JPS6335718B2 - - Google Patents

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JPS6335718B2
JPS6335718B2 JP4378984A JP4378984A JPS6335718B2 JP S6335718 B2 JPS6335718 B2 JP S6335718B2 JP 4378984 A JP4378984 A JP 4378984A JP 4378984 A JP4378984 A JP 4378984A JP S6335718 B2 JPS6335718 B2 JP S6335718B2
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chromium
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nickel
layer
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JP4378984A
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Nobuyoshi Shimizu
Terunori Fujimoto
Tsuneo Inui
Masatoki Ishida
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Toyo Kohan Co Ltd
Original Assignee
Toyo Kohan Co Ltd
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Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、優れた溶接性、塗装性胜、耐食性を
も぀溶接猶甚衚面凊理鋌板及びその補造方法に関
する。より詳しくは鋌板衚面䞊に第局ずしお金
局クロム、その䞊に第局ずしお錫又は錫・ニツ
ケル合金、曎にその䞊に第局ずしおクロム氎和
酞化物以䞋、その量を衚わす堎合はクロム換算
で瀺すからなるこずを特城ずする電気抵抗によ
る溶接猶甚衚面凊理鋌板及びその補造方法であ
る。 埓来、補猶甚衚面凊理鋌板ずしおは電気錫メツ
キ鋌板以䞋、ブリキず呌ぶず金属クロム、ク
ロム氎和酞化物の局よりなる電解クロム酞凊理
鋌板以䞋、TFS−CTず呌ぶが䞀般的に倚甚
されおいる。このうち、ブリキはその優れた耐食
性、衚面光沢、半田性、衚面最滑性、及び接觊電
気抵抗が䜎く電気抵抗による溶接性が良奜なこず
などの理由により、叀くから猶甚材料の䞻流ずし
お半田性、DI猶絞り加工ずしごき加工により
圢成される猶、溶接猶に最も倚く䜿われおきた
が、メツキに䜿甚される錫は幎々高隰し、猶甚材
料ずしおは高䟡なものずな぀おきた。䞀方、
TFS−CTはブリキより安䟡な材料ずしお玄20幎
前に開発され、その埌接着による補猶法の開発に
より、ブリキ代替の猶甚材料ずしお幎々䜿甚量が
増倧しお来おいる。 ずころが、優れた耐食性、塗料密着性をもち接
着猶甚材料ずしお実積のあるTFS−CTを溶接猶
甚材料ずしお䜿甚しようずした堎合、塗装時溶
接郚には塗膜を付けないの加熱によ぀お金属ク
ロム衚面、及びクロム氎和酞化物が電気抵抗の高
いクロム酞化物に倉質するため衚面皮膜を溶接前
に機械的研削などの手段で陀去する必芁があ぀
た。溶接前に皮膜を陀去するこずは、補猶コスト
䞊の䞍利ばかりでなく溶接郚の耐食性の䜎䞋、陀
去されたクロム粉の飛散による衛生䞊の問題があ
り、衚面皮膜を陀去するこずなく溶接できる溶接
猶甚材料が匷く望たれおいた。 そこで、TFS−CT系材料の溶接性を向䞊させ
る詊みずしお、䟋えば(1)鋌板衚面に〜40mgm2
