JPS63199896A - 溶接性、塗料密着性及び塗装後耐食性に優れた溶接缶用表面処理鋼板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は溶接性、塗料密着性及び塗装後耐食性に優れた
溶接缶用表面処理鋼板の製造法に関する↓、出ヤ訊ス− （従来の技術） 従来より、容器用表面処理鋼板として電解Ｓｎめっき鋼
板（以下ブリキと称す）と電解クロム酸処理鋼板（以下
ＴＦＳ−ＣＴと称す）が主に使用されてきた。

これらの素材を使用して３ピ一ス缶を製缶する際、ブリ
キの場合はハンダ缶に、ＴＦＳ−ＣＴの場合は接着缶に
主に使用されてきた。

しかし近年スードロニツク法で代表されるシーム溶接製
缶法の実用化が急速に進展している。このシーム溶接製
缶法にはブリキは使用できるが、ＴＦＳ−ＣＴはその表
面の水和酸化クロム、金属クロムがシーム溶接性を阻害
するため実用的には、シーム溶接の前に表面クロム層を
研削除去しなければならず、一般的でない。又ブリキも
シーム溶接性は良好であるが、Ｓｎ価格の上昇等によっ
てそのコストが高く、シーム溶接缶用表面処理鋼板とし
てブリキに代わり得る低コストかつ高性能な新素材の開
発が望まれている。これらの状況に対応して特開昭６０
−１７０９９号公報のように（Ｎｉ−Ｆｅ）系合金層を
下地処理として施し、薄Ｓｎめっき後クロメート処理を
行なう薄Ｓｎめっき鋼板（以下ＬＴＳと記す）が開発さ
れている。

シーム溶接性の向上に効果があるのは、塗装焼き付は後
残留する、ｆｒｅｅ　−Ｓｎ量であり多ければ多い程シ
ーム溶接性は良好である。

又、シーム溶接性を阻害するのは最表面のクロメート被
膜であり、これは金属クロムが高融点であり、水和酸化
クロムは、絶縁体のため、局部的な過電流が発生し“′
散り″の発生となりやすい。

“散り”の発生を避けるため、溶接電流を下げると溶接
部の強度不足となる。

残留ｆｒｅｅ−８ｎ量が多い場合、（例えば＃２５ブリ
キ＠番の場合など）表面クロメート被膜量は、シーム溶
接性にはあまり悪影響を及ぼさず、シーム溶接性は良好
である。しかし残留ｆｒｅｅ、−Ｓｎ量が５０〜２００
ｍｇ／　ｒｄと少ない領域のＬＴＳはシーム溶接性には
、表面クロメート被膜量が支配的になりクロメート被膜
量は少なければ少ない程シーム溶接性は良好である。

ここで、　Ｓｎめっき層上のクロメート処理技術として
従来よりＮａ２ＣｒＯ□系浴あるいはＣｒｙ、−５ｏ４
”−系浴中での重解処理法があるが、シーム溶接性向上
のためクロメート付着量を下げると塗料密着性及び塗装
機耐食性が大巾に劣化する。これはこれらのクロメート
処理により生成するクロメート被膜は被膜性に劣り、Ｓ
ｎめっき層の表面が露出するため、塗料密着性及び塗装
機耐食性が劣化するものである。さらに経時によりＳｎ
酸化膜が成長するため、塗料密着性及び塗装機耐食性も
経時劣化が認められる。

（発明が解決しようとする問題点） かかる状況から本発明者等は溶接缶用ＬＴＳ（薄Ｓｎめ
っき鋼板）のシーム溶接性を向上させるため、薄クロメ
ート被膜を施し、かつ薄クロメート被膜でも塗料密着性
及び塗装機耐食性を劣化させない高性能クロメート処理
法の開発を行なったものである。

