JP3124427B2 - 光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造方法 - Google Patents
光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造方法Info
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- JP3124427B2 JP3124427B2 JP33687293A JP33687293A JP3124427B2 JP 3124427 B2 JP3124427 B2 JP 3124427B2 JP 33687293 A JP33687293 A JP 33687293A JP 33687293 A JP33687293 A JP 33687293A JP 3124427 B2 JP3124427 B2 JP 3124427B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、式(1)又は式(2)
で示されるような4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルの光学活性体の製造方法に関する。
で示されるような4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルの光学活性体の製造方法に関する。
【0002】
【化6】 さらに詳しくは、式(1)又は式(2)で示される4,
4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混
合物に微生物を作用させ、式(1)又は式(2)で示さ
れる4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの光学異性
体の一方を、他方の光学異性体よりも多く残存させるこ
とを特徴とする光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−
ブタノールの製造方法に関する。
4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混
合物に微生物を作用させ、式(1)又は式(2)で示さ
れる4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの光学異性
体の一方を、他方の光学異性体よりも多く残存させるこ
とを特徴とする光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−
ブタノールの製造方法に関する。
【0003】なお、本発明で対象にしている式(1)又
は式(2)で示される光学活性な4,4−ジアルコキシ
−2−ブタノールの不斉炭素とは、式(1)又は式
(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルの2位の炭素を意味する。
は式(2)で示される光学活性な4,4−ジアルコキシ
−2−ブタノールの不斉炭素とは、式(1)又は式
(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルの2位の炭素を意味する。
【0004】また、式(1)又は式(2)で示される化
合物には、R1 、R2 が異なる場合や、Aが非対称であ
る化合物も含まれ、この場合はアセタール炭素も不斉炭
素になるが、このアセタール炭素の立体は特に問題にし
ない。
合物には、R1 、R2 が異なる場合や、Aが非対称であ
る化合物も含まれ、この場合はアセタール炭素も不斉炭
素になるが、このアセタール炭素の立体は特に問題にし
ない。
【0005】
【従来の技術】式(1)で示される4,4−ジアルコキ
シ−2−ブタノールの光学活性体は抗生物質をはじめと
する種々の医薬品の重要な合成中間体である。従来、式
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールの光学活性体を製造する方法としては、
4,4−ジメトキシ−2−ブタノンをアルコールデヒド
ロゲナーゼにより選択的に還元して、(S)−4,4−
ジメトキシ−2−ブタノールを得る方法(J.Am.Chem.So
c.,107,4028(1985))、(S)−α−メチル−1,3−ジ
チアン−2−エタノールにPbO2 、BF3 存在下にメ
タノールを反応させて、(S)−4,4−ジメトキシ−
2−ブタノールを得る方法(TetrahedronLett.,24,287
(1983))、(R)−3−(エトキシエトキシ)ブタナー
ルにピリジニウムトシレートの存在下でエチレングリコ
ールを反応させて、(R)−α−メチル−1,3−ジオ
キソラン−2−エタノールを得る方法(Tetrahedron Le
tt.,28,6587(1987) )や、ラセミの酢酸2−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1−メチルエチルエステル
または酪酸2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1−メチルエチルエステルをリパーゼ存在下で、選択的
に加水分解させて、(S)−α−メチル−1,3−ジオ
キサン−2−エタノールまたは(R)−α−メチル−
1,3−ジオキサン−2−エタノールを得る方法(Tetr
ahedron,45,869(1989)やJ.Org.Chem.,56,2656(1991))等
が知られている。
シ−2−ブタノールの光学活性体は抗生物質をはじめと
する種々の医薬品の重要な合成中間体である。従来、式
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールの光学活性体を製造する方法としては、
4,4−ジメトキシ−2−ブタノンをアルコールデヒド
ロゲナーゼにより選択的に還元して、(S)−4,4−
ジメトキシ−2−ブタノールを得る方法(J.Am.Chem.So
c.,107,4028(1985))、(S)−α−メチル−1,3−ジ
チアン−2−エタノールにPbO2 、BF3 存在下にメ
タノールを反応させて、(S)−4,4−ジメトキシ−
2−ブタノールを得る方法(TetrahedronLett.,24,287
(1983))、(R)−3−(エトキシエトキシ)ブタナー
ルにピリジニウムトシレートの存在下でエチレングリコ
ールを反応させて、(R)−α−メチル−1,3−ジオ
キソラン−2−エタノールを得る方法(Tetrahedron Le
tt.,28,6587(1987) )や、ラセミの酢酸2−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1−メチルエチルエステル
または酪酸2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1−メチルエチルエステルをリパーゼ存在下で、選択的
に加水分解させて、(S)−α−メチル−1,3−ジオ
キサン−2−エタノールまたは(R)−α−メチル−
1,3−ジオキサン−2−エタノールを得る方法(Tetr
ahedron,45,869(1989)やJ.Org.Chem.,56,2656(1991))等
が知られている。
【0006】しかし、アルコールデヒドロゲナーゼによ