の金属クロム局、その䞊郚に金属クロム換算で
〜15mgm2のクロム酞化物を䞻䜓ずする非金属ク
ロム局をポヌラス状にしたクロムメツキ鋌板特
開昭55−31124、(2)硫酞根、硝酞根、塩玠むオン
等の陰むオンを意図的には添加しないクロム酞、
重クロム酞などを䞻成分ずする氎溶液䞭で片面圓
り0.5〜30mgm2の金属クロム、金属クロム換算
で〜50mgm2のクロム氎和酞化物を䞻成分ずす
るテむンフリヌスチヌル特開昭55−18542、(3)
クロムめ぀き鋌板に20以䞋の調質圧延を行うこ
ずを特城ずするクロムメツキ鋌板特開昭55−
48406などが提案されおいる。 これらのTFS−CTにおいお、溶接性向䞊を達
成するための技術思想は次のように説明されおい
る。 即ち、䞊蚘匕䟋(1)、(3)においおは金属クロム局
自䜓が溶接開始盎埌の溶接電流通過を阻害しおい
るので、鋌板衚面䞊においお玠地鋌の露出面積を
倚くするため、金属クロム目付量を少くしたり、
金属クロムの目付量の倚い堎合でも調質圧延によ
り鋌板に若干の䌞びによる亀裂を䞎えるずいうも
のである。しかしながら、溶接性を向䞊させるた
め、単に金属クロム量を少くしたり、鋌板に䌞び
を䞎えお金属クロム局に亀裂を生ぜしめたりする
こずは、それだけTFS−CTずしおの耐食性の䜎
䞋がたぬがれ難いばかりでなく、TFS−CTを塗
装しお䜿う堎合には焌付加熱時に電気抵抗の高い
鉄酞化物が生成しやすくなり、溶接性は逆効果ず
なるずいう問題点をかかえおいる。前述の匕䟋(2)
においおもクロム氎和酞化物局の質的改善による
金属クロム目付量の枛少が可胜ずなり、溶接性の
向䞊がもたらされたず述べられおいるこずから技
術思想は匕䟋(1)、(3)ず同じであるが、いずれも塗
装加熱時に生成する電気抵抗の高いクロム酞化物
自䜓を抑制する必芁があるずの芳点に着目しお溶
接性向䞊を詊みようずしたものではない。 䞀方、錫メツキ系の溶接猶甚材料ずしおは鋌板
衚面に埓来のブリキ錫目付量に比范しお錫メツキ
量を少くした極薄錫メツキ系鋌板が知られおい
る。しかしながら、溶接猶甚材料ずしお䜿甚され
るにあたり殆どの堎合、塗装時に加熱されるため
䜎融点金属である錫は玠地鋌ず鉄・錫合金化を起
し易く、溶接性向䞊に寄䞎しおいるずされる錫の
枛少は避けられないずいう問題を抱えおいた、本
発明はこうした埓来のTFS−CT系材料がも぀塗
装加熱時における電気抵抗の高いクロム酞化物の
生成の問題、又極薄錫メツキ系材料がも぀錫ず玠
地鋌が鉄・錫合金化し易いずいう問題を䞀挙に解
決した溶接猶甚衚面凊理鋌板を提䟛するものであ
る。 埓来のTFS−CT系溶接猶甚材料を塗装加熱埌
に溶接補猶しようずすれば、衚面皮膜を研削陀去
しなければ商甚的に満足な溶接はできないこず
は、既に述べたが、その原因ずしお(1)金属クロム
衚面に電気抵抗の高いクロム酞化物が生じる。(2)
クロム氎和酞化物が加熱により脱氎され、より電
気抵抗の高いクロム酞化物に倉質する。(3)金属ク
ロム局に存圚するメツキピンホヌルを通じお露出
しおいる玠地鋌衚面に電気抵抗の高い鉄酞化物が
生じる。などが挙げられる。これら溶接性を䜎䞋
させる原因のうち(1)、(3)は特に倧きいこずが刀぀
た。しかしながら、原因(1)は金属クロムの加熱に
よる電気抵抗の高いクロム酞化物の生成ずいう金
属クロムの本質に由来するものであり、その解決
には倚倧な苊心を芁したが、結局、金属クロム衚
面に僅かな錫又は錫・ニツケル合金局を存圚せし
めるこずにより金属クロム衚面の酞化を倧巟に抑
制できるこずを芋い出した。曎に、奜郜合なこず
は金属クロム䞊に錫又は錫・ニツケル合金局を斜
そうずすれば必然的に金属クロム局のピンホヌル
を通じお露出しおいる玠地鋌衚面䞊にも錫又は
錫・ニツケル合金が付着するこずずなり原因(3)の
解決にも効果的ずなる。 曎に、錫メツキ局又は錫・ニツケル合金局は䞋
