JPH07258463A

JPH07258463A - 安定剤混合物

Info

Publication number: JPH07258463A
Application number: JP5978495A
Authority: JP
Inventors: Bernard Dr Gilg; ジルグベルナール; Kurt Stinsky; シュティンスキークルト
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1994-02-24
Filing date: 1995-02-23
Publication date: 1995-10-09
Also published as: CA2143168A1; EP0669367A1

Abstract

(57)【要約】【構成】ａ）（置換）ポリスチレン、（置換）スチレン
のコポリマーまたはターポリマー、ポリカーボネート、
ポリエステルカーボネート、ポリウレタン、ポリアミ
ド、コポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオ
キシド；ｂ）式（Ｉ）の少なくとも１つ；ｃ）式（Ｉ
Ｉ）の少なくとも１つからなる組成物とその使用方法。（Ｒ_１：メチル、エチル；Ｒ _２：Ｃ２−３０アルキル；
Ｒ_３：Ｃ１−４のアルキル；Ｒ_４：第三ブチル、シクロ
ヘキシル；Ｌ：−ＣＨ_２−、トリシクロ［５．２．１．
０^２．６］デカニ−３，８−イレン基；ｎ≧１）【効果】上記組成物はａ）のような有機材料を熱的、
酸化的および化学線的分解に対して安定化し、特に熱安
定性を増強させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、選択された有機ポリマ
ー、例えばアクリロニトリル／ブタジエン／スチレンタ
ーポリマーからなる組成物、６−置換２，４−ジアルキ
ルフェノールの混合物および熱的、酸化的および化学線
的分解に対してそれにより安定化された有機材料に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】多くのトリアルキルフェノール例えば
２，４−ジメチル−６−（１−メチルペンタデシル）フ
ェノールおよび有機材料を安定化するためのそれらの使
用は既に知られている（ＵＳ5,098,945 ）。ＵＳ3,535,
249 はアルキル置換ビスフェノールまたは低分子アルキ
ル置換ポリフェノールを用いるポリマーの安定化を開示
している。

【０００３】しかし、前記の公知のフェノール系安定剤
はそれらがなすべき要求に完全に応じることはできな
い。従って、ここ以降詳細に記載される二種類のフェノ
ール系安定剤の混合物が、特に熱安定性の増強に対して
提案される。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明はａ）ポリスチレ
ン、置換ポリスチレン、スチレンもしくは置換スチレン
のコポリマーもしくはターポリマー、ポリカーボネー
ト、ポリエステルカーボネート、ポリウレタン、ポリア
ミド、コポリアミド、ポリアセタールまたはポリフェニ
レンオキシド；ｂ）次式（Ｉ）

【化１０】（式中、Ｒ₁はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ₂は
炭素原子数２ないし３０のアルキル基を表しおよびＲ₃
は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す）で表され
る化合物の少なくとも１つ；ならびにｃ）式（II）

【化１１】（式中、Ｒ₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ₄は第三ブチル基またはシクロヘキシル基、Ｌ−
ＣＨ₂−またはトリシクロ［５．２．１．０^2.6］デカ
ニ−３，８−イレン基を表し、およびｎ≧１である。）
で表される化合物の少なくとも１つからなる組成物に関
する。

【０００５】Ｒ₂は代表的には、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、
エイコシル基、ヘネイコシル基、ドコシル基、トリコシ
ル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル
基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基ま
たはトリアコンチル基である。

【０００６】Ｒ₂の好ましい意味は炭素原子数８ないし
３０のアルキル基、代表的には炭素原子数８ないし１８
のアルキル基または炭素原子数１０ないし３０のアルキ
ル基である。特に好ましいのは炭素原子数１２ないし１
８のアルキル基である。

【０００７】Ｒ₃はメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基もしくは
第三ブチル基である。Ｒ₃は最も好ましくはメチル基で
ある。

