JPS63137197A - 塗料密着性に優れたブリキの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、塗料密着性に優れたブリキの製造法に関する
ものである。

（従来の技術） ブリキはその優れた耐食性、金属光沢を有する外観等の
点から飲料缶、魚肉缶等の食缶、５ガロン缶等の一般缶
又イージーオープンエンド（以下ＥＯＥと記す）を含む
缶蓋用素材として広く用いられている。

これらの用途において、ブリキは大部分塗装、印刷後使
用されるが、この時の塗料密着性はブリキの重要な性能
特性の一つである。

ブリキの塗料密着性を確保するため、従来よりＮａアＣ
ｒｔ（ｈ透水溶液中で陰極処理あるいは浸漬処理により
クロメート被膜を生成させる方法がとられている。これ
らＮａｚＣｒｚＯ？系水溶液中の処理水溶液中るクロメ
ート被膜は処理条件によりクロム量換算で１〜１４■／
ｄ生成するが、オキソ結合の割合を示すオキソ化度が低
（かつ均一被覆性に劣るため、経時による錫酸化膜の増
加が著しく良好な塗料密着性を確保することは難しい。

そのため、製缶時での塗膜剥離あるいはそれに起因した
塗膜下腐食等の問題を発生することが多い。

この塗料密着性不足を克服するため最近では特開昭５８
−９６８９１号公報で紹介されるようにＣｒ０３−　Ｓ
ｏ　ａ　”　−系あるいはＣｒＯ：＋−Ｆ−３Ｏａ’−
系処理浴での陰極処理により金属クロムと水和酸化クロ
ムの全量で２０■／ｍ以上という厚クロメート被膜をブ
リキの上に生成させる方法がある。

このようなブリキ表面上にＣｒＯ３−５Ｏ４ｚ−系ある
いはＣｒ０ｉ−Ｆ’ＳＯａ”−系処理浴によりクロメー
ト被膜を厚く生成させた素材は塗料密着性に極めて優れ
た性能を発揮する。この理由はＣｒＯ，−５Ｏ４”系あ
るいはＣｒ０３−Ｆ−Ｓｏｎ’−系処理浴での厚クロメ
ート被膜の均一被覆性はあまりよくないが、クロメート
被膜の薄い部分においても、ある程度のクロム付着量で
、ブリキ表面を被膜しているからと考えられる。またブ
リキ表面をほぼ全面クロメート被膜で覆っているため錫
酸化膜の経時的な増加も認められず、良好な塗料密着性
が維持できる。

しかし、この素材はブリキ表面に金属クロムを含む厚ク
ロメート被膜を有しているため、次のような問題点があ
る。

まず、最近急速に実用化が進展しているシーム溶接法の
製缶技術において、ブリキは良好な溶接性を有している
が、クロメート被膜は絶縁被膜のため溶接性にはマイナ
ス要因であり、＃２５目付以下の薄目付ブリキでは表面
の厚クロメート被膜により適正溶接範囲は著しく狭くな
り、溶接性は劣化する。つまり、薄目付ブリキで良好な
塗料密着性を確保するため、厚クロメート被膜を施すと
、シーム溶接性は劣化するので、溶接缶用素材としては
適当でない。また従来の半田付製缶法ではブリキに厚ク
ロメート被膜を施すと半田上昇値、半田密着性が大きく
低下し、半田缶用素材としても適当でない。これは厚ク
ロメート被膜がブリキと半田との濡れ性を大きく阻害す
るものと考えられる。

又、硬質な金属クロムを多く析出しているため、厳しい
加工を受ける箇所例えば化ボディーの巻き締め部、ある
いは缶エンドのカウンターシンク部、ＥＯＥのリベフト
、スコアー加工部などでは加工により金属クロム層に微
細なりランクを発生し、塗膜欠陥部と重なった部分では
塗膜上腐食の懸念もある。

さらに現場ラインでブリキ表面上に厚クロメート被膜を
施す際、電解処理条件によっては外観の不良な部分が発
生したり、水和酸化クロムが溶解過程を経るためクロム
付着量がラインスピードの影響を受け、付着量コントロ
ールが難しいなどの問題もある。

