JPS63111093A - 光記録媒体 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 80
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 13
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- -1 semimetals Chemical class 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 2
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N ethylsilane Chemical compound CC[SiH3] KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、レーザービーム等の照射により光記録材料に
ピットを形成して光学的情報を記録し、また光学的な情
報再生が可能な光記録媒体に関する。
ピットを形成して光学的情報を記録し、また光学的な情
報再生が可能な光記録媒体に関する。
従来、高密度光学記録方法としては、レーザ光などの高
度に収束された記録光により、金属、半金属または、有
機化合物を融解または蒸発させて凹部あるいは孔部を形
成する方法と、結晶と非結晶などの二つの熱力学的準安
定状態間での転移により識別ビットを形成する方法との
二方法が知られている。
度に収束された記録光により、金属、半金属または、有
機化合物を融解または蒸発させて凹部あるいは孔部を形
成する方法と、結晶と非結晶などの二つの熱力学的準安
定状態間での転移により識別ビットを形成する方法との
二方法が知られている。
これらの光学的記録方法は、一般に剛体状のガラス円板
、または、プラスチック円板上に光学記録材料と光ビー
ム追従用のトラッキングパターンを設けるものであり、
この方法によって記録された媒体は、光記録ディスク状
媒体として一般に知られている。この様な光記録ディス
ク状媒体は、寸法精度が高く、機械的強度が高いなどの
利点を有する反面、重量および厚みが大きくなるなどの
理由から、駆動装置が大型化し、また、媒体も装置も高
価であるという問題点を有している。このため、いまだ
、広く一般に普及するに至っていない。高密度記録可能
な光学的記録媒体が広く一般に普及するためには、従来
の光学記録ディスク状媒体に加えて光学記録フレキシブ
ルディスク状媒体、光学記録カード状媒体、光学記録テ
ープ状媒体、光学記録シート状媒体など、軽量、コンパ
クト、安価な光学記録媒体の出現が待たれている。
、または、プラスチック円板上に光学記録材料と光ビー
ム追従用のトラッキングパターンを設けるものであり、
この方法によって記録された媒体は、光記録ディスク状
媒体として一般に知られている。この様な光記録ディス
ク状媒体は、寸法精度が高く、機械的強度が高いなどの
利点を有する反面、重量および厚みが大きくなるなどの
理由から、駆動装置が大型化し、また、媒体も装置も高
価であるという問題点を有している。このため、いまだ
、広く一般に普及するに至っていない。高密度記録可能
な光学的記録媒体が広く一般に普及するためには、従来
の光学記録ディスク状媒体に加えて光学記録フレキシブ
ルディスク状媒体、光学記録カード状媒体、光学記録テ
ープ状媒体、光学記録シート状媒体など、軽量、コンパ
クト、安価な光学記録媒体の出現が待たれている。
上述の2つの高密度光学記録方法のうち、第1の方法は
記録時に凹部あるいは孔部を形成しなくてはならない。
記録時に凹部あるいは孔部を形成しなくてはならない。
このためには物質を融解または蒸発によって取去らねば
ならず、記録時の物質移動が大きくなる。従って、記録
感度を充分大きくする為には、光学記録材料を空気に露
出させることにより物質移動を起こり易くすることがよ
く行なわれている。しかしこの場合は、光学記録材料が
空気中の水分などの影響で強化したりして劣化を生じた
り、光学記録材料に異物などがぶつかり、光学記録材料
が機械的に破壊されたりする事故が起こる危険性がある
。そのため、光記録材料を空隙をはさんで密閉する構造
をとっている。しかしながら、このような媒体構造では
、重量および厚みも増し、フレキシブルディスク、カー
ド、テープ、シートなどの多様な形状を持たせることが
困難である。
ならず、記録時の物質移動が大きくなる。従って、記録
感度を充分大きくする為には、光学記録材料を空気に露
出させることにより物質移動を起こり易くすることがよ
く行なわれている。しかしこの場合は、光学記録材料が
空気中の水分などの影響で強化したりして劣化を生じた
り、光学記録材料に異物などがぶつかり、光学記録材料
が機械的に破壊されたりする事故が起こる危険性がある
。そのため、光記録材料を空隙をはさんで密閉する構造
をとっている。しかしながら、このような媒体構造では
、重量および厚みも増し、フレキシブルディスク、カー
ド、テープ、シートなどの多様な形状を持たせることが
困難である。
一方、第2の方法、即ち熱力学的準安定状態間での転移
を利用する方法の場合、記録時の物質移動が小さいため
光記録材料を空気に露出させる必要はなく空隙を設けず
に密閉することが可能である。従ってこの様な転移によ
る記録方法によれば、多様な媒体形状に対応可能である
。従来、このような転移に用いる材料としては、TeO
sGeSeなどの結晶−非結晶相転移材料が知られてい
る。しかしながら、これら従来の相転移材料は、経時的
に不安定化する傾向があり、また結晶−非結晶間での光
