JPH09510485A - Hdpeの安定化方法 - Google Patents
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- JPH09510485A JPH09510485A JP7524341A JP52434195A JPH09510485A JP H09510485 A JPH09510485 A JP H09510485A JP 7524341 A JP7524341 A JP 7524341A JP 52434195 A JP52434195 A JP 52434195A JP H09510485 A JPH09510485 A JP H09510485A
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Abstract
(57)【要約】
加工の間に分子量減少を経験しそしてチグラー−ナッタ型の触媒により得られる高密度ポリエチレン(HDPE)は、熱酸化分解に対して、立体障害フェノール及び有機ホスフィット又はホスホナイト及び酸化カルシウムの配合物の添加により安定化され得る。
Description
【発明の詳細な説明】HDPEの安定化方法
本発明は、安定化された、チーグラー−ナッタ型の触媒を使用して得られる高
密度ポリエチレン(HDPE)、安定化方法、及びこの安定化方法における安定
剤の使用方法に関する。
(例えばポリプロピレン、ポリエチレン又はPVCである)バルクプラスチッ
クの加工と使用は、抗酸化剤と光安定剤のような安定剤の添加なしには不可能で
ある。近年、(例えばポリプロピレン又ポリエチレンである)未使用材料のため
の加工と長期安定剤としては、立体障害フェノール、有機ホスフィットとホスホ
ナイトの配合が有利であることが証明されている。
ある種の有機ホスフィットは、湿気に非常に敏感であって、加水分解する傾向
があり、効果を低下する原因になっている。EP−A−0400454はペンタ
エリトリチルホスフィットから誘導される有機ホスフィットを金属石鹸、アルカ
リ金属酸化物又はアルカリ金属塩の添加により安定化することを提案している。
US443572には、ペンタエリトリチルホスフィットがアルカリ土類金属酸
化物により安定化されることが記載されている。更に、FR−A−820963
5には、フェノール性抗酸化剤、有機ホスフィットとアルカリ土類金属酸化物の
混合物が添加されている、エチレンと他のオレフィ
ンのコポリマーが記載されている。
本発明の目的は、新規の安定剤システムを提供することであり、それにより既
知の安定剤の添加の結果得られる安定性と比較して改善された安定性を持つ、加
工の間に分子量減少を経験する未使用のHDPEが得られる。
かくして、本発明は安定化された、加工工程で分子量減少を経験する高密度ポ
リエチレン(HDPE)であって;a)少なくとも一種の立体障害フェノール、
b)少なくとも1種の有機ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウ
ムの混合物を好ましくは0.05ないし15重量%含有するHDPEに関する。
新規の安定剤配合は、加工の間の分子量を予期できない程に、相乗的に減少す
る。かくして、新規の安定剤配合物を添加すると、多重押出(加工安定性)の間
に溶融流量は非常に僅かだけ増加するのみである。更に、新規安定剤配合物は非
常に長期にわたる熱安定性を付与する。
本発明の目的のためには、HDPEは有機金属混合触媒(チーグラー−ナッタ
触媒)を使用する重合、例えば沈澱重合により得られるものである。周期表のIV
ないしVIII亜族からの金属とIないしIVの主族からの金属との配合物が通常使用
される。反応は、大気圧下ないし約5バールまでの過圧下、150℃以下の温度
で、不活性溶媒例えば芳香族又は飽和脂肪族又は脂環式炭化水素中で実施される
。産業界では、下記の触媒の組み合わせ、即
ち、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキルアルミニウムハライド及び例え
ば、塩化マグネシウム、トリエチルアルミニウム、三塩化アルミニウム、ジエチ
ルアルミニウムクロライド、トリス(2−メチルプロピル)アルミニウム、又は
ジエチルマグネシウム及び塩化チタン(III)、塩化チタン(IV)、チタン酸エス
テル及び、例えば三塩化又は三臭化バナジウム、四塩化バナジウム、四塩化又は
四臭化ジルコニウム、VOCl2、VOCl3、バナジウム=トリアセチルアセト
ナート、ジクロロチタノセン、ジクロロジルコノセン、塩化チタン(III)/メチ
ルチタニウムトリクロライド混合物又は塩化マグネシウム−改変塩化チタン(IV
)触媒の組み合わせが特に成功裏に使用され得ることが証明されている。HDP
Eを気相重合により製造することも可能である。この場合、触媒は、高純度の無
水マグネシウム化合物に適用された遷移金属化合物(例えば塩化チタン(IV))で
ある。その重合は、約3.5MPaの圧下、85−100℃の温度で実施される
。
a:bの重量比は、好ましくは 20:1 ないし 1:20、特に 10:
1 ないし 1:10、特に好ましくは 4:1 ないし 1:4である。
(a+b):cの重量比は、好ましくは 10:1 ないし 1:20、特に
5:1 ないし 1:10、非常に特に好ましくは 3:1 ないし 1:3
である。
HDPEは、a、bとcの混合物の好ましくは0.05ないし5重量%、特に
好ましくは0.1ないし2重量%、非常に特に好ましくは0.1ないし1重量%と
混合される。
成分aとして使用される立体障害フェノールは、プラスチック、特にポリオレ
フィンの熱的酸化分解に対する安定剤として知られている。立体障害フェノール
は、例えば式I
(式中、R’は水素原子、メチル基又はtert−ブチル基を表し;そしてR''
は未置換の若しくは置換されているアルキル基又は未置換の若しくは置換されて
いるアルキルチオアルキル基を表す。)により表される基を少なくとも1個含む
。
成分aとして特に好ましい化合物は、式IIにより表される化合物である:
〔式中、
Aは水素原子、炭素原子数1ないし24のアルキル基、炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキル基、フェニ
ル基、−CH2−S−R25又は
を表し;
Dは炭素原子数1ないし24のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基又は−
CH2−S−R25を表し;
Xは水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、−CaH2a−Sq−R26
、−CbH2b−CO−OR27、−CbH2b−CO−N(R29)(R30)、−CH2N(R34
)(R35)、
を表し;
Rは水素原子又は式−CO−CH=CH2を表し;
G*は水素原子又は炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し;
R25は炭素原子数1ないし18のアルキール基、フェニル基、−(CH2)c−C
O−OR28又は−CH2CH2OR33を表し;
R26は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル
−(CH2)c−CO−OR28又は−CH2−CH2−OR33を表し;
