JP3093917B2 - ラミネート鋼板およびその原板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は加工後のフィルム密着性
および耐食性に優れたラミネート鋼板およびその原板に
関するのものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、鋼板上にフィルムを被覆するラミ
ネート鋼板の原板として用いられる表面処理鋼板として
は、例えば、特開平３−２３６９５４「スリーピース缶
用フィルム積層鋼帯およびその製造方法」に記載された
ような、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｃｒの少なくとも１種をめっきし
た鋼板がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記表面処理
鋼板は、従来からある溶接性の改善を主目的として提案
された表面処理鋼板であって、熱可塑性樹脂フィルムと
の密着性の良否について特に検討したものではないた
め、深絞り缶や、缶エンドなど加工の厳しい用途への適
用は困難であった。深絞り缶や、缶エンドなどの加工後
も優れた密着性と耐食性を確保するためには、めっき金
属の種類や厚み、めっき層の加工性等を具体的に検討し
て、めっき皮膜組成の決定が必要とされる。そこで本発
明の目的は、従来の表面処理鋼板の欠点を改善しつつ、
加工後のフィルム密着性および耐食性に優れたラミネー
ト鋼板およびその原板を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明のラミ
ネート鋼板は、鋼板の一方の面に、めっき量が鋼板側か
ら順次３０〜３００ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層
（Ａ）、５０〜１０００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層
（Ｂ）、５〜３００ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層
（Ｃ）、クロム換算で２〜４０ｍｇ／ｍ² のクロム水和
酸化物層（Ｄ）が形成され、鋼板の他方の面に、めっき
量が鋼板側から順次３０〜３００ｍｇ／ｍ²のクロムめ
っき層（Ｅ）、クロム換算で２〜４０ｍｇ／ｍ²のクロ
ム水和酸化物層（Ｆ）が形成されていることを特徴とす
る、加工後のフィルム密着性および耐食性に優れたもの
である。また、缶に成形する場合には、前記鋼板の一方
の面を缶の内側とすることが望ましい。さらに前記鋼板
の少なくとも一方の表層に、ニッケル、錫またはクロム
のいずれかの成分またはそれらの合金と前記鋼板との拡
散層が形成されていることが好ましく、前記拡散層中に
含まれているニッケル、錫またはクロムのいずれかの成
分またはそれらの合金の含有量が、５０〜６００ｍｇ／
ｍ² であることが望ましい。さらにラミネート鋼板の原
板としては、鋼板の一方の面に、鋼板側から順次３０〜
３００ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層（Ａ）、５０〜１０
００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層（Ｂ）、５〜３００ｍｇ／
ｍ² のクロムめっき層（Ｃ）、クロム換算で２〜４０ｍ
ｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）が形成され、鋼板
の他方の面に、鋼板側から順次３０〜３００ｍｇ／ｍ²
のクロムめっき層（Ｅ）、クロム換算で２〜４０ｍｇ／
ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｆ）が形成されていること
が望ましい。そして、缶の内側と成るべき面が、前記鋼
板の一方の面である原板が望ましく、鋼板の少なくとも
一方の表層に、ニッケル、錫またはクロムのいずれかの
成分またはそれらの合金が前記鋼板へ拡散している拡散
層が形成されていることが望ましい。また、拡散層中に
含まれているニッケル、錫またはクロムのいずれかの成
分またはそれらの合金の含有量が、５０〜６００ｍｇ／
ｍ² であることが好ましい。

【０００５】

【作用】本発明のラミネート鋼板は、加工後のフィルム
密着性および耐食性に優れており、深絞り缶や、缶エン
ドなど加工の厳しい用途への適用ができる。また、この
ラミネート鋼板の一方の面を缶の内側として成形するこ
とにより、優れた内部耐食性を有する缶ができる（請求
項２）。さらに鋼板の少なくとも一方の表層に、ニッケ
ル、錫またはクロムのいずれかの成分またはそれらの合
金を拡散させることにより、より優れた加工後のフィル
ム密着性および耐食性を有するラミネート鋼板が得られ
る（請求項３および４）。そして請求項５〜８に記載の
原板は、上記ラミネート鋼板用として用いると優れた加
工後のフィルム密着性および耐食性を備えたラミネート
鋼板を提供できる。