（問題点を解決するための手段） その要旨は鋼板表面にＮｉ　ｗｔ％で２〜５０％の（Ｎ
ｉ−Ｆａ）合金めっきを５０〜４００ｍｇ／　ｒｄ施し
該（Ｎｉ−Ｆｅ）合金めっき層上にＳｎめっきを行なっ
た後、リフロー処理を施し、その後に１０〜２００ｇ／
ｊ２の無水クロム酸を主剤とし、弗素化合物と硫黄化合
物を助剤として０．０１〜１０．０ｇ／　Ｑ含む溶液中
で電流密度１〜２００Ａ／ｄａ”で陰極処理し、クロム
量として１〜ｌＱｍｇ／ｍ２のクロメート被膜を析出さ
せる溶接性、塗料密着性及び塗装機耐食性に優れた溶接
缶用表面処理鋼板の製造法である。

ＬＴＳのシーム溶接性は、塗装焼付は後残留するｆｒｅ
ｅ　−Ｓｎ量が５０〜２００ｍｇ／％と少ないため、表
面のクロメート被膜の影響が大きくなっている。つまり
、クロメート被膜は、金属クロムが高融点でかつ水和酸
化クロムが絶縁被膜のため、シーム溶接時に流れる溶接
電流が局部的に過電流となり急激な発熱により鉄の溶融
部が飛び出すいわゆる′″散り″が発生する。′散り”
の発生は缶塗装部に飛散し、塗膜欠陥の原因となったり
、溶接部補修塗料で被覆できない可能性があり、耐食性
の観点からも好ましくない。

このように表面クロメート被膜はシーム溶接性にはマイ
ナス要因となる。さらに、ＬＴＳ表面に生成するクロメ
ート被膜量により接触抵抗が異なるためその適正溶接範
囲が異なってくる。すなわちＬＴＳ鋼板表面のクロメー
ト被膜量のバラツキが大きい場合、場所によって適正溶
接範囲が異なりシーム溶接性という観点からは好ましい
ものではない。

ＬＴＳの良好かつ安定なシーム溶接性を確保するには塗
装焼き付は後のｆｒｅｅ−３ｎ量が少ない場合、表面ク
ロメート被膜量をできるだけ低減した均一な薄クロメー
ト被膜を施すことが重要である。塗装焼き付は後のｆｒ
ｅｅ−Ｓｎ残留量が５０〜２００ｍｇ／ｍ２の場合、表
面クロメート被膜量は少なければ少ない程よいが実用的
には全クロム量で１０ｍｇ／ｍ２以下で良好なシーム溶
接性は確保できる。好ましくは５ｍｇ／−以下が好まし
い。

次にシーム溶接性を向上させるためクロメート被膜量を
低減すると塗料密着性と塗装機耐食性が劣化するという
問題がおこる。

溶接缶用ＬＴＳは塗装缶として使用されるので塗料密着
性及び塗装機耐食性の劣化は性能特性上大きな問題であ
る。

ＬＴＳの塗料密着性及び塗装機耐食性を向上させる因子
には、■クロメート被膜のオキソ化度の向上、■クロメ
ート被膜中のアニオン量の低減、■クロメート被膜の被
覆性の向上、■錫酸化膜量の低減等が考えられ、これら
の因子を全べて満足すれば薄クロメート被膜で塗料密着
性のよいＬＴＳを得ることができる。

まず、クロメート被膜の質についてはオキソ結合の割合
の高い、つまりオキソ化度の高いクロメート被膜が塗料
密着性に優れている。これはオール結合を含むルーズな
りロメート被膜が少なく、クロメート被膜と塗料が強固
な結合をするためである。

ところが、本発明に従い弗素化合物と硫黄化合物を含む
無水クロム酸溶液中から生成するクロメート被膜は、Ｎ
ａ２Ｃｒ、　Ｏ□系浴あるいはＣｒｙ３−ＳＯ４”−系
処理浴から生成するクロメート被膜に比べてオキソ化度
は向上しており、コンパクトで強固なりロメート被膜を
生成している。

クロメート被膜中のアニオン量（Ｆ、Ｓ等）が多い場合
、クロメート被膜中からアニオンが溶出するため特に二
次塗料密着性あるいは塗膜不腐食性に悪影響を及ぼす。

そのため、クロメート被膜中のアニオン量は極力低減す
ることが望ましく本発明においても弗素化合物と硫黄化
合物の無水クロム酸への添加量をコントロールすること
により水和酸化クロムのムラ付きを発生させることなく
クロメート被膜中へのアニオンの取り込みを低減できる
。Ｎａ、　Ｃｒ、　Ｏ，系処理浴の場合、不純物程度し
かアニオンが浴中に存在せず、クロメート被膜中にアニ
オンを多量に取り込むことはないｅ　Ｃｒｙ、−５ｏ４
２−系処理浴では、水和酸化クロムのムラ付きを発生さ
せない程度の５Ｏ９２″″を洛中に添加すると、クロメ
ート被膜中にも多くのｓｏ、２−が取り込まれる。

