーバーシュートし、最後には
負の値になる。
【0009】このオーバーシュート電圧又はアンダーシ
ュート電圧は、負荷の方向へ進行する主パルス及び逆方
向に進行する反射エネルギー・パルスの両者に対して発
生する。特定ステージでは、コンデンサの電圧によりコ
ンデンサの近傍のインダクタの両端間に電位差が発生す
る。例えば、L0 以外の各インダクタは飽和可能なイン
ダクタなので、圧縮器回路の飽和可能なインダクタは必
要な方向に最終的には飽和して負荷の方向への二次パル
スのエネルギー移送が可能になる。
【0010】図2は、C0をC1に対して幾分小さめにし
た場合の、時間を関数とするコンデンサC0及びC1の電
圧のグラフである。この場合、C0 の電圧は、C0から
1への初期のエネルギー移送中、負の方向にオーバー
シュートする。反射エネルギー・パルスは負荷から逆方
向に各種ステージを通してC1へ移動し、最終的にはC0
へ進む。C1からC0への電荷の逆方向の移送中、C1
容量値はC0の容量値より幾分大きいので、C1 の電圧
はゼロ電圧点をアンダーシュートする。その結果、反射
エネルギー・パルスが負電圧パルスなので、C1 に負電
圧を残留させる。
【0011】この負の残留エネルギーは、C1及びC2
の電位差又は各飽和可能インダクタを次のパルスのため
の準備にB−H曲線の適切な点へリセットするのに使用
するバイアス電流のいずれかのため、L1が逆導電方向
に飽和するまでC1に残留する。一旦、L1 が逆方向に
飽和すると、残りのステージによって圧縮される負電圧
パルスは負荷の方向に放射される。極端な場合、このパ
ルスは15から20kVの主パルス・ピークに比較して
1から2kVの大きさを有することがある。このような
大きさのパルスは、ガス放電レーザの電極に対して重大
な腐食を生ずることがあり、より短い電極寿命の原因と
なる。
【0012】15から20kVの主パルス用のレーザを
作るには、厳重な注意を払う。ガス媒体は冷却し均質化
するか、又は主放電を行ったのが以前の事であれば、場
合によっては交換する。主放電の直前、媒体を均一に事
前イオン化するのには注意を払う。目的とする成果は放
電チャンバを初めに均一に満たす放電である。プラズマ
が大電極面積から電流を引き出す。キャリア・アタッチ
メント(担体付加)などのプロセスによって、放電が開
始し10ナノ秒の単位で測定される時間間隔の間にスト
リーマに局所化する。これらのプロセスは、放電を数1
00ナノ秒で単一の局所化アークに減少させることがで
きる。このような局所化面積に伝達される数ミリジュー
ルは、放電容積を満たす均一なプラズマへ伝達される数
ジュールより破壊的であり得る。そのため、所望の主放
電時間における以外にその放出に伝達されるいずれのエ
ネルギー・パルスも極小化することが非常に重要であ
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従って、その技術にお
いて、パルス電力レーザにおけるステージ不整合による
反射エネルギーを除去する装置及び方法を提供して、そ
れによって電極腐食を極小にする必要性がある。したが
って、本発明は、磁気パルス圧縮器回路のステージのス
テージ不整合による二次パルスを除去できる高電圧パル
ス電力発生回路を提供することを課題とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明パルス発生回路源
は、高電圧電荷蓄積部品を含み、高電圧電荷が非線形磁
気圧縮器回路の中に周期的に放出される。圧縮器回路の
各ステージに結合された不整合修正回路は、ステージ不
整合による反射エネルギーを放出し、それによって、反
射エネルギーが負荷の中に逆に放出されるのを排除す
る。好ましい実施態様では、本発明のパルス電力発生回
路は磁気パルス圧縮器回路の各ステージに結合されたダ
イオード及び抵抗器を使用している。各種実施形態が開
示される。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明は、パルス電力レーザにお
けるステージ不整合による反射エネルギーを除去できる
磁気パルス圧縮器回路に関するものである。
【0016】図3は、本発明の磁気パルス圧縮器回路を
実装するパルス電力発生回路10の1つの実施形態の概
略図である。パルス電力発生回路10は、高電圧DC電
源12、インダクタL、コンデンサC0、固体スイッチ
S、第2インダクタL0、及び継続時間を短縮しかつ印
加パルスのピーク電力を増大させるパルス圧縮器回路1
6とを含んでいる。スイッチSは、シリコン制御整流器
(SCR)、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ
(IGBT)、金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ
(MOSFET)、MOSFET制御サイリスタ(MC
T)又は工業技術上公知のいずれかの他の適切なスイッ
チイング素子であってよい。
【0017】パルス発生回路10は、スイッチSに直列
に接続されたダイオードDS を含むことが好ましい。回
路10にダイオードDS が含まれることで、パルス圧縮
器回路16が逆電流に対して確実に非導通になる。1つ
の好ましい実施形態によれば、回路10はコンデンサC
1と共に選択されたインダクタL0をさらに含み、LCの
組合せ時定数でスイッチSを通して流れる電流の形成を
遅くし、その結果、スイッチSを通して大電流が流れる
前に、そのスイッチを完全に閉鎖状態にすることができ
るようにする。パルス圧縮器回路16は、負荷18、代
表的にはエキシマ・レーザなどのパルス放電負荷に結合
される。このエキシマレーザは、周知のように、レーザ
・チャンバとそのレーザ・チャンバに配置された陽極及
び陰極と備えている。
【0018】圧縮器回路16は、コンデンサC1、C2
・・・Cn-1及びCnのコンデンサ列及びはしご型ネット
ワークに接続された一個以上の飽和可能な鉄心インダク
タL1、L2、・・・Ln を含んでいる。図3に示される
ように、第1の飽和可能な鉄心インダクタL1 はコンデ
ンサC1とコンデンサC2の間に接続され、第2の飽和可
能な鉄心インダクタL2 はコンデンサC2とコンデンサ
3の間に直列に・・・接続されてもよく、かつ飽和可
能な鉄心インダクタLn-1がコンデンサCn-1とCnの間
に直列に接続されている。図の回路16では、コンデ
ンサC0、インダクタL0、及びコンデンサC1は1つの
C−L−C回路を形成し、一方コンデンサC1、インダ
クタL1及びコンデンサC2 は別のC−L−C回路を形
成している。第1のC−L−C回路では、コンデンサC
0 はソース・コンデンサ、第2のC−L−C回路では、
コンデンサC1 がソース・コンデンサである。この構成
