JP3072797B2 - 光記録媒体用基板シート、光記録媒体用基板シートの製造方法、及び製造装置 - Google Patents

光記録媒体用基板シート、光記録媒体用基板シートの製造方法、及び製造装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ等による光学的
な記録再生の行なわれる光記録媒体用基板の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光記録媒体としては、情報の記録
・再生を行なう光、例えば半導体レーザー等に対して透
明な基板上に記録層を設け、これに保護層を積層して形
成されている。この光記録媒体用基板の表面には通常、
トラッキング用の溝、アドレス情報ピットなどのミクロ
ンオーダー或いはサブミクロンオーダーの微細なプリフ
ォーマットが刻設されている。従来、これらのプリフォ
ーマットを形成する方法として、例えばインジェクショ
ン成形法やコンプレッション成形法が知られている。し
かし、これらの方法は、量産性とコストを満足させるこ
とが困難であった。
【０００３】そこでこれらを満足させる方法として、本
出願人は欧州公開特許３６９７８０号及び欧州公開特許
３６９７８１号に於て、図３に示す様に樹脂を溶融して
押し出して樹脂シートを成形し該熔融樹脂シート１０４
を表面にプリフォーマットパターンを備えた成形ロール
１０２とそれに対向配置された鏡面ロール１０１とで挟
圧してプリフォーマットを転写する光記録媒体用基板シ
ートの製造方法を開示している。
【０００４】そしてこれらの方法によればポリカーボネ
ートの様に複屈折の生じ易い樹脂を用いてもプリフォー
マットの転写性に優れ且つＣ／Ｎ値の劣化の原因となる
複屈折の小さい光記録媒体用基板シートを連続的に製造
することができる。
【０００５】しかし、上記製法について種々検討したと
ころ、成形時の条件、例えばエクストルーダーやＴ−ダ
イの加熱温度のわずかな変化に起因する熔融樹脂の押出
量の増減によって、光記録媒体用基板シートの複屈折や
転写精度が変化してしまうという問題点があった。これ
は熔融樹脂の押出量によって成形ロール１０２と鏡面ロ
ール１０１で挟圧される熔融樹脂シートの厚みが変化す
る。一方成形ロール１０２や鏡面ロール１０１は、通常
鉄鋼のロールにクロム等がメッキされたものが使用され
る為、Ｔ−ダイ１０５から熔融樹脂シート１０４が厚く
押出された場合、熔融樹脂シートがロールで挟圧される
時に必要以上の圧力が樹脂シートに加わり、その結果光
記録媒体用基板シートの複屈折値や転写精度が不均一と
なると考えられる。そして上記問題点を解決する方法と
して、鏡面ロール１０１の表面を樹脂で被覆する方法が
ある。この方法によれば、Ｔダイから出たポリカーボネ
ートのシートが樹脂ロールと成形ロールで成形される
際、強制的に圧延されないため、歪の少ない光記録媒体
用基板シートが作製される。しかしながら、樹脂ロール
を用いる場合、樹脂ロールの表面を鏡面加工する必要が
あるが、樹脂ロールは金属ロールに比べて耐久性が悪
く、成形を繰り返すうちに樹脂表面が荒れ、そのためひ
んぱんにロール表面を研磨、又はロール交換を行なう必
要があった。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】本発明は、上記問
題点に鑑みなされたものであって、複屈折が小さく且つ
均一であって又、プリフォーマットパターンの転写精度
の良好な光記録媒体用基板シートの製造方法及び製造装
置を提供することを目的とする。
【０００７】更に本発明は、複屈折が小さく且つ均一で
あって、プリフォーマットパターンの転写精度が良好で
低コストの光記録媒体用基板シートを提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体用基
板シートの製造方法は、表面にプリフォーマットを有す
る光記録媒体用基板シートの製造方法に於て、 ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する工程 ・該熔融樹脂シートが硬化する前に鏡面ロール及び該鏡
面ロールに対向配置されてなる、周面を樹脂で被覆され
た樹脂ロールとで該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シー
トを形成する工程 ・該樹脂シートの該樹脂ロールが接触した側の表面に光
硬化性樹脂組成物層を形成し、該光硬化性樹脂組成物層
に該プリフォーマットを形成する工程 の各工程を有することを特徴とする。
【０００９】又、本発明の光記録媒体用基板シートの製
造装置は、表面にプリフォーマットを有する光記録媒体
用基板シートの製造装置に於て ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する手段 ・該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シートを形成する為
の鏡面ロール及び該鏡面ロールに対向配置されてなる、
周面を樹脂で被覆された樹脂ロール ・該樹脂シートの、該樹脂ロールと接触した側の第１の
面に対向配置されてなる、周面に該プリフォーマットに
対応するパターンを備え、且つ所定の方向に回動する成
形ロール ・該樹脂シートの第１の面に配置されてなり、該樹脂シ
ートの第１の面上もしくは該成形ロールの周面に光硬化
性樹脂組成物層を形成する手段 ・該基板シートと該成形ロールとを該光硬化性樹脂組成