学特性変化量が前記孔部形成に比べて小さいため記録再
生精度の点で必ずしも満足のいくものではない。
を利用する方法の場合、記録時の物質移動が小さいため
光記録材料を空気に露出させる必要はなく空隙を設けず
に密閉することが可能である。従ってこの様な転移によ
る記録方法によれば、多様な媒体形状に対応可能である
。従来、このような転移に用いる材料としては、TeO
sGeSeなどの結晶−非結晶相転移材料が知られてい
る。しかしながら、これら従来の相転移材料は、経時的
に不安定化する傾向があり、また結晶−非結晶間での光
学特性変化量が前記孔部形成に比べて小さいため記録再
生精度の点で必ずしも満足のいくものではない。
ところで、従来の光記録媒体に用いられる材料は、孔部
形成方式においても結晶−非結晶間の相転移方式におい
ても金属系材料が多く用いられている。これら金属材料
は通常2成分以上の合金であるため、合金組成を均一に
保持しながら薄膜を形成することが必要となる。ところ
が、スパッタ法、蒸着法で均一な組成の合金薄膜を形成
するのは困難であり、合金組成が不均一になりやすい。
形成方式においても結晶−非結晶間の相転移方式におい
ても金属系材料が多く用いられている。これら金属材料
は通常2成分以上の合金であるため、合金組成を均一に
保持しながら薄膜を形成することが必要となる。ところ
が、スパッタ法、蒸着法で均一な組成の合金薄膜を形成
するのは困難であり、合金組成が不均一になりやすい。
そのため、従来の合金系記録材料においては、感度なら
びにビット形状が不安定になりやすいという問題点があ
る。
びにビット形状が不安定になりやすいという問題点があ
る。
本発明は上述した従来技術に伴う問題点に鑑みてなされ
たものであり、以下の点を目的とするものである。
たものであり、以下の点を目的とするものである。
(イ) 経時的に安定な記録特性を有する光記録媒体を
提供すること。
提供すること。
(ロ) 作製が比較的容易であり、歩留りの向上が図ら
れた光記録媒体を提供すること。
れた光記録媒体を提供すること。
(ハ) 高感度の記録再生が可能であり、光記録材料層
を外気に露出させたりあるいは、材料層中に空隙を設け
る必要がない(密閉型)光記録媒体を提供すること。
を外気に露出させたりあるいは、材料層中に空隙を設け
る必要がない(密閉型)光記録媒体を提供すること。
(ニ) フレキシブルディスク、カード、テープ、シー
ト等様々な形態の媒体に適用することができる光記録媒
体を提供すること。
ト等様々な形態の媒体に適用することができる光記録媒
体を提供すること。
上記のような目的を達成するため、本発明に係る光記録
媒体は、支持体上に、接着剤層を介して、光反射層と増
感層からなる光記録材料ならびに透明シートがこの順序
で積層されてなる光記録媒体であって、前記光反射層が
テルルからなり、前記光記録材料は実質的に空隙ををさ
ず、かつ、前記光反射層は外気から遮断されるように形
成されていることを特徴としている。
媒体は、支持体上に、接着剤層を介して、光反射層と増
感層からなる光記録材料ならびに透明シートがこの順序
で積層されてなる光記録媒体であって、前記光反射層が
テルルからなり、前記光記録材料は実質的に空隙ををさ
ず、かつ、前記光反射層は外気から遮断されるように形
成されていることを特徴としている。
以下、本発明の光記録媒体を、図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第1図は本発明の光記録媒体の好ましい一態様を示すも
のであり、下方から上方に向かって、順に、支持体1、
接着剤層2、増感層3、光反射層4、トラッキング用案
内溝形成層5、ブライマー層6、透明シート7、および
表面保護層8が積層された構造となっている。
のであり、下方から上方に向かって、順に、支持体1、
接着剤層2、増感層3、光反射層4、トラッキング用案
内溝形成層5、ブライマー層6、透明シート7、および
表面保護層8が積層された構造となっている。
支持体1は、光記録媒体を支えるものであり、必要に応
じて他の記録手段が施されていることもある。支持体1
は、用途に合わせて、強度、可撓性の程度を決めて材料
を選択することかで゛きるが、プラスチックとしては、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、もしくはポリスチ
レン樹脂等が使用され得るが、この他にガラスも使用で
きる。またこれらの材料は、用途に応じて適当な添加剤
を予め感加したものであってもよい。
じて他の記録手段が施されていることもある。支持体1
は、用途に合わせて、強度、可撓性の程度を決めて材料
を選択することかで゛きるが、プラスチックとしては、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、もしくはポリスチ
レン樹脂等が使用され得るが、この他にガラスも使用で
きる。またこれらの材料は、用途に応じて適当な添加剤
を予め感加したものであってもよい。
また、折り曲げに対する抵抗性が要求されれば、金属板
や金属網、織布や不織布を用いて補強するようなことを
行なってもよい。
や金属網、織布や不織布を用いて補強するようなことを
行なってもよい。
更に、支持体1には光記録層以外の記録手段を設けてお
いてもよい。例えば、磁気ストライブ、ホログラム、イ
ンプリント(エンボスのこと)、顔写真、彫刻、サイン
、ICチップ、バーコード、一般の印刷がある。
いてもよい。例えば、磁気ストライブ、ホログラム、イ
ンプリント(エンボスのこと)、顔写真、彫刻、サイン
、ICチップ、バーコード、一般の印刷がある。
接着剤層2は、支持体1と上層の増感層3とを接着する