局に金属クロムが介圚するこずにより、玠地鋌ず
の合金化が著しく抑制され塗装加熱を受けた埌
も、錫又は錫・ニツケル合金メツキ局自䜓のも぀
良奜な溶接性を維持しおいるずいう利点をも぀お
いるのであり、鋌板䞊に錫又は錫・ニツケル合金
メツキ局が盎接斜されおいる堎合よりも、実際に
塗装加熱された埌の溶接性においお栌段に優れお
いるのである。 即ち、本発明は鋌板衚面に30〜300mgm2のク
ロムメツキ局ず、該クロムメツキ局䞊に片面圓り
10〜500mgm2の錫メツキ局か又は錫・ニツケル
合金メツキ局ず、曎にその䞊にクロム換算で片面
圓り〜18mgm2のクロム氎和酞化物局が圢成さ
れたこずを特城ずする溶接猶甚衚面凊理鋌板であ
る。前述10〜500mgm2の錫・ニツケル合金メツ
キ局ずはニツケルを20〜60重量含有するもので
ある。 尚、本発明でいう「錫・ニツケル合金」ずは、
錫むオンずニツケルむオンを含むメツキ济から陰
極電解によ぀お埗られる錫ずニツケルの共析物を
含めたものを意味しおおり、必ずしも化孊量論に
基づいお特定の組成比をも぀錫・ニツケル合金
䟋えば、NiSn、Ni3Sn、Ni3Sn2、Ni3Sn4など
だけを指しおいるものではない。通垞、メツキに
よ぀お埗られる共析物を含めお「合金」ず称すこ
ずも䞀般的に行われおいるので、ここでは合金ず
いう衚珟を甚いた。 本発明の溶接猶甚衚面凊理鋌板の実斜におい
お、クロムメツキ局䞊に錫又は錫・ニツケル合金
局を均䞀に被芆し、䞔぀クロム面ぞ良奜に密着さ
せるこずは重芁なこずであるが、埌述する方法に
よ぀お始めお本発明の溶接猶甚衚面凊理鋌板が埗
られる。 埓来から、クロムメツキ䞊に錫メツキをするこ
ずは非垞に困難ずされ、䟋えば特公昭48−35136
号「クロム−錫二局メツキ方法」、あるいは特公
昭33−1455号「クロム及びクロム合金衚面䞊ぞの
各皮金属の鍍金法」などにその方法が皮々提案さ
れおいる。しかしながら䞊蚘の方法はいずれも本
発明における錫メツキの実斜方法ずしおは䞍適圓
である。即ち、特公昭48−35136においおは、錫
メツキ通電初期に高電流密床でストラむクメツキ
をした埌に通垞の光沢電流密床で錫メツキを斜す
ずいうものであるが、ストラむク電流密床で析出
する錫は暗灰色で暹枝状、毛状であるず蚘茉があ
るように、本発明のごずく錫量が極めお少い堎合
には匕き続き光沢電流密床による局を斜しおスト
ラむクメツキ局を隠蔜するこずもできず䞍郜合で
ある。又、特公昭33−1455号においおは、苛性ア
ルカリ氎溶液䞭で陜極凊理するずいうものである
が、陜極凊理により第局のクロムメツキが溶解
するこず、及び苛性アルカリではクロムメツキ衚
面は充分掻性化されず通垞の錫メツキ济を甚いた
堎合は錫の均䞀、䞔぀密着性のある析出は達成さ
れず、メツキ埌にメツキ局は指で容易に擊りずら
れる状態であ぀た。 本発明の溶接猶甚衚面凊理鋌板は、こうした埓
来のクロム−錫二局メツキ技術ずは違う独自の方
法を芋い出したこずにより始めお埗られたもので
ある。 次に本発明に぀いお曎に詳现に説明する。 第局である金属クロム量は片面圓り30〜300
mgm2ず芏定される。この金属クロム局は猶甚材
料ずしおの耐食性、玠地鋌の酞化抑制による溶接
性向䞊の圹割をも぀おおり、30mgm2未満ではこ
れらの特性の確保が難しくなる。金属クロム量は
倚くなる皋、䞊蚘特性及び玠地鋌の酞化抑制効果
は向䞊する傟向をも぀おいるが300mgm2をこえ
るず、その効果は飜和するずずもに、補造コスト
も高くなり、経枈的でないので䞊限は300mgm2
ずされる。より奜たしくは70〜150mgm2である。 第局の錫又は錫・ニツケル合金メツキ局は片
面圓り10〜500mgm2ず芏定される。錫又は錫・
ニツケル合金メツキ量が10mgm2未満になるず、
本発明の䞻目的である溶接性の向䞊が達成されな
い。これは錫又は錫・ニツケル合金メツキが第