【０００８】ｎは好ましくは１または１ないし５であ
る。

【０００９】興味深い組成物は式（Ｉ）の化合物が

【化１２】を表す化合物である。

【００１０】問題の化合物は単一の式（Ｉ）で表される
化合物の代わりに化合物

【化１３】（式中、Ｒ₂′は−Ｃ_mＨ_2m+1を表し、およびＲ″は−
Ｃ_m-1Ｈ_2m-1を表しそしてｍは炭素原子数２ないし３０
の整数を表し、ならびに基Ｒ₂′およびＲ₂″は同じ意
味を表す。

【００１１】化合物（Ｉａ）／（Ｉｂ）は代表的には１
／９９ないし９９／１好ましくは９９／１ないし７０／
３０であり、最も好ましくは９５／５ないし８０／２０
である。

【００１２】さらに興味深い組成物は式（II）の化合物
が、

【化１４】である化合物である。

【００１３】式（II）で表される化合物もまた単一の化
合物の混合物であることも可能である。

【００１４】また好ましいものは、成分ａ）がポリスチ
レン、置換ポリスチレン、または、スチレンもしくは置
換スチレンのコポリマーもしくはターポリマーである組
成物である。実例となる例は：

【００１５】１．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。

【００１６】２．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／無水マレ
イン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ート；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；お
よびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

【００１７】３．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのコポリマー；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタク
リロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸または
マレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレ
インイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキル
メタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、ア
クリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびア
クリロニトリル、ならびにこれらと２．に列挙したコポ
リマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよ
びＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合
物。

【００１８】成分ａ）は好ましくは耐衝撃性ポリスチレ
ン（ＩＰＳ），スチレン／アクリロニトリルコポリマー
（ＳＡＮ）およびアクリロニトリル／ブタジエン／スチ
レンターポリマー（ＡＢＳ）、特にアクリロニトリル／
ブタジエン／スチレンターポリマー（ＡＢＳ）およびメ
チルメタクリレート／ブタジエン／スチレングラフトコ
ポリマーである（ＭＢＳ）。

【００１９】成分ａ）はまた、ポリカーボネート、ポリ
エステルカーボネート、ポリウレタン、ポリアミド、コ
ポリアミド、ポリアセタールまたはポリフェニレンオキ
シドであってもよい。表記できる例は以下のものであ
る：

【００２０】Ｉ）一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。

【００２１】II）ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；
ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／ま
たはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラ
ストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，
４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとのコポリマー；またはこれらとポ
リエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコール
とのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性
させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合
させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。

【００２２】III ）ポリアセタール、例えばポリオキシ
メチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含
むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。

【００２３】式（Ｉ）および（II）の化合物の製造は、
特に、Ｊ．フォイト（J.Voigt)著の"Die Stabilisierun
g der Kunststoffe gegen Licht and Warme", Springer
Verlag Berlin-Heidelberg-New York,1966 に記載され
ているような公知の方法により行われる。

【００２４】新規な組成物は都合良くは安定化されるべ
き有機材料の総量に基づいて、式（Ｉ）の化合物の少な
くとも１つおよび式（II）の化合物の少なくとも１つの
混合物０．０１ないし１０％、好ましくは０．０５ない
し５％および最も好ましくは０．１ないし２％を含む。

【００２５】新規な組成物を用いて有機材料の熱安定
性の増強を達成できる。さらに、今までのところ成分
ｃ）はそれ自体は乳状化するのが困難であることが判明
しているにもかかわらず、成分ｂ）およびｃ）の混合物
は取扱の容易なエマルジョンを構成する。

【００２６】式（Ｉ）および（II）の化合物の他に、新
規な組成物はさらに含むことが可能な以下の慣用の添加
剤を含む：

【００２７】１．酸化防止剤１．１アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチルトリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれ
らの混合物。

【００２８】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。

【００２９】１．３ヒドロキノンとアルキル化ヒドロ
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。

【００３０】１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。

【００３１】１．５．アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。

【００３２】１．６．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。

【００３３】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。

【００３４】１．８．ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。

【００３５】１．９．トリアジン化合物、例えば、２，
４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。

【００３６】１．１０．べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。

【００３７】１．１１．アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。

【００３８】１．１２．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価
または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノー
ル、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサン
ジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００３９】１．１３． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００４０】１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００４１】１．１５．３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００４２】１．１６． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００４３】２．紫外線吸収剤および光安定剤２．１．２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールと２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ならび
に２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃−］
₂−（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。