物層を介して圧着させる手段 ・該基板シートと該成形ロールとの圧着位置に対して該
成形ロールの回動方向に隔たった位置に設けられ、該光
硬化性樹脂組成物層に光を照射する手段 ・該照射手段による光照射により該基板シートと一体と
なり且つ、プリフォーマットパターンが転写された光硬
化性樹脂組成物層を成形ロールから剥離する手段を有す
ることを特徴とする。
【００１０】又、本発明の光記録媒体用基板シートは、
下記の工程を有する光記録媒体用基板シートの製造方法
によって製造されたことを特徴とする。 ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する工程 ・該熔融樹脂シートが硬化する前に鏡面ロール及び該鏡
面ロールに対向配置されてなる、周面を樹脂で被覆され
た樹脂ロールとで該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シー
トを形成する工程 ・該樹脂シートの該樹脂ロールが接触した側の表面に光
硬化性樹脂組成物層を形成し、該光硬化性樹脂組成物層
に該プリフォーマットを形成する工程。
【００１１】即ち、本発明は、熔融樹脂シートを押し出
して樹脂シートを成形する工程と樹脂シート上にプリフ
ォーマットを形成する工程とを分離し、樹脂シートの成
形工程に於て、弾力性を有し且つ断熱性を有する樹脂ロ
ールを用いることにより、熔融樹脂シートに所定量以上
の圧力が加わらず、歪が小さく複屈折の小さい樹脂シー
トを得ることができる。そしてプリフォーマットの転写
工程は光硬化性樹脂を用いるため、高精度にプリフォー
マットパターンを転写でき且つ樹脂シートの樹脂ロール
接触面側に光硬化性樹脂組成物層を形成するため、樹脂
ロール表面を鏡面に加工する必要がなく、ロール加工が
容易となる。又、ひんぱんに樹脂ロールを交換する必要
もないので、生産性が向上する。
【００１２】以下、図面を用いて本発明を詳細に説明す
る。
【００１３】図１は本発明の光学情報記録媒体用基板の
製造方法の一実施態様を示す説明図である。
【００１４】同図において、１はルーダー、２はＴ−ダ
イ、３は周面が樹脂で被覆された樹脂ロール、４，５は
それぞれ第２鏡面ロール、第３鏡面ロールである。
【００１５】そして、６は周面にプリピット及び／又は
プリグルーブに対応するプリフォーマットパターンを備
えた成形ロールで、７は光硬化性樹脂組成物層１２を成
形ロール６に形成する為の供給ロール、８は光硬化性樹
脂組成物、９は光硬化性樹脂組成物層１２を硬化させる
ための光照射手段、１０は樹脂シート１５と成形ロール
６を光硬化性樹脂組成物層１２を介して、圧着させる圧
着ロール、そして１１は光照射手段９により硬化して光
硬化性樹脂組成物層が樹脂シート１５と一体化すると共
にプリフォーマットパターンの転写形成された光記録媒
体用基板シート１６を成形ロールから剥離させる剥離ロ
ールである。
【００１６】次に、この製造装置を用いた光記録媒体用
ポリカーボネート基板シートの製造方法について図１を
用いて説明する。
【００１７】図１において、先ず、ルーダー１のホッパ
ーにポリカーボネートのペレットを投入する。投入され
たペレットは、ルーダー１中で加熱溶融され、ルーダー
１に接続されたＴダイ２より、溶融した樹脂が帯状に押
し出される。Ｔダイ２より押し出された熔融樹脂シート
１４は、樹脂ロール３と第２鏡面ロール４のギャップ間
に導入され挟圧される。そしてこの時に樹脂ロールを用
いることによって、熔融ポリカーボネート樹脂シート１
４に加わる圧力をある程度緩和することができ、ポリカ
ーボネートの歪を減少させることができる。
【００１８】即ち、Ｔダイから押し出されたポリカーボ
ネートのシートは厚みムラがあり、厚いところに加わる
圧力が大きくなり、ポリカーボネートに加わる歪も大き
くなるが、樹脂ロールを用いることで樹脂の弾性により
この様な厚みムラもある程度吸収することができ、ポリ
カーボネートに加わる圧力を一定にする事ができる。
【００１９】その結果低複屈折で厚さの均一なポリカー
ボネート樹脂シート１５を成形できる。そしてこうして
得られた樹脂シート１５は矢印Ａの方向に搬送される。
【００２０】一方、成形ロール６は矢印Ｂの方向に回動
すると共にその周面に光硬化性樹脂組成物層１２が供給
ロール７によって連続的に形成される。
【００２１】次いで樹脂シート１５と成形ロール６とを
圧着ロール１０によって、光硬化性樹脂組成物層１２を
介して圧着せしめ、次に該樹脂シート１５と該成形ロー
ル６との圧着点１７を照射しない様に該圧着点に対して
成形ロールの回動方向Ｂに隔たった位置に設けられた光
照射手段９からの光によって、光硬化性樹脂組成物層１
２は硬化して樹脂シート１５と一体化すると共にプリフ
ォーマットパターンが転写成形されて、表面にプリフォ
ーマット１３を有する光記録媒体用基板シート１６が得
られるものである。
【００２２】そして本発明に於て、樹脂シート１５と成
形ロール６を圧着させる時に、該樹脂シート１５の樹脂
ロール３が接触した側の面（以降第１の面）と成形ロー
ル６を圧着させることが好ましい。即ち樹脂ロール３
は、前記した様にその表面が荒れ易いという問題点があ
り、樹脂シート１５の第１の面を鏡面に維持することが
困難であったが、第１の面に成形ロール６を圧着するこ
とで光硬化樹脂組成物層１２が樹脂シート１５の第１の
面上に転写され、又、光硬化性樹脂組成物層１２の表面
は、成形ロール６の周面のプリフォーマットパターンが
転写されるため、樹脂シート１５の第１の面の表面状態
