JP2510803B2

JP2510803B2 - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2510803B2
Application number: JP4029400A
Authority: JP
Inventors: 美樹田村; 剛三東
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1991-02-16
Filing date: 1992-02-17
Publication date: 1996-06-26
Anticipated expiration: 2011-06-26
Also published as: JPH0564964A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学的に情報の記録・再
生を行なう光記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の記録媒体、例えばクレジットカー
ドやフロッピーディスク等に用いられる材料としては、
磁気材料が主として用いられてきた。これらの磁気記録
媒体は情報の書込み、及び読み出しが容易に行なえると
いう利点はあるが、反面、記録内容が容易に改ざんで
き、また高密度記録ができないという問題点があった。
かかる問題点を解決し、多種多様の情報を効率よく取り
扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録方法
が提案され、そのための光記録媒体、記録再生方式、記
録再生装置等が種々提案されている。

【０００３】光学的に情報の記録・再生を行なう光記録
媒体として、例えば銀粒子をゼラチンマトリックス中に
分散してなる記録層を有するものがある。

【０００４】また、光記録媒体として記録層にレーザビ
ーム等のエネルギービームをスポット状に照射して、記
録層の一部を状態変化させて記録する、いわゆるヒート
モード記録媒体が提案されている。これらの記録媒体
は、情報の書込みの後、現像処理等の必要がなく、「書
いた後直読する」ことのできるいわゆるＤＲＡＷ［ダイ
レクトリードアフターライト（ｄｉｒｅｃｔｒ
ｅａｄａｆｔｅｒｗｒｉｔｅ）］媒体であり、高密
度記録が可能であり追加書込みも可能であることから、
ディスク用あるいはカード用の記録媒体としての用途の
拡大が期待されている。

【０００５】また、比較的長波長の光で物性変化し得る
有機系色素は、毒性もなく、また塗布により成膜ができ
る等の製造コスト低減を図ることができる長所を有して
おり、有機系色素を光ディスクや光カードに利用するこ
とに関して、広範な研究が行なわれ、また提案も多数な
されている。

【０００６】ところで現在用いられている一般的な光記
録媒体、例えば光ディスクは一般に記録感度を高めるた
めに記録層の上面に空間部を形成した中空構造を採用し
ている。しかし、光カードは、一般にキャッシュカード
やクレジットカードと同様に携帯して使用されることが
多く、種々雑多に加えられる外力による光カードの変形
等に対して強度を持たせる必要があるため、及び媒体の
薄型化のため上記光ディスクのように中空構造が採用で
きず、一般に記録層と記録層を保護する保護基材とが密
着した密着構造がとられている。

【０００７】光ディスクに関しても携帯、保管スペース
等の点から媒体の厚みはなるべく薄いことが望ましく、
このため光ディスクも光カードと同様に密着構造をとる
のが好ましい。しかし、密着構造にすると中空構造に比
べ記録層の状態変化が抑制される為記録感度が低下する
という問題があった。

【０００８】この問題に関しては、例えば特公昭６３−
４２３３３号公報、特開昭５８−１２５２４８号公報、
特開昭５８−２０３０９５号公報等には、記録層上にウ
レタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム等のゴム弾性
高分子層を形成することにより記録感度を向上させる技
術が開示されている。

【０００９】また、実開昭６３−２２２３号公報には、
記録層上にスチレンブタジエン共重合体、ナイロン樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂等の熱可塑性軟質層を設
けることにより、密着構造の光記録媒体の記録感度を向
上させる技術が開示されている。

【００１０】このように、記録層の上に記録補助層とな
る層を設けることにより記録感度を向上させることが知
られているが、記録補助層を構成する材料は、記録層を
溶解せずに記録層上に塗布形成できるものが望ましい。
記録層が有機色素の場合、記録補助層の材料としては、
例えばシリコーンゴム、ジエン系液状ゴム等の硬化型ゴ
ム状高分子であって硬化後はゴム状弾性を示す弾性高分
子化合物が適している。

【００１１】このような硬化型ゴム状高分子化合物は、
硬化条件によって室温硬化型、加熱硬化型、及び紫外線
・電子線硬化型に分類されるが、紫外線又は電子線硬化
型の場合には、硬化時間が数秒〜数分と極めて短く、生
産性が非常に優れている。