は、パルス圧縮器回路16全体にわたって適用されてお
り、本質的には、コンデンサCn-1、インダクタLn-1
びコンデンサCn はソース・コンデンサであるコンデン
サCn-1と共に(n−1)番目のC−L−C回路を形成
している。
【0019】パルス圧縮器回路16は、それぞれ、コン
デンサC1、C2、・・・Cn に並列に配置された高電圧
ダイオード及び抵抗器をそれぞれが含んでいる複数の不
整合修正回路CR1、CR2、・・・、CRn をさらに含
んでいる。特に、各不整合修正回路CRnはコンデンサ
nに並列に配置されたダイオードDn及び抵抗器Rn
を含んでいる。ダイオードD1、D2、・・・、Dn のそ
れぞれの極性は、各ダイオードは正電圧の主パルスに対
して開放回路として動作し、主パルスに影響を与えない
ように選択される。
【0020】ただし、各ダイオードD1、D2、・・・、
n は反射エネルギーパルスにより生じた電圧が負へ振
れている間、導通状態となる。例えば、ダイオードD1
が導通している時、抵抗器R1及びコンデンサC1の時定
数RCで決定される速度で抵抗器R1はコンデンサC1
負電圧を放出する。抵抗器R1、R2、・・・、Rn のそ
れぞれの抵抗値を、主パルスの(通過)後で、かつ関連
インダクタL1、L2、・・・、Lnがそれぞれ逆に飽和
する前に、コンデンサC1、C2、・・・、Cnのそれぞ
れに対応する電圧がほぼ放出されるように十分小さく選
択する。ただし、各抵抗器の抵抗値は負荷(レーザ)に
よって反射された負電圧のエネルギー・パルスの通過
中、対応するコンデンサC1、C2、・・・、Cn から放
出される電荷の総量を極小にするのに十分な大きさでも
ある。
【0021】図4は、本発明の磁気パルス圧縮器回路の
第2の実施形態の概略図である。図に示すように、昇圧
トランス20を圧縮器回路16の出力に結合してもよ
い。あるいは、トランス20を設計要件によって複数の
ノード(例えば、ノード1、2、・・・、n)の一個所
で図4のパルス圧縮器回路16に結合してもよい。電源
12により近接するノードで回路10に結合されるトラ
ンス20の場合、パルス圧縮器回路16の出力に結合さ
れている実施形態の場合よりも、パルス圧縮器回路16
の下流の構成部品は高電圧で小電流となる。当然のこと
ながら、それらの部品は、インピーダンス及び動作条件
が異なるため、その影響を受ける。逆に負荷18により
近接するノードで回路10に結合されるトランス20で
は、トランスの必要性を満たす低電圧だが大電流の構成
部品を使用できる。さらに、最終パルス圧縮器がトラン
ス20の必要なピーク電流容量を低下させる前に、電圧
を所望の高レベルまで昇圧させるように、トランス20
自体をその配置位置によって変更する。
【0022】前述したように、すべての条件下で不整合
修正回路CRが適切に動作するためには、ステージ・コ
ンデンサの容量値を、主パルスの通過後に各コンデンサ
に残留する電圧が、負荷によって反射された負電圧エネ
ルギー・パルスの伝達中、アンダーシュートするように
選択しなければならない。この選択は、公称的にコンデ
ンサC1をコンデンサC0より幾分大きく意図的に決め、
コンデンサC2 をコンデンサC1 より幾分大きく決める
などし、その結果、製造公差及び温度変動を、いずれか
のコンデンサCnをその前段のコンデンサCn-1より実質
的に小容量にはならないように抑制することによって達
成することができる。この方法では、製造公差及び温度
変動双方を吸収可能である。
【0023】図4の回路は、昇圧トランス20が、コン
デンサC1、又はコンデンサC1とコンデンサCn 間のコ
ンデンサのいずれかで回路に挿入されているが、パルス
電力源の出力と負荷18、好ましい実施形態ではエキシ
マ・レーザとの間にその昇圧トランス20を付加した以
外は図3の回路と同一である。通常、同一の構成部品が
図3の実施形態とほぼ同一の時定数を有するように選択
されるとしても、電源12を含み、かつ電源12からト
ランス20の一次側への構成部品の部品定数、電流容量
及び可能電圧は図3の対応する構成部品とは実質的に異
なるが、トランス20の存在や位置はパルス電源(これ
は(電圧及び電流を変換する)インピーダンス変換装置
であるが)の他の構成部品の機能には影響を与えない。
【0024】本発明のパルス電力発生回路10の動作を
図3及び図4の実施形態、及び図5に示されたグラフを
参照して説明する。検討のため、1個だけの不整合修正
回路CR1 を考える。ただし、パルス圧縮器回路16の
他のステージの他の不整合修正回路を使用してもよいこ
とは理解できる。時刻t0 (スイッチSは開放である場
合)よりも前にDC電源12により、コンデンサC0
DC電源12によって供給された電流で充電されてい
る。フル充電されると、コンデンサC0 の両端間電圧
は、VC0となる(図5を参照)。時刻t0 で、スイッチ
Sが閉鎖し、コンデンサC0 に蓄積されていたエネルギ
ーがインダクタンスL0、コンデンサC0及びコンデンサ
1を含むLC回路の作用によりコンデンサC1へ、ほぼ
【数1】 の時定数で移送され、コンデンサC1はフル充電に近く
なり、インダクタL0の電流は実質的に低下するが、時
刻t1では正の値にとどまっている。インダクタL0は、
大電流が生ずる前にスイッチSが完全に閉鎖されること
を確実にするため、かつ、移送時間を伸ばすことにより
固体スイッチによって制御可能な値にまでスイッチを通
る最大電流を制限するために、このエネルギー移送中に
十分大きな時定数が与えられるようにこの回路に挿入さ
れている。コンデンサC0 がスイッチSを通して放電を
開始し、かつこの移送中にコンデンサC1 が充電を始め
ると、飽和可能なインダクタL1 のコイル中の電流は、
負のバイアス電流から低い正の電流に急速に変化し、そ
の時点でインダクタンスが比較的高い値へ急昇圧してイ
ンダクタL1 を通してのさらなる電流増加の速度を一時
的に制限する。
【0025】さらに、ダイオードD1の負端子はコンデ
ンサC0の正端子に結合され、ダイオードD1 は正電圧
の主パルスに対して開放回路として作用するので主パル
スに何ら影響を与えない。コンデンサC0及びコンデン
サC1間の不整合のため、コンデンサC0の電圧はコンデ
ンサC0からコンデンサC1へのエネルギー移送中負にオ
ーバーシュートする。
【0026】時刻t1 で、インダクタL0の電流は低い
が正にとどまる一方、インダクタL1の飽和可能な鉄心
は飽和して、その時点で、インダクタL1 のインダクタ
ンスが低い値に急下降してインダクタL1 を通しての電
流を非常に高い値に昇圧させてコンデンサC1からコン
デンサC2
【数2】 にほぼ等しい時定数でエネルギーを移送する(ここで、
1 は飽和した鉄心を有するインダクタL1のインダク
