JP3089052B2 - 薬液処理方法および装置 - Google Patents
薬液処理方法および装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上に回路配線など
を形成するために行われる薬液処理を行う薬液処理方法
および装置に関する。
を形成するために行われる薬液処理を行う薬液処理方法
および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６は、従来の保護膜をエッチングする
際の薬液処理装置１の断面図である。薬液処理装置１に
は、第１槽２、第２槽３、第３槽４、第４槽５、最終槽
６および乾燥装置７が順次配置されている。第１槽２お
よび第３槽４には、保護膜をエッチングするフッ化水素
酸とフッ化アンモニウム水溶液との混合物であるバッフ
アドフッ素と称される薬液８，１０が満たされている。
また、第２槽３、第４槽５および最終槽６には、純水
９，１１，１２が満たされている。
際の薬液処理装置１の断面図である。薬液処理装置１に
は、第１槽２、第２槽３、第３槽４、第４槽５、最終槽
６および乾燥装置７が順次配置されている。第１槽２お
よび第３槽４には、保護膜をエッチングするフッ化水素
酸とフッ化アンモニウム水溶液との混合物であるバッフ
アドフッ素と称される薬液８，１０が満たされている。
また、第２槽３、第４槽５および最終槽６には、純水
９，１１，１２が満たされている。
【０００３】カセット１３に薬液処理を行う複数の基板
１４が装着されている。基板１４は、たとえば液晶表示
装置に用いられる基板の製造段階のものであり、保護膜
となる部分上にはホトレジストが形成され、保護膜とな
る部分がエッチングされることを防いでいる。カセット
１３は、搬送ロボット１５から突出しているチャッキン
グアーム１６に把持され、各槽２，３，４，５，６およ
び乾燥装置７上に形成されているレール１７に沿って搬
送ロボット１５によって搬送される。
１４が装着されている。基板１４は、たとえば液晶表示
装置に用いられる基板の製造段階のものであり、保護膜
となる部分上にはホトレジストが形成され、保護膜とな
る部分がエッチングされることを防いでいる。カセット
１３は、搬送ロボット１５から突出しているチャッキン
グアーム１６に把持され、各槽２，３，４，５，６およ
び乾燥装置７上に形成されているレール１７に沿って搬
送ロボット１５によって搬送される。
【０００４】図７は、図６に示される回転式の乾燥装置
７の断面図である。角変位自在に取付けられたフタ２１
を有する槽２０内に、回転槽２２が駆動軸２３を介して
槽２０の外部に設けられたモータ２４に接続されてい
る。駆動軸２３は、槽２０に回転自在に取付けられてお
り、モータ２４が駆動することによって回転槽２２が駆
動軸２３を介して回転するようになっている。
７の断面図である。角変位自在に取付けられたフタ２１
を有する槽２０内に、回転槽２２が駆動軸２３を介して
槽２０の外部に設けられたモータ２４に接続されてい
る。駆動軸２３は、槽２０に回転自在に取付けられてお
り、モータ２４が駆動することによって回転槽２２が駆
動軸２３を介して回転するようになっている。
【０００５】回転槽２２には、突部２６ａ，２６ｂを有
するカセットガイド２５が突部２６ａによって角変位自
在に取付けられている。カセットガイド２５の大きさ
は、複数の基板１４が挿入されたカセット１３を挿入す
ることができるように選ばれている。
するカセットガイド２５が突部２６ａによって角変位自
在に取付けられている。カセットガイド２５の大きさ
は、複数の基板１４が挿入されたカセット１３を挿入す
ることができるように選ばれている。
【０００６】図７（１）は、カセットガイド２５にカセ
ット１３を挿入する際の乾燥装置７の断面図である。槽
２０のフタ２１が開いており、カセットガイド２５の挿
入孔２５ａが図７の上方向に向いている。搬送ロボット
１５によって搬送された、基板１４が挿入されているカ
セット１３が、挿入孔２５ａからカセットガイド２５に
挿入される。その後、カセットガイド２５は、矢符ａ方
向に角変位する。
ット１３を挿入する際の乾燥装置７の断面図である。槽
２０のフタ２１が開いており、カセットガイド２５の挿
入孔２５ａが図７の上方向に向いている。搬送ロボット
１５によって搬送された、基板１４が挿入されているカ
セット１３が、挿入孔２５ａからカセットガイド２５に
挿入される。その後、カセットガイド２５は、矢符ａ方
向に角変位する。
【０００７】図７（２）は、乾燥を行う際の乾燥装置７
の断面図である。カセットガイド２５は、図７（１）の
矢符ａ方向に突部２６ｂが回転槽２２に達するまで角変