【００１２】しかしながら紫外線又は電子線硬化型ゴム
状高分子化合物の場合、紫外線又は電子線の照射により
ラジカルを発生し、ラジカル連鎖反応により硬化反応が
進行するものが一般的であり、そのため、記録補助層の
硬化反応時に発生するラジカルの一部が記録層を形成す
る有機色素と反応し、記録層を劣化させる問題があっ
た。

【００１３】

【発明が解決しようとしている課題】本発明は上記事情
に鑑みなされたもので、その目的とするところは密着構
造であっても記録層感度が高く、しかも生産性に優れた
光記録媒体を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】即ち本発明の光記録媒体
は、基板、有機色素を含有する記録層及び記録補助層を
有する光記録媒体に於て、該記録補助層がラジカル重合
によって硬化せしめた弾性高分子化合物を含有すると共
に該記録層がラジカル捕捉化合物を含有することを特徴
とするものである。

【００１５】又本発明の光記録媒体は、基板、有機色素
を含有する記録層及び記録補助層を有する光記録媒体に
於て、該記録補助層がラジカル重合によって硬化せしめ
た弾性高分子化合物を含有すると共に該記録層と該記録
補助層の間にラジカル捕捉化合物を含有する捕捉層を有
することを特徴とするものである。

【００１６】又本発明の光記録媒体は、基板、有機色素
を含有する記録層及び記録補助層を有する光記録媒体に
於て、該記録補助層が、エポキシ基を有する高分子化成
分及びイオン重合開始剤を含有する組成物を重合せしめ
た弾性高分子化合物を含有することを特徴とするもので
ある。

【００１７】次に本発明について詳細に説明する。

【００１８】本発明の光記録媒体は、基板上に基板側か
ら順に記録層、記録補助層を有し、更に必要に応じて保
護層を有するか或は基板側から順に記録補助層、記録層
を有し、更に必要に応じて保護層を有する構成を基本と
するものである。そして本発明の光記録媒体中に有する
記録補助層は、紫外線または電子線の照射により高分子
化成分が硬化した弾性高分子化合物であるが、本発明の
１つの態様としては、光記録媒体中にラジカル捕捉化合
物を含有して、高分子化成分が硬化する際に発生するラ
ジカルのうち記録層中に侵入するラジカルを捕捉し、記
録層がラジカルにより劣化するのを防止する。また、本
発明の別の態様としては、記録補助層にイオン重合によ
り硬化した弾性高分子化合物を使用して記録層の感度低
下を防止する。

【００１９】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。

【００２０】本発明の光記録媒体は、図１に示すよう
に、基板２上に記録層３、記録補助層４を有し、更に必
要に応じて保護基材５を有する。

【００２１】記録補助層４は、ゴム状弾性を有する高分
子化合物（以下、弾性高分子化合物）で形成したもの
で、光記録媒体を密着構造とするものである。弾性高分
子化合物は、高分子化成分を紫外線や電子線で硬化した
ものである。高分子化成分とは重合あるいは架橋により
高分子化合物となるモノマー及び／又はオリゴマーであ
る。

【００２２】記録補助層４に使用する弾性高分子化合物
としては、例えば下記式（１）〜（３）に示すメカニズ
ムにより硬化するシリコーンゴムを使用することができ
る。

【００２３】

【外１】

【００２４】更に、記録補助層４に使用する弾性高分子
化合物には、例えば式（４）に示すように、分子鎖中、
又は分子鎖末端にビニル基を有するジエン系液状ゴム等
を用いて形成することができる。

【００２５】

【外２】

【００２６】記録補助層４に使用する弾性高分子化合物
として、上記の式（１）〜（４）を例示したが、これら
弾性高分子化合物の好ましい重合度や分子量を示すのは
難しい。しかしながら、好ましい記録補助層４として
は、硬化後の硬度がＪＩＳＫ６３０１（ＡＳＴＭＤ
２２４０）に基づく硬度で２以上７０以下、更には３以
上６０以下とするのがよい。

【００２７】高分子化成分の硬化に、必要に応じ使用す
る重合開始剤としては、例えばジクロロアセトフェノ
ン、トリクロロアセトフェノン、ジアルコキシアセトフ
ェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラ
ーケトン、ベンジルベンゾイル、ベンゾインエーテル、
ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、
α−アシロキシムエステル等の通常用いられるラジカル
重合開始剤を用いることができる。