ものであって、接着剤は接着面の上下の材質を考慮して
選択される。具体的には、ポリウレタン、ポリエステル
、エポキシ、ポリアクリル酸エステル等が好ましく用い
られ、接着剤層の厚みは10〜100μm程度である。
ものであって、接着剤は接着面の上下の材質を考慮して
選択される。具体的には、ポリウレタン、ポリエステル
、エポキシ、ポリアクリル酸エステル等が好ましく用い
られ、接着剤層の厚みは10〜100μm程度である。
接着剤としては、硬化の際の熱で支持体1が変形しない
ようなものを選ぶのがよく、この意味では、穏和な条件
で硬化可能なポリウレタンやエポキシが優れている。接
着剤層2の材質は、また、光反射層に光情報を記録する
際の感度に影響を与える。
ようなものを選ぶのがよく、この意味では、穏和な条件
で硬化可能なポリウレタンやエポキシが優れている。接
着剤層2の材質は、また、光反射層に光情報を記録する
際の感度に影響を与える。
増感層3は、光反射層4に密接して設けられ、光反射層
4の記録時の感度を向上させるものである。
4の記録時の感度を向上させるものである。
増感層3の特性としては、光反射層4を部分的に融解、
蒸発させるために、吸収光による発生熱量の拡散の防止
効果、蒸発した蒸気を吸収、拡散させる効果を有するも
のが選ばれる。
蒸発させるために、吸収光による発生熱量の拡散の防止
効果、蒸発した蒸気を吸収、拡散させる効果を有するも
のが選ばれる。
このような特性を満足する増感層としては、具体的には
、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、ジルコニウム、
ホウ素、タンタルもしくはテルル等の金属もしくは半金
属の酸化物、窒化物、硫化物、ケイ素等の半導体の酸化
物、窒化物、硫化物などの金属化合物もしくは半導体化
合物が用いられ得る。
、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、ジルコニウム、
ホウ素、タンタルもしくはテルル等の金属もしくは半金
属の酸化物、窒化物、硫化物、ケイ素等の半導体の酸化
物、窒化物、硫化物などの金属化合物もしくは半導体化
合物が用いられ得る。
更に、増感層に用いる材料としては、各種の熱可塑性樹
脂が使用可能であり、具体的には、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、塩化ビニリデンの単独、もしくは共重合体のビニ
ル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンな
どの石油系樹脂、ホルマール、ブチラールなどのアセタ
ール樹脂、アクリル、メタクリル、ポリアクリロニトリ
ルなどのアクリル樹脂、ポリスチロール、ABSSAS
。
脂が使用可能であり、具体的には、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、塩化ビニリデンの単独、もしくは共重合体のビニ
ル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンな
どの石油系樹脂、ホルマール、ブチラールなどのアセタ
ール樹脂、アクリル、メタクリル、ポリアクリロニトリ
ルなどのアクリル樹脂、ポリスチロール、ABSSAS
。
などのスチロール樹脂、ポリアミド樹脂などが挙げられ
る。熱可塑性樹脂に添加する光吸収剤としては、一般的
に用いられる染料、顔料、及び金属粉末が使用できる。
る。熱可塑性樹脂に添加する光吸収剤としては、一般的
に用いられる染料、顔料、及び金属粉末が使用できる。
更にまた、増感層としては、気相成長法(プラズマ重合
法)によって作製される薄膜も用いられ得る。具体的に
は、テトラメチルシラン、モノエチルシラン、ジメチル
シラン、ヘキサメチルジシラン等のシラン系化合物、ヘ
キサン、ベンゼン、メタン、エタン等の炭化水素系化合
物を原料として作製される薄膜が挙げられる。
法)によって作製される薄膜も用いられ得る。具体的に
は、テトラメチルシラン、モノエチルシラン、ジメチル
シラン、ヘキサメチルジシラン等のシラン系化合物、ヘ
キサン、ベンゼン、メタン、エタン等の炭化水素系化合
物を原料として作製される薄膜が挙げられる。
光反射層4としては、単体金属としてのテルルが用いら
れる。テルルは熱伝導率が小さく、適度の光吸収性を有
している。テルルは、結晶質であっても非晶質のもので
あってもよい。光反射層が非晶質のテルルで形成される
場合は、記録の際に結晶化することが好ましい。
れる。テルルは熱伝導率が小さく、適度の光吸収性を有
している。テルルは、結晶質であっても非晶質のもので
あってもよい。光反射層が非晶質のテルルで形成される
場合は、記録の際に結晶化することが好ましい。
光反射層4の厚さは、通常50〜2000人であり、好
ましくは、200〜800人である。
ましくは、200〜800人である。
トラッキング層5は、光反射層4を保護するためには耐
湿性、耐候性を有するものが好ましく、感度を向上させ
る上では断熱性を有する材料が好ましい。さらに、トラ
ッキング用の案内溝を形成する上では、必要な賦型性を
有していることが好ましい。これらの点を満足するもの
としては、硬化型樹脂、特に硬化時の熱の影響を回避し
得るものとして、電離放射線硬化型樹脂が望ましい。
湿性、耐候性を有するものが好ましく、感度を向上させ
る上では断熱性を有する材料が好ましい。さらに、トラ
ッキング用の案内溝を形成する上では、必要な賦型性を
有していることが好ましい。これらの点を満足するもの
としては、硬化型樹脂、特に硬化時の熱の影響を回避し
得るものとして、電離放射線硬化型樹脂が望ましい。