この被膜中のＳＯ４２−はクロメート処理後の高温水洗
等で除去可能であるが完全にｓｏ、”″を除去するのは
困難である。

又、クロメート被膜の均一被覆性は、例えばＣＭＡ（Ｃ
ｏｍｐｕｔｅｒ　Ｍｉｃｒｏ　Ａｎａｌｙｚｅｒ）でマ
ツピングにより評価すると、本発明の弗素化合物と硫黄
化合物を添加した無水クロム酸水溶液中で、陰極処理に
よるクロメート被膜は極めて優れた均一被覆性を示す。

しかしＮａ２Ｃｒ、　Ｏ□系処理浴から生成するクロメ
ート被膜はクロムが島状に点在し、均一被覆性は非常に
劣る。又、ＣｒＯ□−８Ｏ４！−系処理浴からのクロメ
ート被膜もＮａ３Ｃｒ、　Ｏ，系処理浴に比べて若干の
被覆性は向上するものの、薄クロメート被膜ではＳｎめ
っき層表面を完全に被覆していない。

錫の酸化膜量については、錫の酸化膜はもろいため、酸
化膜量が多い場合、酸化膜の凝集破壊により塗膜剥離の
原因となることが多い。ＬＴＳのリフロー処理の際生成
する錫酸化膜、経時により成長増加する酸化膜とも塗料
密着性の観点からは好ましいものではない。

本発明の弗素化合物と硫黄化合物を添加した無水クロム
酸水溶液での陰極処理によるクロム析出効率は極めて低
く、例えば１０〜３０ｃ／ｄｍ”のクーロンｖＩ′＆−
かけτも々ロムＲ薯暑け３〜Ａ＋ｎｅ／−で訊る。クロ
ム析出効率が低いということは、リフロ一時に生成した
錫酸化膜を陰極電解処理中に還元していることを意味し
、本発明により製造したＬＴＳの錫酸化膜量は非常に低
い。又、上述したように本発明のクロメート被膜は均一
被覆性に極めて優れているため経時による錫酸化膜の成
長、増加はほとんど認められない。これに対しＮａ２Ｃ
ｒ、　Ｏ，系処理浴、Ｃｒｙ、−５ｏ４”−系処理浴で
の陰極処理ではクーロン数に応じてクロム付着量は増加
するので、陰極還元により、錫酸化膜を完全に除去する
のは難しい。さらに両者ともクロメート被膜の均一被覆
性に劣るため経時による錫酸化膜の増加が認められ、塗
料密着性も劣化する。

これまで述べてきたようにブリキの塗料密着性に関して
は１本発明の弗素化合物と硫黄化合物を添加した無水ク
ロム酸溶液中での陰極処理によりクロム付着量で１０ｍ
ｇ／ｍ２以下の薄クロメート被膜でも極めて優れた塗料
密着性及び塗装機耐食性を有するＬＴＳを得ることがで
きる。

さらに外観についても薄クロメート被膜なので非常に良
好であり、ライン製造時においても電解処理条件ライン
スピードによりクロム付着量はほとんど影響されず、ク
ロム量として１０ｍｇ／　ｒｄ以下の薄クロメート被膜
にコントロールすることも容易である。

さらに本発明について詳細に説明する。

本発明において薄鋼板には現在鉄鋼業界で広く一般に行
なわれているブリキ、ティンフリースチール（Ｔ、Ｆ、
Ｓ、）等の表面処理鋼板用として製造されている例えば
冷間圧延、焼鈍調質圧延又は２回目冷間圧延等を施され
、表面処理鋼板用原板として調整された各種の冷延鋼板
を用いる。