このようにブリキにＣｒＯ，−ＳＯ，”−系あるいはＣ
ｒＯ。

−Ｆ−５０４”−系処理浴中で陰極処理により、厚クロ
メート被膜を施した素材は、塗料密着性は著しく向上す
るものの上述のような問題点もかかえている。また、ブ
リキ表面にＣｒＯ３−５Ｏ，！−系処理浴中の陰極処理
によりクロム付着１１０■／ｄ以下の薄クロメート被膜
を施した素材では溶接性、半田性、加工部の塗装後耐食
性、外観等の問題は向上するものの、当初の目的である
塗料密着性は悪く、クロメート被膜の均一被覆性が劣る
ため、錫酸化膜の経時増加が進行する。

（発明が解決しようとする問題点） かかる状況から本発明者等は薄クロメート被膜でブリキ
の塗料密着性向上が可能でかつ他の性能特性が劣化しな
いような高性能クロメート被膜の開発を行なったもので
ある。

（問題点を解決するための手段） 本発明は錫めっき鋼板の錫を溶融した後、１０〜２００
ｇ／ｊ？の無水クロム酸を主剤とし、弗素化合物と硫黄
化合物を助剤として０．０１〜１０．０　ｇ／ｌ含む溶
液中で電流密度１〜１００　Ａ／ｄｍ２で陰極処理して
、錫めっき鋼板上にクロム量として１〜１０■／ｒｄ（
片面当り）のクロメート被膜を析出させる塗料密着性に
優れたブリキの製造法に関するものである。

ブリキの塗料密着性を向上させる因子には、■クロメー
ト被膜のオキソ化度の向上、■クロメート被膜中のアニ
オン量の低減、■クロメート被膜の被覆性の向上、■錫
酸化膜量の低減等が考えられ、これらの因子を全べて満
足すれば薄クロメート被膜で塗料密着性のよいブリキを
得ることができる。

まず、クロメート被膜の質についてはオキソ結合の割合
の高い、つまりオキソ化度の高いクロメート被膜が塗料
密着性に優れている。これはオール結合を含むルーズな
りロメート被膜が少なく、クロメート被膜と塗料が強面
な結合をするためである。

ところが・本発明に従い弗素化合物と硫黄化合物を含む
無水クロム酸溶液中から生成するクロメート被膜は、Ｎ
ａｚＣｒｚＯｔ系浴あるいはＣｒ０ｉ−５ｏ４”−系処
理浴から生成するクロメート被膜に比べてオキソ化度は
向上しており、コンパクトで強固なりロメート被膜を生
成している。

クロメート被膜中のアニオンｌ（Ｆ、Ｓ等）が多い場合
、クロメート被膜中からアニオンが溶出するため特に二
次塗料密着性あるいは塗膜下座食性に悪影響を及ぼす。

そのため、クロメート被膜中のアニオン量は極力低減す
ることが望ましく本発明においても弗素化合物と硫黄化
合物の無水クロム酸への添加量をコントロールすること
により水和酸化クロムのムラ付きを発生させることなく
クロメート被膜中へのアニオンの取り込みを低減できる
。ＮａｚＣｒ２０を系処理浴の場合、不純物程度しかア
ニオンが浴中に存在せず、クロメート被膜中にアニオン
を多量に取り込むことはない。ＣｒＯ３−３０４′−系
処理浴では、水和酸化クロムのムラ付きを発生させない
程度の５０４２″を浴中に添加すると、クロメート被膜
中にも多くの３０４′−が取り込まれる。この被膜中の
ＳＯａ！−はクロメート処理後の高温水洗等で除去可能
であるが完全にＳＯ４”−を除去するのは困難である。

又、クロメート被膜の均一被覆性は、例えばＣＭＡ　（
Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｍｉｃｒｏ＾ｎａｌｙｚｅｒ）で７
７ピングにより評価すると、本発明の弗素化合物と硫黄
化合物を添加した無水クロム酸水溶液中で、陰極処理に
よるクロメート被膜は極めて優れた均一被覆性を示す。

しかしＮａｚＣｉＯｔ系処理浴から生成するクロメート
被膜はクロムが島状に点在し、均一被覆性は非常に劣る
。又、ＣｒＯ３−５ｏｎ”−系処理浴からのクロメート
被膜もＮａｚＣｒ２０．系処理浴に比べて若干の被覆性
は向上するものの、薄クロメート被膜ではブリキ表面を
完全に被覆していない。