【０００６】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明のラミネート鋼板の一実施例の模式
的断面図である。図１において、１０は鋼板、２０は熱
可塑性樹脂フィルム、（Ａ）はクロムめっき層、（Ｂ）
は錫めっき層、（Ｃ）はクロムめっき層、（Ｄ）はクロ
ム水和酸化物層であり、（Ｅ）はクロムめっき層、
（Ｆ）はクロム水和酸化物層である。鋼板１０は通常の
低炭素鋼、極低炭素、高炭素鋼などが用いられる。熱可
塑性樹脂フィルム２０としては、（１）ポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレンープロピレン共重合体、エチ
レンー酢酸ビニル共重合体、エチレンーアクリルエステ
ル共重合体、アイオノマー等のオレフィン系樹脂フィル
ム、（２）ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、エチレン
テレフタレート／イソフタレート共重合体等のポリエス
テル、（３）ナイロン６、ナイロン６・６、ナイロン１
１、ナイロン１２等のポリアミド、（４）ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等をあげることができる。これ
らの熱可塑性樹脂フィルム２０は、耐熱性、耐食性、鋼
板との接着性の点において、それぞれ、異なる特徴を有
するが、食缶の内容物に応じて使い分けることができ
る。また、これら熱可塑性樹脂フィルムの原板への密着
性が十分でない場合には、例えば、エポキシ系接着剤、
フェノール系接着剤、アミド系接着剤、ウレタン系接着
剤、酸変性オレフィン樹脂系接着剤、コポリアミド系接
着剤、コポリエステル系接着剤、これらのブレンド物な
どを介在させることもできる。また、熱可塑性樹脂フィ
ルムの厚みは、一般に、３〜５０μｍの範囲にあること
が望ましい。厚みが３μｍ以下の場合は被覆作業性が著
しく低下するとともに、ピンホールが発生し易く十分な
加工耐食性が得られない。一方、５０μｍを超えた場合
は、製缶分野で広く用いられている塗料と比較して経済
的でない。熱可塑性樹脂フィルム２０は、原板の両面に
被覆される場合、片面に被覆される場合がある。

【０００７】クロムめっき層（Ａ）は、めっき量３０〜
３００ｍｇ／ｍ² が施されている。望ましくは３０〜１
００ｍｇ／ｍ² である。下限を３０ｍｇ／ｍ² とする理
由はラミネート時の加熱により錫−鉄合金層が形成され
るのを防ぐためであり、上限を３００ｍｇ／ｍ² とする
理由はこれ以上、増やしても効果が飽和し、経済的でな
くなるためである。

【０００８】錫めっき層（Ｂ）は、めっき量５０〜１０
００ｍｇ／ｍ² が施されている。望ましくは５０〜５０
０ｍｇ／ｍ² である。下限を５０ｍｇ／ｍ² とする理由
は錫の防食効果が発揮される必要最小限の量であり、上
限を１０００ｍｇ／ｍ² とする理由は、錫をこれ以上増
やすと、更なる防食効果は認められるが、錫層と後処理
層間の密着不良を原因とするフィルム剥離が深絞り加工
時に起こり易いためである。したがって、錫めっき層の
めっき量は上記範囲に特定する。

【０００９】クロムめっき層（Ｃ）は、めっき量５〜３
００ｍｇ／ｍ² が施されている。望ましくは５〜１００
ｍｇ／ｍ² である。下限を５ｍｇ／ｍ² とする理由は錫
層とクロムめっき層の加工密着性を向上させるためであ
り、上限を３００ｍｇ／ｍ² とする理由はこれ以上、増
やしても加工密着性の効果が飽和し、外観が黒味を帯び
るためである。

【００１０】クロム水和酸化物層（Ｄ）は、クロム換算
でめっき量２〜４０ｍｇ／ｍ² が施されている。望まし
くは２〜２０ｍｇ／ｍ² である。下限を２ｍｇ／ｍ² と
する理由は、これ以下ではフィルムとの密着性に劣るた
めであり、上限を４０ｍｇ／ｍ² とする理由は、これ以
上増やしても密着性の効果が飽和し、外観が暗褐色とな
るためである。