鋼板は、現在表面処理鋼板製造の前処理即ちアルカリ洗
滌、酸洗を施して表面活性化した後、Ｎｉ−Ｆｅ合金メ
ッキが施される。Ｎｉ−Ｆｅ系合金メッキ浴は硫酸塩浴
、塩化物浴、硫酸塩−塩化物浴、シアン浴、クエン酸浴
、ピロリン酸浴等多くあるが、硫酸塩浴、硫酸塩−塩化
物浴、もしくは塩化物系浴がメッキ作業性、コスト面か
ら適している。

例えば硫酸鉄−硫酸ニッケルー酢酸ソーダー−硫酸ソー
ダー系浴、或いは硫酸鉄−硫酸ニッケルー塩化ニッケル
ーホウ酸系浴等が用いられる。

而して、Ｎｉ−Ｆｅ系合金メッキ下地被覆層の被膜構成
は、　Ｎｉ含有量２〜５０％のＮｉ−Ｆｅ系合金被膜組
成のものを用いる必要がある。Ｎ１含有量が５０％以上
では、塗装焼付は等の加熱処理を行なった場合にＳｎの
拡散反応によりＮｉを含有する合金化反応が著しくなり
生成される合金層の均一緻密性が増加し合金層のピンホ
ールは減少する（所謂ＡＴＣ値の減少）が、フリーで残
存するＳｎ被覆層が減少するので溶接性、耐食寿命に好
ましくない。

以上の点から、Ｎｉ含有量は２〜５０％未満、Ｎｉ−Ｆ
ｅ系合金被覆層が選定される。

また、Ｎｉ含有量の下限は２％以上の範囲で使用される
が、これはＮｉ含有量が２％未満ではＳｎとの反応によ
り生成される合金層の均一緻密性を劣化する傾向にある
。

本発明において（Ｎｉ−Ｆｅ）合金層の深さ方向のＮｉ
％をコントロールしてもよく、この場合のＮｉ％の平均
濃度も２〜５０％の範囲とする。

この場合Ｓｎとの塗装焼付は時の加熱処理によって生成
される合金層の成長が、Ｓｎと接触する面でＮｉ濃度が
少ないために抑制されフリーなＳｎの残存量が多くなる
。

一方下面側に生成されるＮｉ含有量の多い、Ｓｎ、Ｆｅ
、Ｎｉからなる合金層は均一緻密性にすぐれ、ＡＴＣ値
の低い、ピンホールの少ない合金層に生成される。

このようなＮｉ含有量の二層型Ｎｉ−Ｆｅ系合金下地被
覆層は、同一メッキ浴組成を用いて鋼板に最初電流密度
を高くしてＮｉ−Ｆｅ系合金メッキを行ない、続いて電
流密度を低くしてＮｉ−Ｆｅ系合金メッキを行なう事に
よって容易に形成される。

或いは電気メッキ浴のＮｉイオン濃度の調整によって、
最初はＮｉ濃度の高いメッキ浴で電解処理を行ない、次
いでＮｉイオン濃度を低下せしめたメッキ浴を用いて、
電解処理を施す事によって容易に形成できる。

又、下地被覆層としそのＮｉ−Ｆｅ系合金層の被膜量は
、５０〜４００ｍｇ／　ｒｄ、の付着量のものがよい。

これは、該被膜量が５０＋ａｇ／　ｒｄ未満では、鋼板
表面を均一に被覆するのが困難になる場合があり、本発
明の目的とするフリーＳｎの残存効果及びＮｉを含有す
る。緻密な合金層の均一生成を劣化する傾向にある。

一方、４００ｍｇ／ボをこえると、Ｎｉ　−Ｆｅ系合金
被覆層は鋼板、Ｆｅ−３ｎ系の合金層に比較して、幾分
硬質なため、曲げ加工、リベット加工等においてクラッ
クの発生を生じるので好ましくない場合がある。

尚、Ｎｉ−Ｆｅ系合金下地被覆層中に不可避的不純物と
して含有されるＧｏ、　Ｓｎ等が含有されても何ら本発
明の効果を妨げるものではない。

次いで、これらのＮｉ　−Ｆｅ系合金下地被覆層を施し
てから、水洗後にＳｎメッキの上層メッキを行なう。こ
のＳｎメッキ法はその方法、電解処理条件等何ら規定す
るものではなく、現在ブリキの製造で広く用いられてい
るフェロスタン浴、ハロゲン浴、あるいはその他のＳｎ
電気メッキ浴の何れを使用してもよい。