り選択的に還元する方法は、使用するアルコールデヒド
ロゲナーゼなどの酵素が高価であること、(S)−α−
メチル−1,3−ジチアン−2−エタノールにPb
O2 、BF3 存在下にメタノールを反応させる方法は、
有害な鉛化合物を使用すること、(R)−3−(エトキ
シエトキシ)ブタナールをアセタール化する方法は、
(R)−3−(エトキシエトキシ)ブタナールの合成が
多工程であること、リパーゼ存在下で選択的に加水分解
させる方法は、選択性が低いことなどの欠点がある。
り選択的に還元する方法は、使用するアルコールデヒド
ロゲナーゼなどの酵素が高価であること、(S)−α−
メチル−1,3−ジチアン−2−エタノールにPb
O2 、BF3 存在下にメタノールを反応させる方法は、
有害な鉛化合物を使用すること、(R)−3−(エトキ
シエトキシ)ブタナールをアセタール化する方法は、
(R)−3−(エトキシエトキシ)ブタナールの合成が
多工程であること、リパーゼ存在下で選択的に加水分解
させる方法は、選択性が低いことなどの欠点がある。
【0007】また、ラセミの4,4−ジメトキシ−2−
ブタノールにリパーゼ存在下で石油エーテル中、ペンタ
ン酸ビニルを反応させて、カルボン酸エステルである
(R)−2−ペンタノイルオキシ−4,4−ジメトキシ
ブタンを得る際には、式(1)で示される化合物に含ま
れる(S)−4,4−ジメトキシ−2−ブタノールが副
生していると考えられる(J.Am.Chem.Soc.,110,7200(19
88))が、使用するリパーゼが高価であること、ペンタ
ン酸ビニル等のエステル化剤が必要であること、選択性
が低いことなどの欠点がある。
ブタノールにリパーゼ存在下で石油エーテル中、ペンタ
ン酸ビニルを反応させて、カルボン酸エステルである
(R)−2−ペンタノイルオキシ−4,4−ジメトキシ
ブタンを得る際には、式(1)で示される化合物に含ま
れる(S)−4,4−ジメトキシ−2−ブタノールが副
生していると考えられる(J.Am.Chem.Soc.,110,7200(19
88))が、使用するリパーゼが高価であること、ペンタ
ン酸ビニル等のエステル化剤が必要であること、選択性
が低いことなどの欠点がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】これらの事情により、
経済的に優れ、かつ簡便な手段により光学純度の高い式
(1)又は式(2)で示される光学活性4,4−ジアル
コキシ−2−ブタノールを得る方法の確立が望まれてい
た。
経済的に優れ、かつ簡便な手段により光学純度の高い式
(1)又は式(2)で示される光学活性4,4−ジアル
コキシ−2−ブタノールを得る方法の確立が望まれてい
た。
【0009】本願発明は、経済性に優れ、かつ簡便な手
段により光学純度の高い式(1)又は式(2)で示され
る光学活性4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールを得
る方法に関するものである。
段により光学純度の高い式(1)又は式(2)で示され
る光学活性4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールを得
る方法に関するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは経済的に優
れ、かつ簡便な方法で、光学純度の高い式(1)又は式
(2)で示される光学活性4,4−ジアルコキシ−2−
ブタノールを得る方法として、式(1)又は式(2)で
示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナ
ンチオマー混合物に微生物を作用させる方法に着目し
た。
れ、かつ簡便な方法で、光学純度の高い式(1)又は式
(2)で示される光学活性4,4−ジアルコキシ−2−
ブタノールを得る方法として、式(1)又は式(2)で
示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナ
ンチオマー混合物に微生物を作用させる方法に着目し
た。
【0011】この目的に適した微生物を検索した結果、
ピキア・オプンティア・バライティー・サーモトレラン
ス(Pichia opuntiae var thermotolerans) 、ピキア・
トレタナ(Pichia toletana)、シュードモナス・ディミ
ヌタ(Pseudomonas diminuta)、TRP-13が属するシュー
ドモナス・エスピー(Pseudomonas sp.)、トリコスポ
ロン・キャピテータム(Trichosporon capitatum)のい
ずれかの種に属する微生物が、式(1)又は式(2)で
示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナ
ンチオマー混合物に作用して対応する(R)体を残存さ
せること、およびピキア・ファリノサ(Pichia farinos
a )、シュードモナス・プチダ(Pseudomonas putid
a)、トリコスポロン・クタネウム(Trichosporon cuta
neum )のいずれかの種に属する微生物が、式(1)又
は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタ
ノールのエナンチオマー混合物に作用して対応する
(S)体を残存させることを見出し、本発明を完成した
ものである。
ピキア・オプンティア・バライティー・サーモトレラン
ス(Pichia opuntiae var thermotolerans) 、ピキア・
トレタナ(Pichia toletana)、シュードモナス・ディミ
ヌタ(Pseudomonas diminuta)、TRP-13が属するシュー
ドモナス・エスピー(Pseudomonas sp.)、トリコスポ
ロン・キャピテータム(Trichosporon capitatum)のい
ずれかの種に属する微生物が、式(1)又は式(2)で
示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナ
ンチオマー混合物に作用して対応する(R)体を残存さ
せること、およびピキア・ファリノサ(Pichia farinos
a )、シュードモナス・プチダ(Pseudomonas putid
a)、トリコスポロン・クタネウム(Trichosporon cuta
neum )のいずれかの種に属する微生物が、式(1)又
は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタ
ノールのエナンチオマー混合物に作用して対応する
(S)体を残存させることを見出し、本発明を完成した
ものである。
【0012】具体的には、式(1)又は式(2)で示さ
れる4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチ
オマー混合物に作用し、対応する(R)体を残存させう
る能力を有する菌株としては、ピキア・オプンティア・
バライティー・サーモトレランス(Pichia opuntiae va
r.thermotolerans)IFO10025 、ピキア・トレタナ(Pich
ia toletana)IFO0950 、シュードモナス・ディミヌタ
(Pseudomonas diminuta)IFO12697 、シュードモナス・