R27は炭素原子数1ないし30のアルキル基、−CHR31−CH2−S−R32
、
(式中、Qは炭素原子数2ないし8のアルキレン基、炭素原子数4ないし6のチ
アアルキレン基又は−CH2CH2(OCH2CH2)d−を表す。)を表し;
R28は炭素原子数1ないし24のアルキル基を表し;
R29は水素原子、炭素原子数1ないし1.8のアルキル基又はシクロヘキシル
基を表し;
R30は炭素原子数1ないし18のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基
、炭素原子数1ないし18のアルキルで置換されたフェニル基又は基
の一つを表すか
又はR29とR30は一緒になって−O−又は−NH−により中断されていてもよ
い炭素原子数4ないし8のアルキレン基を表し;
R31は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基又はフェニル基を表し;
R32は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し;
R32は水素原子、炭素原子数1ないし24のアルキル基、フェニル基、炭素原
子数2ないし18のアルカノイル基又はベンゾイル基を表し;
R34は炭素原子数1ないし18のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基
、炭素原子数1ないし18のアルキル基で置換されたフェニル基又は
を表し;
R35は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、シクロヘキシル基又
は
を表すか;又は
R34とR35は一緒になって−O−又は−NH−により
中断されていてもよい炭素原子数4ないし8のアルキレン基を表し;
aは0、1、2又は3を表し;bは0、1、2又は3を表し;cは1又は2を
表し;dは1ないし5を表し;fは2ないし8を表しそしてqは1、2、3又は
4を表す。〕。
式中、下記の定義を持つ式IIの化合物は好ましい:
Aが水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、−CH2−S−炭素原子数1ないし18のアルキル基又は
を表し;
Dは炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は
−CH2−S−炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し;
Xは水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、−CaH2a−Sq−R26、
−CbH2b−CO−OR27、−CH2N(R34)(R35)、
を表し;
R26は炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基又は−(CH2)c−C
O−OR28を表し;
R27は炭素原子数1ないし18のアルキル基、
(式中、Qは炭素原子数2ないし8のアルキレン基、−CH2−CH2−S−CH2
CH2−又は−CH2CH2(OCH2CH2)q−を表す。)を表し;
R28は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し;
R34とR35は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1ないし12のアル
キル基を表すか、又は
R34とR35は一緒になって−O−又は−NH−により中断されていてもよい炭
素原子数4ないし8のアルキレン基を表し;
aは1又は2を表し、bは1又は2を表し;cは1又は2を表し;そしてdは
1、2又は3を表す。
この型の立体障害フェノールの例を下記する:
2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−tert−ブチル−4,
6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェ
ノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2
,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシ
ルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2
,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−tert−ブチル−ハイドロキノン、2,5−tert−
アミルハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,2’−チオビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2
’−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−tert−ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−2−
メチルフ
ェノール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノー
ル)、2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2
’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチレ
ンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(
6−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔6
−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、2,2’−メチレンビス
〔6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−メ
チレンビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス
(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−tert−
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,
1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブ
タン、1,1−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル
)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3’−tert−ブチル−
4’−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕、ビス(3−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−tert
−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4
