JP3094902B2 - 紫外線照射装置 - Google Patents
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultra-violet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック材、
感熱紙、液晶等、熱による変形、変色等の変化を起こし
易い被処理体の紫外線による接着やインキ等の硬化処理
に用いられる紫外線照射装置に関する。
感熱紙、液晶等、熱による変形、変色等の変化を起こし
易い被処理体の紫外線による接着やインキ等の硬化処理
に用いられる紫外線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、可視域や赤外域の不要放射を
低減化し、被処理体の変形、変色等を抑えながら硬化処
理を行うことができる紫外線照射装置として、(1) 高圧
水銀ランプあるいはメタルハライドランプ等の棒状ラン
プと、コールドミラー（紫外光を反射し、可視光、赤外
光、特に赤外光を透過または吸収する特性を持つミラ
ー）を組み合わせたもの、あるいは、(2) 上記棒状ラン
プと、コールドミラーと、空冷もしくは水冷のコールド
フィルタ（紫外光を透過し、可視光を反射、赤外光の一
部を吸収する特性を持つフィルタ）を組み合わせたもの
が知られている。
低減化し、被処理体の変形、変色等を抑えながら硬化処
理を行うことができる紫外線照射装置として、(1) 高圧
水銀ランプあるいはメタルハライドランプ等の棒状ラン
プと、コールドミラー（紫外光を反射し、可視光、赤外
光、特に赤外光を透過または吸収する特性を持つミラ
ー）を組み合わせたもの、あるいは、(2) 上記棒状ラン
プと、コールドミラーと、空冷もしくは水冷のコールド
フィルタ（紫外光を透過し、可視光を反射、赤外光の一
部を吸収する特性を持つフィルタ）を組み合わせたもの
が知られている。
【０００３】図６は上記(2) のコールドミラーと空冷コ
ールドフィルタを組み合わせた紫外線照射装置から放射
される光のエネルギーを説明する図である。同図におい
て、１は例えば、管径がφ１８ｍｍでその単位長さ当た
りの入力電力が２４０Ｗ／cmの棒状ランプである。棒状
ランプ１は図示しない手段により空冷される。１ａは棒
状ランプのアーク部分であり、同図は、棒状ランプ１
を、その長軸に垂直な面で切った断面図を示している。
２は棒状ランプ１の長軸方向に平行に配置されたトイ状
コールドミラーであり、コールドミラー２は紫外光（Ｕ
Ｖ光）を反射し可視光、赤外光を透過する蒸着膜を施し
たガラス等で形成される。３は平板状コールドフィルタ
であり、コールドフィルタ３は紫外光を透過させ、３〜
４μｍ以上の赤外光を透過させないガラスで形成され
る。なお、コールドフィルタ３は、紫外光を透過させ、
可視光を反射する蒸着膜を施したガラスで形成してもよ
い。Ｗは上記部材から構成される紫外線照射装置からの
放射光が照射されるインキ等が塗布されたワークであ
る。
ールドフィルタを組み合わせた紫外線照射装置から放射
される光のエネルギーを説明する図である。同図におい
て、１は例えば、管径がφ１８ｍｍでその単位長さ当た
りの入力電力が２４０Ｗ／cmの棒状ランプである。棒状
ランプ１は図示しない手段により空冷される。１ａは棒
状ランプのアーク部分であり、同図は、棒状ランプ１
を、その長軸に垂直な面で切った断面図を示している。
２は棒状ランプ１の長軸方向に平行に配置されたトイ状
コールドミラーであり、コールドミラー２は紫外光（Ｕ
Ｖ光）を反射し可視光、赤外光を透過する蒸着膜を施し
たガラス等で形成される。３は平板状コールドフィルタ
であり、コールドフィルタ３は紫外光を透過させ、３〜
４μｍ以上の赤外光を透過させないガラスで形成され
る。なお、コールドフィルタ３は、紫外光を透過させ、
可視光を反射する蒸着膜を施したガラスで形成してもよ
い。Ｗは上記部材から構成される紫外線照射装置からの
放射光が照射されるインキ等が塗布されたワークであ
る。
【０００４】同図に示すように、棒状ランプ１のアーク
部分１ａから放射される光の一部は、コールドミラー２
に入射し、他の一部はコールドフィルタ３に入射する。
また、棒状ランプ１の表面が高温になっているので、こ
こから赤外光が放射され、この赤外光の一部がコールド
ミラー２に入射し、他の一部はコールドフィルタ３に入
射する。そして、コールドミラー２に入射した光の内、
一部の可視光と赤外光はコールドミラー２を透過し、紫
外光（一部可視光、赤外光を含む）がコールドミラー２
で反射されコールドフィルタ３に入射する。また、棒状
ランプ１から放射され直接コールドフィルタ３に入射し
た光の内、一部の可視光はコールドフィルタ３で反射さ
れる。したがって、ワークＷには、同図に示すように、
紫外光、可視光の一部および赤外光の一部が照射され
る。
部分１ａから放射される光の一部は、コールドミラー２
に入射し、他の一部はコールドフィルタ３に入射する。
また、棒状ランプ１の表面が高温になっているので、こ
こから赤外光が放射され、この赤外光の一部がコールド
ミラー２に入射し、他の一部はコールドフィルタ３に入
射する。そして、コールドミラー２に入射した光の内、
一部の可視光と赤外光はコールドミラー２を透過し、紫
外光（一部可視光、赤外光を含む）がコールドミラー２
で反射されコールドフィルタ３に入射する。また、棒状
ランプ１から放射され直接コールドフィルタ３に入射し
た光の内、一部の可視光はコールドフィルタ３で反射さ
れる。したがって、ワークＷには、同図に示すように、
紫外光、可視光の一部および赤外光の一部が照射され
る。
【０００５】ここで、ワークＷに照射される光の内、ワ
ークに塗布されたインキ等の硬化に寄与する光は紫外光
であり、可視光と赤外光はワークの温度を上昇させるも
のの、ワークに塗布されたインキ等の硬化には寄与しな
い。このため、熱による変形、変色等の変化を起こし易
いワークの処理に用いる紫外線照射装置としては、ワー
クに照射される全エネルギーに対して、赤外光＋可視光
の比率が低い（紫外光の比率が高い）ものを用いるのが
望ましい。
ークに塗布されたインキ等の硬化に寄与する光は紫外光
であり、可視光と赤外光はワークの温度を上昇させるも
のの、ワークに塗布されたインキ等の硬化には寄与しな
い。このため、熱による変形、変色等の変化を起こし易
いワークの処理に用いる紫外線照射装置としては、ワー
クに照射される全エネルギーに対して、赤外光＋可視光
の比率が低い（紫外光の比率が高い）ものを用いるのが
望ましい。
【０００６】図６に示した紫外線照射装置においては赤
外放射の低減効果が小さく、波長２５０ｎｍ以上の光の
エネルギー（＝Ａ：これを全光のエネルギーとする）と
波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの光のエネルギー（＝Ｂ：
これを紫外光のエネルギーとする）の比率Ｂ／Ａ（理想
的には、Ｂ／Ａ＝１）は、前記した管径がφ１８ｍｍで
その単位長さ当たりの入力電力が２４０Ｗ／cmの高圧水
銀ランプを用いた場合、概ね０．６９程度となる。ま
た、図６の構成において、コールドフィルタ３を使用し
ない場合（前記(1)の構成）における比率Ｂ／Ａは概ね
０．４７程度となる（ランプ入力が２４０Ｗ／cmの場
合）。一方、前記した(2) の構成の内、コールドミラー
と水冷コールドフィルタを組み合わせたものは、可視光
の低減効果が小さく、比率Ｂ／Ａも上記と同様な値を示
す。さらに、水冷コールドフィルタを用いるので、水冷
のため余分な配管スぺースやユーティリティが必要とな
る。
外放射の低減効果が小さく、波長２５０ｎｍ以上の光の
エネルギー（＝Ａ：これを全光のエネルギーとする）と