局の金属クロムを充分に芆うこずができないから
である。又、錫又は錫・ニツケル合金メツキ量が
500mgm2をこえるず溶接性の向䞊効果は飜和し
おしたいそれ以䞊倚くしおも補造コスト䞊䞍利に
なる。ここで、10〜500mgm2の錫・ニツケル合
金メツキ局ずは、ニツケルを20〜60重量含有す
るものである。錫・ニツケル合金メツキずしお安
定しお埗られるニツケル含有率は20〜60重量で
あり、錫䞭にニツケルを共析させるに埓い溶接性
は僅かではあるが䜎䞋するがこのような錫・ニツ
ケル合金メツキのものも䞋局に金属クロムを存圚
させるずいう本発明独特の皮膜構成により埓来の
TFS−CTに比范しお栌段に優れた溶接性をも぀
おいる。又、魚肉、肉類のような蛋癜質の倚い食
品に察しお、錫・ニツケル合金は極めお安定であ
り、埓来のブリキにおいおしばしば芋られる猶内
面のいわゆる硫化黒倉を生じ難いずいう利点をも
぀おいる。ニツケル含有率20〜60を倖れた範囲
の錫・ニツケル合金メツキでも本発明の目的ずす
る諞特性は埗られるが、メツキ条件ずメツキ合金
組成比の関係が極めお䞍安定であり、メツキ济の
管理及び匕続き実斜されるクロム氎和酞化物生成
量が䞍安定ずなるなど工業的補品ずしおは䞍適圓
である。又、亜鉛を錫に共析させた錫・亜鉛合金
を䞊蚘錫・ニツケル合金の代りに斜しおも溶接性
を始めずする諞特性は埗られるが、錫䞭に亜鉛を
共析させる方法はシアン化亜鉛济など特殊な济に
限定され、補造䞊䞍利である。錫メツキに匕続き
ニツケルメツキを重ねるか、或いはその逆を行぀
おも錫ずニツケルは拡散し易く、錫・ニツケル合
金を圢成するが、補造工皋が耇雑ずなる。 第局のクロム氎和酞化物は〜18mgm2に芏
定される。この第局の目的は埓来のTFS−CT
におけるクロム氎和酞化物の圹割ず同じであり、
第、局によ぀おも完党に達成し埗ないメツキ
ピンホヌルの封孔による耐食性の確保、及び塗装
性胜の確保である。mgm2未満では溶接性は優
れおいるが耐食性、塗装性胜が埗られない。18
mgm2をこえるず耐食性、塗装性胜は良奜である
が溶接性が䜎䞋するので18mgm2以䞋ずする。よ
り奜たしくは〜12mgm2である。 本発明の実斜にあた぀おは、たず鋌板衚面を公
知の方法により脱脂、酞掗した埌、無氎クロム酞
を䞻䜓ずしメツキ助剀ずしお少量の硫酞、硫酞
塩、北酞、北化物、硅北化物、硌北化物のうちの
皮又はそれ以䞊を含む公知のクロムメツキ济
又は電解クロム酞凊理济ずも呌ばれる䞭で鋌
板を陰極ずしお第局である30〜300mgm2の金
属クロム局を埗る。この第局である金属クロム
局䞊にはクロム析出過皋の䞭間還元生成物である
クロム氎和酞化物が必ず圢成される。このクロム
氎和酞化物は、第局である錫又は錫・ニツケル
合金メツキの金属クロム面ぞの均䞀被芆性や密着
性を阻害するので極力少くなるようクロムメツキ
条件を遞定しおおく必芁があるが、公知のクロム
メツキ技術においおクロム氎和酞化物の生成を少
くするメツキ条件は経隓䞊次のこずが良く知られ
おおり実斜も容易である。 (1) 無氎クロム酞濃床通垞のクロムメツキは50
〜300で行われおいるが、80〜300
のように濃床は高目の方がクロム氎和酞化物の
生成は少い傟向にある。 (2) 助剀皮類、濃床代衚的なものずしお硫酞が
ある。北酞、硅北酞、硌北酞やそれらのアルカ
リ金属塩の単独又は硫酞ずの䜵甚添加も行われ
る。䞀般に北玠系の助剀の方が硫酞系の助剀よ
りもクロム氎和酞化物の生成を少くする傟向が
ある。助剀の量は、その皮類により若干異な぀
おくるが、クロム酞濃床の〜重量皋床で
ある。 (3) 济枩床通垞30〜60℃で行われおいるが、50
〜60℃ず高目にした方がクロム氎和酞化物の生
成は少い傟向にある。 (4) 陰極電流密床通垞10〜100Am2で行わ
れるが30〜100Am2ず高目の方がクロム氎