は、もはや問題とならず、その結果樹脂ロール３の表面
状態の精密な制御が不要となるものである。
【００２３】次に、本発明に用いられる光硬化性樹脂組
成物としては、例えば紫外線硬化樹脂組成物や電子線硬
化樹脂組成物が挙げられ、紫外線硬化樹脂組成物として
は、光重合性オリゴマー、光重合性モノマー、光重合開
始剤等からなる通常の紫外線硬化樹脂組成物を使用する
ことができる。光重合性オリゴマーとしては、例えば、
不飽和ポリエステル類、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどのアク
リレート類が使用できる。光重合性モノマーとしては、
例えばラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアク
リレート、１，６−ヘキサンジオールモノアクリレー
ト、ジシクロペンタジエンアクリレートなどの単官能性
モノマーや、ジシクロペンテニルアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリプロピレングリコールアク
リレート、１，３−ビス（３′−アクリルオキシエトキ
シ−２′−ヒドロキシプロピル）−５，５−ジメチルヒ
ダントイン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチ
ルグリコール誘導体のジアクリレート、トリメチロール
プロバントリアクリレート等の多官能性モノマーが使用
できる。又、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフ
ェノン、ベンゾイン及びその誘導体、ベンゾインエーテ
ル、ベンジルジメチルケタール等が使用できる。
【００２４】そしてこれらの光硬化性樹脂組成物に於
て、光照射によって硬化した層の屈折率が樹脂シートの
屈折率と略等しくなる様に調整することが好ましい。即
ち、樹脂シート１５の第１の面に、該樹脂シート１５と
略等しい屈折率を有する光硬化性樹脂組成物層１２の硬
化膜を設けた場合、樹脂シート１５の第１の面が粗面で
あっても、両層の境界面での屈折及び／又は乱反射を極
めて小さく抑えることができる。そしてこの基板シート
を用いることにより高いＳ／Ｎ比の信号を再生できる優
れた光記録媒体を作製することができるものである。な
お、本発明に於て「略等しい」とは、樹脂シート材料の
屈折率±０．０２、特に樹脂シート材料の屈折率±０．
０１の範囲内をいう。
【００２５】又、光硬化性樹脂組成物の屈折率は、組成
物の各々の材料、例えば光重合性オリゴマー、光重合性
モノマー等が有する各々の屈折率の加算によって概略決
定されることから、用いる樹脂シートの材料によって適
宜組み合わせることにより、所望の屈折率の光硬化性樹
脂組成物を得ることができる。
【００２６】次に樹脂シートとして、ポリカーボネート
（屈折率１．５９）を用いた場合に、屈折率が略等しく
且つ光記録媒体用基板シート１６に反りを生じさせるこ
とがなく、本発明に好適に用い得る紫外線硬化樹脂組成
物として、光重合性オリゴマーとしては２官能又は３官
能のオリゴマーが好ましく、又光重合性モノマーとして
は、前記したモノマー中、２官能又は３官能のモノマー
を用いるのが好ましい。そしてこれらのオリゴマー及び
モノマーの中から、屈折率が１．５９〜１．７０程度の
ものと１．４５〜１．５９程度のものを適宜混合して用
いればよい。
【００２７】そして、本発明に於て、下記構造式（Ｉ）
で示されるｎ20 D＝１．６０５のオリゴマー９に対して
下記構造式（ＩＩ）で示されるｎ20 D＝１．４５８のモ
ノマー（１，６−ヘキサンジオールジアクリレート）を
１の割合で加えた組成とした場合、屈折率をポリカーボ
ネートと略同一とすることができるだけでなく、記録層
に有機色素を用いた場合に、その記録層に悪影響を及ぼ
すことがなく、且つ光記録媒体用基板シート１６に反り
を生じさせず、硬化後の光硬化樹脂組成物層と樹脂シー
トとの密着性が良好なため本発明に於て特に好適に用い
られる組成である。
【００２８】構造式（Ｉ）
【００２９】
【外２】 構造式（ＩＩ） ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）6ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2
【００３０】次に本発明に於て、樹脂ロール３の樹脂層
３１に用いる樹脂は、先ず耐熱性が要求される。ロール
自体が１２０℃〜１５０℃に加熱され、さらに約２８０
℃のポリカーボネートと接触するため、少なくとも２０
０℃以上、特に２２０℃以上の耐熱性を有することが好
ましい。
【００３１】なお、ここで耐熱性とは、ロール基材とス
タンバー間にあって、基板シート成型時樹脂層が２００
℃で溶融変形、分解、その他機械物性性変化等を少なく
とも２時間、好ましくは５０時間にわたって生じないも
のである。
【００３２】又、樹脂ロール３を構成するロール基材３
２の周面に樹脂層３１を形成したときに、この樹脂層の
引張り伸びを２００％以下、好ましくは１８０％以下、
更に好ましくは１５０％以下となる様な樹脂が好まし
く、更にはＡＳＴＭＤ−８８２による引張り弾性率が２
００〜１０００ｋｇ／ｍｍ2となる樹脂が好適に用いら
れる。
【００３３】そしてこの様な樹脂としては、上記の条件
を満たすものであれば、種々の樹脂を用いることができ
るが、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥ
Ｓ）、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンサルファイ
ド（ＰＰＳ）、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリレ
ート樹脂、エポキシ樹脂更にはシリコン系樹脂を用いた
場合、樹脂シートの複屈折を低減させることができ、特
にポリイミド、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ポリパラバン酸樹
脂、ＰＰＳ、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリレー
ト樹脂やフッ素樹脂は成形条件の変動が基板シートに及
ぼす影響を特に軽減することができる。 そして上記の
樹脂について更に具体的には、ポリイミド樹脂として
は、例えばピロメリット酸無水物に代表される芳香族ジ
カルボン酸無水物とジアミノジフェニルエーテルに代表
される芳香族ジアミンを原料とし、下記一般式で示され
る樹脂が挙げられる。
【００３４】
【外３】
【００３５】フッ素樹脂としては、（ポリテトラフルオ
ロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリモノクロルトリフルオロ
エチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオライド
（ＰＶｄＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）など
のホモポリマーの他にテトラフルオロエチレンパーフル
オロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）フロリ
ネーテッドエチレンプロピレン共重合体（ＦＥＰ）など
のコポリマー）が挙げられる。
【００３６】又、ＰＥＥＫは下記一般式で示されるポリ
マーである。
【００３７】
【外４】
【００３８】更にＰＥＳは下記一般式で示されるポリマ
ーである。
【００３９】
【外５】
【００４０】更にまた、エポキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールＡとエピクロルヒドリンを原料として用いたも
の、環状脂肪族を原料としたものやポリブタジエンから
誘導される分子量５０００以上、好ましくは８０００以
上程度のものが挙げられる。
【００４１】ポリパラバン酸樹脂（ＰＰＡ）は、下記一
般式で示されるポリマーである。
【００４２】
【外６】
【００４３】又、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰ
Ｓ）は、下記一般式で示されるポリマーである。
【００４４】
【外７】
【００４５】更にポリアリレート（ＰＡ）は、芳香族ジ
カルボン酸とビスフェノールとの重縮合反応によってつ
くられる芳香族ポリエステル樹脂であり、ビスフェノー
ルとして例えばビスフェノールＡを用いた場合、下記一
般式で示される構造を有する。
【００４６】
【外８】
【００４７】更に樹脂層３１の厚みは、０．１〜１５ｍ
ｍ特に０．３〜５ｍｍとした場合、樹脂シートの複屈折
を均一に低減でき、且つその厚さも均一に成形できるた
め好ましい。
【００４８】又、成形ロール６の周面には光記録媒体用
基板シート１６の表面のプリフォーマット１３に対応す
るプリフォーマットパターンが形成されてなり、かかる
成形ロール６は、通常の方法で作成された平版スタンバ
ーをロール面に沿って接着剤により接着する方法、ネジ
により機械的に止める方法、あるいは鏡面ロールを直接
刻印する方法などにより作製することができる。
【００４９】そして本発明に用いられるプリフォーマッ
トパターンとしては、具体的には例えば幅１μｍ〜４μ
ｍ、ピッチ１μｍ〜２０μｍ、深さ２００Å〜５０００
Å程度のスパイラル状や同心円状あるいはストライプ状
の光ディスクや光カード用のトラッキング溝に対応する
パターンや、幅０．６μｍ〜１０μｍ、長さ０．６μｍ
〜２０μｍ、深さ２００Å〜５０００Å程度のアドレス
ピット等に対応するパターンが挙げられる。
【００５０】次に本発明の樹脂シート１５の成形工程に
於て、Ｔ−ダイ２から押し出された熔融樹脂シート１４
は、極めて熔融状態に近い状態で樹脂ロール３及び鏡面
ロール４に挟圧されることが好ましく、そのため、Ｔ−
ダイの温度は樹脂が分解しない範囲でなるべく高温に加
熱しておくことが好ましく成形樹脂のガラス転移温度
（以後Ｔｇと略）＋１１０℃〜Ｔｇ＋２００℃特にＴｇ
＋１３０℃〜Ｔｇ＋１９０℃が好ましい。例えばポリカ
ーボネート樹脂の場合２６０℃〜３４０℃特に２８０℃
ー３３０℃更に２９０℃〜３２０℃に加熱するのが好ま
しく、更にＴ−ダイ２と樹脂ロールの間での樹脂シート
が冷却された場合プリフォーマットが十分転写されず複
屈折が生じ易くなる為Ｔ−ダイ２と樹脂ロール３及び１
番目の鏡面ローラ４との挟圧点との距離は２０ｃｍ以
下、特に１５ｃｍ以下更には１０ｃｍ以下が好ましく、
又その間に周辺雰囲気の温度は６０℃以上であることが
望ましい。
【００５１】又樹脂シートを挟圧点に正確に押出される
ようにＴ−ダイの鉛直下方に挟圧点がくる図１、図２に
示すような垂直押出しの構成をとることが好ましい。こ
れは樹脂が溶融状態に近いため水平押出しよりも垂直押
出しの方がより正確に挟圧点に押出すことができるため
である。
【００５２】又樹脂ロール３及び鏡面ロール４、５の表
