JPH0796642B2 - 大環状ポリアルキルピペリジンで安定化されたポリフエニレンエ−テルまたはその混合物と他のポリマ−からなる安定化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、大環状ポリアルキルピペリジン誘導体の添加
により、特に光誘起性の分解に対するポリフェニレンエ
ーテルの安定化に関する。

（従来の技術） ポリフェニレンエーテルまたはポリフェニレンオキシド
は、直線状の芳香族ポリエーテル構造により特徴づけら
れ、そして一般式 （式中、ＲおよびＲ′は水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原
子を表わし得、そしてｍは少なくとも50を表わす。）に
相当するポリマーの類を意味する。

特に興味深いポリフェニレンエーテルは、上記式中、Ｒ
およびＲ′がメチル基を表わすかまたはＲおよびＲ′が
フェニル基を表わすものである。

これらのポリマーは高い耐熱性が要求される使用分野に
は特に興味深い。他の線状ポリマーに比較して、それら
は高いガラス転移温度を有する。ポリフェニレンエーテ
ルは、高い溶融粘度のために加工が難しい。このため
に、ポリフェニレンエーテルと他のポリマー、特にポリ
フェニレンエーテルと容易に混合されるスチレンホモ−
またはコポリマーとの混合物を使用することは好まし
い。

多くの有機ポリマーの様に、ポリフェニレンエーテル
は、紫外線輻射により分解される。その様な分解を避け
るために、ポリフェニレンエーテルおよび他のポリマー
とのその混合物に光安定剤を添加することは可能であ
る。この目的のためにベンズトリアゾールタイプおよび
有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤を使用することはす
でに提案されている（例えば米国特許第3925509号明細
書参照）。PCT出願WO81/02021号や欧州特許出願第14687
9号に提案された2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリ
ジノールのエーテルおよびエステル、またはそのベンズ
トリアゾールタイプの紫外線吸収剤との混合物はさらに
一層効果的である。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、これらの非常に有効な光安定剤は、ポリ
フェニレンエーテルに可塑化効果を及ぼす欠点を有し、
それによって加熱下でのそれらの寸法安定性を低下させ
る欠点を有する。それ故にその様な光安定剤は、加熱下
でなるべく高い寸法安定性が望まれるそれらの利用には
適していない。

特定の大環状ポリアルキルピペリジン化合物が、前記ポ
リフェニレンエーテルのすぐれた安定剤であり、そして
加熱下でポリマーの寸法安定性を低下させないか、また
は問題にならない程度に低下させるだけであることを見
い出した。該大環状化合物は、米国特許出願第4442250
号に開示されており、その中で該化合物はポリオレフィ
ン、ポリジエン、塩化ビニルポリマー、ポリウレタンお
よびその他のポリマーの安定剤として提案されている
が、しかしポリフェニレンエーテルを安定化するための
ものとしては示されていない。これらの大環状化合物
は、一般に相当高い溶融温度を有し、そしてわずかに可
溶性である。それらはポリオレフィンおよび他の脂肪族
ポリマーに非常に限定された溶解性だけしか示さず、そ
して該基質中での安定剤としてのそれらの使用は問題が
あり、そしてそれ故に実際的な重要性を達成していなか
った。この様に、この類の特定の化合物が、約５％まで
の濃度でポリフェニレンエーテルと相溶性であり、長期
の貯蔵の間でも移行する傾向を示さないことは驚くべき
ことである。