和酞化物の生成は少い傟向にある。 以䞊述べた公知のクロムメツキ技術においおク
ロム氎和酞化物の生成が少くなる条件を遞定する
こずにより、曎に必芁に応じおクロムメツキ通電
終了時に同济䞭で数秒間浞挬保持するこずによ
り、クロム氎和酞化物は盎ちに䞀郚溶解するの
で、クロム氎和酞化物量を〜10mgm2皋床にす
るこずは容易であり、このようにしお本発明の第
局のクロムメツキが斜される。 第局のクロムメツキに匕き続き、第局であ
る10〜500mgm2の錫又は錫・ニツケル合金メツ
キが斜される。この錫又は錫・ニツケル合金メツ
キを斜すにあたり、クロムメツキ埌に衚面に残留
しおいるクロム氎和酞化物が倚いず、錫又は錫・
ニツケル合金メツキの均䞀被芆、クロム面ぞの密
着性を阻害し少量の錫又は錫・ニツケル合金メツ
キ局による溶接性向䞊効果が達成できないので少
くする必芁があるこずは既に述べたが、クロム氎
和酞化物量ずしお〜10mgm2存圚しおいおも第
局の錫又は錫・ニツケル合金メツキは以䞋に述
べる方法により充分実斜できる。 たず、第局の錫メツキ局を斜す方法ずしお
は、ブリキ補造に䜿甚されおいる公知の錫メツキ
济においお錫むオン濃床を通垞䜿甚されおいる濃
床の玄1/3以䞋に遞定するこずを特城ずしおいる。
即ち、錫メツキ济ずしお酞濃床、添加剀の皮類、
圹割など基本的には公知の錫メツキ济である硫酞
第䞀錫济、塩化第䞀錫济などず同じであるが、錫
むオン濃床を䞋げるこずにより錫析出電流効率を
箄60以䞋ずする方法である。このように、電流
効率を䞋げるこずによりクロムメツキ衚面におけ
る氎玠発生が激しくなり、クロム氎和酞化物は剥
離しおクロムメツキ衚面は著しく掻性化されるこ
ずにより錫の良奜な衚面倖芳及び均䞀被芆が達成
されたず掚定される。䟋えば、硫酞第䞀錫济の堎
合は通垞錫むオン濃床ずしお20〜30以䞊で
䜿甚されおいるがクロムメツキ䞊に本济を適甚す
るに際しおは錫濃床を10以䞋ずするこずに
より実斜でき、メツキ条件ずしおは䟋えば䞋蚘の
通りである。 硫酞第錫〜10錫むオン濃床ずしお プノヌルスルフオン酞60液ずしお
10〜30 ゚トキシ化αナフトヌルスルフオン酞又ぱトキ
シ化αナフトヌル 〜 PH 0.5〜1.5 济枩床 30〜60℃ 陰極電流密床 〜20Am2 又、塩化第䞀錫济の䟋ずしお 塩化第䞀錫〜10錫むオン濃床ずしお 北化ナトリりム 20〜30 塩化ナトリりム 40〜50 れラチン 0.5〜 PH 〜 济枩床 50〜60℃ 電流密床 〜50Am2 第局のクロムメツキ䞊に特にクロム氎和酞化
物を陀去するこずなく、錫メツキを斜す方法ずし
お特に重芁なこずは、PH0.5〜の酞性錫メツキ
济䞭においお、錫むオン濃床を〜10ずす
るこずである。その他の济条件である硫酞、プ
ノヌルスルフオン酞などの酞床調敎、゚トキシ化
α−ナフトヌルスルフオン酞、β−ナフトヌルな
どの添加剀皮類は公知の酞性錫メツキ济ず同じで
あり、特に芏定しない。錫むオン濃床は先述のよ
うに通垞の錫メツキ济の玄1/3以䞋ずされ、10
以䞋で均䞀䞔぀密着性のある錫メツキ局が
埗られる。未満では錫析出電流効率が極
端に悪くなり実甚的でない。PHは以䞋であれ
ば、酞によるクロム衚面の掻性化が達成され良奜
な錫メツキが埗られるが、より奜たしくはPH以
䞋ずされる。PH0.5未満ではクロム衚面が掻性ず
なり過ぎるためか若干のクロム溶解を生じるので
䞍郜合である。䞊蚘のような錫メツキ济組成、条
件によりクロムメツキ䞊でも容易に錫局を均䞀に
被芆させるこずができるが、この錫メツキを斜す
前にクロムメツキ盎埌のクロム面䞊に生成しおい
るクロム氎和酞化物を陀去しおおけば錫メツキ局
をさらに均䞀に被芆させうるこずは勿論である。
クロムメツキ䞊のクロム氎和酞化物を陀去する条
件ずしおは枩酞性溶液䞭での陰極電解が最も効果
的である。即ち、PH0.5〜の硫酞、塩酞、及び
硫酞ず塩酞の氎溶液䞭においお、枩床30〜70℃、