【００２８】重合開始剤を用いる場合、配合量として
は、重合比で高分子化成分の

【００２９】

【外３】

【００３０】記録層３には、有機色素及びラジカル捕捉
化合物を含有する。有機色素としては、例えばシアニ
ン、メロシアニン、ポリメチン、フタロシアニン、ナフ
タロシアニン、テトラヒドロコリン、ジオキサジン、ピ
リリウム、アズレン、アントラキノン系等を挙げること
ができる。これら有機色素の中でも特にシアニン、メロ
シアニン、ポリメチン、アズレン、フタロシアニン、ナ
フタロシアニン等の有機色素が弾性高分子化合物より成
る記録補助層４との組み合わせにおいて、記録層３の記
録感度を高く保つのに大きな効果を有する。

【００３１】ラジカル捕捉化合物としては、ラジカルと
容易に反応してラジカル連鎖反応の進行を禁止する化合
物が有効であり、このような化合物としては、フェノー
ル化合物、キノン化合物、アミン化合物等がある。フェ
ノール化合物としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステ
アリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート、２，２′−メチレン−ビ
ス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
２′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、４，４′−チオビス−（３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデン−ビ
ス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，
１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレ
ン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，
３′−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチルフェ
ニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコ
フェロール等が挙げられる。また、キノン化合物として
はヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒ
ドロキシヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン等が挙げられ
る。アミン化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−β−ナフチル−ｐ−
フェニレンジアミン、フェニル−イソプロピル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ′−（１−メチル
ヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、その他ヒンダー
ドアミン系化合物等が挙げられる。これらのうち、特に
フェノール化合物が記録層を形成する有機色素との相互
作用が低く、好適である。なお、本発明において使用さ
れるラジカル捕捉化合物は特にこれらに限定されるもの
ではない。

【００３２】有機色素の含有量は、記録層３に対して６
０〜９９．９５％（重量基準。以下、百分率は重量基準
である）、更には、７０〜９９．０％が好ましい。

【００３３】

【外４】阻害されるようになるからである。

【００３４】ラジカル捕捉化合物は、記録層３中に均一
に分散されていてもよいが、記録層３中のラジカル捕捉
化合物濃度を、記録層３の基板２側よりも記録補助層４
側で高くすると、ラジカルを捕捉するのにより効果的と
なる。このように、ラジカル捕捉化合物の濃度に分布を
つけると、記録層３中に含有するラジカル捕捉化合物の
量が少なくてすみ、従って記録層３の反射率低下を防ぐ
ことができる。ラジカル捕捉化合物濃度に分布をつけた
場合、ラジカル捕捉化合物の好ましい含有量は

【００３５】

【外５】

【００３６】また、ラジカル捕捉化合物濃度に分布をつ
けると、−ＯＨ基、−ＮＨ₂基、

【００３７】

【外６】の密着性をより強固にすることができる。

【００３８】ラジカル捕捉化合物の濃度に分布をつける
には例えば、記録層３上に記録補助層４を塗布後、硬化
処理をする前に、記録層３を基板２側から７０〜１４０
℃程度に加熱する方法がある。有機色素に比べてラジカ
ル捕捉化合物の方が昇華性が高いため、加熱によりラジ
カル捕捉化合物が記録層の記録補助層側に移行する。

【００３９】記録層３には、必要に応じ安定化剤を混合
してもよい。この安定化剤としては各種金属キレート化
合物、特にＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｐ
ｄ、Ｚｒを中心金属とする多座配位子、例えばＮ₄、Ｎ₂
Ｏ₂、Ｎ₂Ｓ₂Ｓ₄、Ｏ₂Ｓ₂、Ｏ₄等の四座配位子等又はそ
れらの組合わせから成るもの、各種の芳香族アミン類、
ジアミン類や含窒素芳香族及びこれらのオニウム塩、例
えばアミニウム塩、ジイモニウム塩、ピリジニウム塩、
イミダゾリニウム塩、キノリウム塩等が挙げられる。更
に含酸素芳香族の塩であるピリリウム塩等も用いられ
る。安定化剤は１種だけでもよいし、２種以上を混合し
て使用することもできる。

【００４０】

【外７】

【００４１】以上、記録層３中にラジカル捕捉化合物を
含有した光記録媒体について説明したが、ラジカル捕捉
化合物を記録層３に含有せずに、図２に示すように記録
層３と記録補助層４との間に、ラジカル捕捉化合物を含
有する捕捉層１を設けてもよい。

【００４２】捕捉層１は、ラジカル捕捉化合物の種類に
よってはラジカル捕捉化合物だけで構成することができ
るが、好ましくはラジカル捕捉化合物とバインダーとを
含有する。捕捉層１にラジカル捕捉化合物とバインダー
とを含有する場合、ラジカル捕捉化合物の含有量は捕捉
層１に対して０．０５〜１０％、更には０．１〜５％が
好ましい。