面温度としては、用いる樹脂によって異なるが、例えば
ポリカーボネートを用いる場合、通常鏡面ロール４の温
度は、ポリカーボネートの熱変形温度を考慮して１１０
℃〜１４５℃、樹脂ロールは９０℃〜１３５℃、鏡面ロ
ール５は１２０℃〜１５０℃に設定され、又、アモルフ
ァスポリオレフィンを用いる場合鏡面ロール４の温度は
１２０℃〜１４５℃、樹脂ロール３は１００℃〜１３５
℃、又、鏡面ロール５は１２０℃〜１５０℃に設定され
る。又、これらのロールの温度は、例えばロールに鋳込
まれたヒーターによって加熱したり、中心部に熱媒を循
環させることによって制御される。
【００５３】又、本発明に於て樹脂シート１５の材料と
して用いる樹脂としては熱可塑性樹脂であり、記録・再
生用の光に対して透過率の高いものが好ましく、例え
ば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ビニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、セルロース誘導体などが挙げられる。
【００５４】更に、本発明に於て樹脂ロールの基材３
２、鏡面ロール４、５及び成形ロールの基材としては、
硬度が高く、熱伝導率が良く又周面の鏡面加工の容易な
ものが好ましく、例えば鉄鋼、クロム鋼、アルミニウ
ム、金型用鋼（マルエージング鋼）等を用いることがで
きる。
【００５５】図２は本発明に係る光記録媒体用基板シー
トの製造方法の他の実施態様を示すもので、樹脂シート
１５の成形までは図１の実施態様と同一であり、次にこ
の樹脂シート１５の第１の面に光硬化樹脂組成物８の塗
布ロール７を用いて光硬化樹脂組成物層１２を形成した
後、圧着ロール１０によって樹脂シート１５及び成形ロ
ール６を光硬化樹脂組成物層１２を介して圧着させる。
そして、該樹脂シート１５と該成形ロール６との圧着位
置に対して該成形ロール６の回動方向Ｂに隔たった位置
に設けられた光照射手段９からの光によって光硬化樹脂
組成物層１２を硬化せしめて、樹脂シートと一体化する
と共にプリフォーマットパターンが転写成形されて、表
面にプリフォーマット１３を有する光記録媒体用基板シ
ート１６が得られるものである。
【００５６】こうして得た光記録媒体用基板シート１６
は巻き取られて、次の記録層及び／又は反射層形成工
程、保護層の形成工程或いは光記録媒体用基板シート１
６の記録及び／又は再生光の入射面へのハードコート層
の形成工程に送られる。又は、光記録媒体用基板シート
１６の成形後連続して上記各工程を行なってもよい。
【００５７】又、この光記録媒体用基板シートのプリフ
ォーマットの転写された側の面に形成される記録層とし
ては、例えばＴｅ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｖ、Ｓｕ等の酸
化物、Ｓｕ、ＴｅＯｘ−Ｇｅなどの無機化合物、Ｔｅ−
ＣＨ4、Ｔｅ−ＣＳ2、Ｔｅ−スチレン、Ｓｕ−Ｓｏ2、
ＧｅＳ−Ｓｎ、ＳｎＳ−Ｓなどの金属と有機化合物、又
は無機硫化物との複合物ニトロセルロース、ポリスチレ
ン、ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀等の金属粒
子を分散させたもの、カルコゲン元素、更にはＴｂ−Ｆ
ｅ−Ｃｏ、Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ
やＧｄ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ等の磁性膜、更には有機色素
を用いることができる。
【００５８】そして記録層に有機色素を用いる場合使用
する光の波長付近、例えば、再生光のエネルギービーム
の波長が６５０ｎｍ以上、特に７００〜９００ｎｍであ
る場合には、記録部であるピット等に於ける反射率と未
記録部のそれとの差が大きいものが好ましく、又、記録
する為には上記の波長域に吸収のある事が必要である。
又、エネルギービームの照射によって反射率の変化が生
ずるのに必要とされるエネルギーが小さい方が好まし
い。更に、再生光のエネルギービームによって記録部
（ビット等）及び未記録部の反射率が変化し難いものが
好ましい。
【００５９】そしてこの様な有機色素としては、例え
ば、アントラキノン誘導体（特にインダスレン骨格を有
する物）、ジオキサジン化合物及びその誘導体、トリフ
ェノジチアジン化合物、フェナンスレン誘導体、シアニ
ン化合物、メロシアニン化合物、ピリリウム系化合物、
キサンテン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、ク
ロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン類、アジン類、
インジゴイド類、ポリメチン系色素、アズレン類、スク
アリウム誘導体、硫化染料及び金属のジチオラート錯体
等を挙げる事が出来る。
【００６０】又これらの色素に対し安定化剤を混合した
ものでもよい。この安定化剤としては各種金属キレート
化合物、特にＺｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｐ
ｄ，Ｚｒを中心金属とする多座配位子、例えばＮ4，Ｎ2
Ｏ2，Ｎ2Ｓ2Ｓ4，Ｏ2Ｓ2，Ｏ4等の四座配位子等又はそ
れらの組合わせから成るものの他、各種の芳香族アミン
類やジアミン類、含窒素芳香族及びそのオニウム塩、例
えばアミニウム塩、ジイモニウム塩、ピリジニウム塩、