錫の酸化膜量については、錫の酸化膜はもろいため、酸
化膜量が多い場合、酸化膜の凝集破壊により塗膜剥離の
原因となることが多い。ブリキのりフロー処理の際生成
する錫酸化膜、経時により成長増加する酸化膜とも塗料
密着性の観点からは好ましいものではない。

本発明の弗素化合物と硫黄化合物を添加した無水クロム
酸水溶液での陰極処理によるクロム析出効率は極めて低
く、例えば１０〜３０ｃ／ｄｍ”のクーロン数をかけて
もクロム付着量は３〜４■／ｄである。クロム析出効率
が低いということは、リフロ一時に生成した錫酸化膜を
陰極電解処理中に還元していることを意味し、本発明に
より製造したブリキの錫酸化膜量は非常に低い。又、上
述したように本発明のクロメート被膜は均一被覆性に極
めて優れているため経時による錫酸化膜の成長、増加は
ほとんど認められない。これに対しＮａｚＣｒｚｒＪｒ
系処理浴、ＣｒＯ３−３Ｏ４，”−系処理浴での陰極処
理ではクーロン数に応じてクロム付着量は増加するので
、陰極還元により、錫酸化膜を完全に除去するのは難し
い。さらに両者ともクロメート被膜の均一被覆性に劣る
ため経時による錫酸化膜の増加が認められ、塗料密着性
も劣化する。

これまで述べてきたようにブリキの塗料密着性に関して
は、本発明の弗素化合物と硫黄化合物を添加した無水ク
ロム酸溶液中での陰極処理によりクロム付着量で１０■
／ｄ以下の薄クロメート被膜でも極めて優れた塗料密着
性を有するブリキを得ることができる。

その他の性能特性として溶接性と半田性が挙げられる。

溶接性に関してはクロム付着量でｌｏｍｇ／ｄ以下の薄
クロメート被膜なので＃２５錫目付以下のＬＴＳにおい
ても溶接性を損なうことなく溶接缶用素材として充分適
用できる。

又、半田性に関しても薄クロメート被膜なのでブリキと
半田の濡れ性を阻害することなく、半田上昇、半田密着
性とも良好で半田缶用素材として適用可能である。

さらに外観についても薄クロメート被膜なので非常に良
好であり、ライン製造時においても電解処理条件ライン
スピードによりクロム付着■はほとんど影響されず、ク
ロム量として］、Ｏｎｗ／ｍ以下の薄クロメート被膜に
コントロールすることも容易である。

さらに本発明について詳細に説明する。

本発明において薄鋼板としては、現在鉄鋼業で広く一般
に行なわれているブリキティンフリースチール（ＴＦＳ
）等の表面処理鋼板用として製造されている、例えば冷
間圧延、焼鈍調質圧延又は２回目冷間圧延等を施され、
表面処理鋼板用原板として調整された各種の冷間ｍ仮を
用いる。

鋼板は、現在表面処理鋼板製造の前処理、即ちアルカリ
洗浄、酸洗を施して表面活性化した後、Ｓｎめっきを行
なう。このＳｎめっき法は、その方法、電解処理条件等
何ら規定するものではな（、現在ブリキの製造で広く用
いられているフェロスタン浴、ハロゲン浴、あるいはそ
の他のＳｎメッキ浴の何れを使用してもよい。Ｓｎめっ
き量についても特に規定するものではなく、現在ブリキ
として製造されている＃２５．＃５０．＃７５．＃１０
０それ以上のＳｎ目付も含まれる。また最近コストダウ
ンのため検討されている＃２５Ｓｎ目付以下の薄Ｓｎ目
付領域でもよい。

さらに通常Ｓｎめっき後、溶融処理（いわゆるリフロー
処理）が施される。これは金属光沢を与え外観の向上を
計り、Ｓｎめっき層のピンホールを減少させ、耐食性の
よい（Ｆｅ−５ｎ）合金層を形成させるなどの理由によ
り通常リフロー処理が施される。

次いで該Ｓｎめっき層表面にクロメート処理が施される
。このクロメート処理はブリキの塗料密着性及び缶内面
において水溶液状の内容物が塗膜を透過し、鋼板と塗膜
界面で腐食が進行するアンダーカッティングコロ−ジョ
ン（以下ＵＣＣと記す）を防止するため施される。そし
て長期にわたり塗膜の密着性が劣化せず良好な耐食性が
維持される。