【００４３】捕捉層１に含有するバインダーとしては、
例えばポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ
エステル、ポリウレタン、エチレン−塩ビ共重合体、塩
化ビニリデン、塩化ビニル、ブタジエン、ポリアセター
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリサルホン、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリプロピレン、ニトロセルロース、酢酸
セルロース、エチルセルロース、酢酸ビニル、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体等の１種又は２種以上を用いることができる。

【００４４】図２に示すように捕捉層１を設ける場合、
記録層３にはラジカル捕捉化合物を含有してもよいし、
含有しなくてもよい。図２に示す記録層３にラジカル捕
捉化合物を含有する場合、記録層３としては、図１で説
明した記録層３と同様のものが使用できるが、記録層３
にラジカル捕捉化合物を含有しない方が、記録層の反射
率が低下せず好ましい。記録層３にラジカル捕捉化合物
を含有しない場合、記録層３中の有機色素の含有量は６
０〜１００％、更には７０〜１００％が好ましい。

【００４５】図２に示すように、記録層３と捕捉層１と
を別々に設ける場合、記録層３と捕捉層１との境界は明
確であっても、明確でなくてもかまわない。記録層３と
捕捉層１との境界が明確でない場合、記録層３と捕捉層
１との間は記録層３と捕捉層１とが混り合った状態とな
る。

【００４６】基板２としては、光透過性の材料を使用す
るのが好ましく、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチ
レン樹脂等が好ましい。基板２は、表面にトラッキング
用のグルーブ（図示せず）等を形成したものであっても
良い。

【００４７】必要に応じて設ける保護基材５にも、基板
２と同様にアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリオレフィン樹脂等を使用することができ
る。

【００４８】基板２の厚みは、０．２ｍｍ〜１．５ｍｍ
が好ましい。

【００４９】記録層３の厚みは、ラジカル捕捉化合物を
含有する場合も含有しない場合も５００Å〜２０００
Å、更には７００Å〜１７００Åが好ましい。

【００５０】捕捉層１の厚みは、５０Å〜１５００Å、
更には１００Å〜１０００Åが好ましい。

【００５１】記録補助層４の厚みは、３μｍ〜５０μ
ｍ、更には５μｍ〜２５μｍが好ましい。

【００５２】保護基板材５の厚みは、５０μｍ〜１ｍｍ
が好ましい。

【００５３】以上の説明においては、本発明の光記録媒
体中にラジカル捕捉化合物を含有して記録補助層で発生
するラジカルを捕捉しているが、記録補助層を構成する
弾性高分子化合物を高分子化成分のイオン重合化物で形
成すれば、ラジカルの発生がなく、このため光記録媒体
中にラジカル捕捉化合物を含有させる必要がない。この
ように、本発明の光記録媒体は記録補助層４に、高分子
化成分のイオン重合で形成した弾性高分子化合物を用い
てもよい。

【００５４】イオン重合に使用する高分子化成分として
は、エポキシ基を有する高分子化成分が好ましく、この
ような高分子化成分をイオン重合で硬化せしめた弾性高
分子化合物としてはシリコーンゴムあるいはポリブタジ
エンゴム等が好ましい。エポキシ基を有する高分子化成
分としては、例えば下記式（５）〜（１２）で示される
ものが好ましく使用できる。

【００５５】

【外８】

【００５６】

【外９】

【００５７】本発明におけるエポキシ基を有する高分子
化成分の重合は、紫外線の照射によりルイス酸を発生す
るイオン重合開始剤を用いるイオン重合である。即ち、
この態様における記録補助層４は、エポキシ基を有する
高分子化成分及びイオン重合開始剤を含む組成物が重合
したものである。イオン重合は、紫外線照射時にルイス
酸のオニウム塩から発生するルイス酸により重合が開始
され、照射終了後も、エポキシ基がほぼ完全に消費され
るまで重合が進む。