イミダゾリウム塩、キノリウム塩等が挙げられる。更に
含酸素芳香族の塩であるピリリウム塩等も用いられる。
又これらの安定化剤を複数組み合わせて使用することも
できる。
【００６１】上記の種々の安定化剤は前記の有機色素と
用いる溶媒の相溶性を考慮して選択する。又安定化剤の
有機色素に対する添加量は１ｗｔ％〜５０ｗｔ％が好ま
しく、特に１０ｗｔ％〜３０ｗｔ％が感度の低下が少な
く且つ安定化剤としての効果も高い。
【００６２】上記の有機色素及び安定化剤等を溶解する
のに用いられる溶媒としては樹脂シートの侵さないもの
がよく、例えばジアセトンアルコール、セロソルブ、１
−メトキシ−２−プロパノール等や上記のものにハロゲ
ン系の溶媒を少量加えた混合溶媒を用いることもでき
る。
【００６３】又、記録層の塗布方法としては、グラビア
コート、カーテンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、バーコート、ブレードコート等の方法が用いられ
る。
【００６４】ここで形成される記録層の厚さは５００Å
〜５０００Åの範囲が好ましい。
【００６５】
【実施例】
実施例１ 直径３００ｍｍ幅２００ｍｍの鉄製ロール周面に、厚さ
０．３ｍｍにクロムメッキし、その表面を鏡面仕上げし
て表面粗さを０．１μｍとした後、その周面にシリコン
樹脂層（商品名：ＳＥ１１８８；東レシリコーン
（株））を厚さ２ｍｍに形成し樹脂ロールとした。
【００６６】又、直径３００ｍｍ、幅２００ｍｍの鉄製
ロール周面に厚さ０．３ｍｍにクロムメッキし、表面粗
さを０．１μｍに鏡面研磨して鏡面ロール４、５とし
た。
【００６７】又、成形ロール６は、溝幅２．５μｍ、ピ
ッチ１２μｍ、溝深さ３０００Åの光カード用プリフォ
ーマットに対応するパターンを有するＮｉスタンパーを
エポキシ系接着剤（商品名ＥＰ−１７０、セメダイン社
製）を用いて、直径４００ｍｍ、幅１５０ｍｍの鏡面ロ
ールの周面に接着して図１に示す光カード用基板シート
の製造装置を作製し、樹脂シート材として、ポリカーボ
ネート（商品名：パンライトＬ−１２５０；帝人化成
（株）製）を用い、押し出し幅２００ｍｍ、ロールギャ
ップ０．４ｍｍ、押し出し速度３ｍ／ｍｉｎで樹脂シー
ト成形を行なった。
【００６８】なお成形条件は、樹脂ロール３の表面温度
を１２０℃、鏡面ロール４の表面温度を１３０℃、Ｔ−
ダイの温度は３００℃とした。
【００６９】一方成形ロール６の周面に、下記の組成の
厚さ１５μｍの紫外線硬化樹脂組成物層を供給ロール７
により形成した。
【００７０】〔樹脂組成〕 （ａ）下記構造式で示される光重合性オリゴマー ８
７．３重量部
【００７１】
【外９】 （商品名：ＮＫエステルＡＢＰＥ−４、新中村化学工業
製）
【００７２】（ｂ）下記構造式で示される光重合性モノ
マー９．７重量部 ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）6ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 （商品名：ＮＫエステルＡ−ＨＤ、新中村化学工業製）
【００７３】（ｃ）下記構造式で示される光重合開始剤
３重量部
【００７４】
【外１０】 （商品名イルガキュア１８４、チバガイギー社製）
【００７５】なおこの紫外線硬化樹脂組成物は、その硬
化膜の屈折率が、ポリカーボネートと同じ１．５９とな
る様に調整したものである。
【００７６】次に押し出し成形したポリカーボネート樹
脂シート１５を成形ロール６と紫外線硬化樹脂組成物１
２を介して重ね合わせた。なお、この時、前工程の押し
出し成形時において、樹脂ロール側に接していたポリカ
ーボネート樹脂シートの面が成形ロールと紫外線硬化樹
脂組成物層１２を介して接する様にした。
【００７７】次いで、ポリカーボネート樹脂シート１５
と成形ロールとを重ねあわせた後、紫外線ランプ（４ｋ
ｗ高圧水銀ランプ）を樹脂シート上１５ｃｍの距離から
樹脂シートを通して紫外線硬化樹脂層１２に照射し、紫
外線硬化樹脂層を硬化した。次いで、ポリカーボネート
樹脂シート及び硬化して該樹脂シートと一体となった紫
外線硬化樹脂層を成形ロールより剥離することにより、
樹脂シート上に凹凸パターンが転写成形された光カード
用基板シートを作製した。
【００７８】この様にして得た光カード用基板シートに
ついて、各プリフォーマット転写部の任意の９点の複屈
折量を測定したところ、その平均値は何れも２０ｎｍ以
下であった。なお複屈折の測定はポーラリメーター（商
品名：ＳＰ−２２４型；神港精機（株）製）を用いて波
長８３０ｎｍ、スポツト径１μｍのレーザー光で測定し
たものでシングルパスの値である。又、得られた基板
は、光学的に均質であり、且つ凹凸パターンの転写性も
優れていた。
【００７９】次いでこの光カード用基板シートのプリフ
ォーマットが形成されている側の表面にポリメチン系染
料１，１，５，５−テトラキス（Ｐ−ジエチルアミノフ
ェニル）−１，３−ペンタジエニルパークロレートの２
％のジアセトンアルコール溶液を塗布して厚さ１０００
Åの記録層を形成し、次いで厚さ０．３ｍｍのポリカー
ボネートのシートをエチレン−酢酸ビニル共重合体ホッ
トメルト接着シートを介して記録層上に積層し、表面温
度１１０℃の一対の加熱ロールに通して熱圧着した後、
光カードサイズ（縦８３ｍｍ×横５４ｍｍ）に切断して
光カードを作製した。
【００８０】この光カードについて、光カード記録／再
生装置（キヤノン製）を用いて４００ｍｍ／ｓｅｃで駆
動させ、波長８３０ｎｍの半導体レーザーを用いて、記