（問題点を解決するための手段） 従って、本発明は、ポリフェニレンエーテルまたはその
混合物と１種またはそれ以上の他のポリマーとからな
り、次式I: （式中、 Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（R⁶）−を表わし、 R¹は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭
素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数３ないし12のアルコキシアルキル基、炭素原子数３な
いし12のアルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロ
アルキル基、フエニル基、ナフチル基、炭素原子数７な
いし12のアルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10の
フェニルアルキル基または次式II: で表わされる基を表わし、 R²は炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数２
ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数３ないし
12のアルコキシアルキル基、炭素原子数３ないし６のア
ルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル
基、フェニル基、ナフチル基、炭素原子数７ないし12の
アルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10のフェニル
アルキル基、または式IIで表わされる基を表わし、 R³は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数
２ないし８のアザアルキレン基または炭素原子数２ない
し８のオキサアルキレン基、炭素原子数６ないし８のシ
クロアルキレン基、フェニレン基、ジフェニレン基また
はキシリレン基を表わし、 R⁴はR²に示した意味の一つを表わし、 R⁵はR³に示した意味の一つを表わし、 R⁶は炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数３
ないし６のアルケニル基、炭素原子数２ないし４のヒド
ロキシアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルコキシ
アルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル
基、フェニル基、ナフチル基、炭素原子数７ないし12の
アルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10のフェニル
アルキル基または式IIで表わされる基を表わすか、また
はR¹およびR⁶が一緒になった場合には、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基または３−オキサペンタメチレン
基を表わし、そして R⁷は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ア
リル基、ベンジル基またはアセチル基を表わすが、ただ
しR¹、R²、R⁴またはR⁶のうち少なくとも１つは式IIで表
わされる基を表わす。）で表わされる化合物で安定され
た安定化組成物に関する。

炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのR¹、R²、
R⁴、R⁶およびR⁷は、枝分れしていないまたは枝分れした
アルキル基であって良く、例えばメチル基、エチル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル基または
第三−ブチル基である。アルキル基としてのR¹はイソペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オク
チル基、２−エチルヘキシル基、イソデシル基またはｎ
−ドデシル基であり得る。

炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基としての
R¹、R²、R⁴およびR⁶は、２−ヒドロキシエチル基、２−
ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、ま
たは２−ヒドロキシブチル基であり得る。炭素原子数３
ないし６のアルコキシアルキル基としてのR¹、R²、R⁴お
よびR⁶は２−メトキシエチル基、２−イソプロポキシエ
チル基、２−ブトキシエチル基または３−エトキシプロ
ピル基であり得る。アルコキシアルキル基としてのR¹、
R²およびR⁴は、２−オクチルオキシエチル、２−ヘキシ
ルオキシプロピル基または２−ブトキシブチル基であり
得る。

炭素原子数３ないし６のアルケニル基としてのR¹、R²、
R⁴およびR⁶は、アリル基、メタリル基、クロトニル基ま
たは2,3−ジメチルアリル基であり得る。アルケニル基
としてのR¹は、２−オクテニル基または２−デセニル基
であって良い。

炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基としてのR¹、
R²、R⁴およびR⁶は、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基またはシクロオクチル基であり得る。炭素原子数７な
いし10のフェニルアルキル基としてのR¹、R²、R⁴および
R⁶は、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニ
ルエチル基またはα，α−ジメチルベンジル基であり得
る。炭素原子数７ないし12のアルキルフェニル基として
のR¹、R²、R⁴およびR⁶は、３−メチルフェニル基、４−
イソプロピルフェニル基、４−第三−ブチルフェニル基
または４−ヘキシルフェニル基であり得る。

炭素原子数２ないし５のアルキレン基、炭素原子数２な
いし５のアザアルキレン基または炭素原子数２ないし５
のオキサアルキレン基としてのR³およびR⁵は、枝分れし
ていても、していなくても良く、例えば1,2−エチレン
基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基（トリメチ
レン基）、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オク
タメチレン基、３−オキサペンタメチレン基、３−オキ
シヘプタメチレン基、３−アザヘプタメチレン基、３−
メチルアザヘプタメチレン基または３−ヒドロキシエチ
ルアザヘプタメチレン基である。シクロアルキレン基と
してのR³およびR⁵は1,3−または1,4−シクロヘキシレン
基または4,4′−メチレンジシクロヘキシレン基であり
得る。