タンスである)。この時定数が、インダクタL0よりは
るかに小さく作られているため、時定数
【数3】 より実質的に短かいことは注目すべきことである。
【0027】上記の方法では、エネルギーは圧縮器回路
16の各ステージを通して移送される。コンデンサC
n-1がほぼフル充電され、かつインダクタLn-1の鉄心が
飽和すると、エネルギーは飽和可能インダクタを通して
コンデンサCn-1 からコンデンサCnへ短時間周期のパ
ルスで移動し、そのコンデンサCnの両端間の電圧がレ
ーザ18へ供給される。
【0028】コンデンサCn 両端間電圧が必要なレベル
に増加してレーザの中へ放電が開始されると、レーザ1
8は点火する。コンデンサCn に蓄積されインダクタを
通してコンデンサCn へ移行されているエネルギーはパ
ルス電源12の圧縮時間周期中にレーザ放電に加えられ
る。一旦、圧縮パルスが負荷18に到達すると、負荷1
8及びパルス圧縮器回路16の出力ステージ間の不整合
によりパルス圧縮器回路16の圧縮ステージを通して逆
方向へ進行するいくらかの反射エネルギーが生成され
る。その反射エネルギーは時刻t2でコンデンサC1に回
収される。
【0029】反射エネルギーがC1から逆にC0(時刻t
2と時刻t3との間)へ移送されるにつれて、コンデンサ
1の電圧は接地と比較して負となり、かつダイオード
1は導通し、抵抗器R1及びコンデンサC1のRC時定
数により決められた速度で抵抗器R1はコンデンサC1
放電させ、コンデンサC1 の電圧を事実上ゼロ近くまで
到達させる。抵抗器R1 の値は、対応するコンデンサC
1が関連インダクタL1が逆に飽和する前にほぼ放電する
ように十分小さな値に選択される。ただし、抵抗器R1
の値は、負電圧反射エネルギー・パルスの通過中対応す
るコンデンサC1から放電された電荷の総量を極小にす
るため十分大きくなければならない。
【0030】図5に示されるように、コンデンサC1
電圧は(実線で示されるように)、不整合修正回路CR
1がパルス圧縮器回路16に実装されない場合(点線で
示されるように)よりも、不整合修正回路CR1がパル
ス圧縮器回路16に加えられる場合(図3及び図4)の
方が小さい。本発明の不整合修正回路を実装することに
より、コンデンサC0 からコンデンサC1間の不整合に
よるコンデンサC1の意図的に課されたアンダーシュー
ト電圧は、インダクタL1 が逆に飽和する前に、ほぼ放
電する。その結果、インダクタL1 が逆に飽和したと
、レーザ・チャンバの方向に放射されるはずの負電圧
パルス効果的に除去される。
【0031】以上、検討したように、各ステージ・コン
デンサの容量及び各ステージ・インダクタの逆飽和時間
に従って適切に選択された抵抗値を有しているものであ
れば、不整合修正回路CRはパルス圧縮器回路16の各
ステージに適用してよい。
【0032】図3及び図4の実施形態では、通常入手可
能な1kVの高電圧ダイオード及び抵抗器を使用して1
kVの範囲で動作するパルス圧縮器回路に効果的に使用
されることが観測されている。
【0033】図6は本発明の磁気パルス圧縮器回路の第
3の実施形態の概略図である。本実施形態は、10から
30kV又はより高電圧範囲で動作するパルス圧縮器回
路に使用される。理論的には、図3及び図4の実施形態
は10から30kV又はより高電圧の範囲で動作するパ
ルス圧縮器回路に適用されるが、市販の高電圧ダイオー
ドの信頼性は未知であり、かつ低電圧装置の直列スタッ
クは、直流状態及び過度状態の両状態下で適切な分圧を
確実に行う付加的な構成要素が必要とされる。図6の実
施形態は簡単な別の、かつこの問題に対する解決策を提
供する。パルス圧縮器回路のこの実施形態16aでは、
ダイオードD1T及び抵抗器R1Tが昇圧トランス20の一
次巻線に並列に配置されている。本方法では、例えば、
高電圧コンデンサ、例えばコンデンサC3 の電荷は、未
知の信頼性を有する高電圧ダイオード・スタックを実装
せずに、より耐久力の大きい1kVの高電圧ダイオード
を使用して放電できる。
【0034】昇圧トランス20の後段に付加圧縮ステー
ジが存在する場合には、昇圧トランス22を、トランス
22の一次巻線の両端間1kVの高電圧ダイオードD
2T及び抵抗器R2Tを備えた各ステージの高電圧コンデン
サ(C4又はCnなどの)の両端間に配置してよい。本実
施形態は図7に示してある。
【0035】本発明の磁気圧縮器回路を実装することに
より、パルス電力レーザのステージ不整合による反射エ
ネルギーは除去され、その結果、電極腐食は極小にな
る。
【0036】本発明の上述の実施形態は、エキシマ・レ
ーザの陽極及び陰極間に電気放電を生ずる高電圧パルス
を提供するのに特に適している。本発明はレーザを含む
多数の他の装置の高電圧パルスを提供するのにも適用可
能である。
【0037】本発明を特定の好ましい実施形態の観点か
ら説明してきたが、当業者にとって自明である他の実施
形態も本発明の範囲に含まれる。従って、本発明の範囲
は後に続く特許請求の範囲によってのみ規定されるもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】小さな不整合が見られるステージを有する磁気
パルス圧縮器回路を実施した代表的なパルス電力システ
ムを示す図である。
【図2】コンデンサC0をコンデンサC1に対して幾分小
さめにした場合の、図1のコンデンサC0及びコンデン
サC1の電圧を時間を関数として示すグラフである。
【図3】本発明の不整合修正回路を実施した磁気パルス
圧縮器回路の1つの実施形態の概略図である。
【図4】本発明の磁気パルス圧縮器回路の第2の別の実
施形態の概略図である。
【図5】コンデンサC0をコンデンサC1に対して幾分小
さめにした場合の、図3又は図5のコンデンサC0及び
コンデンサC1の電圧を示すグラフである。
【図6】本発明の磁気パルス圧縮器回路の第3の別の実
施形態の概略図である。
【図7】本発明の磁気パルス圧縮器回路の第4の別の実
施形態の概略図である。
【符号の説明】
10 パルス電力発生回路 12 高電圧電源 16 パルス圧縮回路 18 負荷(レーザ) 20 トランス 22 トランス CR 不整合修正回路 S スイッチ(固体スイッチ) D ダイオード C コンデンサ L 飽和可能インダクタ R 抵抗器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード・エル・サンドストローム アメリカ合衆国・92024・カリフォルニ ア州・エンシニタス・トレイルビュー ロード・305 (72)発明者 ダニエル・エル・ブリックス アメリカ合衆国・94561・カリフォルニ ア州・オークリー・クリスモア レー ン・3300・ルート 2・175ディ (72)発明者 リチャード・モンス・ネス アメリカ合衆国・92126・カリフォルニ ア州・サンディエゴ・グリーンフォード ドライブ・10374 (56)参考文献 特開 平4−193073(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電荷を蓄積する蓄積コンデンサと、 第1コンデンサ及び第1飽和可能インダクタを含む第1