録パワー１０ｍＷで周波数１００ｋＨｚの信号を記録し
た。次いで半導体レーザーのパワーを０．２ｍＷとして
信号を再生した。このときの再生信号のノイズレベル及
びキャリア信号のレベルを表１に示す。
【００８１】なお、光カードへの記録光及び再生光の入
射は、基板を通して行なった。
【００８２】比較例１ 実施例１に於て、紫外線硬化樹脂組成物層を樹脂シート
１５の鏡面ロール４が接触した側に形成した以外は実施
例１と同様にして光カード用基板シートを得た。この基
板シートの複屈折を実施例１と同様に測定したところ何
れも２０ｎｍ以下であった。
【００８３】次にこの光カード用基板シートを用いて実
施例１と同様にして光カードを作製し、記録／再生を行
なった。
【００８４】その結果を表１に示す。
【００８５】
【表１】
【００８６】実施例２ 実施例１の樹脂シート成形工程に於て、樹脂ロール３と
してシリコン樹脂に代えて、厚さ０．５ｍｍのパーフル
オロアルキルビニルエーテル共重合体の熱収縮チューブ
（グンゼ製）を装着し、０．５ｍｍの厚みに取りつけ
た。樹脂ロールの温度は１４０℃、鏡面ロール４の温度
は１５０℃（Ｔ−ダイの温度は３００℃に）設定し、ロ
ールギャップ０．４ｍｍ、押し出し速度４ｍ／ｍｉｎで
樹脂シートの成形を行なった。
【００８７】又成形ロールは実施例１と同様にして直径
４００ｍｍ幅２００ｍｍの成形ロールを作製した。
【００８８】この成形ロール６の周面に下記の組成の紫
外線硬化樹脂層を厚さ１０μｍに塗布した。
【００８９】〔樹脂組成〕 （ａ）下記構造式で示される光重合性オリゴマー ７
４．３重量部
【００９０】
【外１１】 （商品名ＮＫエステルＡＢＰＥ−４、新中村化学工業
製）
【００９１】（ｂ）下記構造式で示される光重合性モノ
マー（ｎ20 D＝１．５４１）２２．７重量部
【００９２】
【外１２】 （商品名ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−７１２、日本化薬製）
【００９３】（ｃ）下記構造式で示される光重合開始剤
３重量部
【００９４】
【外１３】 チバガイギー社製）
【００９５】なお、この紫外線硬化樹脂組成物もその硬
化膜の屈折率が約１．５９となる様に調整したものであ
る。
【００９６】以下実施例１と同様にして光カード用基板
シートを得た。この基板シートの複屈折率を、実施例１
と同様にして測定したところ、１０ｎｍ以下で又、得ら
れた基板は、光学的に均質であり、且つ凹凸パターンの
転写性もすぐれていた。
【００９７】次いで、この光カード用基板のプリフォー
マットが形成された側の表面に下記の構造のアズレン系
色素のジクロロエタン１．６ｗｔ％溶液を塗布して厚さ
１０００Åの記録層を形成した後、実施例１と同様にし
て光カードを作製した。この光カードを実施例１と同様
にして評価した。その結果を表２に示す。
【００９８】
【外１４】
【００９９】
【表２】
【０１００】実施例３ 実施例１に於て樹脂ロール周面の樹脂層３１として厚さ
３ｍｍのポリイミド樹脂層（商品名ＬＡＲＣ−ＴＰＩ；
三井東圧化学（株）製）とした以外は実施例１と同様に
して光カード用基板シートを作製し、実施例１と同様に
して評価したところ、複屈折は１０ｎｍ以下であった。
【０１０１】又、この光カード用基板シートを用いて実
施例２のアズレン系色素の記録層を実施例２と同様にし
て形成し光カードを作製し、評価したところ実施例２と
同様にノイズの少ない優れたＣ／Ｎ値の信号を再生でき
た。
【０１０２】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の光学情報記
録媒体用基板の製造方法によれば、樹脂シートの成形工
程とプリフォーマットパターンの転写工程を分離して、
先ず樹脂シートの成形工程に於ては、弾性を有する樹脂
ロールを用いるために、成形の際に強制的に圧延される
ことがなく、歪が小さく、複屈折の小さいシート基板を
得ることができ、又、プリフォーマットの転写工程に於
て、光硬化性樹脂組成物層１２を、該樹脂シート１５の
樹脂ロール接触面に形成することで樹脂ロール表面を鏡
面に加工する必要がなく、ロール加工が容易となる。
又、ひんぱんに樹脂ロールを交換する必要もないので、
生産性が向上する。
【０１０３】又、樹脂シート基板の片面（光硬化樹脂層
側の面）が粗面の場合、樹脂シート１５と硬化性樹脂組
成物の層１２の密着性が一層向上する。
【０１０４】更に、光硬化樹脂組成物として、その硬化
膜の屈折率を樹脂シート１５の屈折率と略同一とするこ
とにより、ノイズの少ない高Ｓ／Ｎ比の信号を再生可能
な光記録媒体用の基板とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光記録媒体用基板シートの製造装置の
概略図。
【図２】本発明の光記録媒体用基板シートの製造装置の
他の実施態様の概略図。
【図３】従来の光記録媒体用基板シートの製造方法の概
略図。
【符号の説明】
１ ルーダー ２ Ｔ−ダイ ３ 樹脂ロール ４、５ 鏡面ロール ６ 成形ロール ７ 供給ロール ８ 光硬化性樹脂組成物 ９ 光照射手段 １０ 圧着ロール １１ 剥離ロール １２ 光硬化性樹脂組成物層 １３ プリフォーマット １４ 熔融樹脂シート １５ 樹脂シート １６ 光記録媒体用基板シート １７ 圧着点