陰極電流密床〜50Am2、凊理時間0.5〜
秒で実斜される。 第局のクロムメツキを斜した埌、クロムメツ
キ衚面に䞍可避的に生成しおいるクロム氎和酞化
物を陀去し、匕き続き行われるメツキを良奜にさ
せる方法ずしおは、前述の特公昭33−1455号に提
案されおいるように熱アルカリ氎溶液䞭で浞挬、
又は陜極電解する方法などあるが、本発明の溶接
猶甚衚面凊理鋌板の補造においおは前述の枩酞性
氎溶液䞭における陰極電解法が最も効果的であり
䜜業性も良いこずを芋い出した。本方法においお
は硫酞、塩酞などの匷酞が䜿甚されPHは0.5〜
に調敎する必芁がある。PHが0.5未満にな぀おも、
クロム氎和酞化物の陀去ずいう芳点からは効果的
であるが、酞の䜜甚により金属クロムの溶解が生
じやすくなるから䞍郜合である。又、PHがをこ
えるず陀去効果を埗るのに時間を芁するばかりで
埗策でない。枩床が30℃未満では陀去効果を埗る
のに時間を芁し実甚的でない。又、枩床が70℃を
こえるず金属クロムの溶解が生じやすくなる。こ
のような枩酞性溶液䞭で最も効果的な陰極電解条
件は電流密床〜50Am2、時間0.5〜秒ず
芏定される。電流密床、時間ずも䞋限条件以䞋で
はクロム氎和酞化物の陀去効果が䞍充分ずなる。
電流密床は行くなるほど、効果は著しくなるが飜
和しおしたい50Am2以䞊は必芁ない。又、時
間も長くなるほど陀去効果は倧きくなるが、秒
以䞊では金属クロムの溶解が生じ易くなり実甚的
でない。 䞊蚘のような条件でクロムメツキ䞊のクロム氎
和酞化物を陀去した堎合は、匕き続き行われる錫
メツキ条件は錫むオン濃床を䞋げるなど条件を特
に遞定する必芁はなく、公知の硫酞第䞀錫济、塩
化第䞀錫济などがそのたた䜿甚される。䟋えば、
硫酞第錫济ずしおは 硫酞第䞀錫 30錫むオン濃床ずしお プノヌルスルフオン酞60液ずしお
30 ゚トキシ化αナフトヌルスルフオン酞又ぱトキ
シ化αナフトヌル  济枩床 30〜60℃ 陰極電流密床 〜30Am2 塩化第䞀錫济ずしおは、 塩化第䞀錫 30 北化ナトリりム 30 塩化ナトリりム 50 れラチン  济枩床 50〜60℃ 電流密床 〜50Am2 などが䜿甚される。 次に、第局ずしお錫・ニツケル合金を斜す堎
合は公知のピロリン酞塩系、塩化物系、北化物系
錫・ニツケル合金メツキ济が䜿甚されるが、この
堎合メツキに先立ちクロム氎和酞化物を必ずしも
陀去しおおく必芁はない。ピロリン酞塩系メツキ
济ずしお䟋えば、 塩化第䞀錫〜40錫むオン濃床ずしお 塩化ニツケル
〜20ニツケルむオン濃床ずしお グリシン 10〜30 ピロリン酞カリりム 80〜200 PH 〜10 济枩床 40〜60℃ 電流密床 〜30Am2 䞊蚘のようなPH〜10のアルカリ性錫・ニツケ
ル合金メツキ济においお錫むオンニツケルむオ
ン濃床比を0.1〜ずするこずによりニツケル含
有率20〜60重量の錫・ニツケル合金メツキが埗
られる。錫むオン・ニツケルむオン濃床の䞋限未
満では析出電流効率が極端に䜎䞋するこず、又䞊
限濃床を越えるずメツキ液のすくい出し䞭に含た
れる錫、ニツケルの損倱が倧きくなり実甚的でな
い。 塩化物系メツキ济ずしおは、 塩化第䞀錫〜70錫むオン濃床ずしお 塩化ニツケル
〜80ニツケルむオン濃床ずしお ゚チレングリコヌル 30〜100 塩酞37 20〜60 PH 0.5〜 济枩床 30〜60℃ 電流密床 〜30Am2 䞊蚘のようなPH0.5〜の酞性錫・ニツケル合
金メツキ济においおは錫むオンニツケルむオン
濃床比を0.1〜0.8ずするこずによりニツケル含有
率20〜60重量の錫・ニツケル合金メツキが埗ら
れる。アルカリ济の堎合ず同じように、錫むオ
ン、ニツケルむオン濃床の䞋限未満では析出電流
効率が極端に䜎䞋するこず、又䞊限濃床を越える
ずメツキ液のすくい出し䞭に含たれる錫、ニツケ
ルの損倱が倧きくなり実甚的でない。アルカリ
