JP3131657B2

JP3131657B2 - 安定化されたメチルメタクリレートポリマー

Info

Publication number: JP3131657B2
Application number: JP04100718A
Authority: JP
Inventors: ミカエリスペーテル
Original assignee: Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG; Ciba Holding AG
Current assignee: BASF Schweiz AG
Priority date: 1991-03-27
Filing date: 1992-03-26
Publication date: 2001-02-05
Anticipated expiration: 2016-02-05
Also published as: US5412008A; KR920018094A; DE59201428D1; EP0506615B1; JPH05125248A; KR100199341B1; CA2063981C; CA2063981A1; EP0506615A2; BR9201060A; EP0506615A3; ES2069402T3

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特定の置換基を有する
２−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンを含む安定化
されたメチルメタクリレートホモ−及びコポリマーに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】次式：

【化２】〔式中、Ｒは水素原子又は有機基であってよく、そして
Ａｒはヒドロキシル基を有しない芳香族基を表わす〕で
表わされる２−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンを混合する
ことにより、光、酸素及び熱によって引き起こされる分
解に対してポリマーを保護することは良く知られている
（ＵＳ−Ａ−３２４４７０８及びＣＨ−Ｂ−４８００９
１参照）。

【０００３】上記の引用文献中では、ごく容易に入手し
得るという理由により、式中、Ａｒが２，４−ジメチル
フェニル基を表わすこれらのトリアジン誘導体が主に使
用された。最近、他のアリール基を有するこれらのトリ
アジンを合成することも可能にする方法が開発された
（ＥＰ−Ａ−３９５９３８）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、式
中、Ａｒがフェニル基又はｐ−トリル基を表わすこれら
のトリアジンはメチルメタクリル酸ホモ−及びコポリマ
ーに関して特に有効な安定化作用を有し、これは、式
中、Ａｒが２，４−ジメチルフェニル基を表わすトリア
ジンの安定化作用よりも著しく優れているということが
今や判った。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、ａ）ポリマー化された形態中にメチルメタクリレート少
なくとも８０％を含むメチルメタクリレートホモポリマ
ー又はコポリマー、及びｂ）安定剤としての、次式Ｉ：

【化３】〔式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ハロゲン−若しくは炭素原子数１ないし１２の
アルコキシ−置換炭素原子数２ないし６のアルキル基、
又はベンジル基を表わし、そしてＲ′は水素原子又はメ
チル基を表わす〕で表わされる少なくとも１種のヒドロ
キシフェニルトリアジン、からなる光、酸素及び熱の作
用によって引き起こされる分解に対して安定化されたポ
リマー組成物に関するものである。

【０００６】メチルメタクリレートホモポリマー又はコ
ポリマーは、塊状ポリマー、懸濁ポリマー又は別の種類
のポリマーであってよい。コポリマーは、コモノマーと
して典型的にはアルキルアクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレン又はα−メチルスチレンを含んでもよい。
それはグラフトコポリマーであってもよい。メチルメタ
クリレートホモ−又はコポリマーは、耐衝撃性が改善さ
れたポリメチルメタクリレートにおいて弾性ポリマーを
用いる場合と同様に、他のポリマーとの混合物（ポリブ
レンド）の形態であってよい。成分ａ）は好ましくは、
メチルメタクリレートホモポリマーである。

【０００７】式Ｉで表わされる化合物は紫外線吸収剤で
あり、そしてそれらは光及び温度に対して非常に安定で
ある。それらはポリメタクリレート中で移行及び抽出に
対して非常に抵抗性がある。

【０００８】式Ｉ中、炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基としてのＲは直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であっ
てよく、且つ典型的にはメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、２−エチルブチル基、ヘプチル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル
基、ドデシル基、テトラデシル基又はオクタデシル基で
ある。ハロゲン−又は炭素原子数１ないし１２のアルコ
キシ置換−炭素原子数２ないし６のアルキル基としての
Ｒは、２−クロロエチル基、２−フルオロエチル基、２
−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−イソ
プロポキシエチル基、２−メトキシプロピル基、３−ブ
トキシプロピル基、２−ブトキシエチル基、２−ヘキシ
ルオキシエチル基、２−オクチルオキシエチル基又は２
−ドデシルオキシエチル基であってよい。