位する。この状態でフタ２１を閉め、モータ２４を駆動
させて回転槽２２を回転させてカセットガイド２５内の
基板１４の乾燥を行う。
の断面図である。カセットガイド２５は、図７（１）の
矢符ａ方向に突部２６ｂが回転槽２２に達するまで角変
位する。この状態でフタ２１を閉め、モータ２４を駆動
させて回転槽２２を回転させてカセットガイド２５内の
基板１４の乾燥を行う。
【０００８】図８は、従来例の薬液処理工程を説明する
工程図である。工程ａ１では、第１槽２または第３槽４
内の薬液８，１０に、基板１４を浸漬することによって
薬液処理が行われ、工程ａ２では工程ａ１で第１槽が用
いられた場合には第２槽３、第３槽４が用いられた場合
には第４槽５内の純水９，１１に基板１４を浸漬するこ
とによって、基板１４に付着している不純物や薬液８，
１０の洗浄を行う。
工程図である。工程ａ１では、第１槽２または第３槽４
内の薬液８，１０に、基板１４を浸漬することによって
薬液処理が行われ、工程ａ２では工程ａ１で第１槽が用
いられた場合には第２槽３、第３槽４が用いられた場合
には第４槽５内の純水９，１１に基板１４を浸漬するこ
とによって、基板１４に付着している不純物や薬液８，
１０の洗浄を行う。
【０００９】工程ａ３では最終槽６内の純水１２に基板
１４を浸漬し、工程ａ３で除去できなかった不純物など
の洗浄を行い、工程ａ４では乾燥装置７によって基板１
４の乾燥が行われる。
１４を浸漬し、工程ａ３で除去できなかった不純物など
の洗浄を行い、工程ａ４では乾燥装置７によって基板１
４の乾燥が行われる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】近年、液晶表示装置の
大形化に伴い、液晶表示装置に用いられる基板１４が大
形化している。大形化した基板１４を複数枚カセット１
３に装着すれば、重量が非常に大きくなる。乾燥装置７
では、カセットガイド２５内にカセット１３を挿入する
ことによって複数の基板１４の装着を行うため、回転中
心と荷重中心とが一致していない。重量が大きくなれ
ば、重量が小さい場合には生じなかった偏心による振動
が発生するという問題がある。カセットガイド２５を用
いない乾燥装置を用いれば、上述のような問題は生じな
いけれども、基板１４のサイズは頻繁に変更されるため
汎用性がなくなる。したがって、カセットガイド２５を
用いないことによって問題を解決することはできない。
大形化に伴い、液晶表示装置に用いられる基板１４が大
形化している。大形化した基板１４を複数枚カセット１
３に装着すれば、重量が非常に大きくなる。乾燥装置７
では、カセットガイド２５内にカセット１３を挿入する
ことによって複数の基板１４の装着を行うため、回転中
心と荷重中心とが一致していない。重量が大きくなれ
ば、重量が小さい場合には生じなかった偏心による振動
が発生するという問題がある。カセットガイド２５を用
いない乾燥装置を用いれば、上述のような問題は生じな
いけれども、基板１４のサイズは頻繁に変更されるため
汎用性がなくなる。したがって、カセットガイド２５を
用いないことによって問題を解決することはできない。
【００１１】また重量が大きくなれば、回転初期の加速
度を大きくすることができない。加速度が小さいと基板
１４上に水の薄膜が存在する時間が長くなり、純水中の
不純物が析出しやすく、しみなどの乾燥不良が生じると
いう問題がある。モータ２４を大形化して必要な加速度
を得る方法もあるけれども、駆動軸２３を太くしなけれ
ばならず、シールを行うことが困難となるため好ましく
ない。
度を大きくすることができない。加速度が小さいと基板
１４上に水の薄膜が存在する時間が長くなり、純水中の
不純物が析出しやすく、しみなどの乾燥不良が生じると
いう問題がある。モータ２４を大形化して必要な加速度
を得る方法もあるけれども、駆動軸２３を太くしなけれ
ばならず、シールを行うことが困難となるため好ましく
ない。
【００１２】回転式の乾燥装置７を用いるかわりに、ア
ルコール等の蒸気を利用して乾燥を行う方法がある。し
かしながら、引火性の溶剤を蒸気にして用いるため危険
であるという問題がある。また、基板１４上に回路配線
を形成するための薬液処理時に薬液処理を行わない部分
を保護しているレジストはアルコールに弱いため、高温
のアルコール蒸気には耐えられないという問題がある。
ルコール等の蒸気を利用して乾燥を行う方法がある。し
かしながら、引火性の溶剤を蒸気にして用いるため危険
であるという問題がある。また、基板１４上に回路配線
を形成するための薬液処理時に薬液処理を行わない部分
を保護しているレジストはアルコールに弱いため、高温