エスピー(Pseudomonas sp.)TRP-13、トリコスポロン・
キャピテータム(Trichosporon capitatum)IFO1197 等
を挙げることができる。
れる4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチ
オマー混合物に作用し、対応する(R)体を残存させう
る能力を有する菌株としては、ピキア・オプンティア・
バライティー・サーモトレランス(Pichia opuntiae va
r.thermotolerans)IFO10025 、ピキア・トレタナ(Pich
ia toletana)IFO0950 、シュードモナス・ディミヌタ
(Pseudomonas diminuta)IFO12697 、シュードモナス・
エスピー(Pseudomonas sp.)TRP-13、トリコスポロン・
キャピテータム(Trichosporon capitatum)IFO1197 等
を挙げることができる。
【0013】また、式(1)又は式(2)で示される
4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマ
ー混合物に作用し、対応する(S)体を残存させうる能
力を有する菌株としては、ピキア・ファリノサ(Pichia
farinosa)IFO1163 、シュードモナス・プチダ(Pseudo
monas putida)TRP-7、トリコスポロン・クタネウム(Tr
ichosporon cutaneum )IFO1198 等を挙げることができ
る。
4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマ
ー混合物に作用し、対応する(S)体を残存させうる能
力を有する菌株としては、ピキア・ファリノサ(Pichia
farinosa)IFO1163 、シュードモナス・プチダ(Pseudo
monas putida)TRP-7、トリコスポロン・クタネウム(Tr
ichosporon cutaneum )IFO1198 等を挙げることができ
る。
【0014】これらの微生物は、野生株、変異株、また
は細胞融合もしくは遺伝子操作法などの遺伝的手法によ
り誘導される組み換え株など、いずれの株でも好適に用
いることができる。
は細胞融合もしくは遺伝子操作法などの遺伝的手法によ
り誘導される組み換え株など、いずれの株でも好適に用
いることができる。
【0015】なお、IFO番号の付された微生物は、
(財)発酵研究所(IFO)発行のList of Culture 、
第9版、第1巻(1992)に記載されており、該IFOから
入手することができる。
(財)発酵研究所(IFO)発行のList of Culture 、
第9版、第1巻(1992)に記載されており、該IFOから
入手することができる。
【0016】またシュードモナス・プチダ(Pseudomona
s putida)TRP-7、シュードモナス・エスピー(Pseudomo
nas sp.)TRP-13は茨城県の土壌より分離された菌株であ
り、それぞれ微工研条寄第3881号(FERM BP
−3881)、微工研条寄第3882号(FERM B
P−3882)として工業技術院生命工学研究所に寄託
されている。以下これらの菌学的性質を示す。
s putida)TRP-7、シュードモナス・エスピー(Pseudomo
nas sp.)TRP-13は茨城県の土壌より分離された菌株であ
り、それぞれ微工研条寄第3881号(FERM BP
−3881)、微工研条寄第3882号(FERM B
P−3882)として工業技術院生命工学研究所に寄託
されている。以下これらの菌学的性質を示す。
【0017】
【表1】 シュードモナス・プチダ(Pseudomonas putida)TRP-7 形態 1)細菌の形および大きさ 桿菌0.5〜
0.6μm×1.5〜18.0μm 2)運動性 + 3)グラム染色性 − 4)胞子の有無 − 5)鞭毛 極鞭毛、>1 生理学的性質 1)オキシダーゼ + 2)カタラーゼ + 3)アミノペプチターゼ + 4)インドールの生成 − 5)VPテスト − 6)硝酸塩の還元 − 7)脱窒反応 − 8)ウレアーゼ + 9)フェニルアラニンデアミナーゼ − 10)シュークロースからレバンの生成 − 11)レシチナーゼ − 12)澱粉の加水分解 − 13)ゼラチンの加水分解 − 14)カゼインの加水分解 − 15)DNAの加水分解 − 16)Tween80の加水分解 + 17)エスクリンの加水分解 − 18)3%KOHによる溶菌 +
0.6μm×1.5〜18.0μm 2)運動性 + 3)グラム染色性 − 4)胞子の有無 − 5)鞭毛 極鞭毛、>1 生理学的性質 1)オキシダーゼ + 2)カタラーゼ + 3)アミノペプチターゼ + 4)インドールの生成 − 5)VPテスト − 6)硝酸塩の還元 − 7)脱窒反応 − 8)ウレアーゼ + 9)フェニルアラニンデアミナーゼ − 10)シュークロースからレバンの生成 − 11)レシチナーゼ − 12)澱粉の加水分解 − 13)ゼラチンの加水分解 − 14)カゼインの加水分解 − 15)DNAの加水分解 − 16)Tween80の加水分解 + 17)エスクリンの加水分解 − 18)3%KOHによる溶菌 +
【表2】 19)酸素に対する態度 好気的 20)4℃での生育 + 21)37℃での生育 − 22)41℃での生育 − 23)pH5.6での生育 + 24)Mac-Conkey-Agar 培地での生育 + 25)SS-Agar 培地での生育 + 26)Cetrimid-Agar 培地での生育 + 27)色素の生成 蛍光性 + ピロシアニン − 28)OFテスト 0 29)グルコースからガスの生成 − 30)酸の生成 グルコース + フルクトース + キシロース + 31)PNPG(β−ガラクトーシダーゼ) − 32)アルギニンジヒドロラーゼ +
【表3】 33)炭素源の利用 アジピン酸 − ベンゾイルギ酸 + カプロン酸 + ブチルアミン + クエン酸 + m−イノシトール − レブリン酸 + セバシン酸 − リンゴ酸 + ソルビトール − フェニル酢酸 + アセトアミド − L−アラビノース − シュークロース − フルクトース + アゼライン酸 − グルコース + D−ガラクトース + マンノース + ムコン酸 + マルトース − ゲラニオール − マンニトール + グリシン − グルコン酸 + n−ブタノール + N−アセチルグルコサミン − D−アラニン + L−バリン + アントラニル酸 − アドニトール − L−トリプトファン − トレハロース + L−キヌレン酸 − D−グルカル酸 + α−アミルアミン − 以上の菌学的性質をバージーの細菌分類書(Bargey's m
anual of SystematicBacteriology(1986))に基づいて
分類すると、TRP-7 はシュードモナス・プチダ(Pseudo
monas putida)と同定された。
anual of SystematicBacteriology(1986))に基づいて
分類すると、TRP-7 はシュードモナス・プチダ(Pseudo
monas putida)と同定された。
【0018】
【表4】 シュードモナス・エスピー(Pseudomonas sp.)TRP-13 形態 1)細菌の形および大きさ 桿菌0.5μm