【００４４】２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。

【００４５】２．３．置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【００４６】２．４．アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【００４７】２．５．ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【００４８】２．６．立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリ
アジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレ
ート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。

【００４９】２．７．シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。

【００５０】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。

【００５１】３．金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。

【００５２】４．ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。

【００５３】５．過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。

【００５４】６．ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【００５５】７．塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。

【００５６】８．核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【００５７】９．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

【００５８】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。

【００５９】11. ベンゾフラノンまたはインドリノン、
例えば米国特許４３２５８６３号明細書、米国特許４３
３８２４４号明細書または米国特許５１７５３１２号明
細書に記載されているものまたは３−［４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−
３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニ
ル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７
−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキ
シ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ
−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイ
ルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン。

【００６０】さらにまた好ましい添加剤は上記５．のグ
ループである。

【００６１】式（Ｉ）および（II）で表される化合物な
らびに他の任意の添加剤の有機材料への混合は公知の方
法、代表的には、成形の前または最中に、あるいは溶解
したまたは分散した化合物を有機材料に加え、続いて必
要ならば溶媒を蒸発させることにより行うことができ
る。式（Ｉ）および（II）の化合物はまた、例えば２．
５ないし２５重量％の濃度で該化合物を含むマスターバ
ッチの形態で安定化される材料に添加できる。

【００６２】式（Ｉ）および（II）の化合物はまたポリ
マー材料の重合の前もしくは最中または架橋の前にポリ
マー材料に添加もできる。

【００６３】式（Ｉ）および（II）で表される化合物は
純粋な形態またはワックス、油もしくはポリマー封入の
形態で前記材料中に混合できる。

【００６４】このように安定化された材料は、非常に様
々な形態で使用でき、例えば、フィルム、ファイバー、
リボン、成形品、形材の形態で、あるいは塗料組成物、
接着剤もしくはパテのバインダーとして使用できる。

【００６５】

【実施例】以下の実施例により本発明をさらに説明す
る。部およびパーセントは他に言及しない限り重量にも
とづく。

【００６６】実施例１：アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレンターポリマー（ＡＢＳ）の安定化以下の化合物を使用する

【化１５】Ｂ−１，０．１ｇ、Ｃ−１，０．２ｇおよびジラウリル
チオジプオピオネート０．６ｇをヘキサン／イソプロパ
ノールの溶媒混合物４０ｍｌに溶解する。十分攪拌しな
がら、溶液を水６００ｇ中のＡＢＳ１００ｇの分散物に
加え、そこですぐに溶液は短時間（約１分）で完全にＡ
ＢＳにより吸収される。ＡＢＳ粉末を吸引濾過で収集
し、減圧下、４０℃で４０時間乾燥する。熱安定性を測
定するためにＡＢＳ粉末のそれぞれ１０ｍｇの試料を示
唆熱分析計（ＭｅｔｔｌｅｒＴＡ２０００）に入
れ、そして１７０℃における発熱反応の最大に達するま
での時間を測定する。最大に達するまでの時間は３４５
分である。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成７年４月１３日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項８

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００４

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明はａ）ポリスチレ
ン、置換ポリスチレン、スチレンもしくは置換スチレン
のコポリマーもしくはターポリマー、ポリカーボネー
ト、ポリエステルカーボネート、ポリウレタン、ポリア
ミド、コポリアミド、ポリアセタールまたはポリフェニ
レンオキシド；ｂ）次式（Ｉ）（式中、Ｒ_１はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ_２は
炭素原子数２ないし３０のアルキル基を表しおよびＲ_３
は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す）で表され
る化合物の少なくとも１つ；ならびにｃ）式（ＩＩ）（式中、Ｒ_３は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ_４は第三ブチル基またはシクロヘキシル基を表
し、Ｌは−ＣＨ_２−またはトリシクロ［５．２．１．０
^２．６］デカニ−３，８−イレン基を表し、およびｎ≧
１である。）で表される化合物の少なくとも１つからな
る組成物に関する。