具体的には、下記のような分子中にエチレン性飽和結合
を有するプレポリマーもしくはオリゴマー、およびモノ
マーに必要により公知の増感剤を添加して塗工し、紫外
線、電子線、もしくはγ線などの電離放射線を照射する
ことにより硬化させて保護、増感層を兼ねたトラッキン
グ層とすることができる。
を有するプレポリマーもしくはオリゴマー、およびモノ
マーに必要により公知の増感剤を添加して塗工し、紫外
線、電子線、もしくはγ線などの電離放射線を照射する
ことにより硬化させて保護、増感層を兼ねたトラッキン
グ層とすることができる。
■) 分子中にエチレン性不飽和結合を冑するプレポリ
マーもしくはオリゴマー、およびモノマーとして、ポリ
エステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アク
リレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテ
ル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレ
ート、メラミン(メタ)アクリレート、 2)分子中にエチレン性不飽和結合を有するモノマーと
して、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸
エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリ
ル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、
(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル
酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル
、(メタ)アクリル酸ブトキシエチル、(メタ)アクリ
ル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸フェニル、などの(
メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリル酸アミ
ドなどの不飽和カルボン酸アミド1、 (メタ)アクリ
ル酸2−((N、N−ジメチルアミノ)エチル、(メタ
)アクリル酸2−(N、N−ジメチルアミノ)メチル、
(メタ)アクリル酸2−(N、N−ジエチルアミノ)プ
ロピルなどの不飽和カルボン酸の置換アミノアルコール
エステル類、この他、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレートなど。
マーもしくはオリゴマー、およびモノマーとして、ポリ
エステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アク
リレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテ
ル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレ
ート、メラミン(メタ)アクリレート、 2)分子中にエチレン性不飽和結合を有するモノマーと
して、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸
エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリ
ル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、
(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル
酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル
、(メタ)アクリル酸ブトキシエチル、(メタ)アクリ
ル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸フェニル、などの(
メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリル酸アミ
ドなどの不飽和カルボン酸アミド1、 (メタ)アクリ
ル酸2−((N、N−ジメチルアミノ)エチル、(メタ
)アクリル酸2−(N、N−ジメチルアミノ)メチル、
(メタ)アクリル酸2−(N、N−ジエチルアミノ)プ
ロピルなどの不飽和カルボン酸の置換アミノアルコール
エステル類、この他、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレートなど。
このような保護、増感層を兼ねたトラッキング層に用い
得る増感剤としては公知のものが使用でき、具体的には
、ベンゾフェノン系、ベンゾインエーテル系のものが挙
げられる。
得る増感剤としては公知のものが使用でき、具体的には
、ベンゾフェノン系、ベンゾインエーテル系のものが挙
げられる。
トラッキング層5の厚みは3〜20μmでありより好ま
しくは5〜7μmである。
しくは5〜7μmである。
ブライマーWI6は光記録材料、直接的にはトラッキン
グ層5と上層の透明シート7との接着強度を向上させる
意味で設けられるが、増感層5と上層の透明シート7と
の接着強度が十分得られる場合にはなくてもよい。ブラ
イマー層6を構成する材料としては、塩化ビニル、もし
くは酢酸ビニル樹脂の重合体またはこれらの共重合体を
挙げることができる。
グ層5と上層の透明シート7との接着強度を向上させる
意味で設けられるが、増感層5と上層の透明シート7と
の接着強度が十分得られる場合にはなくてもよい。ブラ