×1.0〜2.5μm 2)運動性 + 3)グラム染色性 − 4)胞子の有無 − 5)鞭毛 極鞭毛、1 生理学的性質 1)オキシダーゼ + 2)カタラーゼ + 3)アミノペプチターゼ + 4)インドールの生成 − 5)VPテスト − 6)硝酸塩の還元 + 7)脱窒反応 + 8)フェニルアラニンデアミナーゼ − 9)シュークロースからレバンの生成 − 10)レシチナーゼ − 11)澱粉の加水分解 − 12)ゼラチンの加水分解 − 13)カゼインの加水分解 − 14)DNAの加水分解 − 15)Tween80の加水分解 − 16)エスクリンの加水分解 + 17)3%KOHによる溶菌 + 18)酸素に対する態度 好気的
×1.0〜2.5μm 2)運動性 + 3)グラム染色性 − 4)胞子の有無 − 5)鞭毛 極鞭毛、1 生理学的性質 1)オキシダーゼ + 2)カタラーゼ + 3)アミノペプチターゼ + 4)インドールの生成 − 5)VPテスト − 6)硝酸塩の還元 + 7)脱窒反応 + 8)フェニルアラニンデアミナーゼ − 9)シュークロースからレバンの生成 − 10)レシチナーゼ − 11)澱粉の加水分解 − 12)ゼラチンの加水分解 − 13)カゼインの加水分解 − 14)DNAの加水分解 − 15)Tween80の加水分解 − 16)エスクリンの加水分解 + 17)3%KOHによる溶菌 + 18)酸素に対する態度 好気的
【表5】 19)4℃での生育 − 20)37℃での生育 + 21)41℃での生育 − 22)pH5.6での生育 + 23)Mac-Conkey-Agar 培地での生育 + 24)SS-Agar 培地での生育 + 25)Cetrimid-Agar 培地での生育 + 26)色素の生成 蛍光性 − ピロシアニン − 27)OFテスト 0 28)グルコースからガスの生成 − 29)酸の生成 グルコース + フルクトース + キシロース + 30)PNPG(β−ガラクトシダーゼ) − 31)アルギニンジヒドロシダーゼ +
【表6】 32)炭素源の利用 酢酸 + 乳酸 + アジピン酸 + スペリン酸 − カプロン酸 + アドニトール − クエン酸 + 酪酸 + グリコール酸 − トレハロース − マロン酸 − D−グルカル酸 − リンゴ酸 + ベンゾイルギ酸 − フェニル酢酸 + L−マンデル酸 − L−アラビノース − m−イノシトール − グルコース + セバシン酸 + マンノース − ソルビトール − マルトース − アセトアミド − キシロース − シュークロース − マンニトール − アゼライン酸 + グルコン酸 ± D−ガラクトース + N−アセチルグルコサミン ± ムコン酸 + L−セリン − ゲラニオール + エタノール + プロピレングリコール + n−プロパノール + 以上の菌学的性質をバージーの細菌分類書(Bargey's m
anual of SystematicBacteriology(1986))に基づいて
分類すると、TRP-13はシュードモナス・エスピー(Pseu
domonas sp.)と同定された。
anual of SystematicBacteriology(1986))に基づいて
分類すると、TRP-13はシュードモナス・エスピー(Pseu
domonas sp.)と同定された。
【0019】本発明に用いる微生物を培養するための培
地は、その微生物が増殖し得るものであれば特に制限は
ない。例えば、炭素源としては、上記微生物が利用可能
であればいずれも使用でき、具体的には、グルコース、
フルクトース、シュクロース、デキストリンなどの糖
類、ソルビトール、エタノール、グリセロールなどのア
ルコール類、フマール酸、クエン酸、酢酸、プロピオン
酸などの有機酸類およびその塩類、パラフィンなどの炭
化水素類など、あるいは、これらの混合物を使用するこ
とができる。窒素源としては例えば、塩化アンモニウ
ム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウムなどの無機
酸のアンモニウム塩、フマル酸アンモニウム、クエン酸
アンモニウムなどの有機酸のアンモニウム塩、肉エキ
ス、酵母エキス、コーンスティープリカー、カゼイン加
水分解物、尿素などの無機有機含窒素化合物、あるいは
これらの混合物を使用することができる。他に無機塩、
微量金属塩、ビタミン類など、通常の培養に用いられる
栄養源を適宜、混合して用いることができる。また必要
に応じて微生物の増殖を促進する因子、本発明の目的化
合物の生成能力を高める因子、あるいは培地のpH保持
に有効な物質も添加できる。
地は、その微生物が増殖し得るものであれば特に制限は
ない。例えば、炭素源としては、上記微生物が利用可能
であればいずれも使用でき、具体的には、グルコース、
フルクトース、シュクロース、デキストリンなどの糖
類、ソルビトール、エタノール、グリセロールなどのア
ルコール類、フマール酸、クエン酸、酢酸、プロピオン
酸などの有機酸類およびその塩類、パラフィンなどの炭
化水素類など、あるいは、これらの混合物を使用するこ
とができる。窒素源としては例えば、塩化アンモニウ
ム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウムなどの無機
酸のアンモニウム塩、フマル酸アンモニウム、クエン酸
アンモニウムなどの有機酸のアンモニウム塩、肉エキ
ス、酵母エキス、コーンスティープリカー、カゼイン加
水分解物、尿素などの無機有機含窒素化合物、あるいは
これらの混合物を使用することができる。他に無機塩、
微量金属塩、ビタミン類など、通常の培養に用いられる
栄養源を適宜、混合して用いることができる。また必要
に応じて微生物の増殖を促進する因子、本発明の目的化
合物の生成能力を高める因子、あるいは培地のpH保持
に有効な物質も添加できる。
【0020】培養方法としては、培地pHは3.0〜
9.5、好ましくは4〜8、培養温度は20〜45℃、
好ましくは25〜37℃で、嫌気的あるいは好気的に、
その微生物の生育に適した条件下5〜120時間、好ま
しくは12〜72時間程度培養する。
9.5、好ましくは4〜8、培養温度は20〜45℃、
好ましくは25〜37℃で、嫌気的あるいは好気的に、
その微生物の生育に適した条件下5〜120時間、好ま
しくは12〜72時間程度培養する。
【0021】式(1)又は式(2)で示される4,4−
ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混合物
から光学活性な式(1)又は式(2)で示される4,4
−ジアルコキシ−2−ブタノールを生成させる方法とし
ては、培養液をそのまま用い該培養液に式(1)又は式
(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルのエナンチオマー混合物を添加する方法、遠心分離な
どにより菌体を分離し、これをそのままあるいは洗浄し
た後、緩衝液、水などに再懸濁したものに式(1)又は
式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノ
ールのエナンチオマー混合物を添加し反応させる方法な
どがある。この反応の際、グルコース、シュクロースな
どの炭素源をエネルギー源として添加したほうが良い場
合もある。また、菌体は生菌体のままでも良いし、菌体