のアルコール蒸気には耐えられないという問題がある。
【００１３】また、高圧空気を吹付けて乾燥を行うエア
ブロー式の乾燥方法もあるけれども、カセットに挿入し
た複数の基板１４を高圧空気にさらしても乾燥を行うこ
とはできない。
ブロー式の乾燥方法もあるけれども、カセットに挿入し
た複数の基板１４を高圧空気にさらしても乾燥を行うこ
とはできない。
【００１４】基板１４を１枚毎に処理する枚葉処理を行
えば、乾燥工程における上述の問題は解決するけれど
も、単位時間当りの処理枚数が小さく、また１枚当りの
薬液および純水等の消費量が大きくなるという問題が生
じる。また、複数枚を同時に処理するバッチ式の場合に
は、カセット１３を把持すればよいのに対し、枚葉式の
場合は基板１４を搬送ロボットなどの搬送手段によって
薬液８，１０に浸漬しなければならず、搬送手段の耐蝕
対策が困難となる。
えば、乾燥工程における上述の問題は解決するけれど
も、単位時間当りの処理枚数が小さく、また１枚当りの
薬液および純水等の消費量が大きくなるという問題が生
じる。また、複数枚を同時に処理するバッチ式の場合に
は、カセット１３を把持すればよいのに対し、枚葉式の
場合は基板１４を搬送ロボットなどの搬送手段によって
薬液８，１０に浸漬しなければならず、搬送手段の耐蝕
対策が困難となる。
【００１５】本発明の目的は、大形基板の良好な乾燥を
行うことができ、バッチ式の利点を有する薬液処理方法
および装置を提供することである。
行うことができ、バッチ式の利点を有する薬液処理方法
および装置を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、カセットに複
数の基板を装着してバッチ式で薬液処理を行った後、前
記基板の乾燥を行う薬液処理方法において、前記基板が
垂直となるように前記カセットを回転アームに乗載して
液体に浸漬することで薬液処理を行った後、前記回転ア
ームをその端部を支点として前記基板が水平となるよう
に角変位させることで前記カセットを前記液体から引上
げ、この状態のまま前記カセットから前記基板を１枚ず
つ取り出して枚葉式で乾燥を行うことを特徴とする薬液
処理方法である。また本発明は、カセットに装着された
複数の基板にバッチ式で薬液処理を行う処理槽と、前記
カセットを乗載して前記基板が垂直となるように前記処
理槽に浸漬させ、端部を支点として前記基板が水平とな
るように角変位することで前記カセットを前記処理槽か
ら引上げる回転アームと、前記回転アーム上の前記カセ
ットから前記基板を１枚ずつ取り出して枚葉式で乾燥を
行う乾燥部と、を備えることを特徴とする薬液処理装置
である。
数の基板を装着してバッチ式で薬液処理を行った後、前
記基板の乾燥を行う薬液処理方法において、前記基板が
垂直となるように前記カセットを回転アームに乗載して
液体に浸漬することで薬液処理を行った後、前記回転ア
ームをその端部を支点として前記基板が水平となるよう
に角変位させることで前記カセットを前記液体から引上
げ、この状態のまま前記カセットから前記基板を１枚ず
つ取り出して枚葉式で乾燥を行うことを特徴とする薬液
処理方法である。また本発明は、カセットに装着された
複数の基板にバッチ式で薬液処理を行う処理槽と、前記
カセットを乗載して前記基板が垂直となるように前記処
理槽に浸漬させ、端部を支点として前記基板が水平とな
るように角変位することで前記カセットを前記処理槽か
ら引上げる回転アームと、前記回転アーム上の前記カセ
ットから前記基板を１枚ずつ取り出して枚葉式で乾燥を
行う乾燥部と、を備えることを特徴とする薬液処理装置
である。
【００１７】
【作用】本発明に従えば、複数の基板を同時に薬液処理
するため、単位時間当りの処理量が大きくなる。また、
複数の基板が装着されるカセットを用いるため、薬液処
理装置はカセットを把持して搬送すればよく、薬液によ
る腐食を防ぐことができる。
するため、単位時間当りの処理量が大きくなる。また、
複数の基板が装着されるカセットを用いるため、薬液処
理装置はカセットを把持して搬送すればよく、薬液によ
る腐食を防ぐことができる。
【００１８】また１枚毎に乾燥を行うため、大形基板で
あっても重量の増量が小さく、複数の基板を同時に乾燥
させる場合には、重量が増大したため乾燥不良が生じる
のに対して、大形基板の乾燥を良好に行うことができ
る。特に本発明に従えば、カセットを回転アームに乗載
して液体に浸漬することで薬液処理をバッチ式で行い、
その後、回転アームをその端部を支点として基板が水平
となるように角変位させることで前記カセットを前記液
体から引上げ、この状態のまま基板を１枚ずつカセット
から取り出して枚葉式で乾燥を行うようにしたので、バ
ッチ式の薬液処理と枚葉式の乾燥とを連続的かつスムー
ズに行うことができる。処理槽内では基板が垂直となっ
ているので、不純物が薬液よりも重ければ沈下し、軽け
れば浮上する。したがって基板間に不純物が滞留するこ
とがない。回転アームを角変位することによって基板を
垂直から水平とすることができ、したがってカセットを
その場から移動させることなく、すぐに枚葉式の乾燥を
連続して行うことができる。
あっても重量の増量が小さく、複数の基板を同時に乾燥
させる場合には、重量が増大したため乾燥不良が生じる
のに対して、大形基板の乾燥を良好に行うことができ
る。特に本発明に従えば、カセットを回転アームに乗載
して液体に浸漬することで薬液処理をバッチ式で行い、
その後、回転アームをその端部を支点として基板が水平
となるように角変位させることで前記カセットを前記液
体から引上げ、この状態のまま基板を１枚ずつカセット
から取り出して枚葉式で乾燥を行うようにしたので、バ
ッチ式の薬液処理と枚葉式の乾燥とを連続的かつスムー
ズに行うことができる。処理槽内では基板が垂直となっ
ているので、不純物が薬液よりも重ければ沈下し、軽け
れば浮上する。したがって基板間に不純物が滞留するこ
とがない。回転アームを角変位することによって基板を
垂直から水平とすることができ、したがってカセットを
その場から移動させることなく、すぐに枚葉式の乾燥を
連続して行うことができる。
【００１９】
【実施例】図１は本発明の一実施例に用いる薬液処理装
置の最終槽３６以降の薬液処理装置を示す図であり、図
２は本発明の一実施例に用いる薬液処理装置の第１槽３
２から最終槽３６までを示す図であり、図３は最終槽３
６を示す図である。薬液処理装置には、第１槽３２、第
２槽３３、第３槽３４、第４槽３５、最終槽３６、第２
搬送ロボット５０、乾燥装置５４および第３搬送ロボッ
ト６０が順次配置されている。第１槽３２および第３槽
３４には、保護膜をエッチングするためのフッ化水素酸
とフッ化アンモニウム水溶液との混合物であるバッファ
ドフッ素と称される薬液３８，４０が満たされている。
また、第２槽３３、第４槽３５および最終槽３６には、
純水３９，４１，４２が満たされている。
置の最終槽３６以降の薬液処理装置を示す図であり、図
２は本発明の一実施例に用いる薬液処理装置の第１槽３
２から最終槽３６までを示す図であり、図３は最終槽３
６を示す図である。薬液処理装置には、第１槽３２、第
２槽３３、第３槽３４、第４槽３５、最終槽３６、第２
搬送ロボット５０、乾燥装置５４および第３搬送ロボッ
ト６０が順次配置されている。第１槽３２および第３槽
３４には、保護膜をエッチングするためのフッ化水素酸
とフッ化アンモニウム水溶液との混合物であるバッファ
ドフッ素と称される薬液３８，４０が満たされている。
また、第２槽３３、第４槽３５および最終槽３６には、
純水３９，４１，４２が満たされている。
【００２０】カセット４３に薬液処理を行う複数の基板
４４が装着されている。基板４４は、たとえば液晶表示
装置に用いられる基板の保護膜をエッチングする段階の
ものであり、保護膜となる部分上にはホトレジストが形
成され、保護膜となる部分がエッチングされることを防
いでいる。カセット４３は、第１搬送ロボット４５から
突出しているチャッキングアーム１６に把持され、各槽
３２，３３，３４，３５，３６上に形成されているレー
ル４７に沿って第１搬送ロボット４５によって搬送され
る。
４４が装着されている。基板４４は、たとえば液晶表示
装置に用いられる基板の保護膜をエッチングする段階の
ものであり、保護膜となる部分上にはホトレジストが形
成され、保護膜となる部分がエッチングされることを防
いでいる。カセット４３は、第１搬送ロボット４５から
突出しているチャッキングアーム１６に把持され、各槽
３２，３３，３４，３５，３６上に形成されているレー
ル４７に沿って第１搬送ロボット４５によって搬送され
る。
【００２１】図３（１）は、最終槽３６内にカセット４
３を浸漬している図である。最終槽３６内には、Ｌ字形
の回転アーム４８が端部４８ａを支点として角変位自在
となるように形成されており、第１搬送ロボット４５に
よって最終槽３６に搬送されたカセット４３は、回転ア
ーム４８上に乗載される。最終槽３６における洗浄が終
了すれば、回転アーム４８は矢符Ａ方向に角変位する。
３を浸漬している図である。最終槽３６内には、Ｌ字形
の回転アーム４８が端部４８ａを支点として角変位自在
となるように形成されており、第１搬送ロボット４５に
よって最終槽３６に搬送されたカセット４３は、回転ア
ーム４８上に乗載される。最終槽３６における洗浄が終
了すれば、回転アーム４８は矢符Ａ方向に角変位する。
【００２２】図３（２）は、回転アーム４８が角変位し
た図である。回転アーム４８は、基板４４が水平となる
ように角変位する。これによって、基板４４は最終槽３
６から引上げられる。
た図である。回転アーム４８は、基板４４が水平となる
ように角変位する。これによって、基板４４は最終槽３
６から引上げられる。
【００２３】第２搬送ロボット５０は、本体５１に支持
部５２を介して水平移動自在に搬送板５３が設置されて
いる。搬送板５３が水平移動することによって、引上げ
られて水平になっている基板４４が１枚ずつカセット４
３から引出される。回転アーム４８は、基板４４を水平
にした状態で垂直方向に移動し、次に取出される基板４
４が第２搬送ロボット５０の搬送板５３の高さとなるよ
うに調節する。
部５２を介して水平移動自在に搬送板５３が設置されて
いる。搬送板５３が水平移動することによって、引上げ
られて水平になっている基板４４が１枚ずつカセット４
３から引出される。回転アーム４８は、基板４４を水平
にした状態で垂直方向に移動し、次に取出される基板４
４が第２搬送ロボット５０の搬送板５３の高さとなるよ
うに調節する。
【００２４】搬送板５３上の基板４４は、第２搬送ロボ
ット５０と乾燥装置５４との上を図示しないレールに沿
って移動可能な第４搬送ロボット６４から突出している
チャッキングアーム６５に把持されて、乾燥装置５４の
ステージ５７上に載置される。乾燥装置５４は、槽５８
内にステージ５７が駆動軸５６を介して槽５８の外部に
設けられたモータ５５に接続されている。ステージ５７
には、基板４４を固定する複数のストッパ５７ａが形成
されている。またステージ５７上には、純水を憤霧する
ノズル５９が設置されている。
ット５０と乾燥装置５４との上を図示しないレールに沿
って移動可能な第４搬送ロボット６４から突出している
チャッキングアーム６５に把持されて、乾燥装置５４の
ステージ５７上に載置される。乾燥装置５４は、槽５８
内にステージ５７が駆動軸５６を介して槽５８の外部に
設けられたモータ５５に接続されている。ステージ５７
には、基板４４を固定する複数のストッパ５７ａが形成
されている。またステージ５７上には、純水を憤霧する
ノズル５９が設置されている。
【００２５】ステージ５７上に載置された基板４４は、
ノズル５９から憤霧される純水によってさらに洗浄され
る。洗浄後、モータ５５を駆動させ、ステージ５７を駆
動軸５６を介して回転し、基板４４の乾燥が行われる。
乾燥が終了した基板４４は、乾燥装置５４と第４搬送ロ
ボット６０との上を図示しないレールに沿って移動可能
な第５搬送ロボット６６から突出しているチャッキング
アーム６７に把持されて、第３搬送ロボット６０の後述
する搬送板６３に載置される。
ノズル５９から憤霧される純水によってさらに洗浄され
る。洗浄後、モータ５５を駆動させ、ステージ５７を駆
動軸５６を介して回転し、基板４４の乾燥が行われる。
乾燥が終了した基板４４は、乾燥装置５４と第４搬送ロ
ボット６０との上を図示しないレールに沿って移動可能
な第５搬送ロボット６６から突出しているチャッキング
アーム６７に把持されて、第３搬送ロボット６０の後述
する搬送板６３に載置される。
【００２６】第３搬送ロボット６０は、本体６１に支持
部６２を介して水平移動自在に搬送板６３が設置されて
いる。搬送板６３に載置された基板４４は、搬送板６３
が水平移動によって第３搬送ロボット６０に隣接して垂
直移動可能に設置されているカセット６８内に収納され
る。基板４４が収納される毎にカセット６８が垂直移動
し、次に収納される基板４４の収納位置が第３搬送ロボ
ット６０の搬送板６３の高さとなるように調節する。
部６２を介して水平移動自在に搬送板６３が設置されて
いる。搬送板６３に載置された基板４４は、搬送板６３
が水平移動によって第３搬送ロボット６０に隣接して垂
直移動可能に設置されているカセット６８内に収納され
る。基板４４が収納される毎にカセット６８が垂直移動
し、次に収納される基板４４の収納位置が第３搬送ロボ
ット６０の搬送板６３の高さとなるように調節する。
【００２７】図４は、本発明の一実施例である薬液処理
工程を説明する工程図の１例である。工程ｂ１では、第
１槽３２または第３槽３４内の薬液３８，４０に基板４
４を浸漬することによって、保護膜をエッチングする薬
液処理が行われ、工程ｂ２では工程ａ１で第１槽３２が
用いられた場合には第２槽３３、第３槽４４が用いられ
た場合には第４槽３５内の純水３９，４１に基板４４を
浸漬することによって、基板４４に付着している不純物
や薬液３８，４０の洗浄を行う。
工程を説明する工程図の１例である。工程ｂ１では、第
１槽３２または第３槽３４内の薬液３８，４０に基板４
４を浸漬することによって、保護膜をエッチングする薬
液処理が行われ、工程ｂ２では工程ａ１で第１槽３２が
用いられた場合には第２槽３３、第３槽４４が用いられ
た場合には第４槽３５内の純水３９，４１に基板４４を
浸漬することによって、基板４４に付着している不純物
や薬液３８，４０の洗浄を行う。
【００２８】薬液処理を行う槽として２つの槽３２，３
４を設置しており、また純水洗浄を行う槽として２つの
槽３３，３５を設置しているのは、処理能力を高めるた
めであり、第１および第２槽３２，３３を用いていると
きには第３および第４槽３４，３５の洗浄や、薬液など
の入替などを行うことができる。工程ｂ３では、最終槽
３６の純水４２に基板４４を浸漬し、工程ｂ２で除去で
きなかった不純物などの洗浄を行う。
４を設置しており、また純水洗浄を行う槽として２つの
槽３３，３５を設置しているのは、処理能力を高めるた
めであり、第１および第２槽３２，３３を用いていると
きには第３および第４槽３４，３５の洗浄や、薬液など
の入替などを行うことができる。工程ｂ３では、最終槽
３６の純水４２に基板４４を浸漬し、工程ｂ２で除去で
きなかった不純物などの洗浄を行う。
【００２９】工程ｂ４では、最終洗浄槽３６から回転ア
ーム４８を角変位させることによって、基板４４が引上
げられ、第２搬送ロボット５０によって基板４４が１枚
抜取られる。抜取られた基板４４は、第４搬送ロボット
６４に把持され、乾燥装置５４のステージ５７上に載置
される。
ーム４８を角変位させることによって、基板４４が引上
げられ、第２搬送ロボット５０によって基板４４が１枚
抜取られる。抜取られた基板４４は、第４搬送ロボット
６４に把持され、乾燥装置５４のステージ５７上に載置
される。
【００３０】工程ｂ５では、先ず基板４４に対してノズ
ル５９から純水が噴霧され、さらに洗浄が行われる。こ
のとき、モータ５５を駆動させてステージ５７を回転さ
せてもよい。その後、ノズル５９からの純水の噴霧を停
止し、モータ５５の駆動によってステージ５７を回転さ
せ、基板４４の乾燥を行う。
ル５９から純水が噴霧され、さらに洗浄が行われる。こ
のとき、モータ５５を駆動させてステージ５７を回転さ
せてもよい。その後、ノズル５９からの純水の噴霧を停
止し、モータ５５の駆動によってステージ５７を回転さ
せ、基板４４の乾燥を行う。
【００３１】工程ｂ６では、ステージ５７上の基板４４
が第５搬送ロボット６６によって把持されて第３搬送ロ
ボットの搬送板６３上に搬送される。搬送板６３に載置
された基板４４は、搬送板６３の水平移動によってカセ
ット６８に収納される。
が第５搬送ロボット６６によって把持されて第３搬送ロ
ボットの搬送板６３上に搬送される。搬送板６３に載置
された基板４４は、搬送板６３の水平移動によってカセ
ット６８に収納される。
【００３２】以上のように本実施例によれば、薬液処理
における薬液処理工程および洗浄工程をバッチ式で行
い、乾燥工程のみを枚葉式で行う。回転式の乾燥装置７
を用いてバッチ式で乾燥を行う場合には、基板４４を大
形化すると１度に処理する基板の重量が増大し、振動の
発生や初期加速度が大きくできないために乾燥不良が生
じていたのに対し、乾燥工程を枚葉式で行うため、基板
４４が大形化しても容易に乾燥を行うことができ、基板
４４の乾燥不良を防止することができる。
における薬液処理工程および洗浄工程をバッチ式で行
い、乾燥工程のみを枚葉式で行う。回転式の乾燥装置７
を用いてバッチ式で乾燥を行う場合には、基板４４を大
形化すると１度に処理する基板の重量が増大し、振動の
発生や初期加速度が大きくできないために乾燥不良が生
じていたのに対し、乾燥工程を枚葉式で行うため、基板
４４が大形化しても容易に乾燥を行うことができ、基板
４４の乾燥不良を防止することができる。
【００３３】また、バッチ式で薬液処理工程および洗浄
工程を行うため、単位時間当りの処理枚数が大きく、薬
液および純水などの消費量も小さく、さらに薬液処理装
置の浸漬による腐食を防止することができる。
工程を行うため、単位時間当りの処理枚数が大きく、薬
液および純水などの消費量も小さく、さらに薬液処理装
置の浸漬による腐食を防止することができる。
【００３４】したがって、バッチ式の利点を有しなが
ら、大形基板の良好な乾燥を行うことができる。
ら、大形基板の良好な乾燥を行うことができる。
【００３５】図５は、本発明の他の実施例に用いられる
エアブロー式の乾燥装置７０の側面図である。乾燥装置
７０は、複数の搬送ローラ７１の図５の上下方向に複数
のノズル７２が設置されている。基板４４は、搬送ロー
ラ７１の回転に伴って矢符Ｂ方向に搬送される。ノズル
７２からは、高圧空気が基板４４に対して吹付けられ、
基板４４の乾燥が行われる。
エアブロー式の乾燥装置７０の側面図である。乾燥装置
７０は、複数の搬送ローラ７１の図５の上下方向に複数
のノズル７２が設置されている。基板４４は、搬送ロー
ラ７１の回転に伴って矢符Ｂ方向に搬送される。ノズル
７２からは、高圧空気が基板４４に対して吹付けられ、
基板４４の乾燥が行われる。
【００３６】回転式の乾燥装置５４の代わりにエアブロ
ー式の乾燥装置７０を用いても同様の効果を得ることが
できる。
ー式の乾燥装置７０を用いても同様の効果を得ることが
できる。
【００３７】本実施例では、保護膜をエッチングする際
の薬液処理について説明したけれども、これに限られる
ものではなく、基板の薬液処理工程および乾燥工程を有
する薄膜トランジスタ製造工程などの基板処理装置に広
く用いることができる。したがって、槽３２，３３，３
４，３５，３６の数や、役割もまたこれに限られるもの
ではない。
の薬液処理について説明したけれども、これに限られる
ものではなく、基板の薬液処理工程および乾燥工程を有
する薄膜トランジスタ製造工程などの基板処理装置に広
く用いることができる。したがって、槽３２，３３，３
４，３５，３６の数や、役割もまたこれに限られるもの
ではない。
【００３８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、複数の基
板を同時に液体に浸漬することで薬液処理するので、単
位時間当りの処理枚数が多いなどのバッチ式の利点を有
し、基板の乾燥は１枚毎に行うため、大形基板の乾燥不
良を防止することができる。特に本発明によれば、回転
アームを採用することによって、複雑な機構を設けるこ
となく、バッチ式の薬液処理と枚葉式の乾燥とを連続的
かつスムーズに行うことができる。処理槽内では、基板
が垂直となっているので、不純物が薬液よりも重ければ
沈下し、軽ければ浮上する。したがって基板間に不純物
が滞留することがない。薬液処理が終了すれば、回転ア
ームの端部を支点として基板が水平となるように回転ア
ームを角変位させ、これによってカセットを処理槽から
引上げ、カセットをその場から移動させることなく、す
ぐに基板の枚葉式の乾燥を連続して行うことができる。
板を同時に液体に浸漬することで薬液処理するので、単
位時間当りの処理枚数が多いなどのバッチ式の利点を有
し、基板の乾燥は１枚毎に行うため、大形基板の乾燥不
良を防止することができる。特に本発明によれば、回転
アームを採用することによって、複雑な機構を設けるこ
となく、バッチ式の薬液処理と枚葉式の乾燥とを連続的
かつスムーズに行うことができる。処理槽内では、基板
が垂直となっているので、不純物が薬液よりも重ければ
沈下し、軽ければ浮上する。したがって基板間に不純物
が滞留することがない。薬液処理が終了すれば、回転ア
ームの端部を支点として基板が水平となるように回転ア
ームを角変位させ、これによってカセットを処理槽から
引上げ、カセットをその場から移動させることなく、す
ぐに基板の枚葉式の乾燥を連続して行うことができる。
【図１】本発明の一実施例に用いる薬液処理装置の最終
槽３６以降の薬液処理装置を示す図である。
槽３６以降の薬液処理装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施例に用いる薬液処理装置の第１
槽３２から最終槽３６までを示す図である。
槽３２から最終槽３６までを示す図である。
【図３】最終槽３６を示す図である。
【図４】本発明の一実施例である薬液処理工程を説明す
る工程図の１例である。
る工程図の１例である。
【図５】本発明の他の実施例に用いられるエアブロー式
の乾燥装置７０の側面図である。
の乾燥装置７０の側面図である。
【図６】従来の保護膜をエッチングする際の薬液処理装
置１の断面図である。
置１の断面図である。
【図７】図６に示される回転式の乾燥装置７の断面図で
ある。
ある。
【図８】従来例の薬液処理工程を説明する工程図であ
る。
る。
３２ 第１槽 ３３ 第２槽 ３４ 第３槽 ３５ 第４槽 ３６ 最終槽 ３８，４０ 薬液 ３９，４１，４２ 純水 ４３ カセット ４４ 基板 ４５ 第１搬送ロボット ５０ 第２搬送ロボット ５４ 乾燥装置 ６０ 第３搬送ロボット ６４ 第４搬送ロボット ６６ 第５搬送ロボット
フロントページの続き (72)発明者 小林 和樹 大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャー プ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−119997（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−129374（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−2533（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05D 1/18 B08B 3/04 B65G 49/04,49/07,57/00 H05K 3/26,13/02
Claims (2)
- 【請求項１】 カセットに複数の基板を装着してバッチ
式で薬液処理を行った後、前記基板の乾燥を行う薬液処
理方法において、 前記基板が垂直となるように前記カセットを回転アーム
に乗載して液体に浸漬することで薬液処理を行った後、
前記回転アームをその端部を支点として前記基板が水平
となるように角変位させることで前記カセットを前記液
体から引上げ、この状態のまま前記カセットから前記基
板を１枚ずつ取り出して枚葉式で乾燥を行うことを特徴
とする薬液処理方法。 - 【請求項２】 カセットに装着された複数の基板にバッ
チ式で薬液処理を行う処理槽と、前記カセットを乗載し
て前記基板が垂直となるように前記処理槽に浸漬させ、
端部を支点として前記基板が水平となるように角変位す
ることで前記カセットを前記処理槽から引上げる回転ア
ームと、 前記回転アーム上の前記カセットから前記基板を１枚ず
つ取り出して枚葉式で乾燥を行う乾燥部と、 を備えることを特徴とする薬液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03204099A JP3089052B2 (ja) | 1991-08-14 | 1991-08-14 | 薬液処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03204099A JP3089052B2 (ja) | 1991-08-14 | 1991-08-14 | 薬液処理方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0550018A JPH0550018A (ja) | 1993-03-02 |
| JP3089052B2 true JP3089052B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=16484781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03204099A Expired - Fee Related JP3089052B2 (ja) | 1991-08-14 | 1991-08-14 | 薬液処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3089052B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5154102B2 (ja) | 2007-03-07 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5831234B2 (ja) * | 1975-03-20 | 1983-07-05 | 松下電器産業株式会社 | トマクノケイセイホウホウ |
| JPS57125901A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-05 | Sharp Corp | Reflector and its production |
| JPS62119997A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | 松下電器産業株式会社 | 洗浄装置 |
| JPH02311820A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Kyodo Printing Co Ltd | 被膜の乾燥方法 |
-
1991
- 1991-08-14 JP JP03204099A patent/JP3089052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0550018A (ja) | 1993-03-02 |
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