波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの光のエネルギー（＝Ｂ：
これを紫外光のエネルギーとする）の比率Ｂ／Ａ（理想
的には、Ｂ／Ａ＝１）は、前記した管径がφ１８ｍｍで
その単位長さ当たりの入力電力が２４０Ｗ／cmの高圧水
銀ランプを用いた場合、概ね０．６９程度となる。ま
た、図６の構成において、コールドフィルタ３を使用し
ない場合（前記(1)の構成）における比率Ｂ／Ａは概ね
０．４７程度となる（ランプ入力が２４０Ｗ／cmの場
合）。一方、前記した(2) の構成の内、コールドミラー
と水冷コールドフィルタを組み合わせたものは、可視光
の低減効果が小さく、比率Ｂ／Ａも上記と同様な値を示
す。さらに、水冷コールドフィルタを用いるので、水冷
のため余分な配管スぺースやユーティリティが必要とな
る。
【０００７】以上のように、前記した(1)(2)のものは、
いずれも３〜４μｍ以下の赤外放射の低減効果が小さ
く、一定以上の紫外ドーズ（紫外光の積算放射照度）を
必要とするワークに対しては、過熱阻止のため、被処理
物自体を冷却する等の手段が必要であった。例えば、薄
いプラスチックフィルム上に紫外線で乾燥するインクで
絵／文字を印刷し乾燥させる場合、フィルムが過熱する
とフィルムにしわ等が発生する。このため、従来におい
ては、上記熱による変形、変色等の変化を起こし易いワ
ークの処理する場合には、冷却手段を設けフィルムを冷
却しながら紫外線を照射していた。
いずれも３〜４μｍ以下の赤外放射の低減効果が小さ
く、一定以上の紫外ドーズ（紫外光の積算放射照度）を
必要とするワークに対しては、過熱阻止のため、被処理
物自体を冷却する等の手段が必要であった。例えば、薄
いプラスチックフィルム上に紫外線で乾燥するインクで
絵／文字を印刷し乾燥させる場合、フィルムが過熱する
とフィルムにしわ等が発生する。このため、従来におい
ては、上記熱による変形、変色等の変化を起こし易いワ
ークの処理する場合には、冷却手段を設けフィルムを冷
却しながら紫外線を照射していた。
【０００８】図７は上記した冷却手段を設けた紫外線照
射装置の構成の一例を示す図である。同図において、Ｗ
は例えば薄いプラスチックフィルム等のワーク、１１，
１１’は高圧水銀ランプとコールドミラーとコールドフ
ィルタを備えた紫外線照射装置、１２は回転ドラムであ
り、ワークＷが同図の矢印方向に進行する際、回転ドラ
ム１２が回転する。また、回転ドラム１２の回転軸１３
はパイプ状に形成され、回転軸１３を介して回転ドラム
１２内に水が供給され、回転ドラム１２を冷却する。上
記構成とすることにより、紫外線照射装置１１，１１’
から照射される光によるワークＷの過熱を抑えながら、
ワークＷを処理することができる。
射装置の構成の一例を示す図である。同図において、Ｗ
は例えば薄いプラスチックフィルム等のワーク、１１，
１１’は高圧水銀ランプとコールドミラーとコールドフ
ィルタを備えた紫外線照射装置、１２は回転ドラムであ
り、ワークＷが同図の矢印方向に進行する際、回転ドラ
ム１２が回転する。また、回転ドラム１２の回転軸１３
はパイプ状に形成され、回転軸１３を介して回転ドラム
１２内に水が供給され、回転ドラム１２を冷却する。上
記構成とすることにより、紫外線照射装置１１，１１’
から照射される光によるワークＷの過熱を抑えながら、
ワークＷを処理することができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の紫外線照射装置は、３〜４μｍ以下の赤外放射の
低減効果が小さく、熱による変形、変色等の変化を起こ
し易いワークを処理する場合には、冷却手段を設け、ワ
ークを冷却しながら処理する必要があった。上記冷却手
段として、例えば、図７に示すものを設ける場合には、
複雑な構造を持つ水冷回転ドラム１２を設置し、該回転
ドラム１２への給排水管を設備しなければならず、設備
コストおよびランニングコストが上昇した。
従来の紫外線照射装置は、３〜４μｍ以下の赤外放射の
低減効果が小さく、熱による変形、変色等の変化を起こ
し易いワークを処理する場合には、冷却手段を設け、ワ
ークを冷却しながら処理する必要があった。上記冷却手
段として、例えば、図７に示すものを設ける場合には、
複雑な構造を持つ水冷回転ドラム１２を設置し、該回転
ドラム１２への給排水管を設備しなければならず、設備
コストおよびランニングコストが上昇した。
【００１０】本発明は上記した従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、簡単な光学系を使用
して、効果的に（紫外光放射エネルギー）／（全光放射
エネルギー）の値を増大させることができ、熱による変
形、変色等の変化を起こし易いワークを処理することが
できる紫外線照射装置を提供することである。
するためになされたものであって、簡単な光学系を使用
して、効果的に（紫外光放射エネルギー）／（全光放射
エネルギー）の値を増大させることができ、熱による変
形、変色等の変化を起こし易いワークを処理することが
できる紫外線照射装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記従来例においては、
棒状ランプ１から放射される光の一部が直接ワークＷに
照射されたり（前記(1) の場合）、棒状ランプ１から放
射される光の一部が直接コールドフィルタ３に入射し、
コールドフィルタ３のみを介した光がワークＷに照射さ
れるため（前記(2) の場合）、全光放射エネルギーに対
する紫外光放射エネルギーの比率が低下したものと考え
られる。そこで、棒状ランプ１から放射された光および
コールドミラー２により反射した光を一旦新たに設けた
コールドミラーに入射させ、該コールドミラーで反射し
た光をワークＷに照射する、もしくは、コールドフィル
タ３を介してワークＷに照射するよう構成すれば（紫外
光放射エネルギー）／（全光放射エネルギー）の値を増
大させることができる。また、棒状ランプ１の冷却を、
コールドミラー２に設けた通風孔より冷却風を棒状ラン
プ１に向けて吹き付ける送風冷却とすれば、通風孔から
空気を吸引して棒状ランプ１を冷却する排風冷却の場合
に比べて少ない風量で冷却を行うことが可能である。さ
らに、送風冷却の場合は、上記新たに設けるコールドミ
ラーをも冷却することが可能となるので、該コールドミ
ラーの温度上昇を抑制できる。また、コールドミラーや
コールドフィルタを平板状とすれば安価になる。
棒状ランプ１から放射される光の一部が直接ワークＷに
照射されたり（前記(1) の場合）、棒状ランプ１から放
射される光の一部が直接コールドフィルタ３に入射し、
コールドフィルタ３のみを介した光がワークＷに照射さ
れるため（前記(2) の場合）、全光放射エネルギーに対
する紫外光放射エネルギーの比率が低下したものと考え
られる。そこで、棒状ランプ１から放射された光および
コールドミラー２により反射した光を一旦新たに設けた
コールドミラーに入射させ、該コールドミラーで反射し
た光をワークＷに照射する、もしくは、コールドフィル
タ３を介してワークＷに照射するよう構成すれば（紫外
光放射エネルギー）／（全光放射エネルギー）の値を増
大させることができる。また、棒状ランプ１の冷却を、
コールドミラー２に設けた通風孔より冷却風を棒状ラン
プ１に向けて吹き付ける送風冷却とすれば、通風孔から
空気を吸引して棒状ランプ１を冷却する排風冷却の場合
に比べて少ない風量で冷却を行うことが可能である。さ
らに、送風冷却の場合は、上記新たに設けるコールドミ
ラーをも冷却することが可能となるので、該コールドミ
ラーの温度上昇を抑制できる。また、コールドミラーや
コールドフィルタを平板状とすれば安価になる。
【００１２】本発明は、上記に基づき、前記課題を次の
ようにして解決する。 （１）棒状ランプと、棒状ランプの長軸方向と平行に配
置され、棒状ランプからの放射光の一部を反射するトイ
状の第１のコールドミラーと、棒状ランプからの放射光
の他の一部と第１のコールドミラーの反射光とを反射す
る第２のコールドミラーとを備え、上記棒状ランプから
放射され第１のコールドミラーで反射した光、および棒
状ランプから放射した光、の内、第２のコールドミラー
で反射された光のみが被処理体に照射されるように、上
記第１のコールドミラー、第２のコールドミラーを配置
し、上記第１のコールドミラーに設けた通風孔より冷却
風を上記棒状ランプに向けて吹き付け、上記棒状ランプ
を効率良く冷却するとともに、上記第２のコールドミラ
ーをも冷却する。 （２）棒状ランプと、棒状ランプの長軸方向と平行に配
置され、棒状ランプからの放射光の一部を反射するトイ
状の第１のコールドミラーと、棒状ランプからの放射光
の他の一部と第１のコールドミラーの反射光とを反射す
る第２のコールドミラーと、上記第２のコールドミラー
による反射光を透過させるコールドフィルタとを備え、
上記棒状ランプから放射され第１のコールドミラーで反
射した光、および棒状ランプから放射した光、の内、第
２のコールドミラーで反射され上記コールドフィルタを
透過した光のみが被処理体に照射されるように、上記第
１のコールドミラー、第２のコールドミラーおよびコー
ルドフィルタを配置し、上記第１のコールドミラーに設
けた通風孔より冷却風を上記棒状ランプに向けて吹き付
け、上記棒状ランプを効率良く冷却するとともに、上記
第２のコールドミラーをも冷却する。本発明の請求項１
〜２の発明においては、上記（１）〜（２）のように構
成したので、（紫外光放射エネルギー）／（全光放射エ
ネルギー）の値を増大させることができ、複雑な構造を
持つ冷却手段を設けることなく、熱による変形、変色等
の変化を起こし易いワークを処理することが可能とな
る。
ようにして解決する。 （１）棒状ランプと、棒状ランプの長軸方向と平行に配
置され、棒状ランプからの放射光の一部を反射するトイ
状の第１のコールドミラーと、棒状ランプからの放射光
の他の一部と第１のコールドミラーの反射光とを反射す
る第２のコールドミラーとを備え、上記棒状ランプから
放射され第１のコールドミラーで反射した光、および棒
状ランプから放射した光、の内、第２のコールドミラー
で反射された光のみが被処理体に照射されるように、上
記第１のコールドミラー、第２のコールドミラーを配置
し、上記第１のコールドミラーに設けた通風孔より冷却
風を上記棒状ランプに向けて吹き付け、上記棒状ランプ
を効率良く冷却するとともに、上記第２のコールドミラ
ーをも冷却する。 （２）棒状ランプと、棒状ランプの長軸方向と平行に配
置され、棒状ランプからの放射光の一部を反射するトイ
状の第１のコールドミラーと、棒状ランプからの放射光
の他の一部と第１のコールドミラーの反射光とを反射す
る第２のコールドミラーと、上記第２のコールドミラー
による反射光を透過させるコールドフィルタとを備え、
上記棒状ランプから放射され第１のコールドミラーで反
射した光、および棒状ランプから放射した光、の内、第
２のコールドミラーで反射され上記コールドフィルタを
透過した光のみが被処理体に照射されるように、上記第
１のコールドミラー、第２のコールドミラーおよびコー
ルドフィルタを配置し、上記第１のコールドミラーに設
けた通風孔より冷却風を上記棒状ランプに向けて吹き付
け、上記棒状ランプを効率良く冷却するとともに、上記
第２のコールドミラーをも冷却する。本発明の請求項１
〜２の発明においては、上記（１）〜（２）のように構
成したので、（紫外光放射エネルギー）／（全光放射エ
ネルギー）の値を増大させることができ、複雑な構造を
持つ冷却手段を設けることなく、熱による変形、変色等
の変化を起こし易いワークを処理することが可能とな
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例を示
す図であり、本実施例は平板状コールドミラー２枚と平
板状コールドフィルタを用いた例を示している。同図に
おいて、１０は紫外線照射装置筐体、１は高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ等の棒状ランプであり、本実
施例ではφ１８ｍｍ以下の管状ランプを使用し、長軸方
向１cm当たり入力電力を２４０Ｗ／cm以上とし送風冷却
した。なお、高圧水銀ランプ１の冷却を送風冷却にした
のは、排風冷却の場合より少ない風量（約１／２以下）
で冷却を行うことが可能であるためである。さらに、送
風冷却の場合は、後に述べる平板状コールドミラー４，
５をも冷却することが可能となるので、コールドミラー
４、５の温度上昇を抑制できる。
す図であり、本実施例は平板状コールドミラー２枚と平
板状コールドフィルタを用いた例を示している。同図に
おいて、１０は紫外線照射装置筐体、１は高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ等の棒状ランプであり、本実
施例ではφ１８ｍｍ以下の管状ランプを使用し、長軸方
向１cm当たり入力電力を２４０Ｗ／cm以上とし送風冷却
した。なお、高圧水銀ランプ１の冷却を送風冷却にした
のは、排風冷却の場合より少ない風量（約１／２以下）
で冷却を行うことが可能であるためである。さらに、送
風冷却の場合は、後に述べる平板状コールドミラー４，
５をも冷却することが可能となるので、コールドミラー
４、５の温度上昇を抑制できる。
【００１４】２はトイ状コールドミラー、３は平板状コ
ールドフィルタ、４，５は平板状コールドミラー、Ｗは
ワークである。トイ状コールドミラー２と紫外線照射装
置筐体１０間には同図太線矢印方向に流れる冷風が供給
され、トイ状コールドミラー２は上記冷風により冷却さ
れる。また、棒状ランプ１は、トイ状コールドミラー２
の頂部から供給され同図の実線矢印方向に流れる冷風に
より冷却される。４，５は平板状コールドミラーであ
り、平板状コールドミラー５には冷却風通過孔５ａが設
けられており、棒状ランプ１を冷却した冷却風は、上記
冷却風通過孔５ａと平板状コールドミラー４，５間の間
隙を介して平板状コールドミラー４，５の裏面と紫外線
照射装置筐体１０間の空間に排出される。そして、上記
棒状ランプを冷却した温風は、外部から供給される冷風
とともに、同図の太線矢印方向に流れて外部に排出され
る。さらに、遮光板Ｓ１には冷却風透過孔ｈ１が設けら
れており、コールドフィルタ３は冷却風透過孔ｈ１を介
して流れる冷風により冷却され２００°Ｃ以下に保持さ
れる。
ールドフィルタ、４，５は平板状コールドミラー、Ｗは
ワークである。トイ状コールドミラー２と紫外線照射装
置筐体１０間には同図太線矢印方向に流れる冷風が供給
され、トイ状コールドミラー２は上記冷風により冷却さ
れる。また、棒状ランプ１は、トイ状コールドミラー２
の頂部から供給され同図の実線矢印方向に流れる冷風に
より冷却される。４，５は平板状コールドミラーであ
り、平板状コールドミラー５には冷却風通過孔５ａが設
けられており、棒状ランプ１を冷却した冷却風は、上記
冷却風通過孔５ａと平板状コールドミラー４，５間の間
隙を介して平板状コールドミラー４，５の裏面と紫外線
照射装置筐体１０間の空間に排出される。そして、上記
棒状ランプを冷却した温風は、外部から供給される冷風
とともに、同図の太線矢印方向に流れて外部に排出され
る。さらに、遮光板Ｓ１には冷却風透過孔ｈ１が設けら
れており、コールドフィルタ３は冷却風透過孔ｈ１を介
して流れる冷風により冷却され２００°Ｃ以下に保持さ
れる。
【００１５】図２はトイ状コールドミラー２の分光反射
率の一例を示す図であり、トイ状コールドミラー２は同
図に示すように、略２００ｎｍ〜５００ｎｍの紫外光を
反射し、可視光、赤外光を透過させる。また、平板状コ
ールドミラー４，５も上記トイ状コールドミラー２の分
光反射率と同様な特性を持つ。図３は平板状コールドフ
ィルタ３の分光透過率の一例を示す図であり、コールド
フィルタ３は、略２００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外光を透
過させ、略４５０ｎｍ〜６００ｎｍの可視光を反射させ
る。
率の一例を示す図であり、トイ状コールドミラー２は同
図に示すように、略２００ｎｍ〜５００ｎｍの紫外光を
反射し、可視光、赤外光を透過させる。また、平板状コ
ールドミラー４，５も上記トイ状コールドミラー２の分
光反射率と同様な特性を持つ。図３は平板状コールドフ
ィルタ３の分光透過率の一例を示す図であり、コールド
フィルタ３は、略２００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外光を透
過させ、略４５０ｎｍ〜６００ｎｍの可視光を反射させ
る。
【００１６】図１において、棒状ランプ１から放射され
た光の一部はトイ状コールドミラー２に入射し、他の一
部は平板状コールドミラー４，５に入射する。トイ状コ
ールドミラー２に入射した光の内、一部の可視光と赤外
光は前記したようにトイ状コールドミラー２を透過し、
紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）がトイ状コール
ドミラー２で反射され、平板状コールドミラー４，５に
入射する。そして、その反射光がコールドフィルタ３に
入射し、コールドフィルタ３において可視光の一部が反
射され、他の光がワークＷに入射する。一方、棒状ラン
プ１から放射され直接コールドミラー４，５に入射した
光の内、一部の可視光と赤外光はコールドミラー４，５
を透過し、紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）が平
板状コールドミラー４，５で反射される。平板状コール
ドミラー４，５で反射した紫外光（一部の可視光と赤外
光を含む）は更にコールドフィルタ３に入射し、コール
ドフィルタ３において可視光の一部が反射され、他の光
がワークＷに入射する。
た光の一部はトイ状コールドミラー２に入射し、他の一
部は平板状コールドミラー４，５に入射する。トイ状コ
ールドミラー２に入射した光の内、一部の可視光と赤外
光は前記したようにトイ状コールドミラー２を透過し、
紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）がトイ状コール
ドミラー２で反射され、平板状コールドミラー４，５に
入射する。そして、その反射光がコールドフィルタ３に
入射し、コールドフィルタ３において可視光の一部が反
射され、他の光がワークＷに入射する。一方、棒状ラン
プ１から放射され直接コールドミラー４，５に入射した
光の内、一部の可視光と赤外光はコールドミラー４，５
を透過し、紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）が平
板状コールドミラー４，５で反射される。平板状コール
ドミラー４，５で反射した紫外光（一部の可視光と赤外
光を含む）は更にコールドフィルタ３に入射し、コール
ドフィルタ３において可視光の一部が反射され、他の光
がワークＷに入射する。
【００１７】トイ状コールドミラー２、平板状コールド
ミラー４，５は例えば図２に示す分光反射率を持ち、ま
た、コールドフィルタ３は例えば図３に示す分光透過率
を持つので、上記構成とすることにより、ワークＷに照
射される光の赤外光、可視光成分を大きく低減化させる
ことができる。すなわち、本実施例においては、棒状ラ
ンプ１から放射された光が、直接コールドフィルタ３を
介してワークＷに照射されることがないので、ワークＷ
に照射される光の赤外光、可視光成分を低減化させるこ
とができ、前記した比Ｂ／Ａを大きくすることができ
る。なお、コールドフィルタ３、コールドミラー４，５
を平板状としたので、各々を安価に製作することができ
る。
ミラー４，５は例えば図２に示す分光反射率を持ち、ま
た、コールドフィルタ３は例えば図３に示す分光透過率
を持つので、上記構成とすることにより、ワークＷに照
射される光の赤外光、可視光成分を大きく低減化させる
ことができる。すなわち、本実施例においては、棒状ラ
ンプ１から放射された光が、直接コールドフィルタ３を
介してワークＷに照射されることがないので、ワークＷ
に照射される光の赤外光、可視光成分を低減化させるこ
とができ、前記した比Ｂ／Ａを大きくすることができ
る。なお、コールドフィルタ３、コールドミラー４，５
を平板状としたので、各々を安価に製作することができ
る。
【００１８】図４は(1) 従来の紫外線照射装置を示す図
６においてトイ状コールドミラーと平板状コールドフィ
ルタを用いた場合、(2) 図６においてトイ状コールドミ
ラーのみを用いた場合、(3) 上記図１に示したようにト
イ状コールドミラーと、平板状コールドミラーと、平板
状コールドフィルタを用いた場合、および、(4) 図１に
おいてトイ状コールドミラーと平板状コールドミラーの
みを用いた場合における前記比率Ｂ／Ａを示す図であ
る。なお、同図はランプの単位長さ当たりの入力電力が
２４０Ｗ／cmであって、比率Ｂ／ＡにおけるＡとして波
長２５０ｎｍ〜∞の光の全エネルギー、Ｂとして波長２
５０ｎｍ〜４００ｎｍの光のエネルギーを用いて求めて
いる。同図に示すように、上記(1) の場合の比率はＢ／
Ａ＝０．６９であり、(2) の場合の比率はＢ／Ａ＝０．
４７であった。一方、本実施例の上記(3) の場合の比率
はＢ／Ａ＝０．７８、上記(4) の場合の比率はＢ／Ａ＝
０．６０であった。すなわち、本実施例（上記(3) ）に
おいては、従来のトイ状コールドミラーと平板状コール
ドフィルタを用いる場合（上記(1) ）に比べ、比率Ｂ／
Ａを約１３％向上させることができた。また、本実施例
においてトイ状コールドミラーと平板状コールドミラー
のみを用いる場合（上記(4) ）は、従来のトイ状コール
ドミラーのみを用いる場合（上記(2) ）に比べ、比率Ｂ
／Ａを約２８％向上させることができた。
６においてトイ状コールドミラーと平板状コールドフィ
ルタを用いた場合、(2) 図６においてトイ状コールドミ
ラーのみを用いた場合、(3) 上記図１に示したようにト
イ状コールドミラーと、平板状コールドミラーと、平板
状コールドフィルタを用いた場合、および、(4) 図１に
おいてトイ状コールドミラーと平板状コールドミラーの
みを用いた場合における前記比率Ｂ／Ａを示す図であ
る。なお、同図はランプの単位長さ当たりの入力電力が
２４０Ｗ／cmであって、比率Ｂ／ＡにおけるＡとして波
長２５０ｎｍ〜∞の光の全エネルギー、Ｂとして波長２
５０ｎｍ〜４００ｎｍの光のエネルギーを用いて求めて
いる。同図に示すように、上記(1) の場合の比率はＢ／
Ａ＝０．６９であり、(2) の場合の比率はＢ／Ａ＝０．
４７であった。一方、本実施例の上記(3) の場合の比率
はＢ／Ａ＝０．７８、上記(4) の場合の比率はＢ／Ａ＝
０．６０であった。すなわち、本実施例（上記(3) ）に
おいては、従来のトイ状コールドミラーと平板状コール
ドフィルタを用いる場合（上記(1) ）に比べ、比率Ｂ／
Ａを約１３％向上させることができた。また、本実施例
においてトイ状コールドミラーと平板状コールドミラー
のみを用いる場合（上記(4) ）は、従来のトイ状コール
ドミラーのみを用いる場合（上記(2) ）に比べ、比率Ｂ
／Ａを約２８％向上させることができた。
【００１９】以上のように、本実施例においては、本実
施例とランプ入力が等しい従来例と比較して比率Ｂ／Ａ
が増大し、可視・赤外域の光、特に赤外域光の放射を低
減することができたので、熱による変形、変色等の変化
を起こしやすいワークをワーク用の冷却手段を用いるこ
となく処理することが可能となった。また、送風冷却に
より効率的にランプの冷却ができるようになったので、
ランプ入力の増大化が可能となった。これにより、耐熱
性の比較的良いワークに対しては可視・赤外光の放射を
低減できた分、さらにランプ入力を増大させても該ワー
クに熱的悪影響を与えず、強度のより大きい紫外線を照
射することができ、処理時間を短縮することが可能とな
った。
施例とランプ入力が等しい従来例と比較して比率Ｂ／Ａ
が増大し、可視・赤外域の光、特に赤外域光の放射を低
減することができたので、熱による変形、変色等の変化
を起こしやすいワークをワーク用の冷却手段を用いるこ
となく処理することが可能となった。また、送風冷却に
より効率的にランプの冷却ができるようになったので、
ランプ入力の増大化が可能となった。これにより、耐熱
性の比較的良いワークに対しては可視・赤外光の放射を
低減できた分、さらにランプ入力を増大させても該ワー
クに熱的悪影響を与えず、強度のより大きい紫外線を照
射することができ、処理時間を短縮することが可能とな
った。
【００２０】図５は本発明の第２の実施例を示す図であ
り、本実施例は平板状コールドミラーを３枚用いた例を
示している。同図において、前記図１に示したものと同
一のものには同一の符号が付されており、本実施例にお
いては、平板状コールドミラー４’が追加され、また、
平板状コールドミラー５の下部が開放され、その部分に
遮光板Ｓ２が設けられている。さらに、トイ状コールド
ミラー２の開口部がやや上向きに配置されている。そし
て、図１と同様、トイ状コールドミラー２と紫外線照射
装置筐体１０間には同図太線矢印方向に流れる冷風が供
給され、トイ状コールドミラー２は上記冷風により冷却
される。また、棒状ランプ１は、トイ状コールドミラー
２の頂部から供給され同図の実線矢印方向に流れる冷風
により冷却される。
り、本実施例は平板状コールドミラーを３枚用いた例を
示している。同図において、前記図１に示したものと同
一のものには同一の符号が付されており、本実施例にお
いては、平板状コールドミラー４’が追加され、また、
平板状コールドミラー５の下部が開放され、その部分に
遮光板Ｓ２が設けられている。さらに、トイ状コールド
ミラー２の開口部がやや上向きに配置されている。そし
て、図１と同様、トイ状コールドミラー２と紫外線照射
装置筐体１０間には同図太線矢印方向に流れる冷風が供
給され、トイ状コールドミラー２は上記冷風により冷却
される。また、棒状ランプ１は、トイ状コールドミラー
２の頂部から供給され同図の実線矢印方向に流れる冷風
により冷却される。
【００２１】棒状ランプ１を冷却した冷却風は、上記平
板状コールドミラー５の下部の開放部から平板状コール
ドミラー４，５の裏面と紫外線照射装置筐体１０間の空
間に排出される。そして、上記棒状ランプを冷却した温
風は、外部から供給される冷風とともに、同図の太線矢
印方向に流れて外部に排出される。遮光板Ｓ１には冷却
風透過孔ｈ１が設けられており、コールドフィルタ３は
冷却風透過孔ｈ１を介して流れる冷風により冷却され
る。さらに、遮光板Ｓ３には冷却風透過孔ｈ２が設けら
れており、平板状コールドミラー４’は冷却風透過孔ｈ
２を介して流れる冷風により冷却される。
板状コールドミラー５の下部の開放部から平板状コール
ドミラー４，５の裏面と紫外線照射装置筐体１０間の空
間に排出される。そして、上記棒状ランプを冷却した温
風は、外部から供給される冷風とともに、同図の太線矢
印方向に流れて外部に排出される。遮光板Ｓ１には冷却
風透過孔ｈ１が設けられており、コールドフィルタ３は
冷却風透過孔ｈ１を介して流れる冷風により冷却され
る。さらに、遮光板Ｓ３には冷却風透過孔ｈ２が設けら
れており、平板状コールドミラー４’は冷却風透過孔ｈ
２を介して流れる冷風により冷却される。
【００２２】図５において、棒状ランプ１から放射され
た光の一部はトイ状コールドミラー２に入射し、他の一
部は平板状コールドミラー４’，４，５に入射する。そ
して、前記したように、トイ状コールドミラー２に入射
した光の内、紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）が
トイ状コールドミラー２で反射され、平板状コールドミ
ラー４’，４，５に入射し、その反射光がコールドフィ
ルタ３に入射する。そして、コールドフィルタ３におい
て可視光の一部が反射され、他の光がワークＷに入射す
る。一方、棒状ランプ１から放射され直接コールドミラ
ー４’，４，５に入射した光の内、紫外光（一部の可視
光と赤外光を含む）が平板状コールドミラー４’，４，
５で反射される。そして、その反射光がコールドフィル
タ３に入射し、コールドフィルタ３において可視光の一
部が反射され、他の光がワークＷに入射する。
た光の一部はトイ状コールドミラー２に入射し、他の一
部は平板状コールドミラー４’，４，５に入射する。そ
して、前記したように、トイ状コールドミラー２に入射
した光の内、紫外光（一部の可視光と赤外光を含む）が
トイ状コールドミラー２で反射され、平板状コールドミ
ラー４’，４，５に入射し、その反射光がコールドフィ
ルタ３に入射する。そして、コールドフィルタ３におい
て可視光の一部が反射され、他の光がワークＷに入射す
る。一方、棒状ランプ１から放射され直接コールドミラ
ー４’，４，５に入射した光の内、紫外光（一部の可視
光と赤外光を含む）が平板状コールドミラー４’，４，
５で反射される。そして、その反射光がコールドフィル
タ３に入射し、コールドフィルタ３において可視光の一
部が反射され、他の光がワークＷに入射する。
【００２３】トイ状コールドミラー２、平板状コールド
ミラー４’，４，５は前記図２に示す分光反射率を持
ち、また、コールドフィルタ３は前記図３に示す分光透
過率を持つので、上記構成とすることにより、前記した
第１の実施例と同様、比率Ｂ／Ａを前記図４に示した値
とすることができ、熱による変形、変色等の変化を起こ
し易いワークを冷却手段を用いることなく処理すること
が可能となる。なお、上記実施例では、平板状コールド
ミラーを２，３枚使用する場合について説明したが、４
枚以上の平板状コールドミラーを使用しても同様に実施
することができる。また、棒状ランプ１、トイ状コール
ドミラー２、コールドフィルタ３、平板状コールドミラ
ー４，４’，５の冷却方法は上記実施例に限定されるも
のではなく、他の冷却方法を用いてもよい。
ミラー４’，４，５は前記図２に示す分光反射率を持
ち、また、コールドフィルタ３は前記図３に示す分光透
過率を持つので、上記構成とすることにより、前記した
第１の実施例と同様、比率Ｂ／Ａを前記図４に示した値
とすることができ、熱による変形、変色等の変化を起こ
し易いワークを冷却手段を用いることなく処理すること
が可能となる。なお、上記実施例では、平板状コールド
ミラーを２，３枚使用する場合について説明したが、４
枚以上の平板状コールドミラーを使用しても同様に実施
することができる。また、棒状ランプ１、トイ状コール
ドミラー２、コールドフィルタ３、平板状コールドミラ
ー４，４’，５の冷却方法は上記実施例に限定されるも
のではなく、他の冷却方法を用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、棒状ランプから放射された光およびトイ状コールド
ミラーにより反射した光を一旦新たに設けたコールドミ
ラーに入射させ、該コールドミラーで反射した光をワー
クに照射する、もしくは、コールドフィルタを介してワ