破砕物、アセトン処理、凍結乾燥などの処理をほどこし
たものでも良い。
ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混合物
から光学活性な式(1)又は式(2)で示される4,4
−ジアルコキシ−2−ブタノールを生成させる方法とし
ては、培養液をそのまま用い該培養液に式(1)又は式
(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルのエナンチオマー混合物を添加する方法、遠心分離な
どにより菌体を分離し、これをそのままあるいは洗浄し
た後、緩衝液、水などに再懸濁したものに式(1)又は
式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノ
ールのエナンチオマー混合物を添加し反応させる方法な
どがある。この反応の際、グルコース、シュクロースな
どの炭素源をエネルギー源として添加したほうが良い場
合もある。また、菌体は生菌体のままでも良いし、菌体
破砕物、アセトン処理、凍結乾燥などの処理をほどこし
たものでも良い。
【0022】また、これらの菌体を、例えば、ポリアク
リルアミドゲル法、含硫多糖ゲル法(カラギーナンゲル
法など)、アルギン酸ゲル法、寒天ゲル法などの公知の
方法で固定化して用いることもできる。
リルアミドゲル法、含硫多糖ゲル法(カラギーナンゲル
法など)、アルギン酸ゲル法、寒天ゲル法などの公知の
方法で固定化して用いることもできる。
【0023】式(1)又は式(2)で示される4,4−
ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混合物
はそのまま、あるいは水に溶解し、または反応に影響を
与えないような有機溶媒に溶解したり、界面活性剤など
に分散させたりして、反応開始から一括にあるいは分割
して添加しても良い。
ジアルコキシ−2−ブタノールのエナンチオマー混合物
はそのまま、あるいは水に溶解し、または反応に影響を
与えないような有機溶媒に溶解したり、界面活性剤など
に分散させたりして、反応開始から一括にあるいは分割
して添加しても良い。
【0024】反応はpH2〜10、好ましくはpH3〜
9の範囲で、温度は10〜60℃、好ましくは20〜4
0℃の範囲で1〜120時間程度、攪拌下あるいは静置
下で行う。反応時間を長くすると式(1)又は式(2)
で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの残
存量は減少する場合が多いが、光学純度の高い光学活性
な式(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキ
シ−2−ブタノールを得ることが可能である。基質の使
用濃度は特に制限されないが、0.1〜20%程度が好
ましい。
9の範囲で、温度は10〜60℃、好ましくは20〜4
0℃の範囲で1〜120時間程度、攪拌下あるいは静置
下で行う。反応時間を長くすると式(1)又は式(2)
で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの残
存量は減少する場合が多いが、光学純度の高い光学活性
な式(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキ
シ−2−ブタノールを得ることが可能である。基質の使
用濃度は特に制限されないが、0.1〜20%程度が好
ましい。
【0025】反応によって残存生成した光学活性な式
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールは、反応液から直接あるいは菌体分離
後、有機溶媒による抽出、蒸留、カラムクロマトなどの
通常の精製方法を用いることにより、容易に単離でき
る。
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールは、反応液から直接あるいは菌体分離
後、有機溶媒による抽出、蒸留、カラムクロマトなどの
通常の精製方法を用いることにより、容易に単離でき
る。
【0026】また、精製操作の前に、適当な化合物で処
理することも可能である。
理することも可能である。
【0027】本発明において、微生物あるいはその処理
物を作用させる式(1)又は式(2)で示される4,4
−ジアルコキシ−2−ブタノールは、(R)体、(S)
体の任意の割合の混合物で良い。すなわち、ラセミ体あ
るいは(R)体、(S)体のいずれかが過剰の混合物が
用いられる。
物を作用させる式(1)又は式(2)で示される4,4
−ジアルコキシ−2−ブタノールは、(R)体、(S)
体の任意の割合の混合物で良い。すなわち、ラセミ体あ
るいは(R)体、(S)体のいずれかが過剰の混合物が
用いられる。
【0028】R1 、R2 は、直鎖又は分岐状のアルキル
基中から任意に選択できるが、アルキル基の炭素数は1
〜7であることが好ましい。アルキル基の好適な例とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n
−ヘプチル基などが挙げられる。R1 、R2 は同じ基で
も異なる基でもよいが、同じ基である方が合成上は簡便
である。
基中から任意に選択できるが、アルキル基の炭素数は1
〜7であることが好ましい。アルキル基の好適な例とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n
−ヘプチル基などが挙げられる。R1 、R2 は同じ基で
も異なる基でもよいが、同じ基である方が合成上は簡便
である。
【0029】Aは、直鎖又は分岐状のアルキレン基の中
から任意に選択できるが、アルキレン基の炭素数は2〜
5であることが好ましい。アルキレン基の好適な例とし
ては、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、プロ
ピレン、エチルエチレン、1−メチルトリメチレン、2
−メチルトリメチレン、1,3−ジメチルトリメチレ
ン、などが挙げられる。
から任意に選択できるが、アルキレン基の炭素数は2〜
5であることが好ましい。アルキレン基の好適な例とし
ては、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、プロ
ピレン、エチルエチレン、1−メチルトリメチレン、2
−メチルトリメチレン、1,3−ジメチルトリメチレ
ン、などが挙げられる。
【0030】式(1)又は式(2)で示される2−ブタ
ノールの具体的な例としては、4,4−ジメトキシ−2
−ブタノール、4,4−ジエトキシ−2−ブタノール、
4,4−ジプロポキシ−2−ブタノール、4,4−ジイ
ソプロポキシ−2−ブタノール、4,4−ジブトキシ−
2−ブタノール、4,4−ジイソブトキシ−2−ブタノ
ール、4,4−ジ−t−ブトキシ−2−ブタノール、
4,4−ジペントキシ−2−ブタノール、4,4−ジイ
ソペントキシ−2−ブタノール、4,4−ジヘキシルオ
キシ−2−ブタノール、4,4−ジヘプチルオキシ−2
−ブタノール、α−メチル−1,3−ジオキソラン−2
−エタノール、α−メチル−1,3−ジオキサン−2−
エタノール、α−メチル−1,3−ジオキセパン−2−
エタノール、α,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−2−エタノール、α−メチル−4−エチル−1,3−