好ましい組成物は上記式Ｉ中、Ｘが−Ｎ（R⁶）−を表わ
し、R¹が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
または式IIで表わされる基を表わし、R²およびR⁴が水素
原子または式IIで表わされる基を表わし、R³およびR⁵が
炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、R⁶が炭
素原子数１ないし12のアルキル基、フェニル基、ベンジ
ル基、シクロヘキシル基または式IIで表わされる基を表
わすか、またはR¹およびR⁶が一緒になった場合には、ペ
ンタメチレン基または３−オキサペンタメチレン基を表
わし、そしてR⁷が水素原子またはメチル基を表わす化合
物で安定化されたものである。

特に好ましい組成物は上記式Ｉ中、Ｘが−Ｎ（R⁶）−を
表わし、R¹が水素原子または式IIで表わされる基を表わ
し、R²およびR⁴が式IIで表わされる基を表わし、R³およ
びR⁵がヘキサメチレン基を表わし、R⁶が炭素原子数１な
いし８のアルキル基または式IIで表わされる基を表わ
し、そしてR⁷が水素原子を表わす化合物で安定化された
ものである。

式Ｉで表わされる安定剤は、米国特許第4442250号明細
書に開示されている方法により製造できる。特別の精製
は通常は不要である。

式Ｉで表わされる安定剤は、ポリフェニレンエーテルに
0.1ないし５重量％の量で好ましくは添加され、非常に
好ましくは0.5ないし３重量％である。添加を粉剤また
は粒剤のドライブレンドにより行なうことができる。特
に良好な均質化は、混合物を抽出し、そして抽出物を粒
状にすることにより達成される。

式Ｉで表わされる化合物に加えて、ポリフェニレンエー
テルにその他の安定剤を添加することは可能である。こ
れらの補助安定剤は、例えば酸化防止剤、光安定剤、紫
外線吸収剤、金属不活性化剤、ホスフィットまたはチオ
相乗剤であり得る。使用し得る補助安定剤の例は、下記
のものである： 1. 酸化防止剤 1.1. アルキル化一価フェノール、例えば2,6−ジ−第
三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−4,
6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−エ
チルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチ
ルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチル
フェノール、2,6−ジ−シクロペンチル−４−メチルフ
ェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−
ジメチルフェノール、2,6−ジ−オクタデシル−４−メ
チルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノ
ール。

1.2. アルキル化ヒドロキノン、例えば2,6−ジ−第三
ブチル−４−メトキシフェノール、2,5−ジ−第三ブチ
ルヒドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロキノン、
2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル。

1.3. ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、2,2′−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチル
フェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２
−メチルフェノール）。

1.4. アルキリデンビスフェノール、例えば2,2′−メ
チレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、２−２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
エチルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔４−メチ
ル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、
2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシ
ルフェノール）、2,2′−メチレンビス（６−ノニル−
４−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（4,6−
ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2′−メチレン−ビス−〔６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレン
ビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニル
フェノール〕、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブ
チルフェノール）、4,4′−メチレンビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタ
ン、2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒ
ドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−
トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル
メルカプトブタン、（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプト
ブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−
第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレー
ト〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）−ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチル
−ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕
テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば1,3,5−トリス（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−ト
リメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）スルフィド、3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオク
チルエステル、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル）−ジチオールテレフタレー
ト、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル）イソシアヌレート、3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル−ホスホン酸ジオクタデシル、3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸
モノエチルのカルシウム塩。

1.6. アシルアミノフェノール、例えば４−ヒドロキシ
ラウリル酸のアニリド、４−ヒドロキシステアリン酸の
アニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
ｓ−トリアジン、Ｎ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）カルバミン酸オクチル。

1.7. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の一価−または多価アルコール、
例えばメタノール、ジエレングリコール、オクタデカノ
ール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロキシエチ
ル）蓚酸ジアミドとのエステル。

1.8. β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の一価−または多価アルコ
ール、例えばメタノール、ジエレングリコール、オクタ
デカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコ
ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロキシ
エチル）蓚酸ジアミドとのエステル。