又クロメート被膜は硫黄化合物を含む食品、例えば魚肉
、畜産物等の場合にみられる錫の硫化物による黒変を防
止する効果も大きい。

このようにクロメート被膜はブリキが塗装して用いられ
る場合にはその塗装性能を飛躍的に高めるが、溶接性、
半田性という性能特性に対してはマイナス要因となる。

特にクロメート付着量が多い場合溶接性、半田性の劣化
程度は大きい。つまリブリキの性能特性を最大限発揮す
るには薄クロ、メート被膜で塗料密着性、塗装性能及び
耐硫性が良好でかつ溶接性、半田性等を阻害しないよう
な高性能クロメート被膜を施さなくてはならない。

クロム付着量は少なければ少ない程好ましい訳であるが
、実用上溶接性及び半田性を阻害しないクロム付着量の
上限は１０■／ｒｄである。

まず溶接性に関してはクロメート被膜は絶縁体のためシ
ーム溶接時に接触抵抗が上昇し、局部的な過電流が流れ
溶融金属の飛び出し、いわゆる”敗り”の発生を促すの
で適正溶接範囲が狭くなり溶接性の劣化を招く。この傾
向は特に＃２５Ｓｎ目付以下の薄目付ブリキにおいて顕
著であり、実用上充分な適正溶接範囲を確保するにはク
ロメート被膜量の上限はクロム量で１０■／ｒｄである
。

又、半田性については、クロメート被膜はブリキ表面の
錫と半田の濡れ性を阻害するため、クロメート被膜量が
多い場合半田上昇、半田密着性とも大きく劣化する。実
用上半田性を劣化させないクロメート被膜量の上限は１
０ＩＩｗｒ／％である。

またクロメート被膜量の下限は塗料密着性、ＵＣＣ性、
耐硫性から多い方が好ましいが本発明のクロメート処理
を行なうことにより、クロム量で１■／イ以上のクロメ
ート被膜量で良好な塗料密着性、ＵＣＣ性及び耐硫性を
確保できる。クロム量で１■／ｄ未満であると上述した
良好な塗料密着性を確保する条件のうちクロメート被膜
の被覆性及び錫酸化膜量の低減という条件を満足するの
が難しくなる。すなわちクロム量で１ｍｇ／ｒｒｒ未満
のクロメート被膜ではブリキの層表面を完全に被覆する
ことは難しく錫が露出する領域が発生し塗料との接触面
積が減少し、かつ経時により錫酸化膜が成長増加し、塗
料密着性が劣化する。

またクロム量でＩ■／ｄ未満のクロメート被膜量を付着
させる電解処理条件ではりフロ一時に生成した錫酸化膜
を充分還元除去することができず、初期の錫酸化膜を低
減することはできず、良好な塗料密着性を得ることはで
きない。

このようにブリキの特性（塗料密着性、ＵＣＣ性、溶接
性、半田性等）を最大限発揮さ廿る薄りロメート被膜の
クロム付着量は１〜１０ｍ１ｒ／ｒｒｒと選定できる。

クロメート処理は無水クロム酸に弗素化合物と硫黄化合
物を添加した水溶液中で陰極処理をすればよい。

無水クロム酸の濃度は２００ｇ／Ｉｌ超では本発明の効
果が乏しく、１０ｇ／１未満では浴の電気抵抗が大きく
、エネルギー効率の観点から実用的ではなくＬｏｇ／ｌ
〜２００ｇ／βとする。弗素化合物と硫黄化合物からな
る助剤は１０ｇ／ｌ超では処理に際し錫層がエツチング
溶解し、ブリキの外観を損なうと同時にクロメート処理
浴の劣化を招く。一方０．０１ｇ／１未満ではクロメー
ト被膜のムラ付きが発生し均一被覆性を損なうなど本発
明の効果が得られず弗素化合物と硫黄化合物の添加量は
０．０１〜ｌｏ、ｏｇ／ｊＨに規定される。

