JP3064459B2 - マスクの異物検査方法 - Google Patents
マスクの異物検査方法Info
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- JP3064459B2 JP3064459B2 JP6962991A JP6962991A JP3064459B2 JP 3064459 B2 JP3064459 B2 JP 3064459B2 JP 6962991 A JP6962991 A JP 6962991A JP 6962991 A JP6962991 A JP 6962991A JP 3064459 B2 JP3064459 B2 JP 3064459B2
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- mask
- laser beam
- foreign matter
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マスクの異物検査方法
に関し、特にレーザビームを用いたマスクの異物検査方
法に関する。
に関し、特にレーザビームを用いたマスクの異物検査方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザビームを使用したマスクの
異物検査方法は、図３に示すように、所定の波長を有す
るレーザビーム２をマスク１の検査面に対して斜め方向
から所定の角度（以下入射角と記す）θ1 で照射し、且
つレーザビーム２を左右（図面に対して、垂直な方向）
に走査し同時にレーザビーム２の走査方向に対して、垂
直な方向にマスク１を所定のピッチで移動させ、マスク
１の検査領域内を走査する。このように、マスク１の検
査面内の検査領域を均一にレーザビーム２で走査し、検
査面からの反射光をレーザビーム２の照射口付近に設け
た検出器３により検査する。
異物検査方法は、図３に示すように、所定の波長を有す
るレーザビーム２をマスク１の検査面に対して斜め方向
から所定の角度（以下入射角と記す）θ1 で照射し、且
つレーザビーム２を左右（図面に対して、垂直な方向）
に走査し同時にレーザビーム２の走査方向に対して、垂
直な方向にマスク１を所定のピッチで移動させ、マスク
１の検査領域内を走査する。このように、マスク１の検
査面内の検査領域を均一にレーザビーム２で走査し、検
査面からの反射光をレーザビーム２の照射口付近に設け
た検出器３により検査する。
【０００３】図４（ａ）〜（ｃ）は従来のマスクの異物
検出方法を説明するための断面図である。
検出方法を説明するための断面図である。
【０００４】まず、図４（ａ）に示すように、検査面を
走査しているレーザビーム２がマスク１の上面に設けた
クロムパターン４に照射された場合には、クロムパター
ン４の膜厚が通常数１０ｎｍと非常に薄く、表面の平坦
性が非常に高いので、斜め方向より照射されたレーザビ
ーム２は、ほぼ全部が入射方向と反対方向に反射し、検
出器３には反射光が検出されない。
走査しているレーザビーム２がマスク１の上面に設けた
クロムパターン４に照射された場合には、クロムパター
ン４の膜厚が通常数１０ｎｍと非常に薄く、表面の平坦
性が非常に高いので、斜め方向より照射されたレーザビ
ーム２は、ほぼ全部が入射方向と反対方向に反射し、検
出器３には反射光が検出されない。
【０００５】次に、図４（ｂ）に示すように、マスク１
のクロムパターンの存在しない部分にレーザビーム２が
照射された場合には、マスク１が光学的に透過性が１０
０％に近い石英ガラスを用いているので、斜め方向より
照射されたレーザビーム２は、ほぼ全部がマスク１内部
を斜め方向に透過するかまたは入射光と反対方向に反射
し、マスク上に異物が存在しない場合には、反射光が、
検出器３の受光部分にもどって来ることは無い。
のクロムパターンの存在しない部分にレーザビーム２が
照射された場合には、マスク１が光学的に透過性が１０
０％に近い石英ガラスを用いているので、斜め方向より
照射されたレーザビーム２は、ほぼ全部がマスク１内部
を斜め方向に透過するかまたは入射光と反対方向に反射
し、マスク上に異物が存在しない場合には、反射光が、
検出器３の受光部分にもどって来ることは無い。
【０００６】次に、図４（ｃ）に示すように、マスクに
付着した異物５にレーザビーム２が照射された場合に
は、マスクパターンをウェーハ上に投影露光する場合
に、共通欠陥として問題になる異物のほとんどは、光学
的に不透過な物で、かつクロムパターンの膜厚に比べる
と非常に大きく少なくとも０．５μｍ程度の形状を有し
ており、また、このような異物５は、表面状態が荒れて