    ステージ及び第1コンデンサの容量値より大きな容量値
    を有する第2コンデンサ及び第2飽和可能インダクタを
    含む第2ステージを有する磁気パルス圧縮器回路と、 前記蓄積コンデンサに一端で結合され、かつ、他端が、
    入力に応答して出力パルスを供給するとともに共振して
    逆電荷を供給もする前記圧縮器回路への入力として前記
    蓄積コンデンサに蓄積された電荷を周期的に供給する前
    記磁気パルス圧縮器回路の前記第1ステージに結合され
    るスイッチと、第1及び第2不整合修正回路であって、それぞれが前記
    磁気パルス圧縮回路の第1及び第2ステージのコンデン
    サに並列に接続され、それぞれが対応するコンデンサに
    並列に接続された直列接続のダイオードと抵抗を備え、
    それぞれのダイオードは正電圧の主パルスに対して開回
    路となるような極性で接続され、それぞれの抵抗の値
    が、 圧縮器回路により逆電荷が供給される前に、ステー
    ジ不整合のため磁気パルス圧縮器回路のコンデンサに
    れぞれ蓄積されたエネルギーを放電するとともに、逆電
    圧エネルギーパルスが通過する間のそのコンデンサから
    の放電を最小にして、逆電圧エネルギーを回復させる
    うに選択された第1及び第2不整合修正回路とを含むパ
    ルス電力発生回路。
  2. 【請求項2】 コンデンサに電荷を蓄積するステップ
    と、 それぞれがコンデンサ及び飽和可能インダクタを備えた
    複数のステージを有する磁気パルス圧縮器回路に入力と
    して蓄積された電荷を周期的に供給するステップと、 入力に応答して出力パルスを供給し、前記圧縮器回路が
    共振して逆電荷を供給するステップと、 逆電荷が供給される前に、ステージ不整合のため前記磁
    気パルス圧縮器回路のそれぞれのステージの前記コンデ
    ンサに蓄積されたエネルギーを放出し、逆電圧エネルギ
    ーパルスが通過する間のそのコンデンサからの放電を最
    小にして、逆電圧エネルギーを回復させるステップとを
    含むパルス電力発生方法。
  3. 【請求項3】 電荷を供給する電源と、 前記電荷を蓄積するコンデンサと、 磁気パルス圧縮器回路と、 入力に応答して出力パルスを供給するとともに共振して
    逆電荷を供給する、それぞれがコンデンサ及び飽和可能
    インダクタを含む複数のステージを有する前記圧縮器回
    路に入力として前記コンデンサに蓄積された電荷を周期
    的に供給する固体スイッチと、 前記磁気パルス圧縮器回路に結合され、前記出力パルス
    を受取るレーザと、複数の不整合修正回路であって、それぞれが前記磁気パ
    ルス圧縮回路の 対応する1つのステージのコンデンサに
    並列に接続され、それぞれが対応するコンデンサに並列
    に接続された直列接続のダイオードと抵抗を備え、それ
    ぞれのダイオードは正電圧の主パルスに対して開回路と
    なるような極性で接続され、それぞれの抵抗の値が、
    縮器回路により逆電荷が供給される前に、ステージ不整
    合のため前記圧縮器回路の前記コンデンサにそれぞれ
    積されたエネルギーを放出するとともに、電圧エネル
    ギーパルスが通過する間のそのコンデンサからの放電を
    負電圧エネルギーを回復させることができるように最小
    にし、かつ負電圧パルスがレーザへ戻るのを防止できる
    ように選択された複数の不整合修正回路とを含む高電圧
    パルス電力レーザ・システム。
  4. 【請求項4】 それぞれがコンデンサ及び飽和可能イン
    ダクタを有する複数のステージを有する磁気パルス圧縮
    器回路への入力として蓄積された電荷を周期的に供給す
    るステップと、 入力に応答して出力パルスを供給し、前記圧縮器回路が
    共振して逆電荷を供給するステップと、 逆電荷が供給される前に、ステージ不整合のため前記磁
    気パルス圧縮器回路の各ステージで前記コンデンサに蓄
    積されたエネルギーを放出し、逆電圧エネルギーパルス
    が通過する間のそのコンデンサからの放電を最小にし
    て、逆電圧エネルギーを回復させ、かつ逆電圧エネルギ
    ーパルスをレーザに戻らないようにするステップとを含
    む、レーザ・システムの磁気パルス圧縮器回路におい
    ネルギーを放出する方法。
  5. 【請求項5】 レーザ・チャンバと、 前記レーザ・チャンバに配置された陽極及び陰極と、 前記陽極及び前記陰極間に電気放電を発生させる高電圧
    パルスを供給するパルス電力発生回路とを含み、前記パ
    ルス電力発生回路が、 電荷を蓄積する蓄積コンデンサと、それぞれがコンデンサと飽和可能インダクタとを含む複
    数のステージを有する 磁気パルス圧縮器回路と前記蓄積
    コンデンサに一端で結合され、かつ、他端が、入力に応
    答して出力パルスを供給するとともに共振して逆電荷を
    も供給する前記圧縮器回路に入力として前記蓄積コンデ
    ンサに蓄積された電荷を周期的に供給する前記磁気パル
    ス圧縮器回路の最初のステージに結合されるスイッチ
    と、複数の不整合修正回路であって、それぞれが前記磁気パ
    ルス圧縮回路の対応する1つのステージのコンデンサに
    並列に接続され、それぞれが対応するコンデンサに並列
    に接続された直列接続のダイオードと抵抗を備え、それ
    ぞれのダイオードは正電圧の主パルスに対して開回路と
    なるような極性で接続され、それぞれの抵抗の値が、
    縮器回路により逆電荷が供給される前に、ステージ不整
    合のため前記磁気パルス圧縮器回路のコンデンサにそれ
    ぞれ蓄積されたエネルギーを放出するとともに、電圧
    エネルギーパルスが通過する間のそのコンデンサからの
    放電を負電圧エネルギーを回復させることができるよう
    最小にし、かつ負電圧パルスがレーザへ戻るのを防止
    できるように選択された複数の不整合修正回路とを含む
    エキシマ・レーザ。