又、Ｓｎメッキ量は特に規定するものではないが。

低Ｓｎ付着量の場合に、下層のＮｉ−Ｆｅ系合金下地被
覆層の効果によって、均一緻密な合金層の生成、フリー
なＳｎ被覆層の確保、　Ｓｎ被覆層の均一電着性の向上
により、すぐれた耐食性、溶接性、耐食寿命の延長を計
るものであるから、Ｓｎ付着量２５００ｍｇ／イイア下
好ましくは１５００ｍｇ／　ｒｄ以下のＳｎ付着量を適
用するのが、特に前記の効果が大きく、経済的に望まし
い。

又、Ｓｎ付着量の下限量は、少ないと製缶工程における
加熱処理を受けた場合に、フリーなＳｎ被膜量の残存が
少なく、メッキ欠陥部の防食機能が劣る事、又被覆層が
殆んどＮｉ、Ｆｅ、Ｓｎを含有する合金層で形成される
ためフリーなＳｎ被覆量が多い場合に比して接触抵抗が
高くなり、溶接性が劣る事などによる問題から、５００
ｍｇ／−以上、好ましくは６００ｍｇ／イ以上がよい。

Ｓｎめっき後引き続きメルト処理（溶鍋処理）が施され
る。

本発明においてこのメルト処理を実施する事によって、
メルト処理を行なわずに塗装焼付は処理等の加熱処理に
よって生成される合金層に比して。

Ｓｎが溶融した状態でＮｉ−Ｆｅ系合金被覆層と短時間
で反応するためか、極めて均一微細な合金層が生成され
るためか、ＡＴＣ値が極めて低くなるとともに、製缶工
程において受ける加熱処理に対してこの合金層が鋼板表
面とメッキ層Ｓｎの拡散阻害層となって、フリーＳｎの
減少を防止する効果が大きくなり、溶接性、耐食性の点
で極めて有利である。

さらに、メルト処理による均一緻密な合金層の生成によ
るＡＴＣ値の向上により、Ｓｎの腐食環境での溶出速度
が小さくなるので、塗装された場合の塗膜上腐食の点で
も有利である。

とのメルト処理において、Ｓｎメッキ後通常はメッキ浴
の濃度を低くした溶液中に浸漬して、該溶液をフラック
スとしてＳｎメッキ面に塗布されて加熱溶融される０本
発明においては下地Ｎ１−Ｆａ合金被覆層の影響により
、この方法では外観が黒っぽい光沢状になるので、前記
溶液の代りに水道水又はメッキ浴の１１１０以下の希薄
溶液中に浸漬して、メルト処理を行なうのが外観が白色
光沢状になるので特に好ましい。

次いで該Ｓｎめっき層表面にクロメート処理が施される
。このクロメート処理はＬＴＳの塗料密着性及び缶内面
において水溶液状の内容物が塗膜を透過し、鋼板と塗膜
界面で腐食が進行するアンダーカッティングコロ−ジョ
ン（以下ＵＣＣと記す）を防止するため施される。そし
て長期にわたり塗膜の密着性が劣化せず良好な耐食性が
維持される。又クロメート被膜は硫黄化合物を含む食品
１例えば魚肉、畜産物等の場合にみられる錫の硫化物に
よる黒変を防止する効果も大きい。

このようにクロメート被膜はＬＴＳが塗装して用いられ
る場合にはその塗装性能を飛躍的に高めるが、溶接性と
いう性能特性に対してはマイナス要因となる。特にクロ
メート付着量が多い場合溶接性の劣化程度は大きい。つ
まりブリキの性能特性を最大限発揮するには薄クロメー
ト被膜で塗料密着性、塗装性能及び耐硫性が良好でかつ
溶接性を阻害しないような高性能クロメート被膜を施さ
なくてはならない。クロム付着量は少なければ少ない程
好ましい訳であるが、実用上溶接性を阻害しないクロム
付着量の上限は１０ｍｇ／ｍ２であり、特に好ましくは
５　ｍｇ／イである。