ジオキソラン−2−エタノール、α,4−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−エタノール、α,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−エタノール、α,4,5
−トリメチル−1,3−ジオキサン−2−エタノールな
どが挙げられる。
ノールの具体的な例としては、4,4−ジメトキシ−2
−ブタノール、4,4−ジエトキシ−2−ブタノール、
4,4−ジプロポキシ−2−ブタノール、4,4−ジイ
ソプロポキシ−2−ブタノール、4,4−ジブトキシ−
2−ブタノール、4,4−ジイソブトキシ−2−ブタノ
ール、4,4−ジ−t−ブトキシ−2−ブタノール、
4,4−ジペントキシ−2−ブタノール、4,4−ジイ
ソペントキシ−2−ブタノール、4,4−ジヘキシルオ
キシ−2−ブタノール、4,4−ジヘプチルオキシ−2
−ブタノール、α−メチル−1,3−ジオキソラン−2
−エタノール、α−メチル−1,3−ジオキサン−2−
エタノール、α−メチル−1,3−ジオキセパン−2−
エタノール、α,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−2−エタノール、α−メチル−4−エチル−1,3−
ジオキソラン−2−エタノール、α,4−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−エタノール、α,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−エタノール、α,4,5
−トリメチル−1,3−ジオキサン−2−エタノールな
どが挙げられる。
【0031】式(1)又は式(2)で示される4,4−
ジアルコキシ−2−ブタノールのラセミ体は、既知の方
法により容易に合成できる。例えば、3−ケトブタナー
ルの対応するアセタールを還元することにより(例え
ば、J.Org.Chem.,53,4175(1988))、あるいは酸触媒存在
下でアルドールと対応するアルコールとを反応させるこ
とにより(例えば、Chem.Ber.,52,1800(1919))容易に
合成できる。
ジアルコキシ−2−ブタノールのラセミ体は、既知の方
法により容易に合成できる。例えば、3−ケトブタナー
ルの対応するアセタールを還元することにより(例え
ば、J.Org.Chem.,53,4175(1988))、あるいは酸触媒存在
下でアルドールと対応するアルコールとを反応させるこ
とにより(例えば、Chem.Ber.,52,1800(1919))容易に
合成できる。
【0032】
【実施例】以下、本発明を具体的に実施例にて説明する
が、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでは
ない。
が、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでは
ない。
【0033】なお、実施例における反応液の遠心分離上
澄液中の式(1)又は式(2)で示される4,4−ジア
ルコキシ−2−ブタノールの定量は、ガスクロマトグラ
フィー(カラム:FAL−M(2m)、インジェクショ
ン温度:200℃、カラム温度:140℃)により測定
した。
澄液中の式(1)又は式(2)で示される4,4−ジア
ルコキシ−2−ブタノールの定量は、ガスクロマトグラ
フィー(カラム:FAL−M(2m)、インジェクショ
ン温度:200℃、カラム温度:140℃)により測定
した。
【0034】なお、残存率(%)とは(残存濃度)/
(仕込み濃度)×100を意味する。また、異性体過剰
率(%ee)はベンゾイル化後、光学分割カラムを用いた
高速液体クロマトグラフィー(カラム:ダイセル化学工
業製キラルセルOD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プ
ロパノール=250:1、波長:254nm、流速:
1.0ml/min、カラム温度:室温)により測定し
た。
(仕込み濃度)×100を意味する。また、異性体過剰
率(%ee)はベンゾイル化後、光学分割カラムを用いた
高速液体クロマトグラフィー(カラム:ダイセル化学工
業製キラルセルOD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プ
ロパノール=250:1、波長:254nm、流速:
1.0ml/min、カラム温度:室温)により測定し
た。
【0035】(実施例1) (菌体調製用培地) グルコース 2 % 酵母エキス 0.3% ヘプトン 0.5% 麦芽エキス 0.3% pH 6.0 上記の菌体調製用培地5mlを21mmφ試験管に入
れ、滅菌後、表7に示した微生物をそれぞれ植菌し、3
0℃で48時間振盪培養を行った。続いて遠心分離で菌
体を分離し、生菌体を得た。
れ、滅菌後、表7に示した微生物をそれぞれ植菌し、3
0℃で48時間振盪培養を行った。続いて遠心分離で菌
体を分離し、生菌体を得た。
【0036】次に、21mmφ試験管中の4,4−ジメ
トキシ−2−ブタノールのラセミ体0.5%およびCa
CO3 0.1%を含む水溶液2mlに、遠心分離で得た
菌体を添加し、30℃で48時間往復振盪反応させた。
トキシ−2−ブタノールのラセミ体0.5%およびCa
CO3 0.1%を含む水溶液2mlに、遠心分離で得た
菌体を添加し、30℃で48時間往復振盪反応させた。
【0037】反応終了後、遠心分離により除菌し、上澄
液を得た。上澄液をガスクロマトグラフィー分析して
4,4−ジメトキシ−2−ブタノールの残存濃度を測定
し、残存率を求めた。
液を得た。上澄液をガスクロマトグラフィー分析して
4,4−ジメトキシ−2−ブタノールの残存濃度を測定
し、残存率を求めた。
【0038】(カラム:FAL−M(2m)、インジェ
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、4,
4−ジメトキシ−2−ブタノールの保持時間:11.1
分) また、この上澄液に塩化ナトリウムを添加後、酢酸エチ
ル2mlを用いて抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナト
リウムにより乾燥し、減圧下溶媒を留去しシロップを得
た。
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、4,
4−ジメトキシ−2−ブタノールの保持時間:11.1
分) また、この上澄液に塩化ナトリウムを添加後、酢酸エチ
ル2mlを用いて抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナト
リウムにより乾燥し、減圧下溶媒を留去しシロップを得
た。
【0039】このシロップをヘキサン2mlに溶解さ
せ、ピリジン存在下、塩化ベンゾイルで1昼夜ベンゾイ
ル化した。反応液に水を添加し、重曹水、クエン酸水で
洗浄後、ヘキサン層を高速液体クロマトグラフィーにて
異性体過剰率(%ee)を分析した。(カラム:ダイセル
化学工業製キラルセルOD−H、溶媒:n−ヘキサン:
2−プロパノール=250:1、波長:254nm、流
速:1.0ml/min、カラム温度:室温、ベンゾイ
ル体の保持時間:(S)体 9.5分、(R)体10.