JP03456398A 1997-02-21 1998-02-17 非線形磁気圧縮モジュールにおけるステージ不整合による反射エネルギーの除去方法及び装置 Expired - Fee Related JP3185102B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/803,890 US5914974A (en) 1997-02-21 1997-02-21 Method and apparatus for eliminating reflected energy due to stage mismatch in nonlinear magnetic compression modules
US08/803890 1997-02-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10323057A JPH10323057A (ja) 1998-12-04
JP3185102B2 true JP3185102B2 (ja) 2001-07-09

Family

ID=25187704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03456398A Expired - Fee Related JP3185102B2 (ja) 1997-02-21 1998-02-17 非線形磁気圧縮モジュールにおけるステージ不整合による反射エネルギーの除去方法及び装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5914974A (ja)
EP (1) EP0894349B1 (ja)
JP (1) JP3185102B2 (ja)
KR (1) KR100346940B1 (ja)
AU (1) AU6168198A (ja)
DE (1) DE69803521T2 (ja)
TW (1) TW437266B (ja)
WO (1) WO1998037602A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519340A (ja) * 2004-01-16 2007-07-12 エムケーエス インスツルメンツ インコーポレイテッド 誘導性クランプを備えたe級増幅器
KR101891082B1 (ko) * 2017-11-21 2018-08-23 주식회사 한독하이테크 뒤틀림 변형방지 사출서랍함

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005880A (en) * 1997-02-14 1999-12-21 Lambda Physik Gmbh Precision variable delay using saturable inductors
US6020723A (en) * 1997-02-14 2000-02-01 Lambada Physik Gmbh Magnetic switch controlled power supply isolator and thyristor commutating circuit
DE19845586B4 (de) * 1997-10-03 2008-04-03 Komatsu Ltd. Entladungsschaltung für einen Impulslaser mit einer Impulsleistungsquelle
JP3734204B2 (ja) * 1998-04-01 2006-01-11 株式会社小松製作所 パルスレーザの発光タイミング制御装置
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6424666B1 (en) 1999-06-23 2002-07-23 Lambda Physik Ag Line-narrowing module for high power laser
US6381256B1 (en) 1999-02-10 2002-04-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US5949806A (en) * 1998-06-19 1999-09-07 Cymer, Inc. High voltage cable interlock circuit
US6188144B1 (en) * 1998-11-11 2001-02-13 Komatsu Ltd Power supply unit for pulsed laser using magnetic switch
US6198646B1 (en) * 1999-01-08 2001-03-06 Quantum Manufacturing Technologies, Inc. Commutation circuit for arresting and dissipating energy reflected from a magnetic pulse compression network
US6463086B1 (en) 1999-02-10 2002-10-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6546037B2 (en) 1999-02-10 2003-04-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6421365B1 (en) 1999-11-18 2002-07-16 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6965624B2 (en) * 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6727731B1 (en) 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
US6700915B2 (en) 1999-03-12 2004-03-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections
DE29907349U1 (de) 1999-04-26 2000-07-06 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US6327163B1 (en) * 1999-04-27 2001-12-04 Science Research Laboratory, Inc. Solid state pulsed power supply
US6198761B1 (en) 1999-05-07 2001-03-06 Lambda Physik Gmbh Coaxial laser pulser with solid dielectrics