【００１１】クロムめっき層（Ｅ）は、３０〜３００ｍ
ｇ／ｍ² が施されている。望ましくは３０〜１００ｍｇ
／ｍ² である。下限を３０ｍｇ／ｍ² とする理由は塗装
印刷後の耐食性を持たせるためであり、上限を３００ｍ
ｇ／ｍ² とする理由は、これ以上増やしても耐食性の効
果が飽和し、経済的でなくなるためである。

【００１２】クロム水和酸化物層（Ｆ）は、クロム換算
で２〜４０ｍｇ／ｍ² が施されている。望ましくは２〜
２０ｍｇ／ｍ² である。下限を２ｍｇ／ｍ² とする理由
は、これ以下ではフィルムとの密着性に劣るためであ
り、上限を４０ｍｇ／ｍ² とする理由は、これ以上増や
しても効果が飽和し、外観が暗褐色となるためである。

【００１３】さらに本発明のラミネート鋼板用の原板に
は、拡散層が形成されているものが好ましい。拡散層を
設ける理由は以下のようである。即ち、上記のように金
属錫による防食効果を本発明では期待するものである
が、厳しい加工を受けると、めっき層は破壊され下地の
基板の露出が多くなる。このような条件下では、防食に
多量の金属錫を必要とするため経済的でなくなる。通
常、冷延鋼板は圧延後に焼鈍処理工程を経るので、少量
のめっきを焼鈍前に鋼板に施せば容易に拡散層を形成さ
せることができる。この拡散層は鋼の電位を貴にする
外、鋼の耐食電流も小さくする傾向があるため、耐食性
向上に寄与するところが大きい。拡散層を形成する金属
としてはＳｎ、Ｎｉ、Ｃｒなどが好適であり、めっき量
はいずれも５０〜６００ｍｇ／ｍ² の範囲が適当であ
る。下限を５０ｍｇ／ｍ²とした理由は、これ以上では
拡散層の効果が明瞭でなくなるからであり、上限を６０
０ｍｇ／ｍ² とした理由は、これ以上にすると通常の焼
鈍条件でめっき金属が鋼中に拡散しきれないからであ
る。

【００１４】次に、本発明のラミネート鋼板用の原板の
製造方法について述べる。まず、鋼板表面を脱脂、酸洗
する。その後、無水クロム酸を主体とした浴に、めっき
助剤として少量の硫酸、硫酸塩、弗酸、弗化物、硅弗化
物のうち１種以上添加した電解クロム酸浴中で、鋼板を
陰極としてクロムめっき層（Ａ）を析出させる。このク
ロムめっき層上にはクロム水和酸化物が必然的に形成さ
れるが、このクロム水和酸化物は、錫めっき層（Ｂ）の
電着性を阻害するので極力少なくするようにクロムめっ
き条件を設定しておく必要がある。公知のクロムめっき
技術においてクロム水和酸化物を少なくするめっき条件
は経験上次のことが良く知られており実施も容易であ
る。

【００１５】通常のクロムめっきは５０〜３００ｇ／ｌ
で行われているが、濃度を高め（８０〜３００ｇ／ｌ）
にした方が、クロム水和酸化物の生成は少ない。代表的
な助剤として硫酸を使用する。その他、弗酸、硅弗酸、
ホウ弗酸やそれらのアルカリ金属塩の単独または硫酸と
の併用添加も行われる。一般に弗素系の助剤の方が硫酸
系の助剤よりもクロム水和酸化物の生成を少なくする傾
向がある。助剤の量は、その種類により若干異なってく
るが、クロム酸濃度の１〜１０重量％程度が適当であ
る。浴温度は、通常３０〜６０℃で行われているが、５
０〜６０℃と高めにした方がクロム水和酸化物の生成は
少ない傾向にある。陰極電流密度は、通常１０から１０
０Ａ／ｄｍ² で行われるが、３０〜１００Ａ／ｄｍ² と
高めの方がクロム水和酸化物の生成は少ない傾向にあ
る。

【００１６】以上述べた公知のクロムめっき技術におい
て、クロム水和酸化物の生成が少なくなる条件を選定
し、更に必要に応じてクロムめっき通電終了後に、同浴
中で数秒間浸漬保持することにより、クロム水和酸化物
は直ちに溶解を開始するので、クロム水和酸化物を２〜
４０ｍｇ／ｍ² 程度にする事が可能である。このように
して、本発明のクロムめっき層（Ａ）とクロムめっき層
（Ｅ）およびクロム水和酸化物層（Ｆ）とが一工程で形
成される。クロムめっきに引き続いて錫めっき層（Ｂ）
を形成するため、錫めっきが施される。前述したように
錫めっき層（Ｂ）の錫めっき量は５０〜１０００ｍｇ／
ｍ² が適性範囲である。錫めっき後に光沢を付与するた
めのリフロー処理を施しても、施さなくても本発明の効
果に変わりはない。