まず溶接性に関してはクロメート被膜は絶縁体のためシ
ーム溶接時に接触抵抗が上昇し、局部的な過電流が流れ
溶融金属の飛び出し、いわゆる″散り″の発生を促すの
で適正溶接範囲が狭くなり溶接性の劣化を招く。この傾
向は特に＃２５　Ｓｎ目付以下のＬＴＳにおいて顕著で
あり、実用上充分な適正溶接範囲を確保するにはクロメ
ート被膜量の上限はクロム量で１０ｍｇ／　ｒｄである
。

またクロメート被膜量の下限は塗料密着性、ＵＣＣ性、
耐硫性から多い方が好ましいが本発明のクロメート処理
を行なうことにより、クロム量でＩ　Ｂ／　ｒｒ？以上
のクロメート被膜量で良好な塗料密着性、ＵＣＣ性及び
耐硫性を確保できる。クロム量でＩＢ／ｍ２未満である
と上述した良好な塗料密着性を確保する条件のうちクロ
メート被膜の被覆性及び錫酸化膜量の低減という条件を
満足するのが難しくなる。すなわちクロム量で１　ｍｇ
／−未満のクロメート被膜ではＬＴＳの錫表面を完全に
被覆することは難しく錫が露出する領域が発生し塗料と
の接触面積が減少し、かつ経時により錫酸化膜が成長増
加し、塗料密着性が劣化する。

またクロム量で１ｍｇ／ｍ２未満のクロメート被膜量を
付着させる電解処理条件ではメルト時に生成した錫酸化
膜を充分還元除去することができず、初期の錫酸化膜を
低減することはできず、良好な塗料密着性を得ることは
できない。

このようにＬＴＳの特性（塗料密着性、ＵＣＣ性、溶接
性等）を最大限発揮させる薄クロメート被膜のクロム付
着量は１〜１０ｍｇ／Ｊと選定できる。

クロメート処理は無水クロム酸に弗素化合物と硫黄化合
物を添加した水溶液中で陰極処理をすればよい。

無水クロム酸の濃度は２００ｇ／　Ｑ超では本発明の効
果が乏しく、１０ｇ／Ｑ未満では浴の電気抵抗が大きく
、エネルギー効率の観点から実用的ではなく１０ｇ／Ｑ
〜２００ｇ／　Ｑとする。弗素化合物と硫黄化合物から
なる助剤は１０ｇ／　Ｑ超では処理に際し錫層がエツチ
ング溶解し、ＬＴＳの外観を損なうと同時にクロメート
処理浴の劣化を招く。一方０．Ｏ１ｇ／　０未満ではク
ロメート被膜のムラ付きが発生し均一被覆性を損なうな
ど本発明の効果が得られず弗素化合物と硫黄化合物の添
加量は０．０１〜１０．０ｇ／　Ｑに規定される。

助剤としての弗素化合物は特に規定するものではないが
、例えば弗化水素酸、ケイ弗化水素酸、はう弗化水素酸
あるいはアルカリ金属、アンモニウム、アルミニウムの
弗化物、ケイ弗化物、ホウ弗化物などを使用すればよい
。又、硫黄化合物も特に規定するものではないが、例え
ば硫酸、フェノールスルフォン酸フェノールジスルフオ
ン酸又はアルカリ金属、アンモニウム、アルミニウムの
硫酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、フェノールスルフォン
酸塩、フェノールスルフォン酸塩などを使用すればよい
。

電流密度は２００Ａ／ｄａ”超であっても本発明の効果
を妨げるものではないが、製造に際しても設備コストが
高くなるため、経済上の観点から２０ＯＡ／ｄａ”以下
が望しい、　ＩＡ／ｄ＋ａ”未満では均一被覆性に優れ
たクロメート被膜を得ることは難しく本発明の効果が減
少する。