−メチルフェニル]テレフタレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス(
3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチ
ル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート
、ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチ
オテレフタレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−
3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシ
ル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート及びモノ
エチル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートのカ
ルシウム塩。
(式中、R’はメチル基又はtert−ブチル基を表し;そしてR''は未置換もしく
は置換されているアルキル基又は未置換又は置換されているアルキルチオアルキ
ル基を表す。)で表される基を少なくとも一つ含む化合物は特に好ましい成分a
である。
そのような立体障害フェノールの例は、β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオンのエステル及びβ−(5−tert−ブチル−4
−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の例えば下記の一価又は多価
アルコール類とののエステルそして上記酸の下記のアミド類である:例えばメタ
ノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソ
シアヌラート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミドの一価又は多
価アルコール類;例えばN,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ビス(3,
5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジ
アミン及びN,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル)ヒドラジンのアミド類。
他の特に好ましい化合物を下記する:
{2−(1,1−ジメチルエチル)−6−[[3−(1,1−ジメチルエチル)
−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル]メチル]−4−メチルフェニル=2プ
ロペノアート}
{1,6−ヘキサンジイル=3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒ
ドロキシフェニルプロパノアート};
{1,2−エタンジイルビス(オキシ−2,1−エタンジイル)=3−(1,1
−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルプロパノアート}
;
{2−メチル−4,6−ビス[(オクチルチオ)メチル]フェノール};
{2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)};
{チオジ−2,1−エタンジイル=ビス−3,5−ジ
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニルプロパノアート};
{4,4’,4''−[(2,4,6−トリメチル−1,3,5−フェニルトリル
)トリス(メチレン)]トリス[2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)−フ
ェノール}。
非常に特に好ましい成分aは、β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオン酸のペンタエリトリチル、オクチル及びオクタデ
シルエステルである。
成分aは、HDPEを基準にして、0.01ないし3重量%の量で使用される
のが好ましい。
成分bとして使用される有機ホスフィットとホスホナイトは、同様にプラスチ
ックのための安定剤として知られて
いる。それらは特にポリオレフィンのための加工安定剤として使用される。
本発明に従って使用されるホスホナイトは、例えば下記の式に一致する化合物
である:
{式中、
R'1、R'2とR'3は、互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基
;ハロゲン原子、−COOR4'、−CN又は−CONR4'R4'により置換されて
いる炭素原子数1ないし18のアルキル基;−S−、−O−又は
−NR'4−により中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基;炭素原
子数5ないし8のシクロアルキル基;フェニル基又はナフチル基;ハロゲン原子
、炭素原子の総数が1ないし18である1ないし3個のアルキル基又はアルコキ
シ基により置換されているフェニル基又はナフチル基;2,2,6,6−テトラ
メチルピペリド−4−イル基;アルキル部分に1ないし4個の炭素原子を持つN
−アリル−もしくはN−ベンジル−又はN−アルキル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリド−4−イル基又はアルキル部分に1ないし4個の炭素原子を持つ
N−アルカノイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル基又はア
ルキレン部分に1ないし3個の炭素原子を持ちそしてアルコキシ部分に1ないし
18個の炭素原子を持つN−アルキレン−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル基又はN−アルキレン−4−アルコキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル基を表し;
R'4又は基R4'は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基又はアルキル部分に1な
いし4の炭素原子を持つフェニルアルキル基を表し;
n’は2、3又は4を表し;
A’は、n’又はqが2を表す場合は、炭素原子数2ないし12のアルキレン
基;−S−、−O−又は−NR'4−(式中、R'4は上述と同じに定義される。)
により中断されている炭素原子数2ないし12のアルキル基又は式
により表される基を表し;
A’は、n’又はqが3を表す場合は、式−CrH2r-1−又はN(CH2CH2−
)3(式中、rは5又は6を表す。)を表し;
A’は、n’が4を表す場合は、N(CH2−)4を表し;
R'5とR'6は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基を表し;
Bは、式−CH2−、−CHR'4−、−CR'1R'4−、−S−又は直接結合(
式中、R'1とR'4は上と同じに定義される。)を表し;
pは1又は2を表し;