US6785316B1 (en) 1999-08-17 2004-08-31 Lambda Physik Ag Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
US6553050B1 (en) 1999-11-18 2003-04-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6603788B1 (en) 1999-11-23 2003-08-05 Lambda Physik Ag Resonator for single line selection
US6907058B2 (en) 2000-01-25 2005-06-14 Lambda Physik Ag Energy monitor for molecular fluorine laser
US6735232B2 (en) 2000-01-27 2004-05-11 Lambda Physik Ag Laser with versatile output energy
US7075963B2 (en) 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
JP2001238470A (ja) * 2000-02-21 2001-08-31 Ngk Insulators Ltd パルス電力発生用スイッチ回路
US6570901B2 (en) 2000-02-24 2003-05-27 Lambda Physik Ag Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes
US6834066B2 (en) * 2000-04-18 2004-12-21 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US6577663B2 (en) 2000-06-19 2003-06-10 Lambda Physik Ag Narrow bandwidth oscillator-amplifier system
US6603789B1 (en) 2000-07-05 2003-08-05 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters
DE10032639A1 (de) * 2000-07-05 2002-01-24 Rheinmetall W & M Gmbh Kompakte Pulsstromversorgung
US6721345B2 (en) 2000-07-14 2004-04-13 Lambda Physik Ag Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6671302B2 (en) 2000-08-11 2003-12-30 Lambda Physik Ag Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser
DE10042292B4 (de) * 2000-08-29 2004-08-12 Tuilaser Ag Verfahren zum Betreiben eines Excimer-Laser
US6801561B2 (en) 2000-09-25 2004-10-05 Lambda Physik Ag Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
US6998620B2 (en) * 2001-08-13 2006-02-14 Lambda Physik Ag Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection
GB0226394D0 (en) * 2002-11-13 2007-03-28 Bae Systems Plc Radio frequency and microwave signals
DE102004058500A1 (de) * 2004-12-04 2006-06-08 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer elektrischen Entladevorrichtung
US7633182B2 (en) * 2005-11-09 2009-12-15 Bae Systems Advanced Technologies, Inc. Bipolar pulse generators with voltage multiplication
ITBO20070084A1 (it) * 2007-02-14 2008-08-15 Ocem Spa Sistema per l'attivazione di un'unita' plasma focus
WO2008120625A1 (ja) * 2007-03-30 2008-10-09 National University Corporation Kumamoto University 高繰返しパルス電源及びこの高繰返しパルス電源を備えた露光装置
TWI439023B (zh) * 2011-07-13 2014-05-21 Wistron Corp 低雜訊降壓轉換電路及低雜訊電壓供應總成
CN102594127B (zh) * 2012-03-02 2014-11-05 西安交通大学 基于Fitch电路的重复频率紧凑脉冲倍增器
CN104124886B (zh) * 2014-07-04 2017-01-04 清华大学 一种用于电磁发射的时序倍增电流型脉冲电源
CN111699542B (zh) 2017-11-29 2023-05-16 康姆艾德技术美国分公司 用于阻抗匹配网络控制的重新调谐
US11527385B2 (en) 2021-04-29 2022-12-13 COMET Technologies USA, Inc. Systems and methods for calibrating capacitors of matching networks
US11114279B2 (en) 2019-06-28 2021-09-07 COMET Technologies USA, Inc. Arc suppression device for plasma processing equipment
US11596309B2 (en) 2019-07-09 2023-03-07 COMET Technologies USA, Inc. Hybrid matching network topology
US11107661B2 (en) 2019-07-09 2021-08-31 COMET Technologies USA, Inc. Hybrid matching network topology