いたり、球面に近い形状を有することが多いため、照射
されたレーザビーム２の反射光は、異物５の表面で四方
八方に散乱する。そして、散乱した反射光の一部が検出
器３の受光部分に入射して検出されるので、異物が存在
すると識別出来る。異物の大きさ、形状等によって、検
出器３で検出される光量は増減するので、光量の大きさ
によって付着した異物の大きさを判断することが出来
る。
付着した異物５にレーザビーム２が照射された場合に
は、マスクパターンをウェーハ上に投影露光する場合
に、共通欠陥として問題になる異物のほとんどは、光学
的に不透過な物で、かつクロムパターンの膜厚に比べる
と非常に大きく少なくとも０．５μｍ程度の形状を有し
ており、また、このような異物５は、表面状態が荒れて
いたり、球面に近い形状を有することが多いため、照射
されたレーザビーム２の反射光は、異物５の表面で四方
八方に散乱する。そして、散乱した反射光の一部が検出
器３の受光部分に入射して検出されるので、異物が存在
すると識別出来る。異物の大きさ、形状等によって、検
出器３で検出される光量は増減するので、光量の大きさ
によって付着した異物の大きさを判断することが出来
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のマスク
の異物検査方法では、図５に示すように、端面１２が異
物検査を行なうパターン面や、その反対のガラス面に比
べると石英ガラスの表面加工状態が非常に荒れているた
め、レーザビーム２を走査しながら、マスクを所定の順
次移動させて行った場合、マスク端面１２に近い検査領
域にレーザビーム光が斜め方向から照射されると、レー
ザビーム２がマスク端面１２にも照射されて、その結
果、マスク端面１２からの散乱光を異物からの散乱光と
して検出器が誤検出する問題があった。特に最近では、
マスクパターンの微細化に伴なって、異物検査機が０．
５μｍクラスの小さな異物でも検出出来る高感度の能力
を有するようになっており、この問題は増々深刻になっ
ている。
の異物検査方法では、図５に示すように、端面１２が異
物検査を行なうパターン面や、その反対のガラス面に比
べると石英ガラスの表面加工状態が非常に荒れているた
め、レーザビーム２を走査しながら、マスクを所定の順
次移動させて行った場合、マスク端面１２に近い検査領
域にレーザビーム光が斜め方向から照射されると、レー
ザビーム２がマスク端面１２にも照射されて、その結
果、マスク端面１２からの散乱光を異物からの散乱光と
して検出器が誤検出する問題があった。特に最近では、
マスクパターンの微細化に伴なって、異物検査機が０．
５μｍクラスの小さな異物でも検出出来る高感度の能力
を有するようになっており、この問題は増々深刻になっ
ている。
【０００８】また、近年マスクを洗浄した後、そのマス
クに異物が再付着しない為にペリクルでマスクの表面を
保護する技術が進歩して来た。そして、ペリクルをマス
クに取り付ける際に異物が混入してマスクに付着してい
ないかを確認する手段としても異物検査方法が用いられ
る様になり、図６に示すように、マスク１の上面及び下
面に設けた光学的に透明なペリクル膜５と、マスク１の
側面に設けた光学的に不透明なペリクル枠４を備えて構
成されたペリクル付マスクの表面をレーザビーム２で走
査しながら、マスクを所定の一方向にだけ順次移動させ
て行った場合、ペリクル枠４に近い検査領域をレーザビ
ーム２で斜め方向から照射したとき、レーザビーム２が
ペリクル枠４によって遮断されてマスク面まで届かなく
なる。その結果、その検査領域部分の異物検査が出来な
くなるという問題点がある。特に、最近では、チップサ
イズの大型化に伴なって、マスク内のパターンの占有面
積も非常に広くなり、ペリクル枠のかなり近くまで異物
検査を行なう必要性が生じて来たので、この問題は増々
深刻になっている。
クに異物が再付着しない為にペリクルでマスクの表面を
保護する技術が進歩して来た。そして、ペリクルをマス
クに取り付ける際に異物が混入してマスクに付着してい
ないかを確認する手段としても異物検査方法が用いられ
る様になり、図６に示すように、マスク１の上面及び下
面に設けた光学的に透明なペリクル膜５と、マスク１の
側面に設けた光学的に不透明なペリクル枠４を備えて構
成されたペリクル付マスクの表面をレーザビーム２で走
査しながら、マスクを所定の一方向にだけ順次移動させ
て行った場合、ペリクル枠４に近い検査領域をレーザビ
ーム２で斜め方向から照射したとき、レーザビーム２が
ペリクル枠４によって遮断されてマスク面まで届かなく
なる。その結果、その検査領域部分の異物検査が出来な