6分)なお、絶対立体配置の決定は(R)−MTPAエ
ステル化し、 1 H−NMR(500MHz)のケミカル
シフト値の文献(J.Am.Chem.Soc.,107,4028(1985))との
比較により行った。
せ、ピリジン存在下、塩化ベンゾイルで1昼夜ベンゾイ
ル化した。反応液に水を添加し、重曹水、クエン酸水で
洗浄後、ヘキサン層を高速液体クロマトグラフィーにて
異性体過剰率(%ee)を分析した。(カラム:ダイセル
化学工業製キラルセルOD−H、溶媒:n−ヘキサン:
2−プロパノール=250:1、波長:254nm、流
速:1.0ml/min、カラム温度:室温、ベンゾイ
ル体の保持時間:(S)体 9.5分、(R)体10.
6分)なお、絶対立体配置の決定は(R)−MTPAエ
ステル化し、 1 H−NMR(500MHz)のケミカル
シフト値の文献(J.Am.Chem.Soc.,107,4028(1985))との
比較により行った。
【0040】得られた結果を表7に示す。
【0041】
【表7】 微生物 絶対 % 残存率 配置 ee (%) ピキア・オプンティア バライティー・サーモトレランス R 24 75 (Pichia opuntiae var.thermotolerans)IFO10025 ピキア・トレタナ R 20 77 (Pichia toletana)IFO0950 シュードモナス・ディミヌタ R 100 38 (Pseudomonas diminuta)IFO12697 シュードモナス・エスピー R 33 42 (Pseudomonas sp.)TRP-13 トリコスポロン・キャピテータム R 11 61 (Trichosporon capitatum)IFO1197 ピキア・ファリノサ S 53 63 (Pichia farinosa)IFO1163 トリコスポロン・クタネウム S 23 48 (Trichosporon cutaneum )IFO1198 (実施例2)実施例1と同様に、4,4−ジエトキシ−
2−ブタノールのラセミ体を用いて実施した。
2−ブタノールのラセミ体を用いて実施した。
【0042】残存濃度は、反応液の遠心分離上澄液を以
下のガスクロマトグラフィー条件で測定して求めた。
下のガスクロマトグラフィー条件で測定して求めた。
【0043】(カラム:FAL−M(2m)、インジェ
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、4,
4−ジエトキシ−2−ブタノールの保持時間:17.5
分) 異性体過剰率(%ee)は、ベンゾイル体を以下の高速液
体クロマトグラフィー条件で測定して求めた。
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、4,
4−ジエトキシ−2−ブタノールの保持時間:17.5
分) 異性体過剰率(%ee)は、ベンゾイル体を以下の高速液
体クロマトグラフィー条件で測定して求めた。
【0044】(カラム:ダイセル化学工業製キラルセル
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンゾイル体の保持時間:
(S)体 6.5分、(R)体 7.1分)) なお、絶対立体配置の決定は、得られた光学活性4,4
−ジエトキシ−2−ブタノールを塩化ベンジルおよびN
aHでベンジル化した、4,4−ジエトキシ−2−ベン
ジルオキシブタンと、(R)−3−ヒドロキシ酪酸メチ
ルエステルから誘導した(R)−4,4−ジエトキシ−
2−ベンジルオキシブタンとの比較により行った。
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンゾイル体の保持時間:
(S)体 6.5分、(R)体 7.1分)) なお、絶対立体配置の決定は、得られた光学活性4,4
−ジエトキシ−2−ブタノールを塩化ベンジルおよびN
aHでベンジル化した、4,4−ジエトキシ−2−ベン
ジルオキシブタンと、(R)−3−ヒドロキシ酪酸メチ
ルエステルから誘導した(R)−4,4−ジエトキシ−
2−ベンジルオキシブタンとの比較により行った。
【0045】ベンジル体は、以下の高速液体クロマトグ
ラフィー条件で測定した。
ラフィー条件で測定した。
【0046】(カラム:ダイセル化学工業製キラルセル
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンジル体の保持時間:(R)
体 6.2分、(S)体 7.6分))得られた結果を
表8に示す。
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンジル体の保持時間:(R)
体 6.2分、(S)体 7.6分))得られた結果を
表8に示す。
【0047】
【表8】 微生物 絶対 % 残存率 配置 ee (%) シュードモナス・エスピー R 30 16 (Pseudomonas sp.)TRP-13 シュードモナス・プチダ S 98 22 (Pseudomonas putida)TRP-7 (実施例3)実施例1と同様に、α−メチル−1,3−
ジオキソラン−2−エタノールのラセミ体を用いて実施
した。
ジオキソラン−2−エタノールのラセミ体を用いて実施
した。
【0048】残存濃度は、反応液の遠心分離上澄液を以
下のガスクロマトグラフィー条件で測定して求めた。
下のガスクロマトグラフィー条件で測定して求めた。
【0049】(カラム:FAL−M(2m)、インジェ
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、α−
メチル−1,3−ジオキソラン−2−エタノールの保持
時間:20.6分)異性体過剰率(%ee)は、ベンゾ
イル体を以下の高速液体クロマトグラフィー条件で測定
して求めた。
クション温度:200℃、カラム温度:140℃、α−
メチル−1,3−ジオキソラン−2−エタノールの保持
時間:20.6分)異性体過剰率(%ee)は、ベンゾ
イル体を以下の高速液体クロマトグラフィー条件で測定
して求めた。
【0050】(カラム:ダイセル化学工業製キラルセル
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンゾイル体の保持時間:
(S)体 16.3分、(R)体18.2分) なお、絶対立体配置の決定は、得られた光学活性α−メ
チル−1,3−ジオキソラン−2−エタノールを塩化ベ
ンジルおよびNaHでベンジル化した、2−(2−ベン
ジルオキシプロピル)−1,3−ジオキソランと、