1.9. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸のアミド、例えばN,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサメチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒェニルプロ
ピオニル）トリメチレン−ジアミン、N,N′−ビス（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン。

2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば５′−メチル−、３′,5′−ジ−第三ブ
チル−、５′−第三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テト
ラメチルブチル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三
ブチル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチ
ル−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−
オクトキシ、３′,5′−ジ−第三アミル−および３′,
5′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−誘導体。

2.2. ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒド
トキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デ
シルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオ
キシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−および２′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導体。

2.3. 置換および非置換安息香酸のエステル、例えば４
−第三・ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス（４−第三−ブチルベンゾイル）
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−第
三ブチルフェニルエステルおよび3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。

2.4. アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β，β
−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−
β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメ
トキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−
ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β−
メチル−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインド
リン。

2.5. ニッケル化合物、例えば2,2′−チオビス〔４−
（1,1,3,3−テトラメチルブチル）フェノール〕のニッ
ケル錯体例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミ
ンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのよう
な付加的な配位子を含むかまたは含まない1:1または1:2
錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルまたはエチルエステルの
ニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メ
チルフェニルウンデシルケトンオキシムのニッケル錯
体、付加的な配位子を含むかまたは含まない１−フェニ
ル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッ
ケル錯体。

2.6. 立体障害性アミン、例えばビス（2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン
酸ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）エステ
ル、１−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−ｓ−トリアジンとの縮合生成
物、トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテ
トラカルボキシレート、1,1′−（1,2−エタンジイル）
ビス（3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン）。

2.7. 蓚酸ジアミド、例えば4,4′−ジ−オクチルオキ
シオキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ
−第三ブチルオキサニリド、2,2′−ジ−ドデシルオキ
シ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキ
シ−２′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）−蓚酸ジアミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリドおよびこ
れと２−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ−第三ブ
チルオキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物並びにｏ−および
ｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。

3. 金属不活性化剤、例えばN,N′−ジフェニル蓚酸ジ
アミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジ
ン、N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。

4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリル−ペンタエリ
トリトールジホスフィット、トリス（2,4−シ−第三ブ
チルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス（2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス−（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビフェニ
レンジホスホナイト、3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチル
フェノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホス
ファスピロ〔5.5〕ウンデカン。

5. 過酸化物スカベンジャー、例えばβ−チオジプロピ
オン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリ
スチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイ
ミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス
（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

同時に使用され得る別の変性剤は：充填剤および補強剤
例えば炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリ
ン、石綿、金属酸化物、カーボンブラック、黒鉛、ガラ
スまたは炭素繊維である。別の可能な添加剤の例は：顔
料、螢光増白剤、難燃剤、帯電防止剤または潤滑剤であ
る。

（実 施 例） 下記の実施例は、本発明の安定化されたポリフェニレン
エーテルの製造および試験を示す。部およびパーセント
は重量による。

実施例：ポリ（2,6−ジ−メチル−1,4−フェニレン）エ
ーテルおよびゴム−変性ポリスチレン〔Noryl SE100、
ジェネラルエレクトリック（General Electric）社製〕
から得られる粒状のポリブレンド97部を次式： で表わされる粉末安定剤３部と混合し、この混合物を均
質化し、そして押出により造粒した（温度:240゜/250゜
/240゜）。この粒状物を射出成形機で寸法40×50×2mm
のシートに加工する。

これらの試料を次に下記の性質:a）メトラ−（Mettle
r）TA 3000熱機械的分析器でガラス転移温度（Tg）、お
よびｂ）ビカット（Vicat）による軟化温度（Ts）（AST
M D 1525）に関し試験した。