イマー層6を構成する材料としては、塩化ビニル、もし
くは酢酸ビニル樹脂の重合体またはこれらの共重合体を
挙げることができる。
透明シート7は光記録材料を保護し、後で述べるように
、光記録材料を製造する際の基材としての役目を果たす
ものである。透明シート7側からは、レーザ光を照射し
て光情報を記録もしくは再生するので、レーザ光、特に
、小型で出力の高い半導体レーザのレーザ光の波長に対
し、十分な透過性を有しているものが、透明シート7と
して適している。具体的には、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、もしくは、ポリエチレンテレフタレート
樹脂などの透明樹脂のフィルム、もしくは、ガラスであ
り、厚みとしては100μm〜1m11である。
、光記録材料を製造する際の基材としての役目を果たす
ものである。透明シート7側からは、レーザ光を照射し
て光情報を記録もしくは再生するので、レーザ光、特に
、小型で出力の高い半導体レーザのレーザ光の波長に対
し、十分な透過性を有しているものが、透明シート7と
して適している。具体的には、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、もしくは、ポリエチレンテレフタレート
樹脂などの透明樹脂のフィルム、もしくは、ガラスであ
り、厚みとしては100μm〜1m11である。
表面保護層8は透明シート7の上層に設けられ、透明シ
ート7よりも硬度が高く、また、透明シート7よりも光
の屈折率が低いものであることが望ましく、このように
選択することにより、記録・再生の際のレーザ光の反射
を防止する作用により記録Φ再生の際の感度を高めるこ
とができる。
ート7よりも硬度が高く、また、透明シート7よりも光
の屈折率が低いものであることが望ましく、このように
選択することにより、記録・再生の際のレーザ光の反射
を防止する作用により記録Φ再生の際の感度を高めるこ
とができる。
表面保護層8の材質としては、表面硬化方法として知ら
れている方法で使用される物質が用いられ、例えば、シ
リコーン系、アクリル系、メラミン系、ポリウレタン系
、エポキシ系などの樹脂が硬化した硬化樹脂、5iO7
などの金属酸化物が具体的に挙げられる。
れている方法で使用される物質が用いられ、例えば、シ
リコーン系、アクリル系、メラミン系、ポリウレタン系
、エポキシ系などの樹脂が硬化した硬化樹脂、5iO7
などの金属酸化物が具体的に挙げられる。
第2図に示す例は、本発明の他の好ましい実施態様であ
り、この場合は、支持体1上に、接着剤層2、増感層3
、光反射層4、透明シート層7および表面保護層8がこ
の順序で積層されたものである。
り、この場合は、支持体1上に、接着剤層2、増感層3
、光反射層4、透明シート層7および表面保護層8がこ
の順序で積層されたものである。
この例においては、透明シートを形成する際に、トラッ
キング用案内溝9を一体化して成型することができ、よ
り単純化さた媒体構成が得られる。
キング用案内溝9を一体化して成型することができ、よ
り単純化さた媒体構成が得られる。
また、この場合、透明シートの製法としては、アクリル
、ポリカーボネートなどの樹脂を用いた射出成型、プレ
ス成型法を採用することができる。
、ポリカーボネートなどの樹脂を用いた射出成型、プレ
ス成型法を採用することができる。
上述したように本発明においては、基本的に、(イ)光
反射層をテルル単体で形成し、(ロ)増感層を設け、し
かも(ハ)層構成を密閉、密着型にしているので、経時
的な安定性の向上と感度の向上の双方において有利であ
る。たとえば、単体金属としてのテルルは、酸化されや
すく耐湿性に劣り、また融点が比較的高いため書込み感
度が低く光記録媒体用反射層として用いることは好まし
くないと一般に信じられていた。しかし一方、本発明者
らは、テルルを反射層にする場合の製膜のしやすさ、な
らびにテルル単体が有するすぐれた特性に着目しこれを
積極的に活用しつつ上述したテルルの欠点を補完するこ
とによって、全体として満足し得るすぐれた光記録媒体
を得ることができたものである。
反射層をテルル単体で形成し、(ロ)増感層を設け、し
かも(ハ)層構成を密閉、密着型にしているので、経時
的な安定性の向上と感度の向上の双方において有利であ
る。たとえば、単体金属としてのテルルは、酸化されや
すく耐湿性に劣り、また融点が比較的高いため書込み感
度が低く光記録媒体用反射層として用いることは好まし
くないと一般に信じられていた。しかし一方、本発明者
らは、テルルを反射層にする場合の製膜のしやすさ、な
らびにテルル単体が有するすぐれた特性に着目しこれを
積極的に活用しつつ上述したテルルの欠点を補完するこ
とによって、全体として満足し得るすぐれた光記録媒体
を得ることができたものである。
次に、本発明の密接着型光記録媒体の製造方法について
説明する。
説明する。
まず、透明シート7を準備し、透明シートの一方の片面
に硬化性樹脂の塗工液を公知の方法により塗布して乾燥
および硬化させるか、金属酸化物をスパッタ方法により
薄膜として形成するか、プラズマ重合方法により、表面
保護層3を形成する。
に硬化性樹脂の塗工液を公知の方法により塗布して乾燥
および硬化させるか、金属酸化物をスパッタ方法により
薄膜として形成するか、プラズマ重合方法により、表面
保護層3を形成する。
次に、表面保護層8が形成された透明シート7の表面保
護層8のない方の面に、ブライマーの材料の塗工液を塗
布し、乾燥させてブライマー層6を形成する。前に説明
したようにブライマー層6は省略可能である。
護層8のない方の面に、ブライマーの材料の塗工液を塗