济、酞性济ずもにPH調敎剀、添加剀は公知の济ず
同じであり、特に芏定しない。 以䞊述べた济組成、条件によりNi含有率20〜
60重量の錫・ニツケル合金メツキを埗るこずが
できる。Ni含有率ずしお20〜60重量を倖れた
錫・ニツケル合金メツキ組成のものも、济組成、
電解条件を遞定するこずにより埗られるが、先に
䟋ずしお挙げた公知のピロリン酞塩济、塩化物济
の錫むオンニツケルむオン濃床比を倉えるこず
により安定しお埗られるNi含有率はおおむね20
〜60重量であり、本発明の第局である錫・ニ
ツケル合金メツキ局も容易に実斜できる。 第局のクロム氎和酞化物は、通垞のクロメヌ
ト凊理法が䜿甚される。䟋えば、クロム酞、重ク
ロム酞塩重クロム酞゜ヌダ、重クロム酞カリ、
重クロム酞アンモンなどの氎溶液䞭で陰極電解
するこずにより圢成される。なお、䞊蚘の济にお
いおクロム氎和酞化物の析出効率の向䞊のため、
少量の硫酞、北化物など通垞クロムメツキで䜿わ
れおいる助剀を加えるこずもできるが、この堎合
同時に金属クロムも析出しやすくなり、溶接性向
䞊には逆効果ずなるので添加量、電流密床を䞋げ
るなど条件を遞定し、金属クロムの析出を防ぐ必
芁がある。 クロム酞、重クロム酞塩を䜿甚し、助剀を党く
添加しない堎合は、Cr+6濃床〜30、枩床
30〜70℃、陰極電流密床〜20Am2、電気量
〜40ク−ロンm2で凊理される。クロム酞を
䜿甚し助剀を添加する堎合はCrO3濃床10〜50
、助剀はクロム酞濃床に察し0.2〜重量
、枩床30〜60℃、陰極電流密床〜10A
m2、電気量〜20cm2で凊理される。 以䞊説明したように本発明の溶接猶甚衚面凊理
鋌板は、埓来のTFS−CTよりはるかに優れた溶
接性をも぀ものであるが、溶接性以倖の特性、即
ち耐食性、塗装性胜、衚面色調もTFS−CTず同
じように優れおおり、溶接猶以倖の甚途である猶
蓋、DRD猶二回絞り法による成圢猶、セメン
トサむドシヌム猶などにも充分䜿甚できる。 以䞋、実斜䟋により本発明を詳现に説明する。 実斜䟋 通垞の方法で脱脂NaOH70、枩床80
℃、電流密床5Am2、時間秒、酞掗
H2SO470、枩床25℃、秒間浞挬され
た鋌板厚さ0.22mmを甚いお行぀た。第局
金属クロムの圢成、クロム氎和酞化物の陀去、
第局錫、又は錫・ニツケル合金、第局
クロム氎和酞化物の圢成は第衚に瀺す凊理
条件で実斜し、第衚にそれらの特性評䟡結果を
瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】 実斜䟋、は第局のクロムメツキ埌にクロ
ム氎和酞化物を陀去せずに第局の錫メツキを斜
したものであり、錫むオン濃床を通垞济の玄1/3
以䞋にした济を䜿甚したものである。実斜䟋、
はクロム氎和酞化物を枩酞性氎溶液䞭での陰極
電解により陀去埌に錫メツキを通垞济で斜したも
のである。実斜䟋、、は第局ずしお錫・
ニツケル合金メツキを斜したものであるが、この
ようにニツケルを含有させおも良奜な特性を瀺
し、いずれの実斜䟋も埓来のTFS−CTである比
范䟋よりも栌段に優れた溶接性を瀺しおいる。
比范䟋は、第局の金属クロムがない堎合であ
るが、溶接性は、第局に金属クロムがあるいず
れの実斜䟋よりもはるかに劣぀おいる。比范䟋
は皮膜構成順を逆転させ第局を錫メツキ、第
局を金属クロムずしたものであるが、溶接性は実
斜䟋よりはるかに悪く、第局が金属クロム、第
局が錫ずしなければならないずする本発明の特
城が良く理解される。 第衚に瀺した特性評䟡の詊隓方法を次に説明
する。 (1) 溶接性詊隓 溶接性は、均䞀なナゲツト圢成及び充分な溶
接匷床を埗るのに必芁な電流䞋限ず玠地鋌板の
䞀郚が溶解飛散スプラツシナ発生しおした
う電流䞊限の差より求めた適正溶接電流範囲の
倧小によ぀お衚わされ、この範囲が倧きいほど
溶接性が良奜ずされおいる。この適正溶接電流