D’はpが1であるならばメチル基を表しそしてpが2であるならば−CH2
OCH2−を表し;
R'9はメチル基を表しそしてR'10はR'1と同じに定義され;
qは2又は3を表し;
yは1,2又は3を表し;
Wは、yが1を表す場合は、炭素原子数1ないし18のアルキル基、式−OR
'16の基、−NR'17R'18又はフッ素原子を表し;
Wは、yが2を表す場合は、式−O−A''−O−又は
の基を表し;
Wは、yが3を表す場合は、式R'4(CH2O−)3、 N(C2H4O−)3又はN(
C3H6O−)3(式中、R'4は上と同じに定義される。)の基を表し;
R'16はR'1と同じに定義され;
R'17とR'18は、互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、ベ
ンジル基、シクロヘキシル基、2,2,6,6−テトラ−又は1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリド−4−イル基を表すか、又はR'17とR'18は一緒にな
ってブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基又は式−CH2CH2−O−CH2
CH2−の基を表し;
n’が2を表す場合には、A''はA’と同じに定義され、
R'19は水素原子又はメチル基を表し;
置換基R'14は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし9のアルキ
ル基又はシクロヘキシル基を表し;
R'15は水素原子又はメチル基を表しそして
Zは直接結合、−CH2−、−C(R'14),−又は−S−(式中、置換基R'14
は同一又は異なりそして上と同じに定義される。)を表す。}。
特に適している式(III)のホスフィットは、式中、R'1、R'2及びR'3が、互
いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、フェニル基、炭素原子の
総数が1ないし18である1ないし3個のアルキル基により置換されているフェ
ニル基、又は2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル基、特に、互い
に独立して、炭素原子の総数が1ないし12である1ないし3個のアルキル基に
より置換されているフェニル基を表すそれらである。
特に適している式(IV)のホスフィットは、式中、A’が、n’が2で在る場合
、好ましくは炭素原子数2ないし12のアルキレン基、−CH2CH2−O−CH2
CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2−O−CH2CH2−又は−CH2CH2
−NR'4−CH2CH2−を表し、又はA’が、n’が3である場合、N(CH2C
H2−)3(式中、R'4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す。)を表すそ
れらである。
特に適当な式(V)のホスフィットは、式中、pが1を表し、D’がメチル基
を表し、R'9がメチル基を表しそしてR'10が炭素原子の総数が1ないし18で
ある1ないし3個のアルキル基により置換されているフェニル基であるそれらで
ある。
特に適当な式(VII)のホスフィットは、式中、Wが、yが1である場合は、式
−OR'16、−NR'17R'18又はフッ素原子を表し、又はWは、yが2である場
合は、−O−CH2CH2−NR'4−CH2CH2−O−の基を表し、又はWは、y
が3である場合は、式N(CH2CH2O−)3の基を表し、
式中、R'16は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し、R'17とR'18は
、互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、シクロヘキシル基又
はベンジル基を表すか、又はR'17とR'18は一緒になって、ピペリジル基、モル
ホリニル基又はヘキサメチレンイミノ基を表しそして置換基R'4は上と同じに定
義され、Zは直接結合、−CH2−又は−CHCH3−を表し、そして二つの置換
基R'14は、互いに独立して、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
そして、特に、Wが、yが1である場合は、Wは2−エチルヘキソキシ基又は
フッ素原子を表し、R'14はtert−ブチル基を表し、R'15は水素原子を表し
そしてZは−CH2−又は−CH(CH3)−を表し、又は
Wは、yが2を表す場合は、式−O−CH2CH2−NCH3−CH2CH2−O−
の基を表すそれらである。
比較低い加水分解感受性を持つホスフィットとホスホナイトは好ましく、それ
らは例えばトリラウリル=ホスフィット、トリオクタデシル=ホスフィット、ジ
ステアリル=ペンタエリトリチル=ジホスフィット又はトリステアリル=ソルビ
チル=トリホスフィットである。
更に、芳香族のホスフィットとホスホナイトは好ましい;これらは芳香族炭化
水素基、例えばフェニル基を含む。それらの例は、トリフェニル=ホスフィット
、ジフェニル=アルキル=ホスフィット、フェニル=ジアルキル=ホスフィット
そして、特に、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリス(2,4−ジ−
tert−ブチルフェニル)ホスフィット、ビス(2,4−ジ−tert−ブチ
ルフェニル)=ペンリエリトリチル=ジホスフィット、テトラキス(2,4−ジ
−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン=ジホスホナイト及び
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)フルオロ
ホスフィットである。
特に興味のあるのは、構造単位として、P−O−Ar基(式中、Arは芳香族
基、特にP−O−C結合のオルト位にアルキル置換基を含むフェニル基を表す。
)を含むホスフィット又はホスホナイトである。適当なアルキル置換基は、炭素
原子数1ないし18のアルキル基又は
炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、好ましくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基、特にtert−ブ
下記のホスフィットとホスホナイトは特に好ましい:
トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット;
特に好ましい成分bは、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)=
ホスフィット又は
である。
成分bは、好ましくはHDPEを基準にして、0.01ないし3重量%の量で
使用されるのが好ましい。
成分cは酸化カルシウムであり、それはある量の酸化
カルシウムを含むだけの物質、例えば、MgO/CaO混合物(これは例えばド
ロマイトの強熱により得られる。)、及びCa(OH)2/CaO混合物も包含す
るものとして理解されるべきである。酸化カルシウムは粉末の形で使用されるば
かりでなく、塗布された又は担体上で又は不活性粉末、例えばポリエチレン蝋と
混合しても使用され得る。