布し、乾燥させてブライマー層6を形成する。前に説明
したようにブライマー層6は省略可能である。
透明シート7の表面保護層8と反対側の面のブライマー
層6の上に、または、透明シート7の表面上に、硬化型
樹脂の塗工液を塗布し、硬化させて、トラッキング形成
層5を形成する。
層6の上に、または、透明シート7の表面上に、硬化型
樹脂の塗工液を塗布し、硬化させて、トラッキング形成
層5を形成する。
トラッキング形成層5を形成する際には、トラ 。
ッキング用案内溝9を形成することもでき、硬化型樹脂
の塗工液を塗布した後に、トラッキング用案内溝9の所
定の形状を賦型するための母型を塗工面に密着させ、そ
の状態で塗工液中の樹脂を硬化させればよい。
の塗工液を塗布した後に、トラッキング用案内溝9の所
定の形状を賦型するための母型を塗工面に密着させ、そ
の状態で塗工液中の樹脂を硬化させればよい。
トラッキング形成層5の上に、真空蒸着やスパッタなど
の薄膜形成法により金属または合金の薄膜を形成して光
反射層4とする。金属、合金以外の場合には、適当な薄
膜形成法や塗布方法により光反射層4を形成する。
の薄膜形成法により金属または合金の薄膜を形成して光
反射層4とする。金属、合金以外の場合には、適当な薄
膜形成法や塗布方法により光反射層4を形成する。
光反射層4の表面に形成する増感層は、金属酸化物、窒
化物、硫化物の場合は真空蒸着法、スパッタ法により形
成することができ、熱可塑性樹脂の場合は、スピンコー
ド法、グラビアコート法により形成することができ、更
に、ケイ素化合物薄膜、炭化水素化合物薄膜の場合は、
プラズマ重合法によって作成することができる。
化物、硫化物の場合は真空蒸着法、スパッタ法により形
成することができ、熱可塑性樹脂の場合は、スピンコー
ド法、グラビアコート法により形成することができ、更
に、ケイ素化合物薄膜、炭化水素化合物薄膜の場合は、
プラズマ重合法によって作成することができる。
透明シート7には、その両面に、上記のようにして各層
を形成するが、いずれの面の加工を先にしても各層の相
互の関係が代わらない限り差支えない。
を形成するが、いずれの面の加工を先にしても各層の相
互の関係が代わらない限り差支えない。
透明シート7に対する加工とは別に、支持体1を準備し
ておく。支持体1には前に述べたように補強を施したり
、光記録層以外の記録手段を形成しておく。
ておく。支持体1には前に述べたように補強を施したり
、光記録層以外の記録手段を形成しておく。
加工済みの透明シート7と、支持体1とは、支持体1の
上の表面と透明シート7の下面の増感層3の表面のいず
れか一方または両方に接着剤を塗布し、必要に応じてオ
ーブンタイムを取った後に、両者を合わせ、プレス方法
か、あるいは、熱板を用いた熱プレス方法により加圧し
て密接着させることにより、光記録媒体が得られる。
上の表面と透明シート7の下面の増感層3の表面のいず
れか一方または両方に接着剤を塗布し、必要に応じてオ
ーブンタイムを取った後に、両者を合わせ、プレス方法
か、あるいは、熱板を用いた熱プレス方法により加圧し
て密接着させることにより、光記録媒体が得られる。
本発明の光記録媒体は、フレキシブルディスク、カード
、テープ、シート等、様々な形態、形状の物品に適用す
ることができる。
、テープ、シート等、様々な形態、形状の物品に適用す
ることができる。
第3図は、光カードとして本発明の光記録媒体を用いた
場合の平面図である。すなわち、カード基材30中に光
記録媒体31を形成することにより光カードを得ること
ができる。さらに、後述する実施例3のような方法によ
っても光カードを作成することができる。
場合の平面図である。すなわち、カード基材30中に光
記録媒体31を形成することにより光カードを得ること
ができる。さらに、後述する実施例3のような方法によ
っても光カードを作成することができる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れら実施例に限定されるものではない。
れら実施例に限定されるものではない。
実施例1
透明シートとして、ポリカーボネートフィルム(金入(
株)製、商品名パンライト、厚さ400μ)を準備し、
片面に下記の組成の表面保護層形成用組成物をらせん状
グラビアリバースコート法により、塗布して、厚み2μ
mの表面保護層を形成した。
株)製、商品名パンライト、厚さ400μ)を準備し、
片面に下記の組成の表面保護層形成用組成物をらせん状
グラビアリバースコート法により、塗布して、厚み2μ
mの表面保護層を形成した。
表面保護層形成用組成物:
シリコン系UV硬化型表面硬化材(東し製)透明シート
の他の面には、次のようにして、トラッキング用案内溝
付きの保護、増感層、光反射層、増感層を順に形成した
。
の他の面には、次のようにして、トラッキング用案内溝
付きの保護、増感層、光反射層、増感層を順に形成した
。
まず、オリゴエステルアクリレート(東亜合成(株)製
、商品名M−5700)100重量部に光増感剤として
5重量部を添加し、ロールコート法により5g/dの割
合で塗布し、塗布面にトラッキング用案内溝の逆形状の
母型を当ててロールを用いてラミネートし、紫外線を照
射して硬化させた後、母型を剥がしてトラッキング用案
内溝付きの層を形成した。なお、母型としては、金型よ
り紫外線硬化型樹脂によりトラッキング案内溝を転写し
たシートを使用した。
、商品名M−5700)100重量部に光増感剤として
5重量部を添加し、ロールコート法により5g/dの割
合で塗布し、塗布面にトラッキング用案内溝の逆形状の
母型を当ててロールを用いてラミネートし、紫外線を照