試料にさらにキセノン灯試験450耐候装置で紫外線を400
および600時間照射し、そしてその結果の黄変を黄色度
指数に従って決定した。

結果を下の表に示す。

この値は、非常に良好な光安定化が、加熱下での寸法安
定性をそれ程損なうことなく得られることを示すもので
ある。

１または２％の安定剤並びに補助安定剤として米国特許
第4442250号明細書の実施例1,6,7,11,12および27に記載
された化合物を使用することにより、同様な結果が得ら
れた。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリフェニレンエーテルまたはその混合物
   と１種またはそれ以上の他のポリマーとからなり、次式
   I: （式中、 Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（R⁶）−を表わし、 R¹は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭
   素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子
   数３ないし12のアルコキシアルキル基、炭素原子数３な
   いし12のアルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロ
   アルキル基、フェニル基、ナフチル基、炭素原子数７な
   いし12のアルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10の
   フェニルアルキル基または次式II: で表わされる基を表わし、 R²は炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数２
   ないし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数３ないし
   12のアルコキシアルキル基、炭素原子数３ないし６のア
   ルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル
   基、フェニル基、ナフチル基、炭素原子数７ないし12の
   アルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10のフェニル
   アルキル基、または式IIで表わされる基を表わし、 R³は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数
   ２ないし８のアザアルキレン基または炭素原子数２ない
   し８のオキサアルキレン基、炭素原子数６ないし８のシ
   クロアルキレン基、フェニレン基、ジフェニレン基また
   はキシリレン基を表わし、 R⁴はR²に示した意味の一つを表わし、 R⁵はR³に示した意味の一つを表わし、 R⁶は炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数３
   ないし６のアルケニル基、炭素原子数２ないし４のヒド
   ロキシアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルコキシ
   アルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル
   基、フェニル基、ナフチル基、炭素原子数７ないし12の
   アルキルフェニル基、炭素原子数７ないし10のフェニル
   アルキル基または式IIで表わされる基を表わすか、また
   はR¹およびR⁶が一緒になった場合には、テトラメチレン
   基、ペンタメチレン基または３−オキサペンタメチレン
   基を表わし、そして R⁷は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ア
   リル基、ベンジル基またはアセチル基を表わすが、ただ
   しR¹、R²、R⁴またはR⁶のうち少なくとも１つは式IIで表
   わされる基を表わす。）で表わされる化合物で安定化さ
   れた安定化組成物。
2. 【請求項２】上記式Ｉ中、Ｘが−Ｎ（R⁶）−を表わし、
   R¹が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基また
   は式IIで表わされる基を表わし、R²およびR⁴が水素原子
   または式IIで表わされる基を表わし、R³およびR⁵が炭素
   原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、R⁶が炭素原
   子数１ないし12のアルキル基、フェニル基、ベンジル
   基、シクロヘキシル基または式IIで表わされる基を表わ
   すか、またはR¹およびR⁶が一緒になった場合には、ペン
   タメチレン基または３−オキサペンタメチレン基を表わ
   し、そしてR⁷が水素原子またはメチル基を表わす化合物
   で安定化された特許請求の範囲第１項記載の安定化組成
   物。
3. 【請求項３】上記式Ｉ中、Ｘが−Ｎ（R⁶）−を表わし、
   R¹が水素原子または式IIで表わされる基を表わし、R²お
   よびR⁴が式IIで表わされる基を表わし、R³およびR⁵がヘ
   キサメチレン基を表わし、R⁶が炭素原子数１ないし８の
   アルキル基または式IIで表わされる基を表わし、そして
   R⁷が水素原子を表わす化合物で安定化された特許請求の
   範囲第２項記載の安定化組成物。
4. 【請求項４】次式： で表わされる化合物で安定化された特許請求の範囲第１
   項記載の安定化組成物。
5. 【請求項５】ポリマーが、ａ）次式： （式中、Ｒはメチル基またはフェニル基を表わし、そし
   てｎは少なくとも50を表わす。）で表わされるポリフェ
   ニレンエーテル、およびｂ）スチレンホモ−またはコポ
   リマーの混合物からなる特許請求の範囲第１項記載の安
   定化組成物。
6. 【請求項６】式Ｉで表わされる安定剤を0.1ないし５重
   量％、好ましくは0.5ないし３重量％含有する特許請求
   の範囲第１項記載の安定化組成物。