成分cは、HDPEを基準にして0.005ないし10重量%の量で使用され
得る。
所望により、aとbについてのいろいろの化合物の混合物も使用され得る。
更に、本発明は、a)少なくとも1種の立体障害フェノール、b)少なくとも
1種の有機ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウムからなる混合
物を、加工の間に分子量減少を経験し且つ特にチーグラー−ナッタ型の触媒を使
用して得られる高密度ポリエチレン(HDPE)の安定化のために使用する方法
に関する。
更に、本発明は、加工の間に分子量減少を経験し且つ特にチーグラー−ナッタ
型の触媒を使用して得られる高密度ポリエチレン(HDPE)の安定化のための
方法であって;a)少なくとも1種の立体障害フェノール、b)少なくとも1種
の有機ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウムを、上述のHDP
Eに添加することからなる方法に関する。
好ましい安定剤混合物と好ましい方法の実施態様は、
本発明に従って安定化されたHDPEについて詳細に記載した好ましいものの成
分と混合比に相当する。
上記のHDPEへのこれらの配合物の添加は分解度を減少して熱加工すること
そしてそのHDPEから製造された材料の使用寿命を延期することを可能にする
。
新規の方法に従った混合物の混和は、個々の成分を添加することによるばかり
でなく、別法として、成分を粉末、粒形又は圧縮した形で前混合することにより
実施される。不活性担体、例えばマスターバッチとしてのLDPE中の混合物を
製造することも可能である。配合は通常成形の前又は間に実施される;配合のこ
れらと他の有用な様式は当業者に知られている。
a、bとcの混合物の安定化作用、特に長期安定性は、チオ相乗剤として知ら
れている化合物の添加により相乗的に増加させることができる。これらは脂肪族
のチオエーテル、特にチオジプロピオン酸のエステル類である。それらの例は、
チオジプロピオン酸のラウリル、ステアリル、ミリスチル及びトリデシルエステ
ル及びジステアリルジスルフィドである。これらのチオ相乗剤は、HDPEを基
準にして0.1ないし1重量%の量で好ましく使用される。更に、下記の適当な
安定剤を添加することも可能である:乳酸系列例えば乳酸カルシウム、カルシウ
ム=ステアロイル−2−ラクチラート(lactylate);ベンゾフラン類、例えば
又は、US−A−4325863、US−A−4338244、US−A−51
75312、US−A−5216052、US−A−5252643、DE−A
−4316611、DE−A−4316622、DE−A−4316876、E
P−A−0589839又はEP−A−0591102に記載されているもの、
及び3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ−tert
−ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−tert−ブチル−3−[4
−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3
,3’−ビス[5,7−ジ−tert−ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエ
トキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ−tert−ブチル
−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチルベンゾフラン
−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,
7−ジ−tert−ブチルベンゾフラン−2−オン。
他の適当な安定剤は、式
〔式中、Rは、-(CH2)3-CH(CH3)-(CH2)-CH(CH3)-(CH2)3-CH-(
CH3)2又は-CH2-CH2-O-C(O)-Zを表し、そして
Zは炭素原子数1ないし18のアルキル基、-CH2-CH2-S-CH2-S-炭素
原子数1ないし18
(式中、R’とR''は水素原子、メチル基又はtert−ブチル基を表す。)を
表す。〕により表されるクロマン誘導体、例えばα−トコフェロール、β−トコ
フェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビ
タミンE)である。
HDPE製品が高い光安定性も持つことを要求される場合には、1種以上の光
安定剤を添加することが薦められる。この目的のための適当な光安定剤は、特に
、ベン
ゾフェノン、ベンゾトリアゾール、オキサニリド及び立体障害アミンからなる系
列である。そのような化合物の例を下記する:2.1. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類、
例えば、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’
,5’−ジ−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(5’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−tert−ブチル
−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’
−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチル−フェニル)−5−クロ
ロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−sec−ブチル−5’−tert−ブチ
ル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−4’−オクトキシ−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−
tert−アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3
’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール;2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−te
rt−ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル
]−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3
’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエ
チル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−
ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5
’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−tert−ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3