CN110662337A (zh) * 2019-10-15 2020-01-07 浙江佳环电子有限公司 脉冲电晕等离子体高压电源
US11670488B2 (en) 2020-01-10 2023-06-06 COMET Technologies USA, Inc. Fast arc detecting match network
US11521832B2 (en) 2020-01-10 2022-12-06 COMET Technologies USA, Inc. Uniformity control for radio frequency plasma processing systems
US11830708B2 (en) 2020-01-10 2023-11-28 COMET Technologies USA, Inc. Inductive broad-band sensors for electromagnetic waves
US11887820B2 (en) 2020-01-10 2024-01-30 COMET Technologies USA, Inc. Sector shunts for plasma-based wafer processing systems
US11961711B2 (en) 2020-01-20 2024-04-16 COMET Technologies USA, Inc. Radio frequency match network and generator
US11605527B2 (en) 2020-01-20 2023-03-14 COMET Technologies USA, Inc. Pulsing control match network
US11373844B2 (en) 2020-09-28 2022-06-28 COMET Technologies USA, Inc. Systems and methods for repetitive tuning of matching networks
US11923175B2 (en) 2021-07-28 2024-03-05 COMET Technologies USA, Inc. Systems and methods for variable gain tuning of matching networks
US11657980B1 (en) 2022-05-09 2023-05-23 COMET Technologies USA, Inc. Dielectric fluid variable capacitor

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806829A (en) * 1971-04-13 1974-04-23 Sys Inc Pulsed laser system having improved energy control with improved power supply laser emission energy sensor and adjustable repetition rate control features
US3849670A (en) * 1973-04-13 1974-11-19 Webster Electric Co Inc Scr commutation circuit for current pulse generators
US4549091A (en) * 1983-08-08 1985-10-22 Standard Oil Company (Indiana) Electrical excitation circuit for gas lasers
GB2170667B (en) * 1985-01-31 1988-09-07 Marconi Co Ltd A pulse generator
US4674022A (en) * 1986-07-01 1987-06-16 Megapulse, Inc. SCR priming and sweep-out circuit apparatus
US5315611A (en) * 1986-09-25 1994-05-24 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High average power magnetic modulator for metal vapor lasers
US5177754A (en) * 1986-09-25 1993-01-05 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Magnetic compression laser driving circuit
GB2204728A (en) * 1987-05-15 1988-11-16 British Aerospace Gas discharge driver circuit
US4975924A (en) * 1987-08-13 1990-12-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Metallic vapor laser apparatus
FR2628270B1 (fr) * 1988-03-07 1994-03-04 Commissariat A Energie Atomique Generateur d'impulsions electriques du type a inductance saturable
JPH03504429A (ja) * 1988-04-20 1991-09-26 シーメンス アクチェンゲゼルシヤフト 特にteガスレーザー用の高出力の高電圧パルス発生装置および方法
JPH0316189A (ja) * 1989-03-30 1991-01-24 Hitachi Metals Ltd 高電圧パルス発生回路およびこれを用いた放電励起レーザならびに加速器
US5184085A (en) * 1989-06-29 1993-02-02 Hitachi Metals, Ltd. High-voltage pulse generating circuit, and discharge-excited laser and accelerator containing such circuit
FR2654876B1 (fr) * 1989-11-23 1993-11-12 Commissariat A Energie Atomique Dispositif de charge de moyens d'accumulation d'energie electrique, muni de moyens permettant de maitriser cette charge.