【００５８】本発明に用いられる紫外線照射によりエポ
キシ基を有する高分子化合物のイオン重合を引起こす触
媒を放出する化合物としては、たとえばルイス酸のオニ
ウム塩であれば何でも用いることができ、その具体例と
しては「マクロモレキュル」Ｖｏｌ１０，Ｎｏ．６，
Ｐ１３０７〜１３１５（１９７７年）、「フォトグラフ
ィクサイエンスアンドエンジニアリング」１８，Ｐ
３８７（１９７４年）、特公昭５２−１４２７７号公
報、特公昭５２−１４２７８号公報、特公昭５２−１４
２７９号公報等に開示されているようなハロゲン化物の
芳香族ジアゾニウム塩錯体、芳香族ヨードニウム塩錯
体、芳香族スルホニウム塩錯体、芳香族アンモニウム塩
錯体などがあげられる。

【００５９】オニウム塩に含まれるルイス酸アニオンと
しては種々のものが使用できるが、それ等の中でもＢＦ
₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｂＣｌ₆ ^-、ＳｎＣ
ｌ₆ ^2-、ＦｅＣｌ₄ ^2-およびＢｉＣｌ₅ ^2-で示されるアニ
オンが特に好適である。これらのルイス酸アニオンが特
に好ましい理由として、触媒活性が高いため、紫外線等
の照射により放出された時に迅速に高分子化成分の重合
が進み、記録層への影響がほとんどないことが挙げられ
る。

【００６０】高分子化成分のエポキシ基に対するイオン
重合開始剤の含有量は、先に図１を用いて説明した本発
明の光記録媒体の場合と同様である。記録補助層４に、
エポキシ基を有する高分子成分のイオン重合で硬化せし
めた弾性高分子化合物を用いた本発明の光記録媒体の場
合、基板２、記録層３及び保護層５は、先に図１を用い
て説明した本発明の光記録媒体と同様のものが使用でき
る。ただし、この場合、記録層３にラジカル捕捉化合物
を含有させる必要がなく、従って記録層３中の有機色素
の含有量は６０〜１００％、更には７０〜１００％が好
ましい。また、この場合、捕捉層１を設ける必要もな
い。

【００６１】本発明の光記録媒体において、記録層３及
び捕捉層１は前記した材料を溶媒に溶解又は分散して基
板２に順次塗布して形成することができる。

【００６２】有機色素や安定化剤等の記録層３の材料を
溶解するのに用いられる溶媒としては基板２を侵さない
ものがよく、例えばジアセトンアルコール、セロソル
ブ、１−メトキシ−２−プロパノール等や、これらのも
のにハロゲン系の溶媒を少量加えた混合溶媒を用いるこ
ともできる。捕捉層１の材料を溶解する溶媒としては記
録層３を溶解しないものが好ましいが、記録層３の表面
のみわずかに溶解するものであってもよい。捕捉層１の
材料を溶解する溶剤は、記録層３を構成する材料により
異なるが、例えばエタノール、イソプロピルアルコー
ル、アミルアルコール等のアルコール類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ｎ−ヘキサ
ン、ベンゼン、キシレン等を挙げることができる。

【００６３】記録層３は蒸着によっても形成することが
できる。

【００６４】記録補助層４は、前述した高分子化成分及
び必要に応じて用いる重合開始剤を記録層３あるいは捕
捉層１上に所定厚さに塗布した後、加熱及び／又は紫外
線等を照射して形成する。紫外線の光源としては高圧水
銀ランプ、メタルハライドランプ等を使用するのが好ま
しい。

【００６５】必要に応じて設ける保護基材５は、前述し
た材料のフィルムをラミネートして形成することができ
る。

【００６６】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。

【００６７】（実施例１〜１１）押し出し成形により成
形した厚さ０．４ｍｍのポリカーボネート基板とプリフ
ォーマットパターンの形成されたスタンパーとの間に、
紫外線硬化樹脂（ＳＴＭ４０１大日本インキ社製）を充
填した後、紫外線硬化樹脂を硬化して溝幅３μｍ、溝ピ
ッチ１２μｍ、溝深さ３０００Åのグルーブ付基板を作
製した（いわゆる２Ｐプロセス）。この基板のグルーブ
面上に表１に示す有機色素及びラジカル捕捉化合物をジ
クロロエタンに溶解してバーコートにより塗布し、厚み
１０００Åの記録層を形成した。

【００６８】ジクロロエタン溶液中に含有する有機色素
及びラジカル捕捉化合物の混合物濃度は２．０％とし
た。有機色素とラジカル捕捉化合物との混合比は表１に
示した。

【００６９】こうして形成した記録層上に表１に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムをロールコートにより厚さ１
０μｍとなるように塗布し、次いで窒素雰囲気下で高圧
水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）を用い、照射距離１５ｃ
ｍで紫外線を３０秒間照射して上記紫外線硬化型シリコ
ーンゴムを硬化し、記録補助層を形成した。