くなるという問題点がある。特に、最近では、チップサ
イズの大型化に伴なって、マスク内のパターンの占有面
積も非常に広くなり、ペリクル枠のかなり近くまで異物
検査を行なう必要性が生じて来たので、この問題は増々
深刻になっている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のマスクの異物検
査方法は、ペリクルなしマスクの検査面に対して所定の
角度を保ちながらレーザビームを走査してその反射光を
検出器で検出し検査面の異物の有無を検知するマスクの
異物検査方法において、前記検査面のレーザビーム入射
側に位置する半分の領域を走査した後、前記マスクを同
一面内で１８０°回転して残りの半分の領域を前記レー
ザビーム入射側に位置させて該残りの半分の領域を走査
させることを特徴とする。
査方法は、ペリクルなしマスクの検査面に対して所定の
角度を保ちながらレーザビームを走査してその反射光を
検出器で検出し検査面の異物の有無を検知するマスクの
異物検査方法において、前記検査面のレーザビーム入射
側に位置する半分の領域を走査した後、前記マスクを同
一面内で１８０°回転して残りの半分の領域を前記レー
ザビーム入射側に位置させて該残りの半分の領域を走査
させることを特徴とする。
【００１０】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１１】図１（ａ），（ｂ）は本発明の実施例を説
明するための平面図及び模式的断面図である。
明するための平面図及び模式的断面図である。
【００１２】図１（ａ），（ｂ）に示すように、所定の
波長を有するレーザビーム２は、マスク１の一方の端面
１１側より検査面に対して所定の角度θ1 で斜め方向か
ら照射し、且つレーザビーム２の入射側のマスク１の端
面１１に平行な方向に走査させながらマスク１を端面１
１と垂直な方向に移動し、まず全検査領域内のうち端面
１１側の半分の検査領域１３を走査して反射光を検出器
３で検出し、異物検査を実施する。次に、マスク１の検
査面の中心を軸に１８０°回転を行なった後、端面１１
と対向するマスク１の端面１２側の残り半分の検査領域
１４に対して、同様に所定の角度θ1 を保持しながらレ
ーザビーム２を走査し、且つ今度はマスク１を反対方向
に移動させて異物検査を実施する。従って、レーザビー
ム２が端面１１，１２に直接照射され異物があると認識
されることがない。
波長を有するレーザビーム２は、マスク１の一方の端面
１１側より検査面に対して所定の角度θ1 で斜め方向か
ら照射し、且つレーザビーム２の入射側のマスク１の端
面１１に平行な方向に走査させながらマスク１を端面１
１と垂直な方向に移動し、まず全検査領域内のうち端面
１１側の半分の検査領域１３を走査して反射光を検出器
３で検出し、異物検査を実施する。次に、マスク１の検
査面の中心を軸に１８０°回転を行なった後、端面１１
と対向するマスク１の端面１２側の残り半分の検査領域
１４に対して、同様に所定の角度θ1 を保持しながらレ
ーザビーム２を走査し、且つ今度はマスク１を反対方向
に移動させて異物検査を実施する。従って、レーザビー
ム２が端面１１，１２に直接照射され異物があると認識
されることがない。
【００１３】図２（ａ），（ｂ）は本発明に関連する技
術を説明するための平面図及び模式的断面図である。
術を説明するための平面図及び模式的断面図である。
【００１４】図２（ａ），（ｂ）に示すように、マスク
１の側面にペリクル枠４を設け、マスク１の上面及び下
面にペリクル５を設けたペリクル付きマスクの検査面に
対して所定の角度θ2 の斜め方向からレーザビーム２を
照射して左右に走査させながら照射し、且つペリクル付
マスクをレーザビーム２の走査方向と垂直の方向に移動
し、まずレーザビーム２の射出側より遠い側の検査領域
１３を走査して反射光を検出器３，３ａ，３ｂの夫々で
検出して異物検査を実施する。次に、ペリクル付きマス
クの検査面の中心を軸に１８０°回転を行なった後、残
り半分の検査領域１４に対して、同様に所定の角度θ2
を保持しながらレーザビーム２を走査し、且つ今度はペ
リクル付マスクを反対方向に移動させて異物検査を実施
する。従って、レーザビーム２がペリクル枠４によって
遮断されることは無い。
１の側面にペリクル枠４を設け、マスク１の上面及び下
面にペリクル５を設けたペリクル付きマスクの検査面に
対して所定の角度θ2 の斜め方向からレーザビーム２を
照射して左右に走査させながら照射し、且つペリクル付
マスクをレーザビーム２の走査方向と垂直の方向に移動
し、まずレーザビーム２の射出側より遠い側の検査領域
１３を走査して反射光を検出器３，３ａ，３ｂの夫々で