ークに照射するよう構成したので（紫外光放射エネルギ
ー）／（全光放射エネルギー）の値を増大させることが
できた。したがって、可視・赤外域の光、特に赤外域の
光のワークへの照射が低減され、熱による変形、変色等
の変化を起こしやすいワークをワーク用の冷却手段を用
いることなく処理することが可能となる。また、棒状ラ
ンプの冷却を、トイ状コールドミラーに設けた通風孔よ
り冷却風を棒状ランプに向けて吹き付ける送風冷却とし
たので、通風孔から空気を吸引して棒状ランプを冷却す
る排風冷却の場合に比べて少ない風量で冷却を行うこと
が可能となる。さらに、送風冷却の場合は、新たに設け
るコールドミラーをも冷却することが可能となるので、
該コールドミラーの温度上昇を抑制できる。また、コー
ルドミラーやコールドフィルタを平板状にすれば安価に
なる。さらに、送風冷却により効率的にランプの冷却が
できるようになったので、ランプ入力の増大化が可能と
なる。これにより、耐熱性の比較的良いワークに対して
は可視・赤外光の放射を低減できた分、さらにランプ入
力を増大させても該ワークに熱的悪影響を与えず、強度
のより大きい紫外線を照射することができ、処理時間を
短縮することが可能となる。
は、棒状ランプから放射された光およびトイ状コールド
ミラーにより反射した光を一旦新たに設けたコールドミ
ラーに入射させ、該コールドミラーで反射した光をワー
クに照射する、もしくは、コールドフィルタを介してワ
ークに照射するよう構成したので（紫外光放射エネルギ
ー）／（全光放射エネルギー）の値を増大させることが
できた。したがって、可視・赤外域の光、特に赤外域の
光のワークへの照射が低減され、熱による変形、変色等
の変化を起こしやすいワークをワーク用の冷却手段を用
いることなく処理することが可能となる。また、棒状ラ
ンプの冷却を、トイ状コールドミラーに設けた通風孔よ
り冷却風を棒状ランプに向けて吹き付ける送風冷却とし
たので、通風孔から空気を吸引して棒状ランプを冷却す
る排風冷却の場合に比べて少ない風量で冷却を行うこと
が可能となる。さらに、送風冷却の場合は、新たに設け
るコールドミラーをも冷却することが可能となるので、
該コールドミラーの温度上昇を抑制できる。また、コー
ルドミラーやコールドフィルタを平板状にすれば安価に
なる。さらに、送風冷却により効率的にランプの冷却が
できるようになったので、ランプ入力の増大化が可能と
なる。これにより、耐熱性の比較的良いワークに対して
は可視・赤外光の放射を低減できた分、さらにランプ入
力を増大させても該ワークに熱的悪影響を与えず、強度
のより大きい紫外線を照射することができ、処理時間を
短縮することが可能となる。
【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。
【図２】トイ状コールドミラーの分光反射率の一例を示
す図である。
す図である。
【図３】平板状コールドフィルタ３の分光透過率の一例
を示す図である。
を示す図である。
【図４】各照射条件における照射エネルギー相対値比較
を示す図である。
を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施例を示す図である。
【図６】従来の紫外線照射装置から放射される光のエネ
ルギーを説明する図である。
ルギーを説明する図である。
【図７】冷却手段を設けた紫外線照射装置の構成の一例
を示す図である。
を示す図である。
１ 棒状ランプ ２ トイ状コールドミラー ３ 平板状コールドフィルタ ４，４’５ 平板状コールドミラー ５ａ 冷却風通過孔 １０ 紫外線照射装置筐体 Ｗ ワーク Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３ 遮光板 ｈ１，ｈ２ 冷却風通過孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−202450（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−157341（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−152673（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−88119（ＪＰ，Ａ) 実開 昭57−145538（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−61834（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 5/00
Claims (2)
- 【請求項１】 棒状ランプと、 上記棒状ランプの長軸方向と平行に配置され、棒状ラン
プからの放射光の一部を反射するトイ状の第１のコール
ドミラーと、 棒状ランプからの放射光の他の一部と第１のコールドミ
ラーの反射光とを反射する第２のコールドミラーとを備
え、 上記棒状ランプから放射され第１のコールドミラーで反
射した光、および棒状ランプから放射した光、の内、第
２のコールドミラーで反射された光のみが被処理体に照
射されるように、上記第１のコールドミラー、第２のコ
ールドミラーを配置し、 上記第１のコールドミラーに設けた通風孔より冷却風を
上記棒状ランプに向けて吹き付け、上記棒状ランプを効
率良く冷却するとともに、上記第２のコールドミラーを
も冷却する ことを特徴とする紫外線照射装置。 - 【請求項２】 棒状ランプと、 上記棒状ランプの長軸方向と平行に配置され、棒状ラン
プからの放射光の一部を反射するトイ状の第１のコール
ドミラーと、 棒状ランプからの放射光の他の一部と第１のコールドミ
ラーの反射光とを反射する第２のコールドミラーと、 上記第２のコールドミラーによる反射光を透過させるコ
ールドフィルタとを備え、 上記棒状ランプから放射され第１のコールドミラーで反
射した光、および棒状ランプから放射した光、の内、第
２のコールドミラーで反射され上記コールドフィルタを
透過した光のみが被処理体に照射されるように、上記第
１のコールドミラー、第２のコールドミラーおよびコー
ルドフィルタを配置し、 上記第１のコールドミラーに設けた通風孔より冷却風を
上記棒状ランプに向けて吹き付け、上記棒状ランプを効
率良く冷却するとともに、上記第２のコールドミラーを
も冷却する ことを特徴とする紫外線照射装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08072170A JP3094902B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 紫外線照射装置 |
| TW086215456U TW330483U (en) | 1996-03-27 | 1997-02-03 | Ultraviolet ray radiating device |
| EP97104722A EP0798038B1 (en) | 1996-03-27 | 1997-03-19 | Ultraviolet irradiation device |
| DE69707539T DE69707539T2 (de) | 1996-03-27 | 1997-03-19 | UV-Bestrahlungsgerät |
| US08/822,944 US5932886A (en) | 1996-03-27 | 1997-03-21 | Ultraviolet irradiation device |