【００１７】本発明における錫めっきの実施は、ぶりき
製造において使用されている公知の錫めっき浴の錫イオ
ン濃度を通常濃度の約１／３以下に選定する。即ち、錫
めっき浴としての酸濃度や添加剤の種類などは、基本的
に公知の錫めっき浴である硫酸第一錫浴、塩化第一錫浴
で用いられているものと同じであるが、本発明において
は、錫イオン濃度を下げ、錫析出電流効率を約６０％以
下とする必要がある。電流効率を下げることにより、ク
ロムめっき表面での水素発生が激しくなり、クロム水和
酸化物が剥離してクロムめっき表面は著しく活性化さ
れ、錫の良好な電着がクロムめっき層上に達成されると
推定される。例えば、硫酸第一錫浴の場合は通常錫イオ
ン濃度として２０〜３０ｇ／ｌ以上で使用されている
が、クロムめっき上に適用するに際しては錫濃度を１０
ｇ／ｌ以下とすることにより実施でき、めっき条件とし
ては例えば、下記の通りである。

【００１８】硫酸第一錫浴としては、 硫酸第一錫（錫イオンとして） ： １〜１０ｇ／ｌ フェノールスルフォン酸（６０％渡しとして）または硫酸 ： ５〜３０ｇ／ｌ エトキシ化αナフトールスルフォン酸またはエトキシ化αナフトール ： ２〜８ｇ／ｌ 浴温度 ： ３０〜６０℃ 陰極電流密度 ： ３〜２０Ａ／ｄｍ² が採用される。 塩化第一錫浴としては 塩化第一錫（錫イオンとして） ： １〜１０ｇ／ｌ 弗化ナトリウム ： ２０〜３０ｇ／ｌ 塩化ナトリウム ： ４０〜５０ｇ／ｌ ゼラチン ： ０．５〜３ｇ／ｌ 浴温度 ： ５０〜６０℃ 陰極電流密度 ： ３〜５０Ａ／ｄｍ² などが採用される。

【００１９】本発明の特徴は特定範囲のめっき量の錫め
っき層（Ｂ）が一方の面にのみ形成されていることであ
る。他方の面に錫が析出するのを防止するためには、電
流の裏回りをエッジマスクで防止するなどの工夫が必要
である。クロムめっき層（Ｃ）およびクロム水和酸化物
層（Ｄ）の形成は通常のクロメート処理法が使用され
る。例えば、クロム酸、重クロム酸塩（重クロム酸ソー
ダ、重クロム酸カリ、重クロム酸アンモン）などの水溶
液中で陰極電解する。なお、上記の浴においてクロム水
和酸化物の析出効率のために、少量の硫酸、弗化物など
通常クロムめっきで使われている助剤を加えることもで
きる。この場合、同時に金属クロムも析出するが本発明
の特性を阻害するものではない。クロム酸、重クロム酸
塩を使用し、助剤を全く添加しない場合は、Ｃｒ⁺⁶濃
度：５〜３０ｇ／ｌ、温度：３０〜７０℃、陰極電流密
度：１〜５０Ａ／ｄｍ² 、電気量：１〜４０クーロン／
ｄｍ² で処理される。クロム酸を使用し助剤を添加する
場合は、ＣｒＯ₃ 濃度を１０〜５０ｇ／ｌとし、助剤は
クロム酸濃度に対して０．２〜１重量％添加する。浴温
度は３０〜６０℃、陰極電流密度は５〜１００Ａ／ｄｍ
² 、電気量は０．５〜５０クーロン／ｄｍ² でそれぞれ
処理される。

