JPH025245A - 光記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光記録媒体に関し、特に低出力のエネルギービ
ームを照射することにより情報の記録を行うことができ
る光カード等に適した光記録媒体に関する。
ームを照射することにより情報の記録を行うことができ
る光カード等に適した光記録媒体に関する。
近年磁気記録方式に代わる新しい記録方式として光記録
方式が開発され、広く利用されるようになった。
方式が開発され、広く利用されるようになった。
光記録媒体は一般に基板上にTe等の金属の薄膜を蒸着
したもので構成されており、これにレーザー等のエネル
ギービームを照射して照射部分にビットを形成すること
により、情報の記録を行っている(特開昭60−208
290号)。このような光記録媒体は近赤外域でも光吸
収を有するために半導体レーザーが使用でき、また反射
率が大きいためにC/N比を高くすることができるとい
う利点を有するが、反面反射率が大きいためにレーザー
光線のエネルギーを有効に利用できず、記録に要する光
エネルギーが大きくなり、大出力のレーザー光源を要す
るという問題がある。さらに薄膜には、テルル、ビスマ
ス、セレン等が用いられるが、これらは毒性を持ってい
るという欠点もある。
したもので構成されており、これにレーザー等のエネル
ギービームを照射して照射部分にビットを形成すること
により、情報の記録を行っている(特開昭60−208
290号)。このような光記録媒体は近赤外域でも光吸
収を有するために半導体レーザーが使用でき、また反射
率が大きいためにC/N比を高くすることができるとい
う利点を有するが、反面反射率が大きいためにレーザー
光線のエネルギーを有効に利用できず、記録に要する光
エネルギーが大きくなり、大出力のレーザー光源を要す
るという問題がある。さらに薄膜には、テルル、ビスマ
ス、セレン等が用いられるが、これらは毒性を持ってい
るという欠点もある。
このような事情に鑑み、近年吸収性の選択ができ、吸収
率が大きく、熱伝導率が小さく、生産性が良く、毒性が
低い有機色素薄膜を記録層として適用した光記録材料の
提案が種々なされている。
率が大きく、熱伝導率が小さく、生産性が良く、毒性が
低い有機色素薄膜を記録層として適用した光記録材料の
提案が種々なされている。
このような光記録媒体に用いる代表的な色素としては、
シアニン系色素(特開昭58−112790号)、アン
トラキノン系色素(特開昭58−224448号)、ナ
フトキノン系色素(特開昭58−224793号)及び
フタロシアニン系色素(特開昭60−48396号)等
がある。これらは単独又は自己酸化性樹脂と併用してス
ピンナー塗布法、ディッピング法、プラズマ法又は真空
蒸着法等により基板上に薄膜状に塗布され、光記録媒体
が作られる。
シアニン系色素(特開昭58−112790号)、アン
トラキノン系色素(特開昭58−224448号)、ナ
フトキノン系色素(特開昭58−224793号)及び
フタロシアニン系色素(特開昭60−48396号)等
がある。これらは単独又は自己酸化性樹脂と併用してス
ピンナー塗布法、ディッピング法、プラズマ法又は真空
蒸着法等により基板上に薄膜状に塗布され、光記録媒体
が作られる。
上記従来技術において、光記録に対する感度を向上させ
るために、即ちエネルギー量を低下させるために、有機
色素どして熱的により不安定な材料を使用するのが好ま
しいが、このような材料は分子量が小さく、また共鳴範
囲の狭い分子構造を取るものが多い。このため一般に化
学的、物理的な面においても十分に安定ではなく、通常
使用される接着剤、例えばウレタン系、エポキシ系、シ
アノアクリレート系等の接着剤と接触すると、その接着
剤に含有される活性分子鎖又は官能基、例えばインシア
ネート基、アミノ基、エポキシ基等により色素の分子構
造が破壊されたり化学変化を起こしたりし、色調変化や
反射率変化を生じることがある。特にこのような変化は
長時間の間に生じ、光記録層の経時変化の原因となると
ともに、熱、光、湿度、圧力等の外的要因により変化が
促進され、記録或いは再生に当たって光記録の経時的劣
化の原因となる。
るために、即ちエネルギー量を低下させるために、有機
色素どして熱的により不安定な材料を使用するのが好ま
しいが、このような材料は分子量が小さく、また共鳴範
囲の狭い分子構造を取るものが多い。このため一般に化
学的、物理的な面においても十分に安定ではなく、通常
使用される接着剤、例えばウレタン系、エポキシ系、シ
アノアクリレート系等の接着剤と接触すると、その接着
剤に含有される活性分子鎖又は官能基、例えばインシア
ネート基、アミノ基、エポキシ基等により色素の分子構
造が破壊されたり化学変化を起こしたりし、色調変化や
反射率変化を生じることがある。特にこのような変化は
長時間の間に生じ、光記録層の経時変化の原因となると
ともに、熱、光、湿度、圧力等の外的要因により変化が
促進され、記録或いは再生に当たって光記録の経時的劣
化の原因となる。
さらに、媒体の製造上あるいは特性上の問題として、有
機色素が媒体の全面に存在すると媒体全体が色素の色に
染まるため印刷、媒体デザイン上の制約を受けることに
なる。これらの問題の解決のためには有機色素層を部分
的に形成することが考えられるが、均一にしかも安定し
て部分的に有機色素層を形成することは困難である。
機色素が媒体の全面に存在すると媒体全体が色素の色に
染まるため印刷、媒体デザイン上の制約を受けることに
なる。これらの問題の解決のためには有機色素層を部分
的に形成することが考えられるが、均一にしかも安定し
て部分的に有機色素層を形成することは困難である。
従って本発明の目的は有機色素系光記録層が接着剤層の
影響を受けることの無いよう空隙を設け、さらに空隙を
設けることによりその反射率を向上させた光記録媒体を
提供することを特徴とする特に本発明の目的は光カード
として使用し得るような光記録媒体を提供することであ
る。
影響を受けることの無いよう空隙を設け、さらに空隙を
設けることによりその反射率を向上させた光記録媒体を
提供することを特徴とする特に本発明の目的は光カード
として使用し得るような光記録媒体を提供することであ
る。
上記問題点に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、有機色
素を含有する光記録層の一部分に、有機色素脱色層が接
するように光記録層と有機色素脱色素とを貼付すること
により、前記光記録層と前記有機色素脱色層とが接しな
い部分を設け、もってその部分の光記録層の光学特性が
有機色素脱色層により劣化しないことを利用して、部分
的に光記録領域が形成された光記録媒体を得ることがで
きることを発見し、本発明に想到した。
素を含有する光記録層の一部分に、有機色素脱色層が接
するように光記録層と有機色素脱色素とを貼付すること
により、前記光記録層と前記有機色素脱色層とが接しな
い部分を設け、もってその部分の光記録層の光学特性が
有機色素脱色層により劣化しないことを利用して、部分
的に光記録領域が形成された光記録媒体を得ることがで
きることを発見し、本発明に想到した。
すなわち、本発明の光記録媒体は、透明基板上に有機色
素を含有する光記録層と、前記光記録層の一部に設けら
れた前記有機色素を脱色させる作用を有する有機色素脱
色層と、支持基板とが順次積層されており、前記有機色
素脱色層と接しない前記光記録層の部分が光記録領域と
なっていることを特徴とする。
素を含有する光記録層と、前記光記録層の一部に設けら
れた前記有機色素を脱色させる作用を有する有機色素脱
色層と、支持基板とが順次積層されており、前記有機色
素脱色層と接しない前記光記録層の部分が光記録領域と
なっていることを特徴とする。
本発明の光記録媒体の構成は、例えば第1図に示す通り
である。
である。
第1図に示す光記録媒体は、保護層1、書き込み読み取
り光に対して透過性のある透明基板2、有機色素を含有
する光記録層3、有機色素を脱色させる作用を有する有
機色素脱色層6及び支持基板8を順次積層したもので、
光記録層3に含有される有機色素を有機色素脱色層4か
ら保護するための空隙7が、光記録層3の下に部分的に
設けられている。光記録層3の有機色素脱色層6と接す
る部分5は光記録層脱色領域となり、下層が空隙7とな
っている部分4が光記録領域として機能する。また、矢
印Aは記録再生用エネルギー光線の照射方向である。
り光に対して透過性のある透明基板2、有機色素を含有
する光記録層3、有機色素を脱色させる作用を有する有
機色素脱色層6及び支持基板8を順次積層したもので、
光記録層3に含有される有機色素を有機色素脱色層4か
ら保護するための空隙7が、光記録層3の下に部分的に
設けられている。光記録層3の有機色素脱色層6と接す
る部分5は光記録層脱色領域となり、下層が空隙7とな
っている部分4が光記録領域として機能する。また、矢
印Aは記録再生用エネルギー光線の照射方向である。
保護層1としては、書き込み読み取り光に対して透過性
が良く複屈折がないかぎり、通常のカードの保護層(オ
ーバーシート)として用いることのできるあらゆるプラ
スチック材料が使用可能である。具体的には、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリメチルメタクリ
レート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート等のフィルムが用いられる。
が良く複屈折がないかぎり、通常のカードの保護層(オ
ーバーシート)として用いることのできるあらゆるプラ
スチック材料が使用可能である。具体的には、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリメチルメタクリ
レート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート等のフィルムが用いられる。
さらに表面硬度が高くて耐擦傷性が良好な保護層1とす
るために、電離放射線硬化型樹脂により形成することも
できる。電離放射線硬化型樹脂とは紫外線や電子線等の
電離放射線で硬化する樹脂である。このような樹脂は分
子中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマーまた
はオリゴマー例えば、不飽和ポリエステル類、ポリエス
テルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールア
クリレート、メラミンアクリレートなどの各種アクリレ
ート類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメ
タクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメ
タクリレートなどの各種メタクリレート類などの一種も
しくは二種以上に、必要に応じ分子中にエチレン性不飽
和結合を有するモノマー、例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレンなどのスチレン系モノマー類、アクリル酸メ
チル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メ
トキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸
ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニ
ルなどのアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリルなどのメタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド、メタクリルアミ
ドなどの不飽和カルボン酸アミド、アクリル酸−2−(
N、N−ジエチルアミノ)エチル、メタクリル酸−2−
(N、N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−
(N、N−ジベンジルアミノ)エチル、メタクリル酸(
N、N−ジメチルアミノ)メチル、アクリルi!!−2
−(N、N−ジエチルアミノ)プロピルなどの不飽和酸
による置換アミノアルコールエステル類、エチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレー)、1.
6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレートなどの多官能性化合物、および(または)分子
中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物
、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコレートなどを混合
したものである。
るために、電離放射線硬化型樹脂により形成することも
できる。電離放射線硬化型樹脂とは紫外線や電子線等の
電離放射線で硬化する樹脂である。このような樹脂は分
子中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマーまた
はオリゴマー例えば、不飽和ポリエステル類、ポリエス
テルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールア
クリレート、メラミンアクリレートなどの各種アクリレ
ート類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメ
タクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメ
タクリレートなどの各種メタクリレート類などの一種も
しくは二種以上に、必要に応じ分子中にエチレン性不飽
和結合を有するモノマー、例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレンなどのスチレン系モノマー類、アクリル酸メ
チル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メ
トキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸
ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニ
ルなどのアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリルなどのメタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド、メタクリルアミ
ドなどの不飽和カルボン酸アミド、アクリル酸−2−(
N、N−ジエチルアミノ)エチル、メタクリル酸−2−
(N、N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−
(N、N−ジベンジルアミノ)エチル、メタクリル酸(
N、N−ジメチルアミノ)メチル、アクリルi!!−2
−(N、N−ジエチルアミノ)プロピルなどの不飽和酸
による置換アミノアルコールエステル類、エチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレー)、1.
6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレートなどの多官能性化合物、および(または)分子
中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物
、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコレートなどを混合
したものである。
以上の化合物は任意に混合して塗布用組成物とすること
ができるが、適当なコーティング適性を持たせるために
、前記プレポリマーまたはオリゴマーを5重量%以上と
し、前記モノマーおよび(または)ポリチオール化合物
を95重量%以下とするのが好ましい。
ができるが、適当なコーティング適性を持たせるために
、前記プレポリマーまたはオリゴマーを5重量%以上と
し、前記モノマーおよび(または)ポリチオール化合物
を95重量%以下とするのが好ましい。
塗布用組成物には、上記の化合物が紫外線もしくは電子
線の照射前に硬化するのを防止するために、ハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノ
ンなどの重合禁止剤を安定剤として添加するとよい。
線の照射前に硬化するのを防止するために、ハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノ
ンなどの重合禁止剤を安定剤として添加するとよい。
また塗布用組成物を紫外線硬化型とする場合、この中に
光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノ
ン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキ
シエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミン
、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィンなど
を混合して用いる。
光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノ
ン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキ
シエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミン
、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィンなど
を混合して用いる。
保護層の厚さは一般に2〜20μmであり、2μmより
薄いと保護層の耐久性が十分でなく、また20μmより
厚くても意味がない。
薄いと保護層の耐久性が十分でなく、また20μmより
厚くても意味がない。
書き込み、読み取り光に対して透過性のある透明基板2
は光記録材料を保護し、後で述べるように、光記録材料
を製造する際の基材としての役目を果たすものである。
は光記録材料を保護し、後で述べるように、光記録材料
を製造する際の基材としての役目を果たすものである。
、該透明基板側からは、レーザー光を照射して光情報を
記録もしくは再生するので、レーザー光、特に、小型で
出力の高い半導体レーザーのレーザー光の波長に対して
十分な透過性を有していることが必要である。具体的に
は、セルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ビニル系樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリスルホン樹脂等の透明樹脂のフィルム、もしく
はガラスが好ましい。該透明性基板2の厚さは100μ
m〜1mmであり、200〜600μmであるのが好ま
しい。なお該透明基板2上にトラツキラング用案内溝(
図示せず)を形成し、その表面に後述する記録層を形成
することもできる。その形成方法としては、射出成形法
、キャスティング法、2P法(ホトポリマープレス法)
等を用いることができる。
記録もしくは再生するので、レーザー光、特に、小型で
出力の高い半導体レーザーのレーザー光の波長に対して
十分な透過性を有していることが必要である。具体的に
は、セルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ビニル系樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリスルホン樹脂等の透明樹脂のフィルム、もしく
はガラスが好ましい。該透明性基板2の厚さは100μ
m〜1mmであり、200〜600μmであるのが好ま
しい。なお該透明基板2上にトラツキラング用案内溝(
図示せず)を形成し、その表面に後述する記録層を形成
することもできる。その形成方法としては、射出成形法
、キャスティング法、2P法(ホトポリマープレス法)
等を用いることができる。
光記録層3は有機色素を含有する層である。ここで使用
できる有機色素はエネルギー光線により昇華、融解、分
解等の物理的、化学的変化を起こすが、通常の環境では
紫外線や可視光線により変化しないものである。このよ
うな有機色素としてはシアニンやナフトキノン系の色素
等があるが、その他にアゾ系、トリフェニルメタン系の
色素や、スクワIJ IJウム系色素(特開昭57−4
6221号)や、金属フタロシアニン系色素(特開昭5
7−82094号)等を用いることもできる。これらの
色素は単独又は組み合わせて使用することができる。
できる有機色素はエネルギー光線により昇華、融解、分
解等の物理的、化学的変化を起こすが、通常の環境では
紫外線や可視光線により変化しないものである。このよ
うな有機色素としてはシアニンやナフトキノン系の色素
等があるが、その他にアゾ系、トリフェニルメタン系の
色素や、スクワIJ IJウム系色素(特開昭57−4
6221号)や、金属フタロシアニン系色素(特開昭5
7−82094号)等を用いることもできる。これらの
色素は単独又は組み合わせて使用することができる。
マタエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等
のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリα−メチルス
チレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂
、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、
ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアク
リル樹脂又はメタグリル樹脂、ロジン変性マレイン酸樹
脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジン
エステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビ
ニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーを
有機色素に添加し、塗布することも可能である。この場
合有機色素の割合は50重量%以上とする。
のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリα−メチルス
チレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂
、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、
ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアク
リル樹脂又はメタグリル樹脂、ロジン変性マレイン酸樹
脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジン
エステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビ
ニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーを
有機色素に添加し、塗布することも可能である。この場
合有機色素の割合は50重量%以上とする。
光記録層3の膜厚は50A〜10.000人程度が適当
であり、特に500〜5.000人が好ましい。光記録
層3はグラビアコート法、ロールコート法、ナイフェツ
ジ法、オフセット法、スピンナーコート法等の塗布方法
あるいは印刷方法により形成することができる。
であり、特に500〜5.000人が好ましい。光記録
層3はグラビアコート法、ロールコート法、ナイフェツ
ジ法、オフセット法、スピンナーコート法等の塗布方法
あるいは印刷方法により形成することができる。
有機色素脱色層6は光記録層3の一部を脱色する作用を
有するもので、有機色素脱色層6を形成する樹脂の選択
基準として、接着性及び有機色素に対する消色性が重要
である。有機色素に対する有機色素脱色層の影響は有機
色素の種類により異なるので、−船釣に好ましい樹脂を
挙げることはできないが、樹脂の側鎖に活性の高い基が
あるものが望ましく、その例としてはアミノ基、カルボ
キシル基、ヒドロキシル基、カルボニル基、エポキシ基
、4級アンモニウム塩等が挙げられる。また、消色が不
完全な場合は適当な添加側を添加することによって、消
色効果を高めることができる。
有するもので、有機色素脱色層6を形成する樹脂の選択
基準として、接着性及び有機色素に対する消色性が重要
である。有機色素に対する有機色素脱色層の影響は有機
色素の種類により異なるので、−船釣に好ましい樹脂を
挙げることはできないが、樹脂の側鎖に活性の高い基が
あるものが望ましく、その例としてはアミノ基、カルボ
キシル基、ヒドロキシル基、カルボニル基、エポキシ基
、4級アンモニウム塩等が挙げられる。また、消色が不
完全な場合は適当な添加側を添加することによって、消
色効果を高めることができる。
添加剤としては、例えば酸化剤、還元剤又はイソシアネ
ート等の架橋剤等が挙げられる。
ート等の架橋剤等が挙げられる。
有機色素脱色層を形成する接着性を有する樹脂の具体例
としては、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオネート酢酸セルロース
等のセルロースm導体、ポリスチレン、ポリα−メチル
スチレン等のスチレン樹脂あるいはスチレン共重合体樹
脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル
、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のア
クリル樹脂又はメタクリル樹脂、ロジン、ロジン変性マ
レイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、クマロン樹
脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等が挙げら
れる。
としては、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオネート酢酸セルロース
等のセルロースm導体、ポリスチレン、ポリα−メチル
スチレン等のスチレン樹脂あるいはスチレン共重合体樹
脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル
、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のア
クリル樹脂又はメタクリル樹脂、ロジン、ロジン変性マ
レイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、クマロン樹
脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等が挙げら
れる。
また、天然又は合成の樹脂を用いて薄膜フィルムを形成
し、薄膜フィルムの両面に消色性を有する接着剤により
粘着加工を施した後、有機色素脱色層として使用するこ
ともできる。このような薄膜フィルムとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等
のポリエステル系フィルム、セロファン紙等のセルロー
ス系フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン系フィルム、ナイロン等のポリアミド系フィ
ルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化オレフィン系フィルム、ポリスチレン系フィルム、
ポリカーボネート系フィルム、ポリスルホン系フィルム
、ポリメチルメタククレート等のアクリル系フィルム等
が例示されるが、これらに限定されるものではない。さ
らに、これらのフィルムに着色加工したものを用いるこ
とにより、光記録領域以外を任意の色に着色することが
できる。
し、薄膜フィルムの両面に消色性を有する接着剤により
粘着加工を施した後、有機色素脱色層として使用するこ
ともできる。このような薄膜フィルムとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等
のポリエステル系フィルム、セロファン紙等のセルロー
ス系フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン系フィルム、ナイロン等のポリアミド系フィ
ルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化オレフィン系フィルム、ポリスチレン系フィルム、
ポリカーボネート系フィルム、ポリスルホン系フィルム
、ポリメチルメタククレート等のアクリル系フィルム等
が例示されるが、これらに限定されるものではない。さ
らに、これらのフィルムに着色加工したものを用いるこ
とにより、光記録領域以外を任意の色に着色することが
できる。
本発明においては、光記録脱色領域5に相当する大きさ
の有機色素脱色用のフィルムを用意し、スタンピング、
ラミネート等の手段により光記録層脱色領域5のみにフ
ィルムを貼付することにより、デザイン的に所望の大き
さの光記録領域層4を有する光記録媒体を簡単に製造す
ることができる。これは有機色素脱色層6のない部分4
だけ光記録層3に含有される色素が保存されるが、その
他の部分5は有機色素脱色層6と接触することにより脱
色されるからである。このように有機色素脱色層6によ
る脱色作用を利用することにより部分的に光記録領域を
作ることができる。
の有機色素脱色用のフィルムを用意し、スタンピング、
ラミネート等の手段により光記録層脱色領域5のみにフ
ィルムを貼付することにより、デザイン的に所望の大き
さの光記録領域層4を有する光記録媒体を簡単に製造す
ることができる。これは有機色素脱色層6のない部分4
だけ光記録層3に含有される色素が保存されるが、その
他の部分5は有機色素脱色層6と接触することにより脱
色されるからである。このように有機色素脱色層6によ
る脱色作用を利用することにより部分的に光記録領域を
作ることができる。
なお上記光記録領域4を形成する場合に有機色素脱色層
6のない部分(空隙7)を確保するためには、上記有機
色素脱色層6を形成する樹脂として高粘度のものを用い
るか、またはスペーサーを用いることが望ましい。
6のない部分(空隙7)を確保するためには、上記有機
色素脱色層6を形成する樹脂として高粘度のものを用い
るか、またはスペーサーを用いることが望ましい。
上記有機色素脱色層6の厚さは0.5〜100μm程度
であるが、好ましくは5〜60μm程度である。
であるが、好ましくは5〜60μm程度である。
あまり薄くては空隙7を確保しにくく、また厚過ぎると
カード等に成形したときにカード表面の平面性を損なう
原因となる。
カード等に成形したときにカード表面の平面性を損なう
原因となる。
支持基板8としては、通常のカードの基板として用いる
ことができるあらゆる材料が使用可能である。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ア
セチルセルロース、スチレン/ブタジェン共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート等を使用することができる。し
かし場合によっては、鉄、ステンレス、アルミニウム、
スズ、銅、亜鉛等の金属シートや紙等も用いることがで
きる。さらに、上記材料の積層体により形成することも
できる。
ことができるあらゆる材料が使用可能である。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ア
セチルセルロース、スチレン/ブタジェン共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート等を使用することができる。し
かし場合によっては、鉄、ステンレス、アルミニウム、
スズ、銅、亜鉛等の金属シートや紙等も用いることがで
きる。さらに、上記材料の積層体により形成することも
できる。
支持基板8は光記録媒体に十分な機械的強度を付与する
ために0.1〜l mm程度の厚さを有する。
ために0.1〜l mm程度の厚さを有する。
なお光記録層3の記録領域4を透過した再生用エネルギ
ー光線は空隙7を通って支持基板8に達するが、このエ
ネルギー光線が支持基板8で反射を生じた場合には再生
光の記録部と非記録部でのコントラスト、いわゆるC/
N比(Carrier/ No1se比)が低下し、媒
体信号の信頼性を損なうこととなる。従って、支持基板
8は透過光線を実質的に反射しないように光吸収性とす
ることが必要である。これには支持基板8の光記録層3
側にレーザー光線等の記録再生用光線を実質的に反射し
ない層を形成するのが好ましい。このような層は、例え
ば光を吸収するカーボンブラックを練り込んだインキを
塗布して形成し、あるいはそのようなフィルム、シート
を貼り合わせて形成すればよい。
ー光線は空隙7を通って支持基板8に達するが、このエ
ネルギー光線が支持基板8で反射を生じた場合には再生
光の記録部と非記録部でのコントラスト、いわゆるC/
N比(Carrier/ No1se比)が低下し、媒
体信号の信頼性を損なうこととなる。従って、支持基板
8は透過光線を実質的に反射しないように光吸収性とす
ることが必要である。これには支持基板8の光記録層3
側にレーザー光線等の記録再生用光線を実質的に反射し
ない層を形成するのが好ましい。このような層は、例え
ば光を吸収するカーボンブラックを練り込んだインキを
塗布して形成し、あるいはそのようなフィルム、シート
を貼り合わせて形成すればよい。
上記のような構成の光記録媒体において、記録用のエネ
ルギー光線は矢印Aで示す方向に照射され、光記録層3
にピットを形成する。
ルギー光線は矢印Aで示す方向に照射され、光記録層3
にピットを形成する。
エネルギー光線としては一般に使われているレーザー光
を使用することができる。このようなレーザー光に対し
て光記録層3の反射率は10〜20%程度である。
を使用することができる。このようなレーザー光に対し
て光記録層3の反射率は10〜20%程度である。
本発明の光記録媒体においては、有機色素を含有する光
記録層の一部に、前記有機色素を脱色する有機色素脱色
層が積層されており、有機色素脱色層と接していない光
記録層に含有される有機色素だけが有機色素脱色層の活
性側鎖や官能基による変質を受けない。つまり、有機色
素脱色層を光記層の所定の部分(通常は周囲)にのみ形
成することにより、所定の形状の光記録領域を形成する
ことができる。
記録層の一部に、前記有機色素を脱色する有機色素脱色
層が積層されており、有機色素脱色層と接していない光
記録層に含有される有機色素だけが有機色素脱色層の活
性側鎖や官能基による変質を受けない。つまり、有機色
素脱色層を光記層の所定の部分(通常は周囲)にのみ形
成することにより、所定の形状の光記録領域を形成する
ことができる。
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実 施 例 1
厚さ 0.4m mのポリメチルメタクリレート基板上
に、ビクトリアブルーB色素(BASF社製)20重量
部とエタノール80重量部とからなる溶液を乾燥膜厚が
0,15μmとなるようにスピンコード法で塗布し、光
記録層を形成した。
に、ビクトリアブルーB色素(BASF社製)20重量
部とエタノール80重量部とからなる溶液を乾燥膜厚が
0,15μmとなるようにスピンコード法で塗布し、光
記録層を形成した。
次いで、黒色の塩化ビニルシート(厚さ0.2關)を用
意し、この塩化ビニルシートの上に、常温硬化型接着剤
として種水化学■製のニスダインに3120を塗布厚が
60μmとなるようにパターンコート法により塗布した
。
意し、この塩化ビニルシートの上に、常温硬化型接着剤
として種水化学■製のニスダインに3120を塗布厚が
60μmとなるようにパターンコート法により塗布した
。
上記接着剤が光記録領域に侵入しないように、厚さ10
0μmのポリエチレンテレフタレートをスペーサーとし
て使用し、ポリメチルメタクリレート基板の光記録層を
形成した側に、塩化ビニルシートの接着剤塗布面を密着
させて、ポリメチルメタクリレート基板と塩化ビニルシ
ートとを貼合わせた。
0μmのポリエチレンテレフタレートをスペーサーとし
て使用し、ポリメチルメタクリレート基板の光記録層を
形成した側に、塩化ビニルシートの接着剤塗布面を密着
させて、ポリメチルメタクリレート基板と塩化ビニルシ
ートとを貼合わせた。
貼付すると同時に光記録層の接着剤と接した領域(光記
録層脱色領域)の有機色素の色が消滅し、接着剤と接し
ない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射した。また
、光記録領域の反射率は15%であった。さらに、空隙
を有することによる耐久性の低下を調べるため、加温、
加湿下での強制劣化試験(50℃、90%R)I、 2
00時間)を行った。その結果、反射率の低下は認めら
れなかった。
録層脱色領域)の有機色素の色が消滅し、接着剤と接し
ない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射した。また
、光記録領域の反射率は15%であった。さらに、空隙
を有することによる耐久性の低下を調べるため、加温、
加湿下での強制劣化試験(50℃、90%R)I、 2
00時間)を行った。その結果、反射率の低下は認めら
れなかった。
実施例2
厚さ0.4m mのポリメチルメタクリレートの透明基
板上に2P法にてグループ深さ 0.1μm1ピツチ1
0μm及び幅2μmのグループを作成し、乾燥後膜厚が
0.15μmとなるように下記組成の青色の有機色素層
をスピンコード法により設けた。
板上に2P法にてグループ深さ 0.1μm1ピツチ1
0μm及び幅2μmのグループを作成し、乾燥後膜厚が
0.15μmとなるように下記組成の青色の有機色素層
をスピンコード法により設けた。
BASF製ビクトリアブルー8 20重量1エタノール
80重量部次いで、黒色の塩化
ビニルシート(厚さ0.2ffI11)を用意し、塩化
ビニルシート上に変性シリコーン系常温硬化型接着剤(
コニシ製MO5−10)を塗布厚が80μmとなるよう
に、パターンコート法により塗布した。
80重量部次いで、黒色の塩化
ビニルシート(厚さ0.2ffI11)を用意し、塩化
ビニルシート上に変性シリコーン系常温硬化型接着剤(
コニシ製MO5−10)を塗布厚が80μmとなるよう
に、パターンコート法により塗布した。
上記接着剤が光記録領域に侵入しないように、厚さ10
0μmのポリエチレンテレフタレートをスペーサーとし
て使用し、ポリメチルメタクリレート基板の光記録層を
形成した側に、塩化ビニルシートの接着剤塗布面を貼合
わせた。
0μmのポリエチレンテレフタレートをスペーサーとし
て使用し、ポリメチルメタクリレート基板の光記録層を
形成した側に、塩化ビニルシートの接着剤塗布面を貼合
わせた。
貼付後はぼ10分で、光記録層の接着剤と接した領域(
光記録層脱色領域)の有機色素の色が消滅し、接着剤と
接しない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射した。
光記録層脱色領域)の有機色素の色が消滅し、接着剤と
接しない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射した。
また、光記録領域の反射率は15%であった。さらに、
空隙を有することによる耐久性の低下を調べるため、加
湿、加温下での強制劣化試験(50℃、95%RH,2
00時間)を行った。
空隙を有することによる耐久性の低下を調べるため、加
湿、加温下での強制劣化試験(50℃、95%RH,2
00時間)を行った。
その結果、反射率の低下は認められなかった。
実 施 例 3
厚さ 0.6mmのポリメチルメタクリレート透明基板
上に、キャスティング法にてグループ深さ0.1μm1
ピツチ10μm及び幅2μmのグループを作成し、乾燥
後膜厚が0.15μmとなるように下記組成の青色の有
機色素層をスピンコード法により設けて、光記録層を形
成した。
上に、キャスティング法にてグループ深さ0.1μm1
ピツチ10μm及び幅2μmのグループを作成し、乾燥
後膜厚が0.15μmとなるように下記組成の青色の有
機色素層をスピンコード法により設けて、光記録層を形
成した。
BASF製ビクトリアブルー8 20重量部エタノール
80重量部この有機色素を含む
光記録層上に、日東電工製の両面粘着フィルムNIIL
532をグループを覆わないように貼付し、その上にさ
らに塩化ビニルシートを貼付した。これを60℃雰囲気
中に1日放置した。
80重量部この有機色素を含む
光記録層上に、日東電工製の両面粘着フィルムNIIL
532をグループを覆わないように貼付し、その上にさ
らに塩化ビニルシートを貼付した。これを60℃雰囲気
中に1日放置した。
1日後、光記録層の粘着フィルムを貼付した領域(光記
録層脱色領域〉の有機色素の色が消滅し、粘着フィルム
を貼付しない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射し
た。また、光記録領域の反射率は15%であ弓た。さら
に、空隙を有することによる耐久性の低下を調べるため
、加湿、加温下での強制劣化試験(50℃、95%RH
,200時間)を行った。その結果、反射率の低下は認
められなかった。
録層脱色領域〉の有機色素の色が消滅し、粘着フィルム
を貼付しない領域すなわち光記録領域のみ金色に反射し
た。また、光記録領域の反射率は15%であ弓た。さら
に、空隙を有することによる耐久性の低下を調べるため
、加湿、加温下での強制劣化試験(50℃、95%RH
,200時間)を行った。その結果、反射率の低下は認
められなかった。
以上の通り本発明の光記録媒体は有機色素を含有する光
記録層を形成後、前記有機色素を脱色する作用を有する
有機色素脱色層を前記光記録層の一部分に積層し、次い
で支持基板を積層しているので、有機色素脱色層に接し
ない光記録層の一部を光記録領域として形成することが
できる。そのため、有機色素を透明基板の全面に塗布す
ることができ、マスキング、拭き取り、部分印刷等の各
手法に比べて均一な面が得られる効果もある。さらに工
程の自動化も容易に推進でき、デザイン上の制限が無く
なるという効果が得られる。このような構成の光記録媒
体は光カード等に好適に使用することができる。
記録層を形成後、前記有機色素を脱色する作用を有する
有機色素脱色層を前記光記録層の一部分に積層し、次い
で支持基板を積層しているので、有機色素脱色層に接し
ない光記録層の一部を光記録領域として形成することが
できる。そのため、有機色素を透明基板の全面に塗布す
ることができ、マスキング、拭き取り、部分印刷等の各
手法に比べて均一な面が得られる効果もある。さらに工
程の自動化も容易に推進でき、デザイン上の制限が無く
なるという効果が得られる。このような構成の光記録媒
体は光カード等に好適に使用することができる。
第1図は本発明の一実施例による光記録媒体を示す断面
図である。 1・・・・・・保護層 2・・・・・・透明基板 3・・・・・・光記録層 4・・・・・・光記録領域 5・・・・・・光記録層脱色領域 6・・・・・・有機色素脱色層 7・・・・・・空隙 8・・・・・・支持基板
図である。 1・・・・・・保護層 2・・・・・・透明基板 3・・・・・・光記録層 4・・・・・・光記録領域 5・・・・・・光記録層脱色領域 6・・・・・・有機色素脱色層 7・・・・・・空隙 8・・・・・・支持基板
Claims (5)
- (1)透明基板上に有機色素を含有する光記録層と、前
記光記録層の一部に設けられた前記有機色素を脱色させ
る作用を有する有機色素脱色層と支持基板とが順次積層
されており、前記有機色素脱色層と接しない前記光記録
層の部分が光記録領域となっていることを特徴とする光
記録媒体。 - (2)請求項1に記載の光記録媒体において、前記有機
色素脱色層が接着剤からなることを特徴とする光記録媒
体。 - (3)請求項1に記載の光記録媒体において、前記有機
色素脱色層が粘着フィルムにより構成されていることを
特徴とする光記録媒体。 - (4)請求項3に記載の光記録媒体において、前記有機
色素脱色層がスペーサーとして作用していることを特徴
とする光記録媒体。 - (5)請求項1乃至4のいずれかに記載の光記録媒体に
おいて、前記透明基板にはあらかじめプレフォーマット
が形成されていることを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63152680A JPH025245A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63152680A JPH025245A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH025245A true JPH025245A (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=15545767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63152680A Pending JPH025245A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH025245A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09138976A (ja) * | 1995-11-17 | 1997-05-27 | Nec Corp | 情報記録媒体及びその製造方法 |
USRE37185E1 (en) | 1990-04-20 | 2001-05-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical head |
-
1988
- 1988-06-21 JP JP63152680A patent/JPH025245A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE37185E1 (en) | 1990-04-20 | 2001-05-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical head |
JPH09138976A (ja) * | 1995-11-17 | 1997-05-27 | Nec Corp | 情報記録媒体及びその製造方法 |
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