US5066928A (en) * 1990-05-02 1991-11-19 General Atomics Soliton pulse compressor
US5124629A (en) * 1991-04-23 1992-06-23 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Post regulation circuit with energy storage
JP2738990B2 (ja) * 1991-05-27 1998-04-08 三菱電機株式会社 パルスレーザ装置
WO1993000743A1 (en) * 1991-06-27 1993-01-07 Bondy, D., J. Steerable pulse phase controller
JP2692447B2 (ja) * 1991-09-27 1997-12-17 日本電気株式会社 ガスレーザ装置
US5142166A (en) * 1991-10-16 1992-08-25 Science Research Laboratory, Inc. High voltage pulsed power source
JP3318981B2 (ja) * 1992-10-09 2002-08-26 株式会社明電舎 パルス電源
US5319665A (en) * 1992-11-06 1994-06-07 Science Research Laboratory High power electromagnetic pulse driver using an electromagnetic shock line
US5471492A (en) * 1992-12-01 1995-11-28 Scientific Atlanta, Inc. Broadband matching network
US5309462A (en) * 1993-02-17 1994-05-03 National Research Council Of Canada Magnetic spiker gas laser excitation circuit
US5313481A (en) * 1993-09-29 1994-05-17 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Copper laser modulator driving assembly including a magnetic compression laser
DE69628514T2 (de) * 1995-02-17 2004-04-29 Cymer, Inc., San Diego Leistungspulsgenerator mit energierückgewinnung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519340A (ja) * 2004-01-16 2007-07-12 エムケーエス インスツルメンツ インコーポレイテッド 誘導性クランプを備えたe級増幅器
KR101891082B1 (ko) * 2017-11-21 2018-08-23 주식회사 한독하이테크 뒤틀림 변형방지 사출서랍함

Also Published As

Publication number Publication date
AU6168198A (en) 1998-09-09
DE69803521T2 (de) 2002-08-08
KR100346940B1 (ko) 2002-07-31
WO1998037602A1 (en) 1998-08-27
EP0894349B1 (en) 2002-01-23
JPH10323057A (ja) 1998-12-04
US5914974A (en) 1999-06-22
EP0894349A4 (en) 2000-01-19
TW437266B (en) 2001-05-28
EP0894349A1 (en) 1999-02-03
KR20000075482A (ko) 2000-12-15
DE69803521D1 (de) 2002-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3185102B2 (ja) 非線形磁気圧縮モジュールにおけるステージ不整合による反射エネルギーの除去方法及び装置
US5729562A (en) Pulse power generating circuit with energy recovery
US5138622A (en) Apparatus and method for generating high-power, high-voltage pulses, particularly for te gas lasers
US6389049B2 (en) Discharge circuit for pulsed laser and pulsed power source
JP2004350338A (ja) パルス電源
JP2820722B2 (ja) 高電圧パルス発生回路及びこれを用いた放電励起レーザならびに加速器
KR100276020B1 (ko) 비선형 커패시터를 이용한 고압펄스발생 장치
JP3803482B2 (ja) パルス電源装置
Rim et al. Fast high-voltage pulse generation using nonlinear capacitors
JPH07122979A (ja) パルス電源
JP2000323772A (ja) パルス電源装置
US6329803B1 (en) Magnetically assisted switch circuit
JP3985379B2 (ja) パルス電源装置
JP3090279B2 (ja) 磁気パルス圧縮回路
US20070035256A1 (en) Gas discharge lamp power supply
JP2000031569A (ja) 可飽和リアクトルおよびこれを用いたパルスレーザ用電源装置
JPH03101283A (ja) パルス電源回路
RU2095941C1 (ru) Магнитный генератор импульсов
JP3328914B2 (ja) パルス発生装置およびこれを用いた集塵器ならびに加速器
JP2000278963A (ja) パルス電源
JP2001320886A (ja) パルス放電回路
JP2001320116A (ja) パルス放電回路
JP2000224850A (ja) パルス電源装置
JPH11266147A (ja) パルス電源装置
JPH069267B2 (ja) パルスガスレ−ザ

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100511

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130511

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140511

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees