JPH11269374A - ポリアミド、ポリエステルおよびポリアセタール の安定化 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸化、熱または光誘因分解に対して安定化さ
れたポリアミド、ポリエステルおよびポリアセタールを
提供する。 【解決手段】 本発明は、ａ）酸化、熱または光誘因分
解を受けるポリアミド、ポリエステルまたはポリアセタ
ールおよびｂ）式Ｉ 【化１】 で表される化合物を含み、但し成分（ａ）がポリアミド
である場合、次亜リン酸金属および有機酸の銅塩を含ま
ない組成物；酸化、熱および／または光誘因分解に対し
てポリアミド、ポリエステルまたはポリアセタールを安
定化させるための式Ｉで表される化合物の使用、ならび
にこれらのプラスチック材料を安定化させるための方法
に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリアミド、ポリ
エステルまたはポリアセタールを含む組成物；特定のフ
ェノール系酸化防止剤；酸化、熱および／または光誘因
分解に対してポリアミド、ポリエステルまたはポリアセ
タールを安定化させるためのその使用、ならびにこれら
のプラスチック材料を安定化させるための方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】米国特許第３６９１１３１号明細書およ
び第３８６０５５８号明細書から、例えば次亜リン酸カ
リウムまたは次亜リン酸ナトリウムのような次亜リン酸
金属および有機酸の銅塩の存在下において、フェノール
系酸化防止剤によりポリアミドが安定化され得ることが
公知である。

【発明が解決しようとする課題】

【０００３】ポリアミド、ポリエステルまたはポリアセ
タールに関して、これらの公知の安定剤混合物は、それ
らに出された全ての要求に応じ得ない。そのような安定
剤混合物は、オーブン老化の間にポリアミドの初期の色
彩ならびに発色を減少させ、更にそれらはオーブン老化
および光への曝露の間にポリアミドの機械的性質の強度
を減少させることが知られている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】今、米国特許第３６９１
１３１号明細書および第３８６０５５８号明細書から選
択された特定のフェノール系酸化防止剤が、次亜リン酸
金属および有機酸の銅塩の不在下で、ポリアミド、ポリ
エステルまたはポリアセタールのための安定剤として特
に適当であるということが見出された。この方法で安定
化されたポリアミド、ポリエステルまたはポリアセター
ルは、酸化、熱または／および光誘因分解に関して改良
された性質を有する。

【０００５】従って、本発明は、 ａ）酸化、熱または光誘因分解を受けるポリアミド、ポ
リエステルまたはポリアセタール、および ｂ）式Ｉ

【化２】 で表される化合物を含み、但し成分（ａ）がポリアミド
である場合、次亜リン酸金属および有機酸の銅塩を含ま
ない組成物に関する。

【０００６】新規組成物の成分（ｂ）、または式Ｉで表
される化合物は公知であり、ケミカルアブストラクト登
録番号［３７０４２−７７−６］を有している。式Ｉで
表される化合物の製造方法はＧＢ−Ａ−１２５１８４
０，実施例１，第５ページに開示されている。

【０００７】ポリアミドは、ジアミンおよびジカルボン
酸から、および／またはアミノカルボン酸またはその相
当するラクタムから誘導された脂肪族および芳香族ポリ
アミドまたはコポリアミドを意味するものと理解される
であろう。適当なポリアミドは例えば：ＰＡ６、ＰＡ１
１、ＰＡ１２、ＰＡ４６、ＰＡ６．６、ＰＡ４．６、Ｐ
Ａ６．９、ＰＡ６．１０またはＰＡ６．１２、ＰＡ１
０．１２、ＰＡ１２．１２であり、またトロガミド（Tr
ogamid）ＰＡ６−３−Ｔおよびグリラミド（Grilamid）
ＴＲ５５型のアモルファスのポリアミドである。引用さ
れた型のポリアミドは一般的に公知であり、市販で入手
可能である。

【０００８】興味深い組成物は、成分（ａ）がポリアミ
ド６、ポリアミド６．６、ポリアミド４．６、ポリアミ
ド１１もしくはポリアミド１２またはそのコポリマーで
あるものであり、特にポリアミド６もしくはポリアミド
６．６またはポリプロピレンとブレンドしたエラストマ
ー変性ポリアミド６またはポリアミド６．６であるもの
である。

【０００９】使用されるポリエステルは、脂肪族、脂環
族または芳香族ジカルボン酸およびジオールまたはヒド
ロキシカルボン酸からなるホモ−またはコポリエステル
であってよい。脂肪族ジカルボン酸は２ないし４０個の
炭素原子を含むことができ、脂環族ジカルボン酸は６な
いし１０個の炭素原子を含むことができ、芳香族ジカル
ボン酸は８ないし１４個の炭素原子を含むことができ、
脂肪族ヒドロキシカルボン酸は２ないし１２個の炭素原
子を含むことができ、そして芳香族、例えば脂環族ヒド
ロキシカルボン酸は７ないし１４個の炭素原子を含むこ
とができる。

【００１０】脂肪族ジオールは２ないし１２個の炭素原
子を含むことができ、脂環族ジオールは５ないし８個の
炭素原子を含むことができ、そして芳香族ジオールは６
ないし１６個の炭素原子を含むことができる。芳香族ジ
オールは、２つのヒドロキシル基が芳香族炭化水素基の
１種又は種々と結合したものである。

【００１１】ポリエステルは少量の、例えばジカルボン
酸の存在を基準として０．１ないし３モル％の二官能性
以上のモノマー（例えばペンタエリスリトール、トリメ
ルリト酸、１，３，５−トリ（ヒドロキシフェニル）ベ
ンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸または２−（４
−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシ
フェニル）プロパン）により分枝鎖であってもよい。

【００１２】モノマーの少なくとも２種からなるポリエ
ステルはランダムに配列されてよく、あるいはそれらは
ブロックコポリマーであってよい。適当なジカルボン酸
は直鎖および分枝鎖の飽和脂肪族ジカルボン酸、芳香族
ジカルボン酸および脂環族ジカルボン酸である。

【００１３】適当な脂肪族ジカルボン酸は２ないし４０
個の炭素原子を含むものであり、例えばオキサル酸、マ
ロン酸、ジメチルマロン酸、スクシン酸、ピメリン酸、
アジピン酸、トリメチルアジピン酸、セバシン酸、アゼ
ライン酸および二量体酸（オレイン酸のような不飽和の
脂肪族カルボン酸の二量体化生成物）、アルキル化マロ
ン酸およびスクシン酸、例えばオクタデシルスクシン酸
である。適当な脂環族ジカルボン酸は；１，３−シクロ
ブタンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボ
ン酸、１，３−および１，４−シクロヘキサンジカルボ
ン酸、１，３−および１，４−（ジカルボキシルメチ
ル）シクロヘキサン、４，４’−ジシクロヘキシルジカ
ルボン酸である。

【００１４】適当な芳香族ジカルボン酸は；特にテレフ
タル酸、イソフタル酸、ｏ−フタル酸、およびまた１，
３−、１，４−、２，６−または２，７−ナフタレンジ
カルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，
４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、４，４’−ベ
ンゾフェノンジカルボン酸、１，１，３−トリメチル−
５−カルボキシル−３−（ｐ−カルボキシルフェニル）
インダン、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン
酸、ビス−ｐ−（カルボキシルフェニル）メタンまたは
ビス−ｐ−（カルボキシルフェニル）エタンである。芳
香族ジカルボン酸が好ましく、これらの中でも特にテレ
フタル酸、イソフタル酸および２，６−ナフタレンジカ
ルボン酸が好ましい。

【００１５】他の適当なジカルボン酸は−ＣＯ−ＮＨ基
を含むものであり、それらはＤＥ−Ａ−２４１４３４９
に記載されている。Ｎ−ヘテロ環式環を含むジカルボン
酸も適当であり、例えばカルボキシアルキル化、カルボ
キシフェニル化またはカルボキシベンジル化モノアミン
−ｓ−トリアジンジカルボン酸（ＤＥ−Ａ−２１２１１
８４および２５３３６７５参照）、モノ−もしくはビス
ヒダントイン、所望によりハロゲン化ベンズイミダゾー
ルまたはパラバン酸から誘導されるものである。これに
関して、カルボキシアルキル基は３ないし２０個の炭素
原子を含んでよい。

【００１６】適当な脂肪族ジオールは直鎖または分枝鎖
状の脂肪族グリコールであり、特に分子内に２ないし１
２個、好ましくは２ないし６個の炭素原子を含むもので
あり、例えばエチレングリコール、１，２−および１，
３−プロピレングリコール、１，２−、１，３−、２，
３−または１，４−ブタンジオール、ペンチルグリコー
ル、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，１２−ドデカンジオールである。適当な脂環族
ジオールは、例えば、１，４−ジヒドロキシシクロヘキ
サンである。他の適当な脂肪族ジオールは、例えば、
１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、芳
香族−脂肪族ジオール、例えばｐ−キシリレングリコー
ルまたは２，５−ジクロロ−ｐ−キシリレングリコー
ル、２，２−（β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロ
パンおよびポリオキシアルキレングリコール、例えばエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコールまたはポリプロピレングリコールであ
る。アルキレンジオールは好ましくは直鎖であり、そし
て好ましくは２ないし４個の炭素原子を含む。

【００１７】好ましいジオールはアルキレンジオール、
１，４−ジヒドロキシシクロヘキサンおよび１，４−ビ
ス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンである。エチレ
ングリコール、１，４−ブタンジオールおよび１，２−
および１，３−プロピレングリコールは特に好ましい。
他の適当な脂肪族ジオールはβ−ヒドロキシアルキル
化、特にβ−ヒドロキシエチル化ビスフェノール、例え
ば２，２−ビス［４’−（β−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］プロパンである。他のビスフェノールは後述で
引用される。

【００１８】適当な脂肪族ジオールの他の群はＤＥ−Ａ
−１８１２００３，ＤＥ−Ａ−２３４２４３２，ＤＥ−
Ａ−２３４２３７２およびＤＥ−Ａ−２４５３３２６に
開示されているヘテロ環式ジオールである。例えば；
Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル）−５，５−ジ
メチルヒダントイン、Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドキシプ
ロピル）−５，５−ジメチルヒダントイン、メチレン−
ビス［Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−５−メチル−５
−エチルヒダントイン］、メチレン−ビス−［Ｎ−（β
−ヒドロキシエチル）−５，５−ジメチルヒダントイ
ン］、Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル）ベンズ
イミダゾロン、Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチ
ル）−（テトラクロロ）ベンズイミダゾロンまたはＮ，
Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル）−（テトラブロ
モ）ベンズイミダゾロンである。

【００１９】適当な芳香族ジオールは単核のジフェノー
ルおよび特にそれぞれの芳香族核にヒドロキシル基を有
する二核のジフェノールである。芳香族という用語は炭
化水素−芳香族基、例えばフェニレン基またはナフチレ
ン基に好ましく帰するものと理解される。例えばヒドロ
キノン、レソルシノールまたは１，５−、２，６−およ
び２，７−ジヒドロキシナフタレンに加えて、特に以下
の式に従うことにより再生され得るビスフェノールにつ
いて言及される。

【化３】

【００２０】ヒドロキシル基はｍ−位および特にｐ−位
に存在し得る。これらの式中のＲ’およびＲ”は、１な
いし６個の炭素原子を含むアルキル基、ハロゲン原子、
例えば塩素原子または臭素原子および好ましくは水素原
子を意味してよい。Ａは直接結合、または酸素原子、イ
オウ原子、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、＞Ｃ＝Ｏ、−Ｐ
（Ｏ）（炭素原子数１ないし２０のアルキル）−、未置
換もしくは置換アルキリデン、シクロアルキリデンまた
はアルキレンであってよい。

【００２１】未置換もしくは置換アルキリデンの例は；
１，１−または２，２−プロピリデン、２，２−ブチリ
デン、１，１−イソブチリデン、ペンチリデン、ヘキシ
リデン、ヘプチリデン、オクチリデン、ジクロロエチリ
デン、トリクロロエチリデンである。未置換もしくは置
換アルキレンの例はメチレン、エチレン、フェニルメチ
レン、ジフェニルメチレン、メチルフェニルメチレンで
ある。シクロアルキリデンの例はシクロペンチリデン、
シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデンおよびシクロ
オクチリデンである。

【００２２】ビスフェノールの例は；ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）エーテルまたはビス（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）チオエーテル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２’−ビフ
ェニル、フェニルヒドロキノン、１，２−ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、１−フェニル−ビス（ｐ−
ヒドロキシフェニル）メタン、ジフェニル−ビス（ｐ−
ヒドロキシフェニル）メタン、ジフェニル−ビス（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−
ビス（３’，５’−ジメチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−または２，２−ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１−ジクロ
ロ−または１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（ｐ
−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）シクロペンタンおよび特に２，２−
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノ
ールＡ）および１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン（ビスフェノールＣ）である。

【００２３】適当なヒドロキシカルボン酸のポリエステ
ルは、例えばポリカプロラクトン、ポリピバロラクトン
または４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸もしく
は４−ヒドロキシ安息香酸のポリエステルである。ま
た、主にエステル結合ならびに他の結合を含むポリマ
ー、例えばポリエステルアミドまたはポリエステルイミ
ドも適当である。芳香族ジカルボン酸を含むポリエステ
ル、特にポリアルキレンテレフタレートは最も重要であ
る。従って、ポリエステルを基準とし、少なくとも３０
モル％、好ましくは少なくとも４０モル％の芳香族ジカ
ルボン酸および少なくとも３０モル％、好ましくは少な
くとも４０モル％の好ましくは２ないし１２個の炭素原
子を含むアルキレンジオールからポリエステルが構成さ
れる、それらの発明の成形材料が好ましい。

【００２４】この場合、アルキレンジオールは好ましく
は直鎖であり、そして２ないし６個の炭素原子を含み、
例えばエチレン−、トリ−、テトラ−もしくはヘキサメ
チレングリコールであり、芳香族ジカルボン酸はテレフ
タル酸および／またはイソフタル酸を意味する。特に適
当なポリエステルはＰＥＴ、ＰＥＴＧ（グリコール変性
ポリエチレンテレフタレート）またはＰＢＴ（ポリブチ
レンテレフタレート）および相当するコポリマーであ
り、ＰＥＴおよびそのコポリマーは特に好ましい。

【００２５】ポリアセタールは、例えば、パラホルムア
ルデヒドのホモポリマーまたはコポリマー、例えばポリ
オキシメチレン（ＰＯＭ）、およびコポリマー、例えば
エチレンオキシドを含むポリオキシメチレン、ならびに
熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳによ
り変性されたポリアセタールである。有用な組成物は、
上述されたように、成分（ａ）の重量を基準として、成
分（ｂ）が０．０１ないし１％、好ましくは０．０２な
いし０．８％、例えば０．０３ないし０．６％の量で存
在するものである。

【００２６】成分（ａ）および（ｂ）の他に、新規の組
成物は以下に示すような添加剤または補助添加剤を付加
的に含み得る。１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば、２，６−
ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチ
ル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖におい
て枝分れ鎖であるノニルフェノール、例えば、２，６−
ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル
−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール 、例えば、２，
４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノー
ル、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノ
ール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェ
ノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニル
フェノール。

【００２７】１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒ
ドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
トキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジ
−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，
６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。１．４．トコフェロール 、例えば、α−トコフェロー
ル、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−ト
コフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。

【００２８】１．６．アルキリデンビスフェノール、例
えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００２９】１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化
合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチ
ル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、ジ
オクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシ
ル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物 、例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼ
ン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００３０】１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−
トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート。１．１１．ベンジルホスホネート 、例えば、ジメチル−
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエ
チルエステルのカルシウム塩。１．１２．アシルアミノフェノール 、例えば、４−ヒド
ロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン
酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。

【００３１】１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３
−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多
価アルコールとのエステル 、アルコール例、メタノー
ル、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル 、アルコール例、メタノール、
エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６
−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、
３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、
トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７
−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００３２】１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド 、例えば、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス
［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド
（ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）社によって供給さ
れる登録商標ナウガードＸＬ−１（Ｎａｕｇａｒｄ Ｘ
Ｌ−１））。１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ） 。

【００３３】１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノ
ール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイル
アミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−
アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフ
ェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。

【００３４】２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１─２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチ
ルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド
ロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２
−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキ
シルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−
２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−ベンゾトリアゾル−２−イルフェノール］、２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエス
テル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯＣＨ
₂ ＣＨ₂ −］₂ −［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イ
ルフェニル基を表す。］で表されるもの、２−［２’−
ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−
５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−
３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’
−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリ
アゾール。

【００３５】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチル
オキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−
ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよ
び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３．置換および未置換安息香酸のエステル 、例え
ば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエートおよび２−メチル−４，６−ジ−第三ブチル
フェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。２．４．アクリレート 、例えば、エチル−α−シアノ−
β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−α−
シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−α
−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シアノ−
β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル−α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチ
ル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートお
よびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−
２−メチルインドリン。２．５．ニッケル化合物 、例えば、２，２’−チオ−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェ
ノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯
体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
またはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような
さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、ニッケルジ
ブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−
ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエス
テル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデ
シルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１
−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うまた
は伴わないもの。

【００３６】２．６．立体障害アミン、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよ
びスクシン酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖または環式縮合
生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス−テ
トラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジ
イル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロ
ネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメ
チル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−
２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−
１，３，５−トリアジンの直鎖または環式縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，
５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよ
び１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，
９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ
［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオ
キシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生
成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタ
ンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリア
ジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎ
ｏ．［１３６５０４−９６−６］）、Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミ
ド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．
５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シク
ロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ
ソスピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒドリンの
反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−
（４−メトキシフェニル）エタン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホ
ルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メ
トキシメチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、
ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサ
ン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと
２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン
または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノ
ピペリジンとの反応生成物。

【００３７】２．７．オキサミド、例えば、４，４’−
ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシ
オキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’
−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキ
シ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ
−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５
−第三ブチル−２’−エトキサニリド、およびその２−
エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサ
ニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−
二置換オキサニリドの混合物。２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン 、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒド
ロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキ
シフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２
−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロ
キシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビ
ス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２
−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オク
チルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビ
ス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２
−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒ
ドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニ
ル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，
３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メト
キシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−ト
リアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−
（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニ
ル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェ
ニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ
−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２
−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビ
ス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリア
ジン。

【００３８】３．金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフ
ェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイ
ルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。４．ホスフィットおよびホスホナイト 、例えば、トリフ
ェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィッ
ト、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニル
フェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−
トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフ
ィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イ
ソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブ
チル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオ
キサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テ
トラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］
−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ
−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ
［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第
三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）
ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，
５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−
２，２’−ジイル）ホスフィット。

【００３９】特に好ましいものは以下のホスフィットで
ある。 トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト（登録商標イルガホス１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ １６
８）：チバ−ガイギー社製）、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフィット。

【化４】

【００４０】５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘
導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。６．ニトロン 、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−
ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オ
クチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−
ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデ
シル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロ
ン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−
オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛
脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシ
ルアミンから誘導されたニトロン。７．チオ相乗剤 、例えば、ジラウリルチオジプロピオネ
ートまたはジステアリルチオジプロピネート。８．過酸化物捕捉剤 、例えば、β−チオジプロピオン酸
のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル
ジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−
ドデシルメルカプト）プロピオネート。

【００４１】９．塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは亜鉛ピロカテコレート。１０．核剤 、例えば、タルクのような無機材料、二酸化
チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフ
ェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好
ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−またはポリカ
ルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例え
ば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル
酢酸、ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾ
エート、イオン性コポリマー（”アイオノマー”）のよ
うなポリマー性化合物。

【００４２】１１．充填剤および強化剤、例えば、炭酸
カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェー
ト、金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラッ
ク、グラファイト、木粉および他の天然生成物の粉末ま
たは繊維、合成繊維。１２．その他の添加剤 、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白
剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。１３．ベンゾフラノンおよびインドリノン 、例えば、
Ｕ．Ｓ．４３２５８６３、Ｕ．Ｓ．４３３８２４４、
Ｕ．Ｓ．５１７５３１２、Ｕ．Ｓ．５２１６０５２、
Ｕ．Ｓ．５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、
ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７
６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９もしくはＥＰ−Ａ−０５
９１１０２に記載されているものや、あるいは３─［４
−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ
−第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−
第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエト
キシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−
ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒド
ロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オ
ン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフ
ェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキ
シ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブ
チル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチ
ル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第
三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジ
メチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラ
ン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−
５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。

【００４３】第１３項に記載されたベンゾフラノン類を
除く補助安定剤は、安定化されるポリアミド、ポリエス
テルまたはポリアセタールの全重量を基準として、例え
ば０．０１ないし１０％の濃度で添加される。他の好ま
しい組成物は、成分（ａ）および（ｂ）に加えて更なる
添加剤、特にフェノール系酸化防止剤、光安定剤または
／および加工安定剤を含む。特に好ましい添加剤はフェ
ノール系安定剤（一覧の第１項）、立体障害性アミン
（一覧の第２．６項）、ホスフィットおよびホスホナイ
ト（一覧の第４項）ならびに過酸化物補足剤（一覧の第
８項）である。

【００４４】特に興味深い組成物は、成分（ａ）および
（ｂ）に加えて、有機ホスフィットまたはホスホナイト
型の化合物（一覧の第４項）の少なくとも一種を更なる
添加剤として含むものである。他の好ましい付加的な添
加剤（安定剤）は、ベンゾフラン−２−オン、例えば、
中でもＵ．Ｓ．４３２５８６３；Ｕ．Ｓ．４３３８２４
４；Ｕ．Ｓ．５１７５３１２；Ｕ．Ｓ．５２１６０５
２；Ｕ．Ｓ．５２５２６４３；ＤＥ−Ａ−４３１６６１
１；ＤＥ−Ａ−４３１６６２２；ＤＥ−Ａ−４３１６８
７６；ＥＰ−Ａ−０５８９８３９またはＥＰ−Ａ−０５
９１１０２に記載されるものである。

【００４５】そのようなベンゾフラン−２−オンの例は
次式

【化５】 ｛式中、Ｒ’₁₁は未置換または置換された炭素環式もし
くはヘテロ環式芳香族環系を表し；Ｒ’₁₂は水素原子を
表し；Ｒ’₁₄は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基または
塩素原子を表し；Ｒ’₁₃はＲ’₁₂またはＲ’₁₄の定義を
有するか、あるいは次式

【化６】 もしくは−Ｄ−Ｅ〔式中、Ｒ’₁₆は水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基；酸素原子またはイオウ原
子により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル
基、全体で３ないし１６個の炭素原子を含むジアルキル
アミノアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、フェニル基、またはアルキル基の１ないし３個であ
って、併せて１８個より少ない炭素原子を含むものによ
り置換されたフェニル基を表し；ｓは０、１または２で
あり；置換基Ｒ’₁₇はそれぞれ互いに独立して水素原
子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、アルキル基の
１または２個であって、併せて１６個より少ない炭素原
子を含むものにより置換されたフェニル基、次式−Ｃ₂
Ｈ₄ ＯＨ、−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｏ−Ｃ_t Ｈ_2t+1または

