JP3098799B2 - 工程離型紙 - Google Patents
工程離型紙Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は工程離型紙、特に玉
虫光沢を有する合成皮革製造に用いられる工程離型紙に
関する。
虫光沢を有する合成皮革製造に用いられる工程離型紙に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から製造されている合成皮革には、
工程離型紙上にペースト状のポリウレタン（ＰＵ）樹脂
を塗布し、乾燥・固化した後に基材と貼合したＰＵレザ
ー、工程離型紙上にペースト状のＰＵ樹脂を塗布して乾
燥・固化した後、ＰＶＣ発泡層を形成して基材と貼合し
たセミ合皮、および工程離型紙上に塩化ビニル（ＰＶ
Ｃ）樹脂ゾルを塗布し、加熱・ゲル化した後にＰＶＣ発
泡層を形成して基材と貼合したＰＶＣレザー等がある。
工程離型紙上にペースト状のポリウレタン（ＰＵ）樹脂
を塗布し、乾燥・固化した後に基材と貼合したＰＵレザ
ー、工程離型紙上にペースト状のＰＵ樹脂を塗布して乾
燥・固化した後、ＰＶＣ発泡層を形成して基材と貼合し
たセミ合皮、および工程離型紙上に塩化ビニル（ＰＶ
Ｃ）樹脂ゾルを塗布し、加熱・ゲル化した後にＰＶＣ発
泡層を形成して基材と貼合したＰＶＣレザー等がある。
【０００３】従来、このような合成皮革の合成樹脂層表
面に玉虫光沢を付与する場合、基材に形成された合成樹
脂層上に蒸着プライマー層を形成し、この蒸着プライマ
ー層上に金属蒸着層を設け、さらに金属蒸着層上に透明
樹脂薄膜層を形成することが一般に行われていた。
面に玉虫光沢を付与する場合、基材に形成された合成樹
脂層上に蒸着プライマー層を形成し、この蒸着プライマ
ー層上に金属蒸着層を設け、さらに金属蒸着層上に透明
樹脂薄膜層を形成することが一般に行われていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように合成樹脂層表面に蒸着プライマー層、金属蒸着層
および透明樹脂薄膜層を形成することにより、製造工程
が煩雑になるとともに、原材料ロスが増加して製造コス
トの増大を来していた。また、上記の各層は塗布および
蒸着により形成されていることから、塗布ムラ、蒸着ム
ラ、各層の脱落等により合成皮革の外観が著しく損なわ
れるとともに、各層の均一化、安定化は技術的に困難で
あるという製造上の問題もあった。
ように合成樹脂層表面に蒸着プライマー層、金属蒸着層
および透明樹脂薄膜層を形成することにより、製造工程
が煩雑になるとともに、原材料ロスが増加して製造コス
トの増大を来していた。また、上記の各層は塗布および
蒸着により形成されていることから、塗布ムラ、蒸着ム
ラ、各層の脱落等により合成皮革の外観が著しく損なわ
れるとともに、各層の均一化、安定化は技術的に困難で
あるという製造上の問題もあった。
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、工程離型紙による合成皮革製造と同時に
合成皮革に玉虫光沢を付与することのできる工程離型紙
を提供することを目的とする。
たものであり、工程離型紙による合成皮革製造と同時に
合成皮革に玉虫光沢を付与することのできる工程離型紙
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の工程離型紙は基材と、該基材の少な
くとも一方の面に設けられた離型層とを有し、前記離型
層の表面には、０．１〜５μｍの大きさの微細凹凸によ
る光学的干渉模様が形成されている構成とし、また、前
記の微細凹凸による光学的干渉模様が、ホログラム複製
シートまたはホログラム複製彫刻の微細凹凸に対応して
転写形成されてなる構成とした。
るために、本発明の工程離型紙は基材と、該基材の少な
くとも一方の面に設けられた離型層とを有し、前記離型
層の表面には、０．１〜５μｍの大きさの微細凹凸によ
る光学的干渉模様が形成されている構成とし、また、前
記の微細凹凸による光学的干渉模様が、ホログラム複製
シートまたはホログラム複製彫刻の微細凹凸に対応して
転写形成されてなる構成とした。
【０００７】
【作用】工程離型紙は基材の上に離型層を備えており、
この離型層表面には微細凹凸が形成されているため、こ
の工程離型紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造す
る際に、同時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、こ
の微細凹凸によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
この離型層表面には微細凹凸が形成されているため、こ
の工程離型紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造す
る際に、同時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、こ
の微細凹凸によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の工程離型紙の一例を示す概
略断面図である。図１において工程離型紙１は基材２の
片面に離型層３を備え、この離型層３の表面には微細凹
凸４が形成されている。
て説明する。図１は本発明の工程離型紙の一例を示す概
略断面図である。図１において工程離型紙１は基材２の