【００７０】更に、記録補助層上に厚み０．３ｍｍのポ
リカーボネートフィルムを、エチレン−酢酸ビニル共重
合体系ホットメルト接着剤（ヒロダイン７５８０、ヒロ
ダイン工業社製）を用い、ロールラミネータで接着し保
護基材とした。接着温度は１２０℃であった。

【００７１】最後に、長さ８５．７ｍｍ、幅５４．０ｍ
ｍのカード状に切断し、本発明の光記録媒体である光カ
ードを作成した。

【００７２】

【表１】

【００７３】尚、上記表１中の有機色素［Ｉ］［ＩＩ］
［ＩＩＩ］は以下の通りである。

【００７４】

【外１０】

【００７５】（実施例１２〜１７）実施例１と同様の基
板を用い、この基板のグルーブ面上に、表２に示す組合
せで、前述の有機色素［Ｉ］［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］、
ラジカル捕捉化合物及び下記構造式［ＩＶ］又は［Ｖ］
の安定化剤をジクロロエタンに溶解してバーコートによ
り塗布し、厚み１０００Åの記録層とした。

【００７６】

【外１１】

【００７７】ジクロロエタン溶液中に含有する有機色
素、ラジカル捕捉化合物及び安定化剤の混合物濃度は、
２．０％とした。有機色素、ラジカル捕捉化合物及び安
定化剤の混合比は表２に示した。

【００７８】こうして形成した記録層上に表２に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを実施例１と同様に形成し記
録補助層とした。

【００７９】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後に実施例１と同様に切断して本発明
による光カードを作成した。

【００８０】

【表２】

【００８１】（実施例１８〜２３）実施例１と同様の基
板を用い、この基板のグルーブ面上に、前述の有機色素
［Ｉ］［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］、ラジカル捕捉化合物及
び前述の安定化剤［ＩＶ］又は［Ｖ］を、表３に示す組
合せ及び配合比で、実施例１２と同様に塗布し厚み１０
００Åの記録層とした。

【００８２】こうして形成した記録層上に表３に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを塗布し、このシリコーンゴ
ムを紫外線で硬化する前に、基板側より９０℃の温度で
２分間加熱して記録層２の記録補助層に接する側でのラ
ジカル捕捉化合物の有機色素

【００８３】

【外１２】実施例１と同様にしてシリコーンゴムを硬化し、更に保
護基材を形成した後、カード状に切断して本発明による
光カードを作成した。

【００８４】

【表３】

【００８５】（実施例２４〜２９）実施例１と同様の基
板を用い、この基板のグルーブ面上に、表４に示す組合
せ及び配合比で、前述の有機色素［Ｉ］［ＩＩ］又は
［ＩＩＩ］と、前述の安定化剤［ＩＶ］又は［Ｖ］と
を、ジクロロエタンに溶解してバーコードにより塗布
し、厚み１０００Åの記録層とした。ジクロロエタン溶
液中に含有する有機色素及び安定化剤の混合物濃度は
２．０％とした。

【００８６】次に、表４に示すラジカル捕捉化合物をｍ
−キシレンに溶解あるいは分散させて、上記の記録層上
に塗布し厚み３００Åの捕捉層とした。ｍ−キシレン溶
液中に含有するラジカル捕捉化合物の濃度は５．０％と
した。

【００８７】こうして形成した捕捉層上に表４に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを実施例１と同様に形成し記
録補助層とした。

【００８８】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後に実施例１と同様に切断して本発明
による光カードを作成した。

【００８９】

【表４】

【００９０】（実施例３０〜３２）実施例１と同様の基
板を用い、この基板のグルーブ面上に、前述の有機色素
［Ｉ］［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］と前述の安定化剤［Ｉ
Ｖ］又は［Ｖ］とを、表５に示す組合せ及び配合比で実
施例２４と同様に塗布し厚み１０００Åの記録層とし
た。

【００９１】次に、ラジカル捕捉化合物及びバインダー
を表５に示す組合せ及び配合比でｍ−キシレンに溶解あ
るいは分散させて、上記の記録層上に塗布し厚み１００
００Åの捕捉層とした。ｍ−キシレン溶液中に含有する
ラジカル捕捉化合物及びバインダーの混合物濃度は５．
０％とした。

【００９２】こうして形成した捕捉層上に表５に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを実施例１と同様に形成し記
録補助層とした。