【化７】 で表される基を表すか、あるいは結合している窒素原子
と一緒になってピペリジン基またはモルホリン基を形成
し；ｔは１ないし１８であり；Ｒ’₂₀は水素原子、炭素
原子数１ないし２２のアルキル基または炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基を表し；Ａは窒素原子、酸
素原子またはイオウ原子により中断されてよい炭素原子
数２ないし２２のアルキレン基を表し；Ｒ’₁₈は水素原
子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基；アルキル基の
１または２個であって、併せて１６個より少ない炭素原
子を含むものにより置換されたフェニル基またはベンジ
ル基を表し；Ｒ’₁₉は炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基を表し；Ｄは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂
−又は−Ｃ（Ｒ’₂₁）₂ −を表し；置換基Ｒ’₂₁はそれ
ぞれ互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし
１６のアルキル基を表し、２個のＲ’₂₁は併せて１ない
し１６個の炭素原子を含み、Ｒ’₂₁はフェニル基または
次式

【化８】 （式中Ｒ’₁₆およびＲ’₁₇は上記に引用された定義を有
する。）で表される基も表し；Ｅは次式

【化９】 （式中Ｒ’₁₁、Ｒ’₁₂およびＲ’₁₄は上述で引用された
定義を有する。）で表される基を表す。〕で表される基
を表し；そしてＲ’₁₅は水素原子、炭素原子数１ないし
２０のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、塩素原子または次式

【化１０】 （式中Ｒ’₁₆およびＲ’₁₇は上述で引用された定義を有
する。）で表される基を表すか、またはＲ’₁₅はＲ’₁₄
と一緒になってテトラメチレン基を表す。｝で表される
化合物である。

【００４６】Ｒ’₁₃が水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、塩素原子又は次式

【化１１】 もしくは−Ｄ−Ｅ（式中ｓ、Ｒ’₁₆、Ｒ’₁₇、Ｄおよび
Ｅは上述で引用された定義を有し、Ｒ’₁₆は好ましくは
水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シク
ロペンチル基またはシクロヘキシル基を表す。）で表さ
れる基を表すベンゾフラン−２−オンが好ましい。

【００４７】他の好ましいベンゾフラン−２−オンは、
Ｒ’₁₁がフェニル基もしくは一緒で１２個より少ない炭
素原子を含むアルキル基の１または２個により置換され
たフェニル基を表し；Ｒ’₁₂は水素原子を表し；Ｒ’₁₄
は水素原子又は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
表し；Ｒ’₁₃は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、次式

【化１２】 もしくは−Ｄ−Ｅで表される基を表し；Ｒ’₁₅は水素原
子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、次式

【化１３】 で表される基を表すか、またはＲ’₁₅はＲ’₁₄と一緒に
なってテトラメチレン基を表し、ｓ、Ｒ’₁₆、Ｒ’₁₇、
ＤおよびＥは最初に述べられた定義を有する。

【００４８】特に興味深いベンゾフラン−２−オンは、
Ｒ’₁₃が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル
基または−Ｄ−Ｅを表し、Ｒ’₁₂およびＲ’₁₄がそれぞ
れ互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し；そしてＲ’₁₅が炭素原子数１ない
し２０のアルキル基を表し、ＤおよびＥは最初に述べら
れた定義を有する。

【００４９】中でも特に興味深いものは、最終的に、ま
たＲ’₁₃が炭素原子数１ないし４のアルキル基または−
Ｄ−Ｅを表し；Ｒ’₁₂およびＲ’₁₄は水素原子を表し；
そしてＲ’₁₅は炭素原子数１ないし４のアルキル基、シ
クロペンチル基またはシクロヘキシル基を表し、Ｄは−
Ｃ（Ｒ’₂₁）₂ −の基を表し、そしてＥは次式

【化１４】 で表される基を表し、置換基Ｒ’₂₁は独立しているか、
または互いに異なり、またそれぞれ炭素原子数１ないし
４のアルキル基を表し、そしてＲ’₁₁、Ｒ’₁₂、Ｒ’₁₄
およびＲ’₁₅は与えられた定義を有するものである。

【００５０】付加的に添加されるベンゾフラン−２−オ
ンの量を広い範囲内で変化させることが可能であり、そ
れらを例えば０．０００１ないし５重量％、好ましくは
０．００１ないし２重量％、より好ましくは０．０１な
いし２重量％の量で本発明の組成物中に存在させること
が可能である。成分（ａ）〔ポリアミド、ポリエステル
またはポリアセタール〕中への成分（ｂ）および所望に
よる更なる添加剤の混成は公知の方法により、例えば成
形の間または後に行われるか、あるいは溶解された又は
分散された成分（ｂ）を成分（ａ）に適応させ、次いで
溶媒の除去を伴う、もしくは伴わない方法によっても行
われる。また、例えば２．５ないし２５％の濃度でこれ
らの成分を含むマスターバッチの形状で、安定化させる
材料〔成分（ａ）〕に成分（ｂ）を添加することも可能
である。