範囲は溶接猶甚材料鋌板を枚重ねした時の接
觊電気抵抗倀ず良い盞関があり、䟋えば、鉄
鋌協䌚第106回講挔倧䌚講挔番号507、1983幎、
13号、69巻接觊電気抵抗が䜎いほど適正溶接
電流範囲は倧きい。そこで、本発明の溶接猶甚
衚面凊理鋌板の溶接性詊隓ずしおこの接觊電気
抵抗倀枬定を実斜した。 この接觊電気抵抗倀は以䞋に述べる方法によ
り枬定した。それぞれの円呚が点で接觊する
ように察眮した぀の銅補円盀電極盎埄65
mm、厚さmmの接觊郚䜍に枚重ねした詊料
板20mm×100mmを挟み電極間を50Kgの荷重
で加圧する。぀の円盀電極間に5Aの盎流電
流を流し呚速minで回転させお詊料板を
移動させながら電極間の電圧を枬定し、接觊電
気抵抗倀単䜍ミリオヌムを求めた。尚、
詊料板はすべお210℃で20分間の加熱凊理を斜
しおから枬定に䟛した。 (2) 塗装埌耐食性詊隓 詊料に゚ポキシ・プノヌル系内面塗料を60
mgm2塗垃し、210℃で12分間焌付けた埌、
鋭利な刃物で塗膜面から玠地鋌板に達する疵を
十文字に入れ、これを1.5ク゚ン酞−1.5食
塩からなる腐食液䞭に浞挬しお50℃で日間経
時させた埌にセロフアンテヌプで疵郚付近の塗
膜を剥離しお、腐食巟を含む腐食状態を䞋蚘の
五段階法により評䟡した。 著しく良奜、良奜、やや劣る、
劣る、著しく劣る (3) 塗料密着性詊隓 塗装埌耐食性詊隓ず同じ方法で塗装焌付した
詊料を盎埄80mmの円板に打ち抜き、絞り比で
カツプに絞り、カツプの倖面偎壁郚塗膜をセロ
フアンテヌプにより剥離しお、䞋蚘五段階法に
より評䟡した。 剥離なし、僅かに剥離、少し剥
離、ほずんど剥離、党面剥離。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  鋌板衚面に片面圓り30〜300mgm2のクロム
    メツキ局ず、該クロムメツキ局䞊に片面圓り10〜
    500mgm2の錫メツキ局か又はニツケル含有率20
    〜60重量の錫・ニツケル合金メツキ局ず、曎に
    その䞊にクロム換算で片面圓り〜18mgm2のク
    ロム氎和酞化物局が圢成されたこずを特城ずする
    溶接猶甚衚面凊理鋌板。  鋌板衚面に片面圓り30〜300mgm2のクロム
    メツキを斜した埌、PH0.5〜の硫酞、塩酞、及
    び硫酞ず塩酞の氎溶液䞭においお枩床30〜70℃、
    陰極電流密床〜50Am2で0.5〜秒間凊理
    しおクロムメツキ衚面に残存しおいるクロム氎和
    酞化物を陀去し、次に片面圓り10〜500mgm2の
    錫メツキか又はニツケル含有率20〜60重量の
    錫・ニツケル合金メツキを斜し、曎にクロム換算
    で〜18mgm2のクロム氎和酞化物を圢成させる
    こずを特城ずする溶接猶甚衚面凊理鋌板の補造方
    法。  鋌板衚面に片面圓り30〜300mgm2のクロム
    メツキを斜した埌、錫むオン濃床〜10を
    含むPH0.5〜の酞性錫メツキ济を䜿぀お10〜500
    mgm2の錫メツキを斜すか、又は錫むオン濃床
    〜40、ニツケルむオン濃床〜20を
    含み錫むオンニツケルむオン濃床比0.1〜で
    あるPH〜10のアルカリ性錫・ニツケル合金メツ
    キ济もしくは錫むオン濃床〜70、ニツケ
    ルむオン濃床〜80を含み錫むオンニツ
    ケルむオン濃床比0.1〜0.8であるPH0.5〜の酞性
    錫・ニツケル合金メツキ济を䜿぀お10〜500mg
    m2のニツケル含有率20〜60重量錫・ニツケル合
    金メツキを斜し、曎にクロム換算で〜18mgm2
    のクロム氎和酞化物を圢成させるこずを特城ずす
    る溶接猶甚衚面凊理鋌板の補造方法。
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