’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
および2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾールの混合物;2,
2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル−フェノール]:ポリエチレングリコール300と
の2−[3’−tert−ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−
2’−ヒドロキシ−フェニル]ベンズトリアゾールのエステル交換生成物;
[R-CH2CH2-COO(CH2)3-]2(式中、R=3'-tert−ブチル−4’
−ヒドロキシ−5’−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェニル)。2.2. 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類、
例えば4−ヒドロキシ−、4−メト
キシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−
ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−および2’−ヒドロキシ
−4,4’−ジメトキシ誘導体。2.3. 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル類、
例えばサリチル酸4−t
ert−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、
ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レゾル
シノール、ベンゾイルレゾルシノール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシ安息香酸2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。2.4. アクリレート類、
、例えばα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エ
チルエステル、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸イソオクチルエステ
ル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p
−メトキシ桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メト
キシ桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p −メトキシ桂皮酸メチルエ
ステル、およびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルイ
ンドリン。2.5. ニッケル化合物
、例えば2,2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−
テトラメチルブチル)−フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1または1:
2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくは
N−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの;ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−
ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチル
エステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケト
キシムのようなケトキシムのニッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5
−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴う
もの。2.6..立体障害性アミン
、例えばセバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、
セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、n−ブチル
−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸=ビス(1
,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、ニトリロトリ酢
酸トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、1,2,3,4
−ブタンテトラカルボン酸テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)、1,1′−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2
−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル
)マロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、3−n−オ
クチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5
]デカン−2,4−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2
,6,6−テトラメチルピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6
−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ
(4−n−ブチルアミノ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(
3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(
4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮
合生成物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1
−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジ
オン及び3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)ピロリジン−2,5−ジオン。2.7. シュウ酸ジアミド類、
、例えば、4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサ
ニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキ
サニリド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオ
キサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス(3−
ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エチル−5,
4′−ジ−tert−ブチル−オキサニリドとの混合物、およびo−およびp−
メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二置
換オキサニリドの混合物。2.8..2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
、例えば2,
4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5
−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4
−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェ
ニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(
2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキ
シフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プ
ロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オク
チルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン。
好ましいのは、上記項目2.1、2.6と2.7からの光安定剤、例えばヒマス
ソルプ(Chimassorb)944、ヒマスソルプ(Chimassorb)119、チヌフィン(Tinuvin)
234、チ
ヌフイン(Tinuvin)312、チヌフィン(Tinuvin)622及びチヌフィン(Tinuvin)770型
である。
光安定剤は、好ましくは、HDPEを基準にして、0.01ないし2重量%、
特に0.05ないし0.5重量%添加される。光安定剤はベンゾトリアゾールと立
体障害アミンの組み合わせが好ましい。
必要ならばHDPEに他の常用の添加剤、例えばのこ屑又は雲母のような充填
剤;ガラス繊維、ガラスビーズ又は鉱物繊維のような強化剤;顔料、可塑剤、ス
テアリン酸又はラウリン酸の金属塩のような潤滑剤;防炎剤、帯電防止剤又は発
泡剤を添加できる。そのような添加はHDPEの意図する使用に依存する。
この方法で安定化されたHDPEは、当業者に知られている広範囲、多様の目
的のために使用できる。
HDPEは、例えば共押出工程で、又は混和の形式で、他のプラスチックとの
混合物として使用することもできる。
下記の実施例は、新規の方法を更に詳細に説明するものである。本明細書の他
の記述と同様に、部とパーセントは、特記のない限り、重量による。実施例1と2:
粒状の未使用のHDPE(ホスタレン
記した安定剤と共に混合機中で均質化し次いで、次々に5回、一軸スクリュー押
出機(温度250℃)中で押し出す。溶融流量(190℃、10kg)は、1回
目、3
回目そして5回目の押出の後、DIN53735M(ISO1133/12)に
従って測定される。
1回目の押出から得られる安定化された粒は、250℃で射出成形機中で試験
片に変形される。これらの試験片を120℃で人工老化に処し、試料の脆性を経
時時間の函数として測定する。表1には、試料が破損する前の日単位の経時時間
が示されている。
新規の安定化された試料は、押出しを繰り返した後、メルトフローインデック
スの僅かな上昇のみを示している。ポリマーの崩壊分解反応と分解はメルトフロ
ーインデックスを増加する原因になる。更に、人工老化値は、新規の安定剤混合
物を使用すると長期安定性が有利に改善されることを示している。
上記の例では、下記の安定剤が使用される:
AO−1 β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル
P−1 トリス−(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット
─────────────────────────────────────────────────────
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(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG),
AM,AU,BB,BG,BR,BY,CA,CN,C
Z,EE,FI,GE,HU,JP,KG,KP,KR
,KZ,LK,LR,LT,LV,MD,MG,MN,
MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SG,SI,S
K,TJ,TT,UA,US,UZ,VN
(72)発明者 ファエントネル,ルドルフ
ドイツ連邦共和国,デー−64668 リムバ
ッハ/オーデンヴァルト 1,ザクガーセ
3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.安定化された、加工工程で分子量減少を経験する高密度ポリエチレン(H DPE)であって;a)少なくとも一種の立体障害フェノール、b)少なくとも 1種の有機ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウムの混合物を好 ましくは0.05ないし15重量%含有する高密度ポリエチレン(HDPE)。 2.チーグラー−ナッタ型の触媒を使用して得られる、請求項1記載のHDP E。 3.a:bの重量比が 20:1 ないし 1:20でありそして(a+b) :cの重量比が 10:1 ないし 1:20 である請求項1記載のHDPE 。 4.a:bの重量比が 10:1 ないし 1:10 でありそして(a+b ):cの重量比が 5:1 ないし 1:10 である請求項1記載のHDPE 。 5.a,b及びcの混合物を0.05ないし5重量%含有する請求項1記載の HDPE。 6.成分aが式 (式中、R’は水素原子、メチル基又はtert−ブチ ル基を表し;そしてR''は置換されている若しくは未置換のアルキル基又は置換 されている若しくは未置換のアルキルチオアルキル基を表す。)により表される 基を少なくとも1個含む化合物である請求項1記載のHDPE。 7.成分aが、 {2−(1,1−ジメチルエチル)−6−[[3−(1,1−ジメチルエチル) −2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル]メチル]−4−メチルフェニル=2プ ロペノアート} {1,6−ヘキサンジイル=3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒ ドロキシフェニルプロパノアート}; {1,2−エタンジイルビス(オキシ−2,1−エタンジイル)=3−(1,1 −ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルプロパノアート} ; {2−メチル−4,6−ジ[(オクチルチオ)メチル]フェノール}; {2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)}; {チオジ−2,1−エタンジイル=ビス−3,5−ジ(1,1−ジメチルエチル )−4−ヒドロキシフェニルプロパノアート}; {4,4’,4''−[(2,4,6−トリメチル−1,3,5−フェニルトリル )トリス(メチレン)]トリス[2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)−フ ェノール}、 及び β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ フェニル)プロピオン酸のペンタエリトリチル、オクチル及びオクタデシルエス テル から選択される化合物である請求項1記載のHDPE。 