【０００９】好ましくは、Ｒは炭素原子数１ないし１２
のアルキル基又はベンジル基である。Ｒ′が水素原子を
意味する場合が好ましい。

【００１０】これらのポリマー組成物は、成分ｂ）が式
Ｉで表わされる化合物であり、且つＲが炭素原子数１な
いし８のアルキル基を表わし、そしてＲ′が水素原子を
表わす化合物である場合が特に好ましい。

【００１１】式Ｉで表わされる化合物の代表的な例は、
以下のものである：２，４−ジフェニル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−
４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−プロ
ポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−
ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル
−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−
６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−
（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−
（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−
（２−ヒドロキシ−４−（２−ブトキシエトキシ）フェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−ト
リル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−
６−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６
−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６−
（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６
−（２−ヒドロキシ−４−ペントキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６
−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６
−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヘキシルオキシエトキ
シ）フェニル）−１，３，５−トリアジン。

【００１２】式Ｉで表わされる化合物は公知化合物であ
り、又はそれらは入手し得る公知化合物の製造方法と同
様の方法によって製造される。原則的に、それらは相当
する２，４−ジアリール−６−（２，４−ジヒドロキシ
フェニル）−１，３，５−トリアジンのエーテル化によ
って製造される。前記エーテル化は、２位のヒドロキシ
ル基が水素結合によって立体障害を受けているので、選
択的に４位に行われる。２，４−ジヒドロキシフェニル
トリアジンの製造及びそのエーテル化の方法は、例えば
Helv. Chim. Acta５５（１９７２），１５６６−９１；
ＥＰ−Ａ−３９５９３８；ＵＳ−Ａ−３１１８８８７；
ＵＳ−Ａ−３２４２１７５又はＵＳ−Ａ−３２４４７０
８に記載されている。

【００１３】混合される安定剤の量は、安定化されたポ
リマーの予定された最終用途に依存するであろう。通
常、新規ポリマー組成物は安定剤〔成分ｂ）〕０．１な
いし５重量部を含むであろう。

【００１４】安定剤〔成分ｂ）〕は２種又はそれより多
くの式Ｉで表わされる化合物の混合物であってもよい。
式Ｉで表わされる安定剤に加えて、前記ポリマー組成物
は他の公知安定剤、典型的には酸化防止剤、光安定剤、
金属奪活剤又はホスフィットを含んでもよい。前記補助
安定剤の代表的な例は以下のものである。

【００１５】１．酸化防止剤

【００１６】１．１．アルキル化モノフェノール例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三
ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロ
ペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシ
クロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６
−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチ
ル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル
−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデシ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−
１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−トリデシ−１′−イル）フェノール及
びこれらの混合物。

【００１７】１．２．アルキルチオメチルフェノール例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチル
フェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。

【００１８】１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒド
ロキノン例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第
三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オク
タデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニ
ソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソ
ール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）アジペート。

【００１９】１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４′−ビス
（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスル
フィド。

【００２０】１．５．アルキリデンビスフェノール例えば２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−
ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００２１】１．６．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合
物例えば３，５，３′，５′−テトラ（第三ブチル−４，
４′−ジヒドロキシ−ジベンジル）エーテル、オクタデ
シル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメル
カプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオ
テレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート。

【００２２】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三
ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオク
タデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。

【００２３】１．８．芳香族ヒドロキシベンジル化合物例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベン
ゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００２４】１．９．トリアジン例えば２，４−ビス〔（オクチルメルカプト−６−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）〕
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメ
ルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス
（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチ
ル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。

【００２５】１．１０．ベンジルホスホネート例えばジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、モノ
エチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
ホスホネートのカルシウム塩。

【００２６】１．１１．アシルアミノフェノール例えば４−ヒドロキシラウリルアニリド、４−ヒドロキ
システアリルアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。

【００２７】１．１２．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピン酸エステル例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサリ
ルジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ−〔２．２．２〕−オ
クタン。

【００２８】１．１３．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピン酸エステル例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサリ
ルジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ−〔２．２．２〕−オ
クタン。

【００２９】１．１４．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピン酸エステル例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサリ
ルジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ−〔２．２．２〕−オ
クタン。

【００３０】１．１５．下記の一価又は多価アルコール
を用いた３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エステル例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサリ
ルジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ−〔２．２．２〕−オ
クタン。