また浴温に関しては特に規定するものではないが、操業
上４０〜６０℃の範囲が適当である。

上述の如き従来の方法に対し、本発明のように無水クロ
ム酸に弗素化合物と硫黄化合物を添加した水溶液中で陰
極処理することにより、クロム量で１〜１０ａ＋ｇ／−
の薄クロメート被膜で塗料密着性、ＵｅＣ性、溶特性が
飛躍的に向上する高性能溶接缶用ＬＴＳを得ることがで
きる。

又ここでいうクロメート被膜は主に水和酸化クロム層を
示すが、金属クロムが打出した二層型クロメート被膜で
あってもよい。

以下に本発明の実施例について述べる。その結果を第１
表に示す。

板厚０．２３ｍｍの冷延鋼板を５％ＮａＯＨ中で電解脱
脂し、水洗後１０％Ｈ，ＳＯ２中で電解酸洗して表面活
性Ｉ＋−１ｍ　Ｍ　　／　ｆ　％　１−＝＝＋Ｊ＋ＪＬ
屏＜／ｌ＋：　ｔｑ−ＳムＡｈホー務を行なった後、（
ＩＩ）に示す条件でＳｎめっきを施した。引き続きメル
ト処理を行なった後、（Ａ）〜（Ｃ）に示すクロメート
処理浴でクロメート被膜を生成させた。同時に比較例と
して（Ｄ）〜（Ｇ）に示すクロメート処理浴でクロメー
ト被膜を生成させたものを作製した。

（１）　　Ｎｉ−Ｆｅ系合金下地処理 メッキ浴組成　ＮｉＳＯ４・６）１，０　　　　　７５
ｇ／　ＱＮｉＣＱ　ｚ１４０ｇ／　Ｑ ＦｅＳ０４・７Ｈ，０７０〜１７０ｇ／　Ｑ（鉄濃度に
対応して変更） Ｈ，ＢＯ３４５ｇ／　Ｑ メッキ浴温　　５０℃ 電流密度　　　ＩＡ／ｄｍ”　〜３０Ａ／ｄｍ”二層型
Ｎｉ−Ｆｅ系合金メッキの場合には、電解初期は高電流
密度メッキを行ない、電解終期は低電流密度メッキを行
ない１表面側のＮｉ含有量を下層側より低くなる様に調
整した。

（Ｉｆ）　　Ｓｎメッキ被覆処理 メッキ浴組成　硫酸錫　　　　　　　　２０〜３０ｇ／
　Ｑメッキ浴温　　　　　　５０℃ 電流密度　　　　　　　１５Ａ／ｄ膿２クロメ一ト処理
条件 （Ａ）　　　Ｃｒｙ３８０ｇ／　ｆＩ ＳＯ４３−〇、０５〃 Ｎａ、ＳｉＦ、　　　　　　２．５　ｎＮＨ４Ｆ　　　
　　　　Ｑ、５ｔｔ （Ｂ）　　　Ｃｒｙ、　　　　　　　１９０ｇ／　ＱＳ
Ｏ，”−１，０１１ Ｎａ２ＳｉＦ、　　　　　　５．５　ｎＮＨ４Ｆ　　　
　　　　３．Ｑｎ （Ｃ）ＣｒＯ３，１５ｇＩＱ ８０．２−０．０２〃 Ｎａ、ＳｉＦ、　　　　　　０．２＃ （Ｄ）　　　Ｃｒ０３１００ｇ／　４１５０４”−１，
０＃ Ｎａ、ＳｉＦ、　　　　　　６．０ｎ ＮＨ４Ｆ　　　　　　　４．５＃ （Ｅ）　　　Ｃｒｙ２１００ｇ／　Ｑ ＳＯ，”−０，０１ｌｌ Ｎａ２５ｉＦ、　　　　　０．０５＃ （Ｆ）　　　Ｃｒｙ、　　　　　　１００ｇ／　ＱＳＯ
、”−０，６＃ （Ｇ）　　　Ｎａ、Ｃｒ、０．　　　２４ｇ／　Ｑ上記
処理材について以下に示すＡ−Ｆの項目について実施し
その性能を評価した。