8.成分aがβ−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル )プロピオン酸のペンタエリトリチル、オクチル及びオクタデシルエステルであ る請求項1記載のHDPE。 9.成分bが式 {式中、 R'1、R'2とR'8は、互いに独立して、炭素原子数1 ないし18のアルキル基;ハロゲン原子、−COOR4'、−CN又は−CONR4 'R4'により置換されている炭素原子数1ないし18のアルキル基;−S−、− O−又は−NR'4−により中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基 ;炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;フェニル基又はナフチル基;ハロ ゲン原子、炭素原子の総数が1ないし18である1ないし3個のアルキル基又は アルコキシ基により置換されているフェニル基又はナフチル基;2,2,6,6 −テトラメチルピペリド−4−イル基;アルキル部分に1ないし4個の炭素原子 を持つN−アリル−もしくはN−ベンジル−又はN−アルキル−2,2,6,6 −テトラメチルピペリド−4−イル基又はアルキル部分に1ないし4個の炭素原 子を持つN−アルカノイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル 基又はアルキレン部分に1ないし3個の炭素原子を持ちそしてアルコキシ部分に 1ないし18個の炭素原子を持つN−アルキレン−2,2,6,6−テトラメチ ルピペリジル基又はN−アルキレン−4−アルコキシ−2,2,6,6−テトラ メチルピペリジル基を表し; R'4又は基R4'は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のア ルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基又はアルキル部分に1な いし4の炭素原子を持つフェニルアルキル基を表し; n’は2、3又は4を表し; A’は、n’又はqが2を表す場合は、炭素原子数2ないし12のアルキレン 基;−S−、−O−又は−NR'4−(式中、R'4は上述と同じに定義される。) により中断されている炭素原子数2ないし12のアルキル基又は式 により表される基を表し; A’は、n’又はqが3を表す場合は、式−CrH2r-1−又はN(CH2CH2− )3(式中、rは5又は6を表す。)を表し; A’は、n’が4を表す場合は、N(CH2−)4を表し; R'5とR'6は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1ないし8のアルキ ル基を表し; Bは、式−CH2−、−CHR'4−、−CR'1R'4−、−S−又は直接結合( 式中、R'1とR'4は上と同じに定義される。)を表し; pは1又は2を表し; D’はpが1であるならばメチル基を表しそしてpが2であるならば−CH2 OCH2−を表し; R'9はメチル基を表しそしてR'10はR'1と同じに定 義され; qは2又は3を表し; yは1,2又は3を表し; Wは、yが1を表す場合は、炭素原子数1ないし18のアルキル基、式−OR '16の基、−NR'17R'18又はフッ素原子を表し; Wは、yが2を表す場合は、式−O−A''−O−又は の基を表し; Wは、yが3を表す場合は、式R'4(CH2O−)3、N(C2H4O−)3又はN(C3 H6O−)3(式中、R'4は上と同じに定義される。)の基を表し; R'16はR'1と同じに定義され; R'17とR'18は、互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、ベ ンジル基、シクロヘキシル基、2,2,6,6−テトラ−又は1,2,2,6, 6−ペンタメチルピペリド−4−イル基を表すか、又はR'17とR'18は一緒にな ってブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基又は式−CH2CH2−O−CH2 CH2−の基を表し; n’が2を表す場合には、A''はA’と同じに定義さ れ、 R'19は水素原子又はメチル基を表し; 置換基R'14は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし9のアルキ ル基又はシクロヘキシル基を表し; R'15は水素原子又はメチル基を表しそして Zは直接結合、−CH2−、−C(R'14)2−又は−S−(式中、置換基R'14は 同一又は異なりそして上と同じに定義される。)を表す。}により表される1種 のホスホナイト又はホスフィットである請求項1記載のHDPE。 10.成分bが芳香族ホスフィット又はホスホナイトである請求項1記載のH DPE。 11.成分bがトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィッ ト又は である請求項1記載のHDPE。 12.更に、チオジプロピオン酸エステルからなる系列からのチオ相乗剤(thi osynergist)がHDPEに添加 される請求項1記載のHDPE。 13.更に、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、オキサニリド類及び 立体障害アミンからなる系列からの少なくとも1種の光安定剤がHDPEに添加 される請求項1記載のHDPE。 14.更に、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、オキサニリド類及び 立体障害アミンからなる系列からの少なくとも1種の光安定剤がHDPEに添加 され、その際、光安定剤の量がHDPEを基準にして、0.01ないし2重量% である請求項1記載のHDPE。 15.a)少なくとも1種の立体障害フェノール、b)少なくとも1種の有機 ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウムからなる混合物を、加工 の間に分子量減少を経験する高密度ポリエチレン(HDPE)の安定化のために 使用する方法。 16.加工の間に分子量減少を経験する高密度ポリエチレン(HDPE)の安 定化のための方法であって;a)少なくとも1種の立体障害フェノール、b)少 なくとも1種の有機ホスフィット又はホスホナイト及びc)酸化カルシウムを上 記ポリエチレンに添加することからなる方法。
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