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−106949（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−151851（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−14341（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/26 B29C 39/10 B29L 17:00

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 表面にプリフォーマットを有する光記録
    媒体用基板シートの製造方法に於て、 ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する工程 ・該熔融樹脂シートが硬化する前に鏡面ロール及び該鏡
    面ロールに対向配置されてなる、周面を樹脂で被覆され
    た樹脂ロールとで該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シー
    トを形成する工程 ・該樹脂シートの該樹脂ロールが接触した側の表面に光
    硬化性樹脂組成物層を形成し、該光硬化性樹脂組成物層
    に該プリフォーマットを成形する工程 の各工程を有することを特徴とする光記録媒体用基板シ
    ートの製造方法。
  2. 【請求項２】 該光硬化性樹脂組成物として、硬化後の
    屈折率が該樹脂シートと略等しいものを用いる請求項１
    の光記録媒体用基板シートの製造方法。
  3. 【請求項３】 該樹脂シートの材料としてポリカーボネ
    ートを用いる請求項１の光記録媒体用基板シートの製造
    方法。
  4. 【請求項４】 該樹脂ロールとして、ポリイミド樹脂、
    フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテ
    ルサルフォン、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンオ
    キサイド、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂及びシリ
    コン樹脂から選ばれる少なくとも１種の材料を含有する
    樹脂層を、その周面に備えた樹脂ロールを用いる請求項
    １の光記録媒体用基板シートの製造方法。
  5. 【請求項５】 該光硬化性樹脂組成物として２官能又は
    ３官能の光重合性オリゴマーと２官能又は３官能の光重
    合性モノマー及び光重合開始剤を含有する組成物を用い
    る請求項１の光記録媒体用基板シートの製造方法。
  6. 【請求項６】 該光重合性オリゴマーとして下記構造式
    で示されるオリゴマーを用いる請求項５の光記録媒体用
    基板シートの製造方法。 【外１】
  7. 【請求項７】 該光重合性モノマーとして下記構造式で
    示されるモノマーを用いる請求項５の光記録媒体用基板
    シートの製造方法。 ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）6ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2
  8. 【請求項８】 表面にプリフォーマットを有する光記録
    媒体用基板シートの製造装置に於て、 ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する手段 ・該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シートを形成する為
    の鏡面ロール及び該鏡面ロールに対向配置されてなる、
    周面を樹脂で被覆された樹脂ロール ・該樹脂シートの、該樹脂ロールと接触した側の第１の
    面に対向配置されてなる、周面に該プリフォーマットに
    対応するパターンを備え、且つ所定の方向に回動する成
    形ロール ・該樹脂シートの第１の面の側に配置されてなり、該樹
    脂シートの第１の面上もしくは該成形ロールの周面に光
    硬化性樹脂組成物層を形成する手段 ・該樹脂シートと該成形ロールとを該光硬化性樹脂組成
    粒層を介して圧着させる手段 ・該樹脂シートと該成形ロールとの圧着位置に対して該
    成形ロールの回動方向に隔たった位置に設けられ、該光
    硬化性樹脂組成物層に光を照射する手段 ・該照射手段による光照射により該基板シートと一体と
    なり且つプリフォーマットパターンが転写された光硬化
    性樹脂組成物層を成形ロールから剥離する手段を有する
    ことを特徴とする光記録媒体用基板シートの製造装置。
  9. 【請求項９】 下記の工程を有する光記録媒体用基板シ
    ートの製造方法によって製造されたことを特徴とする、
    表面にプリフォーマットを有する光記録媒体用基板シー
    ト。 ・熔融樹脂を押し出して熔融樹脂シートを成形する工程 ・該熔融樹脂シートが硬化する前に鏡面ロール及び該鏡
    面ロールに対向配置されてなる、周面を樹脂で被覆され
    た樹脂ロールとで該熔融樹脂シートを挟圧して樹脂シー
    トを形成する工程 ・該樹脂シートの該樹脂ロールが接触した側の表面に光
    硬化性樹脂組成物層を形成し、該光硬化性樹脂組成物層
    に該プリフォーマットを形成する工程
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