片面に離型層３を備え、この離型層３の表面には微細凹
凸４が形成されている。
【０００９】基材２としては、クラフト紙、上質紙等の
紙、プラスチックフィルム、金属箔、織布、不織布等、
あるいはこれらの積層体を使用することができる。ま
た、基材２の離型層３形成側の面は、基材２と離型層３
との接着性を高めるために予め加熱あるいはコロナ放電
処理を施してもよい。離型層３の形成には、紫外線硬化
または電子線硬化可能なアクリル系樹脂、ポリエチレン
系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリメチルペンテン系
樹脂等の公知の熱可塑性樹脂を使用することができ、合
成皮革用表面樹脂との離型性を考慮して選定することが
できる。
紙、プラスチックフィルム、金属箔、織布、不織布等、
あるいはこれらの積層体を使用することができる。ま
た、基材２の離型層３形成側の面は、基材２と離型層３
との接着性を高めるために予め加熱あるいはコロナ放電
処理を施してもよい。離型層３の形成には、紫外線硬化
または電子線硬化可能なアクリル系樹脂、ポリエチレン
系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリメチルペンテン系
樹脂等の公知の熱可塑性樹脂を使用することができ、合
成皮革用表面樹脂との離型性を考慮して選定することが
できる。
【００１０】ここで、表面に微細凹凸４を備えた離型層
３の形成について説明する。図２は離型層３の形成方法
の一例を示す図である。図２において、基材２上には離
型層用の樹脂が塗布され、この離型層用の樹脂が未硬化
の状態でホログラム複製シート５が樹脂面に圧着される
とともに、紫外線または電子線が照射される。これによ
り、基材２上の離型層用樹脂が硬化されて離型層３が形
成されると同時に、この離型層３の表面にはホログラム
複製シート５の微細凹凸に対応した微細凹凸が転写形成
される。使用するホログラム複製シート５は、例えばホ
ログラムのプレスマスタ版のレリーフ面に離型処理を行
った後に金属メッキを施し、この金属膜を剥離して形成
したレリーフ版を用いて熱可塑性樹脂シートを熱プレス
して形成することができる。
３の形成について説明する。図２は離型層３の形成方法
の一例を示す図である。図２において、基材２上には離
型層用の樹脂が塗布され、この離型層用の樹脂が未硬化
の状態でホログラム複製シート５が樹脂面に圧着される
とともに、紫外線または電子線が照射される。これによ
り、基材２上の離型層用樹脂が硬化されて離型層３が形
成されると同時に、この離型層３の表面にはホログラム
複製シート５の微細凹凸に対応した微細凹凸が転写形成
される。使用するホログラム複製シート５は、例えばホ
ログラムのプレスマスタ版のレリーフ面に離型処理を行
った後に金属メッキを施し、この金属膜を剥離して形成
したレリーフ版を用いて熱可塑性樹脂シートを熱プレス
して形成することができる。
【００１１】図３は離型層３の形成方法の他の一例を示
す図である。図３において、Ｔダイ６から薄膜状に押し
出された離型層用の溶融樹脂は、基材２とラミネートさ
れクーリングロール７およびニップロール８とによって
押圧・冷却されて工程離型紙に形成されるが、この際、
クーリングロール７はホログラム複製シートが周面に配
設されたもの、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施
されたものであるため、基材２に離型層３が形成される
と同時に微細凹凸４が離型層３の表面に形成される。
す図である。図３において、Ｔダイ６から薄膜状に押し
出された離型層用の溶融樹脂は、基材２とラミネートさ
れクーリングロール７およびニップロール８とによって
押圧・冷却されて工程離型紙に形成されるが、この際、
クーリングロール７はホログラム複製シートが周面に配
設されたもの、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施
されたものであるため、基材２に離型層３が形成される
と同時に微細凹凸４が離型層３の表面に形成される。
【００１２】また、図４は離型層３の形成方法の他の一
例を示す図である。図４において、離型層３が設けられ
た基材２は、周面にホログラム複製シートが配設されて
いるか、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施された
エンボスロール１０とバックアップロール１１との間に
送られて離型層３にエンボス加工が施される。これによ
り、離型層３の表面にはエンボスロール１０の微細凹凸
に対応した微細凹凸が形成される。
例を示す図である。図４において、離型層３が設けられ
た基材２は、周面にホログラム複製シートが配設されて
いるか、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施された
エンボスロール１０とバックアップロール１１との間に
送られて離型層３にエンボス加工が施される。これによ
り、離型層３の表面にはエンボスロール１０の微細凹凸
に対応した微細凹凸が形成される。
【００１３】このようにして形成される離型層３の厚さ
は２０〜５０μｍ程度が好ましく、また離型層３の表面
に形成される微細凹凸４の大きさ（図１における凸部４
ａから凹部４ｂまでの深さ）Ａは０．１〜５μｍ程度が
好ましい。図５は本発明の工程離型紙の他の一例を示す
概略断面図である。図５において工程離型紙２１は基材
２２の片面に離型層２３を備え他の面に離型層２５を備