【００５１】また、重合の前もしくは間または架橋の前
に、成分（ｂ）を添加することも可能である。成分
（ｂ）を、純粋な形状またはワックス、オイルもしくは
ポリマーにカプセル化された形状で、安定化させる成分
（ａ）中に混成することができる。成分（ｂ）を、安定
化させる成分（ａ）上に噴霧することも可能である。他
の添加剤（例えば上述された慣用の添加剤）またはそれ
らの溶融物を稀釈することも可能であるので、それらを
これらの添加剤と一緒に、安定化させる成分（ａ）上に
噴霧することも可能である。重合触媒の脱活性の間に噴
霧することによる添加は特に有利であり、例えば脱活性
のために使用されるスチームを使用して噴霧を行うこと
が可能である。

【００５２】このようにして安定化されたポリアミド、
ポリエステルまたはポリアセタールを、典型的にはフィ
ルム、繊維、フィラメント、成形品、異形材を含む非常
に広範囲の形状で、もしくは塗料系、特に粉末塗料組成
物のためのバインダーとして、粘着剤またはパテとして
使用することができる。成分（ｂ）は、加工安定剤（熱
安定剤）として使用するために、特に適当である。この
目的のために、通常それを加工前または間に成分（ａ）
に添加する。従って、本発明の好ましい具体例は、酸
化、熱および／または光誘因分解に対してポリアミド、
ポリエステルまたはポリアセタールを安定化させるため
に、成分（ｂ）を安定剤、特に加工安定剤（熱安定剤）
として使用することである。

【００５３】成分（ｂ）は有利な色特性により区別さ
れ、例えば加工の間、ポリアミド、ポリエステルおよび
ポリアセタールの変色は少ししか起こらない。従って、
本発明は酸化、熱および／または光誘因分解に対してポ
リアミド、ポリエステルまたはポリアセタールを安定化
させるためにも関し、該方法は上記材料に成分（ｂ）の
少なくとも一種を混成すること、もしくは適用すること
からなる。

【００５４】以下の実施例で本発明をより詳細に説明す
る。部および百分率は重量によるものである。実施例１ ：ポリアミド１２の安定化 １００部の安定化されていないポリアミド１２の粒子
（登録商標グリラミド（Grilamid）Ｌ２０Ｇ，ＥＭＳ
製，スイス）を極低温粉砕により粉末化し、これに表１
に記載された安定剤を加える。この混合物をヘンシェル
ミキサー中で２時間、７０℃で混合する。そのようにし
て得られた粉末を８０℃で６時間乾燥し、次いで二軸ス
クリュー押出機（ベルストルフ（Berstorff ）型）にお
いて最大２１０℃で押出し、次いで粒子化する。得られ
た粒子を射出成形装置（エンゲル（Engel ）型）におい
て最大２２０℃で厚さ１．０ｍｍおよび長さ６７ｍｍの
ダンベル状に射出成形する。これらのダンベルの黄色度
指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に従って決
定する。低いＹＩ値は試料の変色が少ないことを示し、
高いＹＩ値は試料の変色が強いことを示す。より低い変
色はより効果的な安定剤もしくは安定剤混合物を表す。
結果を表１にまとめる。

【００５５】

【表１】 ａ）比較例。 ｂ）本発明の例。 ｃ）登録商標イルガノックス２４５（チバスペシャルテ
ィーケミカルズ株式会社（Ciba Spezialitatenchemie A
G ））は式ＡＯ１で表される化合物を示す。

【化１５】 ｄ）登録商標イルガノックス１０９８（チバスペシャル
ティーケミカルズ株式会社（Ciba Spezialitatenchemie
AG ））は式ＡＯ２で表される化合物を示す。

【化１６】 ｅ）成分（ｂ）は式Ｉで表される化合物を示す。

【化１７】 ｆ）登録商標イルガホス１６８（チバスペシャルティー
ケミカルズ株式会社（Ciba Spezialitatenchemie AG
））はトリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホ
スフィットを示す。 ｇ）登録商標イルガホス１２（チバスペシャルティーケ
ミカルズ株式会社（CibaSpezialitatenchemie AG ））
は２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス
（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’
−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］；ケ
ミカルアブストラクト登録番号：８０４１０−３３−９
を示し、式Ｂで表される化合物により再生され得る。