【００２０】拡散層を形成させるための、焼鈍前のニッ
ケル、錫、クロムのめっき方法は、公知のめっき方法が
用いられる。例えば、錫拡散層を形成させるには、フェ
ロスタン浴を用いるのが好ましく、浴温は３０〜６０
℃、電流密度は１〜１０Ａ／ｄｍ² が好適である。また
ニッケル拡散層を形成させるには、ワット浴を用いるの
が好ましく、浴温は３０〜５０℃、電流密度は１〜２０
Ａ／ｄｍ² が好適である。さらに、クロム拡散層を形成
させるには、無水クロム酸浴に硫酸あるいはフッ化物の
助剤を加えた浴が好適であり、浴温は３０〜６０℃、電
流密度は１０〜１００Ａ／ｄｍ² が好適である。

【００２１】以下、本発明の好適な実施例について詳細
に説明する。 （実施例１）板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板を通常の方法
で電解脱脂、酸洗した後、ＣｒＯ₃：１００ｇ／ｌ、Ｎ
ａＦ：５ｇ／ｌのクロムめっき浴を用い、浴温度：４５
℃、電流密度：５０Ａ／ｄｍ² で、１００ｍｇ／ｍ² の
金属クロムを板の両面にめっきした。すなわち、クロム
めっき層（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水
和酸化物層（Ｆ）を形成した。その後、直ちに硫酸第一
錫５ｇ／ｌ（錫イオンとして）、硫酸２０ｇ／ｌ、エト
キシ化αナフトール：５ｇ／ｌ、浴温：４５℃の錫めっ
き浴中で、クロムめっき層（Ａ）の上部に電気量０．１
５クーロン／ｄｍ² を通電し、５００ｍｇ／ｍ² の錫め
っき層（Ｂ）を形成させた。更に引き続いて、ＣｒＯ
₃ ：３０ｇ／ｌ、硫酸：０．２０ｇ／ｌ、浴温度：６０
℃の後処理浴を用いて、錫めっき層（Ｂ）の上部に電気
量：４クーロン／ｄｍ² を通電し、１０ｍｇ／ｍ² のク
ロムめっき層（Ｃ）と８ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物
層（Ｄ）を形成させた原板を製造した。さらにこの原板
のクロム水和酸化物層（Ｄ）の上にポリエチレンテレフ
タレート／イソフタレート共重合樹脂フィルムを２５０
℃で熱融着させた。

【００２２】（実施例２）錫拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、２００ｍｇ／ｍ
² の錫めっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒〜３分
の熱処理条件で焼鈍炉中でめっき錫を鋼板表面に拡散さ
せた。その後実施例１と同様に、３０ｍｇ／ｍ₂ の金属
クロムを、板の両面に直ちにめっきした（クロムめっき
層（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水和酸化
物層（Ｆ）を形成）。さらにその後実施例１と同様、錫
めっき浴で１００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層（Ｂ）を片面
に形成させ、引き続いて実施例１と同様の後処理浴を用
いて５０ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層（Ｃ）と１５ｍｇ
／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、錫めっき層
（Ｂ）上に形成させた原板を製造した。さらにこの原板
の両面上にポリエチレンテレフタレート／イソフタレー
ト共重合樹脂フィルムを２５０℃で熱融着させた。

【００２３】（実施例３）クロム拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、５０ｍｇ／ｍ²
のクロムめっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒〜３
分の熱処理条件で焼鈍炉中で金属クロムを鋼板の表面に
拡散させた。続いて実施例１と同様のクロムめっき浴
で、３０ｍｇ／ｍ₂ の金属クロムを、板の両面に直ちに
めっきした（クロムめっき層（Ａ）、クロムめっき層
（Ｅ）およびクロム水和酸化物層（Ｆ）を形成）。さら
にその後実施例１と同様、錫めっき浴で５００ｍｇ／ｍ
² の錫めっき層（Ｂ）を片面に形成させ、引き続いて実
施例１と同様の後処理浴を用いて５ｍｇ／ｍ² のクロム
めっき層（Ｃ）と２ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層
（Ｄ）を、錫めっき層（Ｂ）上に形成させた原板を製造
した。さらにこの原板のクロム水和酸化物層（Ｄ）の上
にポリエチレンテレフタレートフィルムを熱融着で接着
した。