【００３１】１．１６．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸アミド例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００３２】２．紫外線吸収剤及び光安定剤

【００３３】２．１．２−（２′−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール例えば５′−メチル−、３′，５′−ジ第三ブチル−、
５′−第三ブチル−、５′−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−、５−クロロ−３′，５′−ジ第三ブ
チル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル
−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−オ
クチルオキシ−、３′，５′−ジ第三アミル−又は
３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）誘導
体。

【００３４】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクト
キシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、
４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキ
シ−、２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導
体。

【００３５】２．３．非置換又は置換安息香酸エステル例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ
第三ブチルフェニル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシル。

【００３６】２．４．アクリルレート例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチ
ル、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸イソオ
クチル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ
−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ
−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボ
メトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチル、Ｎ−（β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリ
ン。

【００３７】２．５．ニッケル化合物付加配位子例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールア
ミン又はＮ−シクロヘキシル−ジエタノールアミンを有
するか又は有しない２，２′−チオビス［４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッ
ケル錯体例えば１：１−又は１：２錯体、ニッケルジブ
チルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第三ブチルベンジル燐酸モノアルキルエステル例えばメ
チル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例え
ば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケト
キシムのニッケル錯体、付加配位子を有するか又は有し
ない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体。

【００３８】２．６．立体障害アミン例えばビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン
酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸
との縮合生成物、Ｎ、Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン
と４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ
トリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテ
トラオエート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−
ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）。

【００３９】２．７．オキサミド例えば４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，
２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ第三ブトキサニ
リド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ第三
ブトキサニリド、２−エトキシ−２′−エトキサニリ
ド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オ
キサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エト
キサニリド及び２−エトキシ−２′−エチル−５，４′
−ジ第三ブトキサニリドとのその混合物、並びにｏ−及
びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物並びにｏ
−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。

【００４０】２．８．別の２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４− ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６
−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブトキシ−プロポキシ）フェニ
ル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロポキシ）
フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン。

【００４１】３．金属奪活剤例えばＮ，Ｎ′−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラ
ル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒドラジ
ン。

【００４２】４．ホスフィット及びホスホナイト例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４
−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホス
フィット、３，９−ビス（２，４−ジ第三ブチルフェノ
キシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジ
ホスファスピロ［５．５］ウンデカン。

【００４３】式Ｉで表わされるトリアジンと立体障害ア
ミンとの組み合わせは特に重要である。少なくとも１個
の次式：

【化４】で表わされる基を含む化合物が包含される。

【００４４】前記安定剤の例は、項２．６．に上記され
ている。式Ｉで表わされるトリアジンとフェノール系酸
化防止剤との組み合わせも特に重要である。

【００４５】前記補助安定剤に加えて、本ポリマー組成
物は他の変性剤、典型的には潤滑剤、顔料、染料、蛍光
増白剤、難燃剤、帯電防止剤又は発泡剤を含んでもよ
い。

【００４６】ポリマーへの安定剤及び他の所望の変性剤
の添加は造形品への加工の前に、典型的には粉末形態で
成分を混合することにより、又はポリマーの溶融体若し
くは溶液に安定剤を添加することにより行ってよい。造
形が重合中（アクリルガラス板の成形加工中のように）
に行われる場合には、その時安定剤がモノマーに添加さ
れる。

【００４７】したがって、本発明は、安定剤として少な
くとも１種の式Ｉで表わされる化合物を使用することか
らなる、重合の前又は後に安定剤を添加することによ
り、光、酸素及び熱の作用によって引き起こされる分解
に対してメチルメタクリレートを８０重量％よりも多く
含むメチルメタクリレートホモポリマー又はコポリマー
を安定化するための方法にも関するものである。

【００４８】安定化されたポリマーは、異なった形態、
典型的にはパネル、形材、フィルム、パイプ又は他の造
形品として使用することができる。

【００４９】安定化されたポリマーは、優れた耐候性、
特に紫外線に対する優れた抵抗性を有する。屋外での使
用の際には、それ故、それらはその機械的性質並びに延
長された時間に対するその透明性及び光沢も保持する。