(R)−3−ヒドロキシ酪酸メチルエステルから誘導し
た(R)−2−(2−ベンジルオキシプロピル)−1,
3−ジオキソランとの比較により行った。
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンゾイル体の保持時間:
(S)体 16.3分、(R)体18.2分) なお、絶対立体配置の決定は、得られた光学活性α−メ
チル−1,3−ジオキソラン−2−エタノールを塩化ベ
ンジルおよびNaHでベンジル化した、2−(2−ベン
ジルオキシプロピル)−1,3−ジオキソランと、
(R)−3−ヒドロキシ酪酸メチルエステルから誘導し
た(R)−2−(2−ベンジルオキシプロピル)−1,
3−ジオキソランとの比較により行った。
【0051】ベンジル体は、以下の高速液体クロマトグ
ラフィー条件で測定した。
ラフィー条件で測定した。
【0052】(カラム:ダイセル化学工業製キラルセル
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンジル体の保持時間:(S)
体 12.9分、(R)体 15.4分)得られた結果
を表9に示す。
OD−H、溶媒:n−ヘキサン:2−プロパノール=2
50:1、波長:254nm、流速:1.0ml/mi
n、カラム温度:室温、ベンジル体の保持時間:(S)
体 12.9分、(R)体 15.4分)得られた結果
を表9に示す。
【0053】
【表9】 微生物 絶対 % 残存率 配置 ee (%) シュードモナス・エスピー R 64 36 (Pseudomonas sp.)TRP-13
【0054】
【発明の効果】本発明の微生物を用いた光学活性な式
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールの製造方法は、簡便に光学純度の高い光
学活性な式(1)又は式(2)で示される4,4−ジア
ルコキシ−2−ブタノールを製造することができる。
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールの製造方法は、簡便に光学純度の高い光
学活性な式(1)又は式(2)で示される4,4−ジア
ルコキシ−2−ブタノールを製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI (C12P 41/00 C12R 1:40) (C12P 41/00 C12R 1:645)
Claims (8)
- 【請求項1】 ピキア・オプンティア バライティー・
サーモトレランス(Pichia opuntiae var thermotolera
ns) 、ピキア・トレタナ(Pichia toletana)、シュード
モナス・ディミヌタ(Pseudomonas diminuta)、TRP-13
が属するシュードモナス・エスピー(Pseudomonas s
p.)、トリコスポロン・キャピテータム(Trichosporo
n capitatum)のいずれかの種に属する微生物を、式
(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−
2−ブタノールのエナンチオマー混合物に作用させて、
式(1)又は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ
−2−ブタノールの2位の(R)体を、式(1)又は
(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノー
ルの(S)体よりも多く残存させることを特徴とする光
学活性な4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造
方法。 【化1】 - 【請求項2】 ピキア・ファリノサ(Pichia farinosa
)、シュードモナス・プチダ(Pseudomonas putid
a)、トリコスポロン・クタネウム(Trichosporoncutan
eum )のいずれかの種に属する微生物を、式(1)又は
式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノ
ールのエナンチオマー混合物に作用させて、式(1)又
は式(2)で示される4,4−ジアルコキシ−2−ブタ
ノールの2位の(S)体を、式(1)又は式(2)で示
される4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの(R)
体よりも多く残存させることを特徴とする光学活性な
4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造方法。 【化2】 - 【請求項3】 4,4−ジアルコキシ−2−ブタノール
が式(1)で示されるものである請求項1記載の製造方
法。 【化3】 - 【請求項4】 R1 、R2 がメチル基またはエチル基で
ある請求項3記載の製造方法。 - 【請求項5】 4,4−ジアルコキシ−2−ブタノール
が式(2)で示されるものである請求項1記載の製造方
法。 【化4】 - 【請求項6】 Aがエチレン基である請求項5記載の製
造方法。 - 【請求項7】 4,4−ジアルコキシ−2−ブタノール
が式(1)で示されるものである請求項2記載の製造方
法。 【化5】 - 【請求項8】 R1 、R2 がメチル基またはエチル基で
ある請求項7記載の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33687293A JP3124427B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP33687293A JP3124427B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 光学活性な4,4−ジアルコキシ−2−ブタノールの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH07184684A JPH07184684A (ja) | 1995-07-25 |
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1993
- 1993-12-28 JP JP33687293A patent/JP3124427B2/ja not_active Expired - Fee Related
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