射して硬化させた後、母型を剥がしてトラッキング用案
内溝付きの層を形成した。なお、母型としては、金型よ
り紫外線硬化型樹脂によりトラッキング案内溝を転写し
たシートを使用した。
次いで、このトラッキング層の上に、テルル単体をスパ
ッタターゲットとして用いてスパッタ法により厚み30
0Aの光反射層を形成した。スパッタは13.56MH
zの高周波電源を用いて行ない、出力100W、アルゴ
ンガス圧力lX1O−3Torrの条件で行なった。
ッタターゲットとして用いてスパッタ法により厚み30
0Aの光反射層を形成した。スパッタは13.56MH
zの高周波電源を用いて行ない、出力100W、アルゴ
ンガス圧力lX1O−3Torrの条件で行なった。
次に、光反射層の上に、スパッタターゲットとしてS
iO2を使用し、その他は保護、増感層を形成したとき
と同じ条件のスパッタ法により厚み1000Aの増感層
を形成した。
iO2を使用し、その他は保護、増感層を形成したとき
と同じ条件のスパッタ法により厚み1000Aの増感層
を形成した。
別に、ポリ塩化ビニル樹脂フィルム(三菱樹脂(株)製
、厚み350μm)を準備し、所定の事項の印刷を施し
た後、このフィルムの接着予定面にポリウレタン系の2
成分型接着剤(アルプス化学(株)製、商品名アルポン
)を塗布し、上記の各層を形成した透明シートとの増感
層側に、ロールを用いてラミネートして、光記録媒体を
得た。
、厚み350μm)を準備し、所定の事項の印刷を施し
た後、このフィルムの接着予定面にポリウレタン系の2
成分型接着剤(アルプス化学(株)製、商品名アルポン
)を塗布し、上記の各層を形成した透明シートとの増感
層側に、ロールを用いてラミネートして、光記録媒体を
得た。
比較例1
比較のため、増感層を除いた以外は実施例1と同様にし
て、光記録媒体を得た。
て、光記録媒体を得た。
実施例2
透明シートとして射出成型法により形成したポリカーボ
ネート基板(厚さ600μm)を用いた以外は、実施例
1と同様の方法で光記録媒体を作製した。
ネート基板(厚さ600μm)を用いた以外は、実施例
1と同様の方法で光記録媒体を作製した。
試験例
実施例1、比較例1で得られた光記録媒体に波長830
mm、出カフmWの半導体レーザを用い、パルス幅を変
化させて書き込み評価を行なった。
mm、出カフmWの半導体レーザを用い、パルス幅を変
化させて書き込み評価を行なった。
その結果、実施例1の光記録媒体においては、第4図に
示すように、パルス幅2μsec近傍から書き込みが可
能となる。しかしながら、比較例1の光記録媒体におい
ては、データの書き込みができなかった。
示すように、パルス幅2μsec近傍から書き込みが可
能となる。しかしながら、比較例1の光記録媒体におい
ては、データの書き込みができなかった。
一方、実施例2の光記録媒体についても上記方法と同様
にして、NAO,3のレンズを用いて波長830 +u
の半導体レーザーにより透明シート側から書込みを行な
ったところ、実施例1とほぼ同様の結果が得られた。
にして、NAO,3のレンズを用いて波長830 +u
の半導体レーザーにより透明シート側から書込みを行な
ったところ、実施例1とほぼ同様の結果が得られた。
実施例3(光カードの作成例)
透明シートとして、ポリカーボネートフィルム(金入(
株)製、商品名パンライト、厚さ400μ)を準備し、
片面に下記の組成の表面保護層形成用組成物をらせん状
グラビアリバースコート法により、塗布して、厚み2μ
mの表面保護層を形成した。
株)製、商品名パンライト、厚さ400μ)を準備し、
片面に下記の組成の表面保護層形成用組成物をらせん状
グラビアリバースコート法により、塗布して、厚み2μ
mの表面保護層を形成した。
表面保護層形成用組成物:
シリコン系UV硬化型表面硬化材(東し製)透明シート
の他の面には、次のようにして、トラッキング用案内溝
付きの保護、増感層、光反射層、増感層を順に形成した
。
の他の面には、次のようにして、トラッキング用案内溝
付きの保護、増感層、光反射層、増感層を順に形成した
。
まず、オリゴエステルアクリレート(東亜合成(株)製
、商品名M−5700)100重量部に光増感剤として
5重量部を添加し、ロールコート法により5 g/rr
?の割合で80m+eX20mmの寸法に塗布し、塗布
面にトラッキング用案内溝の逆形状の母型を当ててロー
ルを用いてラミネートし、紫外線を照射して硬化させた
後、母型を剥がしてトラッキング用案内溝付きの層を形
成した。なお、母型としては、金型より紫外線硬化型樹
脂により 。
、商品名M−5700)100重量部に光増感剤として
5重量部を添加し、ロールコート法により5 g/rr
?の割合で80m+eX20mmの寸法に塗布し、塗布
面にトラッキング用案内溝の逆形状の母型を当ててロー
ルを用いてラミネートし、紫外線を照射して硬化させた
後、母型を剥がしてトラッキング用案内溝付きの層を形
成した。なお、母型としては、金型より紫外線硬化型樹
脂により 。
トラッキング案内溝を転写したシートを使用した。
次いで、このトラッキング層の上に、テルル単体をスパ
ッタターゲットとして用いてスパッタ法により厚み30
0人の光反射層を形成した。スパッタは13.56MH
zの高周波電源を用いて行ない、出力100W、アルゴ
ンガス圧力1×10″″3Torrの条件で行なった。
ッタターゲットとして用いてスパッタ法により厚み30
0人の光反射層を形成した。スパッタは13.56MH
zの高周波電源を用いて行ない、出力100W、アルゴ
ンガス圧力1×10″″3Torrの条件で行なった。
次に、光反射層の上に、スパッタターゲットとしてS
iO2を使用し、その他は保護、増感層を形成したとき