【００５０】

【実施例】下記の非限定的な実施例（ここで、部及びパ
ーセントは重量による）により、本発明を更に詳細に説
明する。

【００５１】実施例１：紫外線に対する安定剤の抵抗性ポリメチルメタクリレート〔商標名：プレックス（Ple
x）８７０４，レームアンドハースアクチェンゲ
ゼルシャフト（Roehm & Haas A. G.）製〕１５ｇ及び表
１に示す安定剤６０ｍｇ（安定剤０．４％に相当する）
を室温でメチレンクロリド８５ｇに溶解する。この溶液
から調製したフィルムを、次いでガラス板上に貼付す
る。溶媒を蒸発させ、次いで真空下で乾燥させた後、こ
のフィルムは３０μｍの厚さを有する。

【００５２】ガラス板からフィルムを剥がし、次いでカ
ードボード枠（６×３ｃｍ）上に伸ばす。前記の試料
を、試料上２０ｃｍに固定された５ＴＬ／１０９蛍光ラ
ンプ及び５ＴＬ／１２ランプを備えた紫外線暴露装置中
で３箇月間照射する。紫外線吸収を最大吸収波長におい
て規則的間隔で測定する。

【００５３】下記の安定剤を使用する。ＵＶ−１：２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ
−４−メトキシ）−１，３，５−トリアジンＨＡＬＳ−１：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）セバケートＶ−１：２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ）−１，
３，５−トリアジン（比較化合物）

【表１】表１：記載された照射時間後の紫外線吸収％安定剤紫外線吸収の週１３５７９１１１３ ──────────────────────────────────── ０．４％ＵＶ−１ 102 100 96.6 94.2 88.9 84.9 79.8 ０．２％ＵＶ−１＋０．２％ＨＡＬＳ−１ 103 102 100 99.9 98.2 97.8 95.9 ０．４％Ｖ−１ 101 90.9 75.9 64.6 52.7 43.5 32.7 ────────────────────────────────────

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＣ０８Ｋ 5/3492 Ｃ０８Ｋ 5/3492 (56)参考文献特開平４−211672（ＪＰ，Ａ) 特開平４−298503（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 33/12 C08J 3/20 C08J 5/18 C08K 5/00 - 5/3492 ＣＡ，ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ａ）ポリマー化された形態中にメチルメ
タクリレート８０ないし１００％を含むメチルメタクリ
レートホモポリマー又はコポリマー、及びｂ）安定剤としての、次式Ｉ：【化１】〔式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ハロゲン−若しくは炭素原子数１ないし１２の
アルコキシ−置換炭素原子数２ないし６のアルキル基、
又はベンジル基を表わし、そしてＲ′は水素原子又はメチル基を表わす〕で表わされるヒ
ドロキシフェニルトリアジン、からなる光、酸素及び熱
の作用によって引き起こされる分解に対して安定化され
たポリマー組成物。
【請求項２】成分ａ）がメチルメタクリレートホモポ
リマーである請求項１記載のポリマー組成物。
【請求項３】成分ｂ）が式Ｉ〔式中、Ｒは炭素原子数
１ないし１２のアルキル基又はベンジル基を表わす〕で
表わされる化合物である請求項１記載のポリマー組成
物。
【請求項４】成分ｂ）が式Ｉ〔式中、Ｒは炭素原子数
１ないし８のアルキル基を表わし、そしてＲ′は水素原
子を表わす〕で表わされる化合物である請求項１記載の
ポリマー組成物。
【請求項５】成分ａ）のポリマー１００部当たり、成
分ｂ）の安定剤０．１ないし５重量部を含む請求項１記
載のポリマー組成物。
【請求項６】成分ａ）及び成分ｂ）に加えて１種又は
それより多くの他の安定剤又は他の変性剤からなる請求
項１記載のポリマー組成物。
【請求項７】成分ａ）及び成分ｂ）に加えて立体障害
アミンの種類の光安定剤からなる請求項６記載のポリマ
ー組成物。
【請求項８】重合の前又は後に、安定剤として請求項
１記載の式Ｉで表わされる化合物を添加することからな
る、光、酸素及び熱の作用によって引き起こされる分解
に対してメチルメタクリレート８０ないし１００重量％
を含むメチルメタクリレートホモポリマー又はコポリマ
ーを安定化するための方法。
【請求項９】請求項１において定義されたポリマー組
成物からなる造形品。
【請求項１０】パネル又はフィルムの形態にある請求
項９記載の造形品。