【００２４】（実施例４）ニッケル拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、１００ｍｇ／ｍ
² のニッケルめっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒
〜３分の熱処理条件で焼鈍炉中でＮｉを鋼板の表面に拡
散させた。続いて実施例１と同様のクロムめっき浴で、
３００ｍｇ／ｍ² の金属クロムをめっきした（クロムめ
っき層（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水和
酸化物層（Ｆ）を形成）。その後直ちに実施例１と同
様、錫めっき浴で１００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層（Ｂ）
を片面に形成させ、引き続いて実施例１と同様の後処理
浴を用いて３００ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層（Ｃ）と
４０ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、錫めっ
き層（Ｂ）上に形成させた原板を製造した。さらにこの
原板のクロム水和酸化物層（Ｄ）の上にポリエチレンテ
レフタレートフィルムを熱融着で接着した。

【００２５】（実施例５）クロム−錫拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、１００ｍｇ／ｍ
² のクロムめっきを施した後、その上に２００ｍｇ／ｍ
² の錫めっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒〜３分
の熱処理条件で焼鈍炉中で鋼板の表面にクロム−錫拡散
層を形成させた。その後実施例１と同様に、１００ｍｇ
／ｍ² の金属クロムをめっきした（クロムめっき層
（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水和酸化物
層（Ｆ）を形成）。その後直ちに実施例１と同様、錫め
っき浴で１０００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層（Ｂ）を片面
に形成させ、引き続いて実施例１と同様の後処理浴を用
いて８ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層（Ｃ）と２０ｍｇ／
ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、錫めっき層（Ｂ）
上に形成させた原板を製造した。さらにこの原板の両面
上にポリエチレンテレフタレートフィルムを熱融着で接
着した。

【００２６】（実施例６）ニッケル−錫拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、１５０ｍｇ／ｍ
² のニッケルめっきを施した後、その上に１５０ｍｇ／
ｍ² の錫めっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒〜３
分の熱処理条件で焼鈍炉中で鋼板の表面にニッケル−錫
拡散層を形成させた。その後実施例１と同様に、２００
ｍｇ／ｍ² の金属クロムをめっきした（クロムめっき層
（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水和酸化物
層（Ｆ）を形成）。さらにその後直ちに実施例１と同
様、錫めっき浴で１００ｍｇ／ｍ² の錫めっき層（Ｂ）
を片面に形成させ、引き続いて実施例１と同様の後処理
浴を用いて３０ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層（Ｃ）と１
５ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、錫めっき
層（Ｂ）上に形成させた原板を製造した。さらにこの原
板の両面上にポリエチレンテレフタレートフィルムを熱
融着で接着した。

【００２７】（実施例７）ニッケル−クロム拡散層形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、１００ｍｇ／ｍ
² のニッケルめっきを施した後、その上に１００ｍｇ／
ｍ² のクロムめっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒
〜３分の熱処理条件で焼鈍炉中で鋼板の表面にニッケル
−クロム拡散層を形成させた。その後実施例１と同様
に、１５０ｍｇ／ｍ² の金属クロムをめっきした（クロ
ムめっき層（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム
水和酸化物層（Ｆ）を形成）。さらにその後直ちに実施
例１と同様、錫めっき浴で５００ｍｇ／ｍ² の錫めっき
層（Ｂ）を片面に形成させ、引き続いて実施例１と同様
の後処理浴を用いて１００ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層
（Ｃ）と８ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、
錫めっき層（Ｂ）上に形成させた原板を製造した。さら
にこの原板の両面上に酸変性ポリプロピレンフィルムを
熱融着で接着した。

【００２８】（実施例８）ニッケル−クロム−錫拡散層
形成 板厚０．１６ｍｍの冷延鋼板の両面に、１５０ｍｇ／ｍ
² のニッケルめっきを施した後、その上に１５０ｍｇ／
ｍ² のクロムめっきを施し、さらにその上に３００ｍｇ
／ｍ² の錫めっきを施し、６００〜７５０℃、３０秒〜
３分の熱処理条件で焼鈍炉中で鋼板の表面にニッケル−
クロム−錫拡散層を形成させた。その後実施例１と同様
に、３０ｍｇ／ｍ² の金属クロムをめっきした（クロム
めっき層（Ａ）、クロムめっき層（Ｅ）およびクロム水
和酸化物層（Ｆ）を形成）。さらにその後直ちに実施例
１と同様、錫めっき浴で５０ｍｇ／ｍ² の錫めっき層
（Ｂ）を片面に形成させ、引き続いて実施例１と同様の
後処理浴を用いて１５ｍｇ／ｍ² のクロムめっき層
（Ｃ）と５ｍｇ／ｍ² のクロム水和酸化物層（Ｄ）を、
錫めっき層（Ｂ）上に形成させた原板を製造した。さら
にこの原板の両面上に共重合ポリエステルフィルムを熱
融着で接着した。