【化１８】

【００５６】実施例２：ポリアミド６の安定化 １００部の安定化されていないポリアミド６の粒子（登
録商標ウルトラミド（Ultramid）Ｂ３Ｓ，ＢＡＳＦ製）
を極低温粉砕により粉末化し、これに表２に記載された
安定剤を加える。この混合物をヘンシェルミキサー中で
２時間、７０℃で混合する。そのようにして得られた粉
末を８０℃で６時間乾燥し、次いで二軸スクリュー押出
機（ベルストルフ（Berstorff ）型）において最大２４
０℃で押出し、次いで粒子化する。得られた粒子を射出
成形装置において最大２４０℃で厚さ４×６ｍｍおよび
長さ５０ｍｍの小型ロッド状に射出成形する。これらの
ロッドを１５０℃の空気循環オーブン中で老化させる。
ロッドの衝撃強さが８０ＫＪ／ｍ² まで低下するまでに
要する時間を、時間の単位で測定する。より長い時間は
より良好な安定化を表す。結果を表２にまとめる。

【００５７】

【表２】 脚注ａ）ないしｅ）に関する説明は表１末を参照。

【００５８】実施例３：ポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ）の安定化 １００部の安定化されていないＰＯＭコポリマー（登録
商標ホストホルム（Hostform）Ｃ，ヘキスト（Hoechst
）製）を０．３％のカルシウムステアレートと混合
し、次いで表３、４および５に記載された安定剤と混合
する。次いで、この粉末を最大１９０℃で押出する。こ
れらの粒子の一部を射出成形装置において最大２００℃
で厚さ２ｍｍ、幅４０ｍｍおよび長さ６０ｍｍのプレー
トレット状に射出成形する。その他の部分の粒子を射出
成形装置において最大２００℃で厚さ４×６ｍｍおよび
長さ５０ｍｍの小型ロッド状に射出成形する。

【００５９】２２０℃において空気の流れの下で、これ
らのプレートレットの一部において等温的に熱重量測定
を行う。プレートレットが、その重量の３％、６％およ
び１０％を失うまでの時間を、分の単位で測定する。よ
り長い時間はより良好な安定化を表す。結果を表３にま
とめる。

【００６０】

【表３】 脚注ａ）ないしｅ）に関する説明は表１末を参照。

【００６１】１４０℃において、プレートレットの他の
部分でオーブン老化試験を行う。プレートレットを１４
０℃の空気循環オーブン中で老化させ、プレートレット
が、その重量の２％を失うまでの時間を、時間の単位で
測定する。より長い時間はより良好な安定化を表す。結
果を表４にまとめる。

【００６２】

【表４】 脚注ａ）ないしｅ）に関する説明は表１末を参照。

【００６３】厚さ４×６ｍｍおよび長さ５０ｍｍのロッ
ドも１４０℃の空気循環オーブン中でオーブン老化試験
を受けさせ、ロッドの衝撃強さが最初の１１０ＫＪ／ｍ
² から９０ＫＪ／ｍ² まで低下するまでに要した時間
を、時間の単位で測定する。より長い時間はより良好な
安定化を表す。結果を表５に表す。

【００６４】

【表５】 脚注ａ）ないしｅ）に関する説明は表１末を参照。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/36 Ｃ０８Ｋ 5/36 5/526 5/526 5/527 5/527 Ｃ０８Ｌ 59/00 Ｃ０８Ｌ 59/00 67/02 67/02 Ｃ０９Ｋ 15/08 Ｃ０９Ｋ 15/08 15/22 15/22

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ａ）酸化、熱または光誘因分解を受ける
   ポリアミド、ポリエステルまたはポリアセタール、およ
   び ｂ）式Ｉ 【化１】 で表される化合物を含み、但し成分（ａ）がポリアミド
   である場合、次亜リン酸金属塩および有機酸の銅塩を含
   まない組成物。
2. 【請求項２】 ポリアミドがポリアミド６、ポリアミド
   ６．６、ポリアミド４．６、ポリアミド１１またはポリ
   アミド１２あるいはそのコポリマーである請求項１に記
   載の組成物。
3. 【請求項３】 ポリエステルがＰＥＴ、ＰＥＴＧまたは
   ＰＢＴあるいはそのコポリマーである請求項１に記載の
   組成物。
4. 【請求項４】 ポリアセタールがホモポリマーまたはコ
   ポリマーである請求項１に記載の組成物。
5. 【請求項５】 成分（ａ）の重量を基準として、０．０
   １ないし１％の量で成分（ｂ）が存在する請求項１に記
   載の組成物。
6. 【請求項６】 成分（ａ）および（ｂ）の他に更なる添
   加剤を付加的に含む請求項１に記載の組成物。
7. 【請求項７】 更なる添加剤がフェノール系酸化防止
   剤、光安定剤または／および加工安定剤である請求項６
   に記載の組成物。
8. 【請求項８】 更なる添加剤が有機ホスフィットまたは
   ホスホナイト型の化合物の少なくとも一種である請求項
   ６に記載の組成物。
9. 【請求項９】 更なる添加剤がベンゾフラン−２−オン
   型の化合物の少なくとも一種である請求項６に記載の組
   成物。