Ａ　外観 表面の光沢を肉眼検査により評価した。

Ｂ　クロメート被膜の均一被覆性 ＣＭＡ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｍｉｃｒｏ　Ａｎａｌｙｚ
ｅｒ）を用いてビーム径２μ閣で縦、横４００点づつ計
１６００００点を電流値５μＡでクロム元素のＣＰＳを
測定し、あらかじめとっておいたクロムのＣＰＳとクロ
ム量の化学分析値との検量線に応じてテストピースのク
ロムの分布を測定し、クロメート被膜の均一被覆性の評
価を行なった。

Ｃ錫酸化膜量の評価 ０．００１Ｎ（７）臭化水素酸溶液中テ０．０５ｍＡ／
ｃｍ（７）電流密度で電解還元し、その電気量を測定し
た。単位はｍｃ／　ａｌである。

又経時による錫酸化膜の増加を評価するため、めっき直
後と６ケ月常温で経時させた後、錫酸化膜を測定した。

Ｄ　塗料密着性 テストピースの片面にエポキシフェノール系塗料を６０
ｍｇ／ｄＩ１１”塗布し、２１０℃で１０分間乾燥硬化
した。更に裏面に同じ塗料を塗布し、同様の条件で乾燥
硬化した。この試料を幅２０ＩＩＩｍ、長さ１００ｍｍ
に切り出し前述の表裏面を重ね合わせ、その２枚の試料
の間にナイロン系接着剤のテープをはさみ、ホットプレ
スを用いて２００℃で１００秒の予熱を行なった後３ｋ
ｇ／ａｔ？の加圧下に２００℃で３０秒間圧着を行なっ
た。この接着試片を引っ張り試験機で剥離し、その接着
強度をｋｇ／２０ｍｍで表わした。

Ｅ　　［Ｊ、Ｃ，Ｃ，（アンダーカットフィルムコロ−
ジョン）評価テスト 製缶用エポキシフェノール（フェノールリッチ）塗料を
片面当りの乾燥重量として５０ｍｇ／ｄｍ”となる焼付
を行い、更に１８０″ＣＸ２０分の空焼を行った。

そして塗装面にナイフでスクラッチを入れ、腐食液（１
，５％クエン酸−１，５％食塩）中に滑潰し、大気開放
下で５５℃で４日間保定した後、スクラッチ部及び平面
部をテープ剥離してスクラッチ部の塗膜剥離状態、スク
ラッチ部穿孔腐食状態（ピッティング）、及び平面部の
塗膜剥離状態を判定した。

Ｆ　耐硫化黒変テスト Ｅと同様な塗装を施した試片に１を曲げ加工を施し市販
のサバ水煮をミキサーにて均一化したものの中に浸漬し
、１１５℃Ｘ　９０ｍ１ｎのレトルト処理を行なった。

レトルト処理後、曲げ加工部及び平板部の硫化黒変性を
評価した。

Ｇ　シーム溶接性 ラップ代０．５ａｍ、溶接圧力４５ｎｇ、溶接スピード
４２０缶／ｍｉｎの条件で、溶接電流を変化させて、充
分な溶接強度が得られる最小溶接電流とスプラッシュ等
の溶接欠陥の発生が目立ち始める溶接電流の範囲の広さ
、及び溶接欠陥の発生状況を総合的１−東Ｃむｔイー加
ｒ屯 （発明の効果） 以上の如く１本発明によれば薄クロメート被膜でも極め
て優れた塗料密着性を有するブリキを製造することがで
きるので、産業上益するところが大である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）鋼板表面にＮｉｗｔ％で２〜５０％の（Ｎｉ−Ｆ
   ｅ）合金めっきを５０〜４００ｍｇ／ｍ＾２施し該（Ｎ
   ｉ−Ｆｅ）合金めっき層上にＳｎめっきを行なった後メ
   ルト処理を施し、その後に１０〜２００ｇ／ｌの無水ク
   ロム酸を主剤とし、弗素化合物と硫黄化合物を助剤とし
   て０．０１〜１００ｇ／ｌ含む溶液中で電流密度１〜２
   ００Ａ／ｄｍ＾２で陰極処理しクロム量として１〜１０
   ｍｇ／ｍ＾２のクロメート被膜を析出させることを特徴
   とする溶接性、塗料密着性及び塗装後耐食性に優れた溶
   接缶用表面処理鋼板の製造法。