【００２９】比較例１としてクロムめっき層（Ａ）を省
略した原板を製造した。また、比較例２として、実施例
２と同様の錫拡散層を形成させた後、通常のクロム酸処
理でクロムめっき層とクロム水和酸化物層を形成させた
原板を製造した。これらの原板にポリエチレンテレフタ
レート／イソフタレート共重合樹脂フィルムを２５０℃
で熱融着させた。

【００３０】表１に本発明の実施例と比較例とを一覧表
にして示した。評価結果についても表１に示す。

【表１】

【００３１】表１中の特性評価は次の方法によって行っ
た。 （１）．フィルム密着性 熱可塑性樹脂フィルムをラミネートした試料を、絞り比
２．８の深絞り缶に加工した。加工後のフランジ部から
のフィルム剥離の有無で、フィルム密着性を評価した。
本発明のラミネート鋼板はいずれもフィルムの剥離がみ
られず優れた結果が得られた。これに比べ、比較例１の
ラミネート鋼板は缶上部より４０mm剥離が生じた。 （２）．耐食性 前記（１）のフィルム密着性の欄で述べたと同様の条件
で製缶後、缶胴中央部を切り出し、５℃で硬球による落
下デントをしてフィルムに微細なクラックを与えた後、
１．５％クエン酸＋１．５％食塩のモデル試験液に３８
℃、１週間浸漬後の溶出鉄量を測定した。本発明のラミ
ネート鋼板はいずれも溶出鉄量の値が低く優れた結果が
得られた。これに比べ、比較例２のラミネート鋼板は溶
出鉄量の値が高く劣っている。

【００３２】

【発明の効果】本発明のラミネート鋼板は、加工後のフ
ィルム密着性および耐食性に優れており、深絞り缶や、
缶エンドなど加工の厳しい用途への適用ができる。ま
た、このラミネート鋼板の一方の面を缶の内側として成
形することにより、優れた内部耐食性を有する缶ができ
る。さらに鋼板の少なくとも一方の表層に、ニッケル、
錫またはクロムのいずれかの成分またはそれらの合金を
冷延鋼板へ拡散させることにより、より優れた加工後の
フィルム密着性および耐食性を有するラミネート鋼板が
得られる。そして本発明の原板をラミネート鋼板用とし
て用いると、優れた加工後のフィルム密着性および耐食
性を備えたラミネート鋼板を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のラミネート鋼板の模式的断面図であ
る。