| KR1019970010924A KR100460675B1 (ko) | 1996-03-27 | 1997-03-27 | 자외선조사장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08072170A JP3094902B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09257999A JPH09257999A (ja) | 1997-10-03 |
| JP3094902B2 true JP3094902B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13481500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08072170A Expired - Fee Related JP3094902B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 紫外線照射装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5932886A (ja) |
| EP (1) | EP0798038B1 (ja) |
| JP (1) | JP3094902B2 (ja) |
| KR (1) | KR100460675B1 (ja) |
| DE (1) | DE69707539T2 (ja) |
| TW (1) | TW330483U (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1144799A (ja) * | 1997-05-27 | 1999-02-16 | Ushio Inc | 光路分割型紫外線照射装置 |
| US6392238B1 (en) * | 1999-06-09 | 2002-05-21 | Jobin Yvon Inc. | UV-imager system |
| US6755518B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-06-29 | L&P Property Management Company | Method and apparatus for ink jet printing on rigid panels |
| EP1358682A4 (en) | 2001-01-17 | 2006-05-10 | Neokismet Llc | CONVERTER OF CHEMICAL ENERGY BASED ON ELECTRONIC SPRING |
| JP4577602B2 (ja) * | 2001-07-31 | 2010-11-10 | 岩崎電気株式会社 | 紫外線照射装置 |
| US6739716B2 (en) | 2002-06-10 | 2004-05-25 | Océ Display Graphics Systems, Inc. | Systems and methods for curing a fluid |
| US6797971B2 (en) * | 2002-07-18 | 2004-09-28 | Fusion Uv Systems, Inc. | Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation |
| US6649921B1 (en) | 2002-08-19 | 2003-11-18 | Fusion Uv Systems, Inc. | Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation |
| DE10243577B4 (de) * | 2002-09-19 | 2008-08-07 | Eltosch Torsten Schmidt Gmbh | Bestrahlungseinrichtung und Verwendung einer solchen |
| US7128429B2 (en) * | 2002-10-15 | 2006-10-31 | Mark Andy, Inc. | Light trap and heat transfer apparatus and method |
| US6942367B2 (en) | 2002-10-15 | 2005-09-13 | Delaware Capital Formation, Inc. | Curved and reflective surface for redirecting light to bypass a light source |
| US6834984B2 (en) * | 2002-10-15 | 2004-12-28 | Delaware Captial Formation, Inc. | Curved reflective surface for redirecting light to bypass a light source coupled with a hot mirror |
| US6883936B2 (en) * | 2002-10-15 | 2005-04-26 | Delaware Capital Formation, Inc. | Shutter apparatus, curing lamp housing incorporating same, and method of shutter replacement |
| FR2846404B1 (fr) * | 2002-10-23 | 2005-09-09 | Electricite De France | Bloc optique de chauffage rapide |
| US6717161B1 (en) | 2003-04-30 | 2004-04-06 | Fusion Uv Systems, Inc. | Apparatus and method providing substantially uniform irradiation of surfaces of elongated objects with a high level of irradiance |
| EP1712833A4 (en) * | 2004-02-04 | 2009-06-03 | Nitto Denko Corp | LIGHTING DEVICE AND METHOD OF USE THIS ILLUMINATOR AND METHOD OF MANUFACTURING THESE DEVICES USING THE PROMOTIONAL PRODUCT SURFACE IMAGE |
| US7055990B2 (en) * | 2004-05-06 | 2006-06-06 | Fusion Uv Systems, Inc. | Apparatus and method for providing substantially uniform radiation of a three-dimensional object with at least one curved surface |
| JP4420857B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2010-02-24 | 三洋電機株式会社 | 投写型表示装置 |
| US7638780B2 (en) * | 2005-06-28 | 2009-12-29 | Eastman Kodak Company | UV cure equipment with combined light path |
| CN1977978B (zh) * | 2005-12-01 | 2011-07-06 | 福建新大陆环保科技有限公司 | 一种开放式水渠辐射消毒系统 |