フロントページの続き (72)発明者クルトシュティンスキースイス国，4058 バーゼル，リーヘンタイッヒシュトラーセ 60

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ａ）ポリスチレン、置換ポリスチレン、
スチレンもしくは置換スチレンのコポリマーもしくはタ
ーポリマー、ポリカーボネート、ポリエステルカーボネ
ート、ポリウレタン、ポリアミド、コポリアミド、ポリ
アセタールまたはポリフェニレンオキシド；ｂ）次式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ₁はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ₂は
炭素原子数２ないし３０のアルキル基を表しおよびＲ₃
は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す）で表され
る化合物の少なくとも１つ；ならびにｃ）次式（II）【化２】（式中、Ｒ₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ₄は第三ブチル基またはシクロヘキシル基、Ｌ−
ＣＨ₂−またはトリシクロ［５．２．１．０^2.6］デカ
ニ−３，８−イレン基を表し、およびｎ≧１である。）
で表される化合物の少なくとも１つからなる組成物。
【請求項２】式（Ｉ）で表される化合物中、Ｒ₂が炭
素原子数８ないし３０のアルキル基を表す、請求項１に
記載の組成物。
【請求項３】式（Ｉ）および式（II) で表される化合
物中、Ｒ₃がメチル基である、請求項１に記載の組成
物。
【請求項４】成分ｂ) が、式【化３】で表される化合物である請求項１に記載の組成物。
【請求項５】成分ａ）がポリスチレン、置換ポリスチ
レン、または、スチレンもしくは置換スチレンのコポリ
マーもしくはターポリマーである請求項１に記載の組成
物。
【請求項６】成分ａ）が耐衝撃性ポリスチレン（ＩＰ
Ｓ），スチレン／アクリロニトリルコポリマー（ＳＡ
Ｎ）またはアクリロニトリル／ブタジエン／スチレンタ
ーポリマー（ＡＢＳ）である請求項１に記載の組成物。
【請求項７】成分ａ）はアクリロニトリル／ブタジエ
ン／スチレンターポリマー（ＡＢＳ）である請求項１に
記載の組成物。
【請求項８】熱的、酸化的および化学線的分解に対し
て、ポリスチレン、置換ポリスチレン、スチレンもしく
は置換スチレンのコポリマーもしくはターポリマー、ポ
リカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリウレ
タン、ポリアミド、コポリアミド、ポリアセタールまた
はポリフェニレンオキシドを安定化するために、式
（Ｉ）【化４】（Ｒ₁はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ₂は炭素原
子数２ないし３０のアルキル基を表しおよびＲ₃は炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表す。）で表される化
合物の少なくとも１つおよび、式（II）【化５】（式中、Ｒ₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ₄は第三ブチル基またはシクロヘキシル基、Ｌ−
ＣＨ₂−またはトリシクロ［５．２．１．０^2.6］デカ
ニ−３，８−イレン基を表し、およびｎ≧１である。）
で表される化合物の少なくとも１つを使用する方法。
【請求項９】式（Ｉ）で表される化合物が【化６】で表される化合物である請求項８に記載の使用方法。
【請求項１０】式（Ｉ）：【化７】（式中、Ｒ₁はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ₂は
炭素原子数２ないし３０のアルキル基を表しおよびＲ₃
は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す。）で表さ
れる化合物の少なくとも１つ、および式（II）【化８】（式中、Ｒ₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ₄は第三ブチル基またはシクロヘキシル基、Ｌ−
ＣＨ₂−またはトリシクロ［５．２．１．０^2.6］デカ
ニ−３，８−イレン基を表し、およびｎ≧１である。）
で表される化合物を少なくとも１つを使用することから
なる熱的、酸化的および化学線的分解に対して、ポリス
チレン、置換ポリスチレン、スチレンもしくは置換スチ
レンのコポリマーもしくはターポリマー、ポリカーボネ
ート、ポリエステルカーボネート、ポリウレタン、ポリ
アミド、コポリアミド、ポリアセタールまたはポリフェ
ニレンオキシドを安定化させる方法。
【請求項１１】式【化９】で表される化合物を使用する方法からなる請求項１０に
記載の方法。