【符号の説明】

１０ 鋼板 ２０ 熱可塑性樹脂フィルム Ａ クロムめっき層（Ａ） Ｂ 錫めっき層（Ｂ） Ｃ クロムめっき層（Ｃ） Ｄ クロム水和酸化物層（Ｄ） Ｅ クロムめっき層（Ｅ） Ｆ クロム水和酸化物層（Ｆ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池高 聖 山口県下松市大字西豊井1720の13番地 (56)参考文献 特開 昭64−56895（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−177763（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−40396（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−287280（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−136738（ＪＰ，Ａ)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 鋼板の一方の面には鋼板との拡散層が形
   成されており、該拡散層は、鉄−錫拡散層、鉄−クロム
   拡散層、錫−ニッケル拡散層、クロム−ニッケル拡散
   層、又は錫−クロム−ニッケル拡散層であり、該拡散層
   の上には、めっき量が３０〜３００ mg/m^２のクロムめ
   っき層が形成されており、その上には、めっき量が５０
   〜１０００ mg/m^２の錫めっき層が形成されており、そ
   の上には、めっき量が５〜３００ mg/m^２のクロムめっ
   き層が形成されており、その上には、クロム換算で２〜
   ４０ mg/m^２のクロム水和酸化物層が形成されており、
   その上には熱可塑性樹脂フィルムが被覆されており、 鋼板の他方の面には、鋼板の上にめっき量が３０〜３０
   ０ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その上
   には、クロム換算で２〜４０ mg/m^２のクロム水和酸化
   物層が形成されていることを特徴とする、加工後の密着
   性および耐食性に優れたラミネート鋼板。
2. 【請求項２】 鋼板の一方の面には鋼板との拡散層が形
   成されており、該拡散層は、鉄−錫拡散層、鉄−クロム
   拡散層、錫−ニッケル拡散層、クロム−ニッケル拡散
   層、又は錫−クロム−ニッケル拡散層であり、該拡散層
   の上には、めっき量が３０〜３００ mg/m^２のクロムめ
   っき層が形成されており、その上には、めっき量が５０
   〜１０００ mg/m^２の錫めっき層が形成されており、そ
   の上には、めっき量が５〜３００ mg/m^２のクロムめっ
   き層が形成されており、その上には、クロム換算で２〜
   ４０ mg/m^２のクロム水和酸化物層が形成されており、 鋼板の他方の面には、鋼板の上にめっき量が３０〜３０
   ０ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その上
   には、クロム換算で２〜４０ mg/m^２のクロム水和酸化
   物層が形成されており、その上には熱可塑性樹脂フィル
   ムが被覆されていることを特徴とする、加工後の密着性
   および耐食性に優れたラミネート鋼板。
3. 【請求項３】 鋼板の一方の面には鋼板との拡散層が形
   成されており、該拡散層は、鉄−錫拡散層、鉄−クロム
   拡散層、錫−ニッケル拡散層、クロム−ニッケル拡散
   層、又は錫−クロム−ニッケル拡散層であり、該拡散層
   の上には、めっき量が３０〜３００ mg/m^２のクロムめ
   っき層が形成されており、その上には、めっき量が５０
   〜１０００ mg/m^２の錫めっき層が形成されており、そ
   の上には、めっき量が５〜３００ mg/m^２のクロムめっ
   き層が形成されており、その上には、クロム換算で２〜
   ４０ mg/m^２のクロム水和酸化物層が形成されており、
   その上には熱可塑性樹脂フィルムが被覆されており、 鋼板の他方の面には、鋼板の上にめっき量が３０〜３０
   ０ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その上
   には、クロム換算で２〜４０ mg/m^２のクロム水和酸化
   物層が形成されており、その上には熱可塑性樹脂フィル
   ムが被覆されているとを特徴とする、加工後の密着性お
   よび耐食性に優れたラミネート鋼板。
4. 【請求項４】 前記拡散層が、鋼板上に錫めっき後熱拡
   散により形成されたものであるか、クロムめっき後熱拡
   散により形成されたものであるか、クロムめっきに次い
   で錫めっき後熱拡散により形成されたものであるか、ニ
   ッケルめっきに次いで錫めっき後熱拡散により形成され
   たものであるか、ニッケルめっきに次いでクロムめっき
   後熱拡散により形成されたものであるか、又はニッケル
   めっきに次いでクロムめっき次いで錫めっき後熱拡散に
   より形成されたものである請求項１または２記載のラミ
   ネート鋼板。
5. 【請求項５】 前記拡散層中に含まれている錫またはク
   ロムの成分の含有量が、あるいは、クロム−錫合金、ニ
   ッケル−錫合金またはニッケル−クロム−錫合金の含有
   量が、５０〜６００ mg/m^２である請求項１〜４のいず
   れかに記載のラミネート鋼板。
6. 【請求項６】鋼板の一方の面には、めっき量が３０〜３
   ００ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その
   上には、めっき量が５０〜１０００ mg/m^２の錫めっき
   層が形成されており、その上には、めっき量が５〜３０
   ０ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その上
   には、クロム換算で２〜４０ mg/m^２のクロム水和酸化
   物層が形成されており、その上には熱可塑性樹脂フィル
   ムが被覆されており、 鋼板の他方の面には、鋼板の上にめっき量が３０〜３０
   ０ mg/m^２のクロムめっき層が形成されており、その上
   には、クロム換算で２〜４０ mg/m^２のクロム水和酸化
   物層が形成されていることを特徴とする、加工後の密着
   性および耐食性に優れたラミネート鋼板。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかのラミネート鋼
   板を用いて形成された缶。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれかのラミネート鋼
   板を用いて形成された缶であって、缶の内側と成るべき
   面が、請求項１〜４，６のいずれかに記載の一方の面で
   ある缶。