【００９３】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後に実施例１と同様に切断して本発明
による光カードを作成した。

【００９４】

【表５】

【００９５】（実施例３３〜４２）実施例１と同様の基
板を用い、この基板のグルーブ面上に、表６に示すよう
に前述の有機色素［Ｉ］［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］をジク
ロロエタンに溶解してバーコートにより塗布し、厚み１
０００Åの記録層とした。ジクロロエタン溶液中に含有
する有機色素の濃度は２．０％とした。

【００９６】こうして形成した記録層上に、表６に示す
高分子化成分及びイオン重合開始剤の混合物をロールコ
ーターを用いて厚み１０μｍとなるように塗布し、次い
で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀ランプを用い、照射距離１５
ｃｍで紫外線を３０秒間照射して、上記高分子化成分を
硬化し、記録補助層を形成した。高分子化成分とイオン
重合開始剤との混合比は、高分子化成分９５重量部に対
しイオン重合開始剤５重量部とした。

【００９７】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後に実施例１と同様に切断して本発明
による光カードを作成した。

【００９８】

【表６】

【００９９】

【表７】

【０１００】（実施例４３〜５０）押し出し成形により
成形した厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板と所定
溝の形成されたスタンパーとの間に紫外線硬化樹脂（Ｓ
ＴＭ４０１大日本インキ社製）を充填した後、紫外線
硬化樹脂を硬化して、溝幅０．６μｍ、ピッチ１．６μ
ｍ、溝深さ０．１μｍのグルーブ付基板を作製した（い
わゆる２Ｐプロセス）。この基板のグルーブ面上に表７
に示す有機色素［Ｉ］［ＶＩ］又は［ＶＩＩ］を実施例
３３と同様に塗布し、厚さ１０００Åの記録層とした。

【０１０１】こうして形成した記録層上に、表７に示す
高分子化成分及びイオン重合開始剤の混合物を、実施例
３３と同様に塗布し、その後実施例３３と同様の条件で
硬化して記録補助層とした。高分子化成分とイオン重合
開始剤との混合比は、実施例３３と同様とした。

【０１０２】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後にディスク状に切断して直径８６ｍ
ｍ本発明の光ディスクを作成した。

【０１０３】

【表８】

【０１０４】

【表９】

【０１０５】尚、上記表７中の有機色素［Ｉ］は前述し
た有機色素であり、有機色素［ＶＩ］及び［ＶＩＩ］は
以下の通りである。

【０１０６】

【外１３】

【０１０７】（比較例１〜３）実施例１と同様の基板を
用い、この基板のグルーブ面上に、前述の有機色素
［Ｉ］［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］と前述の安定化剤［Ｉ
Ｖ］又は［Ｖ］とを、表８に示す組合せ及び配合比で、
実施例１と同様に塗布し厚み１０００Åの記録層とし
た。この記録層にはラジカル捕捉化合物は含有しなかっ
た。

【０１０８】こうして形成した記録層上に表８に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを実施例１と同様に形成し記
録補助層とした。表８に示す紫外線硬化型シリコーンゴ
ムはラジカル連鎖反応により硬化するものである。

【０１０９】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護記材を設け、最後に実施例１と同様に切断して光カー
ドを作成した。

【０１１０】

【表１０】

【０１１１】（比較例４〜８）実施例４３と同様の基板
を用い、この基板のグルーブ面上に、前述の有機色素
［Ｉ］［ＶＩ］又は［ＶＩＩ］を、実施例３３と同様に
塗布し厚み１０００Åの記録層とした。この記録層には
ラジカル捕捉化合物は含有しなかった。

【０１１２】こうして形成した記録層上に表９に示す紫
外線硬化型シリコーンゴムを実施例１と同様に形成し記
録補助層とした。表９に示す紫外線硬化型シリコーンゴ
ムはラジカル連鎖反応により硬化するものである。

【０１１３】更に、記録補助層上に実施例１と同様の保
護基材を設け、最後に実施例４３と同様に切断して直径
８６ｍｍの光ディスクを作成した。

【０１１４】

【表１１】

【０１１５】以上のようにして作成した実施例１〜４２
の光カード、実施例４３〜５０の光ディスク、比較例１
〜３の光カード及び比較例４〜８の光ディスクについ
て、波長８３０ｎｍにおける反射率を測定した。反射率
の測定には日立製の分光光度計Ｕ−３４００を使用し
た。また反射率の測定は、基板側より光を入射して行な
った。測定した反射率を表１０〜表１３に示した。