助剤としての弗素化合物は詩に規定するものではないが
、例えば弗化水素酸、ケイ弗化水素酸、はう弗化水素酸
あるいはアルカリ金属、アンモニウム、アルミニウムの
弗化物、ケイ弗化物、ホウ弗化物などを使用すればよい
。又、硫黄化合物も特に規定するものではないが、例え
ば硫酸、フェノールスルフォン酸フェノールジスルフォ
ン酸又はアルカリ金属、アンモニウム、アルミニウムの
硫酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、フェノールスルフォン
酸塩、フェノールスルフォン酸塩などを使用すればよい
。

電流密度は２００　Ａ／ｄｍ”超であっても本発明の効
果を妨げるものではないが、製造に際しても設備コスト
が高くなるため、経済上の観点から２００Ａ／ｄｍ”以
下が望しい。ＩＡ／ｄｍ２未満では均一被覆性に優れた
クロメート被膜を得ることは難しく本発明の効果が減少
する。

また浴温に関しては特に規定するものではないが、操業
上４０〜６０℃の範囲が適当である。

上述の如き従来の方法に対し、本発明のように無水クロ
ム酸に弗素化合物と硫黄化合物を添加した水溶液中で陰
極処理することにより、クロム量で１０■／ｄ以下の薄
クロメート被膜で塗料密着性、ＵＣＣ性が飛躍的に向上
し、かつ溶接性、半田性が劣化しない高性能なブリキを
得ることができる・ 以下に本発明の実施例について述べる。

板厚０．２３　Ｉｎの冷延鋼板を５％Ｎ　ａ　ＯＩｔ中
で電解脱脂し、水洗７１１０％ｌＩ２５０４中で電解酸
洗して表面活性化した後、公知のフェロスタンＳｎめっ
き浴中でＳｎめっきを行ない、リフロー処理により浴錫
後、（Ａ）〜（Ｃ）に示すクロメート処理浴でクロメー
ト被膜を生成させた。同時に比較例として（Ｄ）〜（Ｇ
）に示すクロメート処理浴でクロメート被膜を生成させ
たものを作製した。

（Ａ）　　Ｃｒｕｘ　　　　　８０ｇ／７！ｓｏ４！−
ｏ、　０５　ｌ〆 ＮａｔＳｉＦｂ　　　２．５　” ＮＨ，、Ｆ　　　　　０．５　〃 （Ｂ）　　Ｃｒｙｓ　　　　１９０ｇ／　１ｓｏ、”−
１，Ｏ〃 ＮａｚＳｉＦ６　　５．５　ｔｔ ＮＨ４，Ｆ　　　　　３．　Ｏ〃 （Ｃ）　　　Ｃｒ（ｈ　　　　　　　１５ｇ／ＩＳＯ，
”−０，０２〃 ＮａｚＳｉＦｉ　　　　　ｏ、２　’ （Ｄ）　　　ＣｒＯ３１００ｇ／ｌ ｓｏ＜”−１，０” ＮａｚＳｉＦａ　　　　　６．Ｏ” ＮＨ，Ｆ　　　　　　　４．５　” （Ｅ）　　　ＣｒＯ３１００ｇ／　ｊ！ｓｏ、”−ｏ、
　ｏ　ｉ　’ Ｎａ、ＳｉＦ、　　　　　０．０　５　”（Ｆ）　　　
Ｃｒ（ｈ　　　　　ｌ　ＯＯｇ／ＩＳＯ，”−０，６〃 （Ｇ）　　　ＮａｘＣｒｚＯ７２４ｇ／ｌ上記処理材に
ついて以下に示すＡ−Ｆの項目について実施しその性能
を評価した。

Ａ　外観 表面の光沢を肉眼検査により評価した。

Ｂ　クロメート被膜の均一被覆性 ＣＭ　Ａ　（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｍｉｃｒｏ　Ａｎａｌ
ｙｚｅｒ）を用いてビーム径２μｍで縦、横４００点づ
つ計１６００００点を電流４ｉ５μＡでクロム元素のｃ
ｐＳを測定し、あらかじめとっておいたクロムのＣＰＳ
とクロム量の化学分析値との検量線に応じてテストピー
スのクロムの分布を測定し、クロメート被膜の均一被覆
性の評価を行なった。

Ｄ　塗料密着性 テストピースの片面にエポキシフェノール系塗料を６０
■７ｄ、（２布し、２１０℃で１０分間乾燥硬化した。

更に裏面に同じ塗料を塗布し、同様の条件で乾燥硬化し
た。この試料を幅２０ｍ、長さ１００ｍｍに切り出し前
述の表裏面を重ね合わせ、その２枚の試料の間にナイロ
ン系接着剤のテープをはさみ、ホットプレスを用いて２
００℃で１００秒の予熱を行なった後３ｋｇ／ａｄの加
圧下に２００℃で３０秒間圧着を行なった。この接着試
片を引っ張り試験機で剥離し、その接着強度をｋｇ／２
０ｍ層で表わした。

Ｇ　シーム溶接性 ラップ代０．５ｍｍ５熔接圧力４５ｎｇ、溶接スピード
４２０缶／ｍｉｎの条件で、溶接電流を変化させて、充
分な溶接強度が得られる最小溶接電流とスプラッシュ等
の溶接欠陥の発生が目立ち始める溶接電流の範囲の広さ
、及び溶接欠陥の発生状況を総合的に判断して評価した
。

Ｅ　　Ｕ、Ｃ，Ｃ，（アンダーカットフィルムコロージ
ジン）評価テスト 製缶用エポキシフェノール（フェノールリンチ）塗料を
片面当りの乾燥重量として５０ｍｇ／ｄｍ”となるよう
サンプルの試験面に塗布し、２０５℃×１０分焼付を行
い、更に１８０℃×２０分の空焼を行った。そして塗装
面にナイフでスクラッチを入れ、腐食液（１，５％クエ
ン酸−１，５％食塩）中に浸漬し、大気開放下で５５℃
で４日間保定した後、スクラッチ部及び平面部をテープ
剥離してスクラッチ部の塗膜剥離状態、スクラッチ部穿
孔腐食状態（ビンティング）、及び平面部の塗膜剥離状
態を判定した。

Ｆ　耐硫化黒変テスト Ｅと同様な塗装を施した試片に１を曲げ加工を施し市販
のサバ水煮をミキサーにて均一化したものの中に浸漬し
、１１５℃Ｘ９０ｍ１ｎのレトルト処理を行なった。レ
トルト処理後、曲げ加工部及び平板部の硫化黒変性を評
価した。

■１　　半田性の評価 Ｇ−１）　　：半田上昇・・・テストピースを折り曲げ
て毛細管接合部を作り、フラックスとしてのパーム油に
浸漬した後、５ｎ３０％、Ｐｂ７０％の２７７℃に保定
した半田中に３０鶴の深さで浸して１分間おく。その後
半田浴から取り出し水冷後、試片を切り開き毛細管現象
で上昇した半田の高さを測定する。

Ｇ−２）　　：半田定着・・・幅２５鶴の試験片にパー
ム油を塗り、温度２７７℃に保った５ｎ３０％、Ｐｂ７
０％の半田浴に浸漬する。浸漬深さは３ＯＮでｚＳの試
験片を離して１５秒浸漬した後、２枚の試片を密着させ
て１５秒保つ。

半田浴から取り出し水冷後、引張り試験機で剥離し、そ
の強度をｋｇ／　２５　ｍｍで表わした。

Ｃ錫酸化膜量の評価 ０．００１Ｎの臭化水素酸溶液中で０．０５ｍ八／へｆ
ｆＩの電流密度で電解還元し、その電気量を測定した。

単位はｍｃ／ｃｒＡである。

又経時による錫酸化膜の増加を評価するため、めっき直
後と６ケ月常温で経時させた後、錫酸化膜を測定した。

（発明の効果） 以上の如く、本発明によれば薄クロメート被膜でも極め
て優れた塗料密着性を有するブリキを製造することがで
きるので、産業上稗益するところが大である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 錫めっき鋼板を溶錫処理した後、１０〜２００ｇ／ｌの
   無水クロム酸を主剤に弗素化合物と硫黄化合物の助剤を
   ０．０１〜１０．０ｇ／ｌ含む溶液中で電流密度１〜２
   ００Ａ／ｄｍ＾２で陰極処理し、錫めっき鋼板上にクロ
   ム量として１〜１０ｍｇ／ｍ＾２のクロメート被膜を析
   出させることを特徴とする塗料密着性に優れたブリキの
   製造法。