えている。そして、離型層２３の表面には微細凹凸２４
が形成され、離型層２５の表面には微細凹凸２６が形成
されている。この場合、基材２２の両面に形成された離
型層２３と離型層２５の厚みは略同等であることが好ま
しい。
は２０〜５０μｍ程度が好ましく、また離型層３の表面
に形成される微細凹凸４の大きさ（図１における凸部４
ａから凹部４ｂまでの深さ）Ａは０．１〜５μｍ程度が
好ましい。図５は本発明の工程離型紙の他の一例を示す
概略断面図である。図５において工程離型紙２１は基材
２２の片面に離型層２３を備え他の面に離型層２５を備
えている。そして、離型層２３の表面には微細凹凸２４
が形成され、離型層２５の表面には微細凹凸２６が形成
されている。この場合、基材２２の両面に形成された離
型層２３と離型層２５の厚みは略同等であることが好ま
しい。
【００１４】尚、離型層２３，２５の厚さ、および微細
凹部２４，２６の大きさは上記の実施例と同様の範囲に
あればよい。次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例） 基材としてコート紙（坪量＝１２７．９ｇ／ｍ2 ）に紫
外線硬化型アクリル系樹脂（三菱油化製ユピマー）を乾
燥重量で１５ｇ／ｍ2 となるように塗布し、図２に示さ
れるようにしてアクリル系樹脂塗布面にホログラム複製
シートを密着し、この状態で紫外線を照射してアクリル
系樹脂を硬化させた。その後、ホログラム複製シートを
剥離して基材上に離型層が設けられた工程離型紙を形成
した。この離型層の表面にはホログラム複製シートの微
細凹凸に対応した光学的干渉模様が形成されていた。
凹部２４，２６の大きさは上記の実施例と同様の範囲に
あればよい。次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例） 基材としてコート紙（坪量＝１２７．９ｇ／ｍ2 ）に紫
外線硬化型アクリル系樹脂（三菱油化製ユピマー）を乾
燥重量で１５ｇ／ｍ2 となるように塗布し、図２に示さ
れるようにしてアクリル系樹脂塗布面にホログラム複製
シートを密着し、この状態で紫外線を照射してアクリル
系樹脂を硬化させた。その後、ホログラム複製シートを
剥離して基材上に離型層が設けられた工程離型紙を形成
した。この離型層の表面にはホログラム複製シートの微
細凹凸に対応した光学的干渉模様が形成されていた。
【００１５】また、図３に示されるようにして基材とし
てのクラフト紙（坪量＝１２５ｇ／ｍ2 ）にポリプロピ
レン系樹脂を押出しコート（コート量＝２７ｇ／ｍ2 ）
し、ホログラム複製シートが周面に配設されたクーリン
グロールを用いて基材とポリプロピレン系樹脂とをラミ
ネートして工程離型紙を形成した。この離型層の表面に
はクーリングロールに設けられたホログラム複製シート
の微細凹凸に対応した微細凹凸（光学的干渉模様）が形
成されていた。
てのクラフト紙（坪量＝１２５ｇ／ｍ2 ）にポリプロピ
レン系樹脂を押出しコート（コート量＝２７ｇ／ｍ2 ）
し、ホログラム複製シートが周面に配設されたクーリン
グロールを用いて基材とポリプロピレン系樹脂とをラミ
ネートして工程離型紙を形成した。この離型層の表面に
はクーリングロールに設けられたホログラム複製シート
の微細凹凸に対応した微細凹凸（光学的干渉模様）が形
成されていた。
【００１６】さらに、基材としてのクラフト紙（坪量＝
１２５ｇ／ｍ2 ）上にポリプロピレン系樹脂を押出しコ
ート（コート量＝２７ｇ／ｍ2 ）して積層シートを形成
した。この積層シートに対して、図４に示されるように
してホログラム複製シートが周面に配設されたエンボス
ロールを用いてエンボス加工を行った。これにより、エ
ンボスロールに設けられたホログラム複製シートの微細
凹凸に対応した光学的干渉模様が形成された離型層を有
する工程離型紙が得られた。
１２５ｇ／ｍ2 ）上にポリプロピレン系樹脂を押出しコ
ート（コート量＝２７ｇ／ｍ2 ）して積層シートを形成
した。この積層シートに対して、図４に示されるように
してホログラム複製シートが周面に配設されたエンボス
ロールを用いてエンボス加工を行った。これにより、エ
ンボスロールに設けられたホログラム複製シートの微細
凹凸に対応した光学的干渉模様が形成された離型層を有
する工程離型紙が得られた。
【００１７】次に、上記のようにして形成した各工程離
型紙を用いて合成皮革を作成した。すなわち、各工程離
型紙の離型層上にペースト状のポリウレタン樹脂（大日
精化製ＮＥ−３０８）を塗布（塗布量＝３０ｇ／ｍ2 ）
し、１２０℃で乾燥・固化した後に基材（特殊基布）と
貼合してポリウレタンレザーを作成した。このポリウレ
タンレザーには玉虫光沢がみとめられた。
型紙を用いて合成皮革を作成した。すなわち、各工程離
型紙の離型層上にペースト状のポリウレタン樹脂（大日
精化製ＮＥ−３０８）を塗布（塗布量＝３０ｇ／ｍ2 ）
し、１２０℃で乾燥・固化した後に基材（特殊基布）と
貼合してポリウレタンレザーを作成した。このポリウレ
タンレザーには玉虫光沢がみとめられた。
【００１８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば工
程離型紙は基材の上に離型層を備えており、この離型層
表面には微細凹凸が形成されているため、この工程離型
紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造する際に、同
時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、この微細凹凸
によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
程離型紙は基材の上に離型層を備えており、この離型層
表面には微細凹凸が形成されているため、この工程離型
紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造する際に、同
時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、この微細凹凸
によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
【図１】本発明の工程離型紙の一例を示す概略断面図で
ある。
ある。
【図２】図２は離型層の形成方法の一例を示す図であ
る。
る。
【図３】図３は離型層の形成方法の他の一例を示す図で
ある。
ある。
【図４】図４は離型層の形成方法の他の一例を示す図で
ある。
ある。
【図５】本発明の工程離型紙の他の一例を示す概略断面
図である。
図である。
１，２１…工程離型紙 ２，２２…基材 ３，２３，２５…離型層 ４，２４，２６…微細凹凸
フロントページの続き (72)発明者 井元 義典 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭49−81501（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−19981（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) D06N 3/00 DAC B32B 27/00 D21H 27/00 D21H 27/02
Claims (2)
- 【請求項１】 基材と、該基材の少なくとも一方の面に
設けられた離型層とを有し、前記離型層の表面には、
０．１〜５μｍの大きさの微細凹凸による光学的干渉模
様が形成されていることを特徴とする工程離型紙。 - 【請求項２】 前記の微細凹凸による光学的干渉模様
が、ホログラム複製シートまたはホログラム複製彫刻の
微細凹凸に対応して転写形成されてなることを特徴とす
る請求項１に記載の工程離型紙。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03136753A JP3098799B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 工程離型紙 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03136753A JP3098799B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 工程離型紙 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04361671A JPH04361671A (ja) | 1992-12-15 |
| JP3098799B2 true JP3098799B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=15182699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03136753A Expired - Fee Related JP3098799B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 工程離型紙 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3098799B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10168761A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-23 | Fuji Techno Kk | 湿式合成皮革製造用工程紙並びに応用加工方法 |
| JP4712998B2 (ja) * | 2001-03-27 | 2011-06-29 | 大日本印刷株式会社 | 離型紙 |
| JP2006264265A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 工程離型材 |
| JP4943006B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2012-05-30 | セーレン株式会社 | シート材およびその製造方法 |
| KR101242330B1 (ko) * | 2009-12-30 | 2013-03-12 | (주)엘지하우시스 | 이형필름 및 이의 제조방법 |
| KR102011187B1 (ko) * | 2017-01-23 | 2019-08-14 | (주)엘지하우시스 | 금속증착층이 구비된 인조가죽 및 이의 제조방법 |
-
1991
- 1991-06-07 JP JP03136753A patent/JP3098799B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04361671A (ja) | 1992-12-15 |
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