【０１１６】更に、実施例１〜４２の光カード及び比較
例１〜３の光カードについて、送り速度０．０６ｍ／ｓ
ｅｃで送りながら、波長８３０ｎｍの半導体レーザーを
用いて記録再生を行ない、記録再生コントラストを下記
の式［Ａ］で求めた。記録は、記録パワー３．５ｍＷ、
パルス幅５０μｓｅｃで行ない、再生は再生パワー０．
２ｍＷで行なった。求めた記録再生コントラストを表１
０及び表１１に示した。

【０１１７】

【外１４】

【０１１８】また、実施例４３〜５０の光ディスク及び
比較例４〜８の光ディスクについて、１８００ｒｐｍで
回転させながら、波長８３０ｎｍの半導体レーザーを用
いて記録再生を行ない、Ｃ／Ｎを測定した。記録は記録
パワー８．０ｍＷ、記録周波数３ＭＨｚで行ない、再生
は再生パワー０．５ｍＷで行なった。求めたＣ／Ｎを表
１２及び表１３に示した。

【０１１９】

【表１２】

【０１２０】

【表１３】

【０１２１】

【表１４】

【０１２２】

【発明の効果】以上の説明からわかるように、記録補助
層を有する密着構造の光記録媒体においても、光記録媒
体中にラジカル捕捉化合物を含有することにより、ある
いはイオン重合により硬化する記録補助層を用いること
により記録層の記録感度を高く保つことができる。

【０１２３】特に、記録層と記録補助層との間に、ラジ
カル捕捉化合物の含有する捕捉層を設ける構成とする場
合に、記録感度の高い光記録媒体とすることができる。

【０１２４】また、ラジカル化合物を記録層中に含有さ
せ、ラジカル化合物濃度を記録層の記録補助層側で高く
する場合も記録感度の高い光記録媒体とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の一実施態様を示す概略断
面図である。

【図２】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す概略
断面図である。

【符号の説明】１捕捉層２基板３記録層４記録補助層５保護層

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板、有機色素を含有する記録層及び記
録補助層を有する光記録媒体に於て、該記録補助層がラ
ジカル重合によって硬化せしめた弾性高分子化合物を含
有すると共に該記録層がラジカル捕捉化合物を含有する
ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】該記録補助層が該記録層と接している請
求項１の光記録媒体。
【請求項３】該ラジカル捕捉化合物が、フェノール化
合物、キノン化合物及びアミン化合物から選ばれたもの
である請求項１の光記録媒体。
【請求項４】該弾性高分子化合物がシリコーンゴムで
ある請求項１の光記録媒体。
【請求項５】該記録層中の該記録補助層と接する側の
ラジカル捕捉化合物の濃度が該記録補助層と接しない側
のラジカル捕捉化合物の濃度よりも高いクレーム２の光
記録媒体。
【請求項６】該記録層中のラジカル捕捉化合物の濃度
が徐々に変化している請求項５の光記録媒体。
【請求項７】基板、有機色素を含有する記録層及び記
録補助層を有する光記録媒体に於て、該記録補助層がラ
ジカル重合によって硬化せしめた弾性高分子化合物を含
有すると共に該記録層と該記録補助層の間にラジカル捕
捉化合物を含有する捕捉層を有することを特徴とする光
記録媒体。
【請求項８】該ラジカル捕捉化合物がフェノール化合
物、キノン化合物及びアミン化合物から選ばれたもので
ある請求項７の光記録媒体。
【請求項９】該弾性高分子化合物がシリコーンゴムで
ある請求項７の光記録媒体。
【請求項１０】基板、有機色素を含有する記録層及び
記録補助層を有する光記録媒体に於て、該記録補助層
が、エポキシ基を有する高分子化成分及びイオン重合開
始剤を含有する組成物を重合せしめた弾性高分子化合物
を含有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項１１】該イオン重合開始剤がルイス酸を発生
する化合物を含有する請求項１０の光記録媒体。
【請求項１２】ルイス酸を発生する前記化合物がオニ
ウム塩であり、そのアニオン種がＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、Ａｓ
Ｆ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｂＣｌ₆ ^-、ＳｎＣｌ₆ ^2-、ＦｅＣｌ₄
^-およびＢｉＣｌ₅ ^2-からなる群から選ばれたアニオン種
である請求項１１の光記録媒体。
【請求項１３】該弾性高分子化合物がシリコーンゴム
である請求項１１の光記録媒体。