と同じ条件のスパッタ法により厚み1000Aの増感層
を形成した。
iO2を使用し、その他は保護、増感層を形成したとき
と同じ条件のスパッタ法により厚み1000Aの増感層
を形成した。
別に、ポリ塩化ビニル樹脂フィルム(三菱樹脂(株)製
、厚み350μm)を準備し、所定の事項の印刷を施し
た後、このフィルムの接着予定面にポリウレタン系の2
成分型接着剤(アルプス化学(株)製、商品名アルポン
)を厚み10μで塗布し、上記の各層を形成した透明シ
ートとの増感層側に、ロールを用いてラミネートして、
光記録媒体を得た。得られた光記録媒体をカード寸法に
打抜き、厚さ0.75mmで、光記録部(80m+5X
20龍)を存する光カードを得た。
、厚み350μm)を準備し、所定の事項の印刷を施し
た後、このフィルムの接着予定面にポリウレタン系の2
成分型接着剤(アルプス化学(株)製、商品名アルポン
)を厚み10μで塗布し、上記の各層を形成した透明シ
ートとの増感層側に、ロールを用いてラミネートして、
光記録媒体を得た。得られた光記録媒体をカード寸法に
打抜き、厚さ0.75mmで、光記録部(80m+5X
20龍)を存する光カードを得た。
本発明の光記録媒体は以下の様な効果を仔している。
(イ) 耐湿性、保存性が向上し、経時的な特性の安定
性においてすぐれている。
性においてすぐれている。
(ロ) 製造工程ならびにその制御を簡素化することが
でき(特に反射膜作製の容易化)、均質な特性を有する
光記録媒体の製造が可能となり、歩留りの向上を図るこ
とができる。
でき(特に反射膜作製の容易化)、均質な特性を有する
光記録媒体の製造が可能となり、歩留りの向上を図るこ
とができる。
(ハ) 感度が向上する。
(ニ) 光記録媒体を適用する物品の形態に制限される
ことなく、様々な物品への適用が可能となる。
ことなく、様々な物品への適用が可能となる。
第1図および第2図は本発明の光記録媒体の断面図、第
3図は光カードの平面図、第4図は光記録媒体への記録
感度を表わすグラフ。 1・・・支持体、2・・・接着剤層、3・・・増感層、
4・・・光反射層、5・・・トラッキング層、6・・・
ブライマー層、7・・・透明シート、8・・・表面保護
層。 出願人代理人 佐 藤 −離 島 1 口 札2 口 名 3 図
3図は光カードの平面図、第4図は光記録媒体への記録
感度を表わすグラフ。 1・・・支持体、2・・・接着剤層、3・・・増感層、
4・・・光反射層、5・・・トラッキング層、6・・・
ブライマー層、7・・・透明シート、8・・・表面保護
層。 出願人代理人 佐 藤 −離 島 1 口 札2 口 名 3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、支持体上に、接着剤層を介して、光反射層と増感層
からなる光記録材料ならびに透明シートがこの順序で積
層されてなる光記録媒体であって、前記光反射層がテル
ルからなり、前記光記録材料は実質的に空隙を有さず、
かつ、前記光反射層は外気から遮断されるように形成さ
れていることを特徴とする、光記録媒体。 2、透明シートに、トラッキング用案内溝が形成されて
いる、特許請求の範囲第1項の光記録媒体。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61257789A JPS63111093A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | 光記録媒体 |
EP87906215A EP0288570B1 (en) | 1986-10-29 | 1987-09-25 | Draw type optical recording medium |
AU80291/87A AU612602B2 (en) | 1986-10-29 | 1987-09-25 | Draw type optical recording medium |
PCT/JP1987/000702 WO1988003310A1 (en) | 1986-10-29 | 1987-09-25 | Draw type optical recording medium |
US07/892,471 US5297132A (en) | 1986-10-29 | 1987-09-25 | Draw type optical recording medium |
DE3751348T DE3751348T2 (de) | 1986-10-29 | 1987-09-25 | Aufzeichnungsmedium vom draw-typ. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61257789A JPS63111093A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63111093A true JPS63111093A (ja) | 1988-05-16 |
Family
ID=17311127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61257789A Pending JPS63111093A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63111093A (ja) |
-
1986
- 1986-10-29 JP JP61257789A patent/JPS63111093A/ja active Pending
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