検出して異物検査を実施する。次に、ペリクル付きマス
クの検査面の中心を軸に１８０°回転を行なった後、残
り半分の検査領域１４に対して、同様に所定の角度θ2
を保持しながらレーザビーム２を走査し、且つ今度はペ
リクル付マスクを反対方向に移動させて異物検査を実施
する。従って、レーザビーム２がペリクル枠４によって
遮断されることは無い。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ペリクル
なしのマスクの検査領域を２分割してレーザビーム入射
側の検査領域を走査した後、マスクの中心を軸として同
一平面内で１８０°回転させ残りの検査領域を走査する
ことによって、レーザビームを直接マスクの端面に照射
させることを防ぎ、マスク端面からの散乱光の影響を無
くして、誤検出を防止することができるという効果を有
する。
なしのマスクの検査領域を２分割してレーザビーム入射
側の検査領域を走査した後、マスクの中心を軸として同
一平面内で１８０°回転させ残りの検査領域を走査する
ことによって、レーザビームを直接マスクの端面に照射
させることを防ぎ、マスク端面からの散乱光の影響を無
くして、誤検出を防止することができるという効果を有
する。
【００１６】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を説明するための平面図及び模
式的断面図である。
式的断面図である。
【図２】本発明に関連する技術を説明するための平面図
及び模式的断面図である。
及び模式的断面図である。
【図３】従来のマスクの異物検査方法を説明するための
模式的断面図である。
模式的断面図である。
【図４】従来のマスクの異物検査方法を説明するための
模式的断面図である。
模式的断面図である。
【図５】従来のマスクの異物検査方法の第１の問題点を
説明するための模式的断面図である。
説明するための模式的断面図である。
【図６】従来のマスクの異物検査方法の第２の問題点を
説明するための模式的断面図である。
説明するための模式的断面図である。
１ マスク ２ レーザビーム ３，３ａ，３ｂ 検出器 ４ ペリクル枠 ５ ペリクル １１，１２ 端面 １３，１４，１５ 検査領域
Claims (1)
- 【請求項１】 ペリクルなしマスクの検査面に対して所
定の角度を保ちながらレーザビームを走査してその反射
光を検出器で検出し検査面の異物の有無を検知するマス
クの異物検査方法において、前記検査面のレーザビーム
入射側に位置する半分の領域を走査した後、前記マスク
を同一面内で１８０°回転して残りの半分の領域を前記
レーザビーム入射側に位置させて該残りの半分の領域を
走査させることを特徴とするマスクの異物検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6962991A JP3064459B2 (ja) | 1991-04-02 | 1991-04-02 | マスクの異物検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6962991A JP3064459B2 (ja) | 1991-04-02 | 1991-04-02 | マスクの異物検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04304454A JPH04304454A (ja) | 1992-10-27 |
| JP3064459B2 true JP3064459B2 (ja) | 2000-07-12 |
Family
ID=13408350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6962991A Expired - Fee Related JP3064459B2 (ja) | 1991-04-02 | 1991-04-02 | マスクの異物検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3064459B2 (ja) |
-
1991
- 1991-04-02 JP JP6962991A patent/JP3064459B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04304454A (ja) | 1992-10-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000411 |
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