| US8184230B2 (en) | 2009-05-08 | 2012-05-22 | Honeywell International Inc. | High efficiency backlight assembly for flat panel display assembly and method for the manufacture thereof |
| DE102012020743A1 (de) * | 2012-10-23 | 2014-04-24 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | UV-Bestrahlungsvorrichtung für den getakteten Betrieb |
| DE102013011066A1 (de) * | 2013-07-03 | 2015-01-08 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Wärme-Lichttrennung für eine UV-Strahlungsquelle |
| DE102015016730A1 (de) | 2015-12-22 | 2017-06-22 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | UV-Aushärtevorrichtung mit geteilten UV-Umlenkspiegeln |
| CN109153156B (zh) * | 2016-05-26 | 2021-05-07 | 和乐尼克斯国际股份有限公司 | 树脂固化用光源装置 |
| WO2018170604A1 (en) * | 2017-03-23 | 2018-09-27 | Barry Hunt | Systems and apparratus for ultraviolet light disinfection |
| US10328174B2 (en) * | 2017-08-31 | 2019-06-25 | Radiant Industrial Solutions, LLC | Portable microorganism sanitation system |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1397077A (en) * | 1971-07-16 | 1975-06-11 | Hanovia Lamps Ltd | Ink drying reflector system |
| US4019062A (en) * | 1975-09-11 | 1977-04-19 | Rongren Eric H | Unit for treatment of substrate with ultraviolet radiation |
| US4048490A (en) * | 1976-06-11 | 1977-09-13 | Union Carbide Corporation | Apparatus for delivering relatively cold UV to a substrate |
| CS205103B2 (en) * | 1978-04-11 | 1981-04-30 | Apparatus for irradiating an elongated surface. | |
| CH660489A5 (de) * | 1984-08-31 | 1987-04-30 | Bernhard Glaus | Verfahren und vorrichtung zum aushaerten polymerisierbarer beschichtungsmassen auf nicht textilen substraten. |
| JPH0613678B2 (ja) * | 1985-07-15 | 1994-02-23 | シチズン時計株式会社 | 紫外線照射接着装置 |
| DE3643421A1 (de) * | 1986-12-19 | 1988-06-23 | Schott Glaswerke | Solarisationsstabile uv-filterglaeser fuer den durchlassbereich von 280-500 nm |
| US4877326A (en) * | 1988-02-19 | 1989-10-31 | Kla Instruments Corporation | Method and apparatus for optical inspection of substrates |
| GB8902544D0 (en) * | 1989-02-06 | 1989-03-22 | Pollock Gerald | A curing apparatus for plastics,printing inks,synthetic resins or the like |
| JPH07111583B2 (ja) * | 1989-04-21 | 1995-11-29 | 株式会社オーク製作所 | 入射角可変用露光装置 |
| JPH0675200B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1994-09-21 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置用冷却構造 |
| JP3173033B2 (ja) * | 1991-03-20 | 2001-06-04 | ソニー株式会社 | 放光装置 |
| JPH0550007A (ja) * | 1991-08-20 | 1993-03-02 | Sony Chem Corp | 紫外線照射装置 |
| US5216820A (en) * | 1991-09-25 | 1993-06-08 | M & R Printing Equipment, Inc. | Curing unit and method of curing ink |
| JPH06331812A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-12-02 | Ekuesutorian:Kk | 冷却反射鏡装置 |
| BE1007851A3 (nl) * | 1993-12-03 | 1995-11-07 | Asml Lithography B V | Belichtingseenheid met een voorziening tegen vervuiling van optische componenten en een fotolithografisch apparaat voorzien van een dergelijke belichtingseenheid. |
| JPH08174567A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-07-09 | Ushio Inc | 光照射器 |
| US5623149A (en) * | 1995-02-14 | 1997-04-22 | The Aerospace Corporation | High fidelity dual source solar simulator |
| KR0151074B1 (ko) * | 1995-07-13 | 1998-12-01 | 김광호 | 자외선 조사장치 |
| US5825041A (en) * | 1997-03-14 | 1998-10-20 | Loctite Corporation | System for optical curing |
-
1996
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