JPH04344447A - 透明ガラス基板の欠陥検出装置 - Google Patents
透明ガラス基板の欠陥検出装置Info
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- JPH04344447A JPH04344447A JP3117137A JP11713791A JPH04344447A JP H04344447 A JPH04344447 A JP H04344447A JP 3117137 A JP3117137 A JP 3117137A JP 11713791 A JP11713791 A JP 11713791A JP H04344447 A JPH04344447 A JP H04344447A
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば集積回路製造の
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、集積回路製造の回路パターンの
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥があると
、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して欠
陥を確実に検出することが必要である。
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥があると
、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して欠
陥を確実に検出することが必要である。
【０００３】従来、欠陥の検出は暗室内に配置したガラ
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に１μｍ以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい２０万ルクス程度までしか上げられず
、肉眼での検出精度向上には限界がある。
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に１μｍ以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい２０万ルクス程度までしか上げられず
、肉眼での検出精度向上には限界がある。
【０００４】このため、人間の目を用いずに表面欠陥を
検査する各種の装置が開発された。特開昭６２−１０５
０３８号公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し
、欠陥箇所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表
面検査装置の受光系が開示されている。特開昭６３−２
０００４３号公報には、ガラス板やプラスチック板等の
表面の傷や汚れ等の欠陥を検出するシート状被検体の表
面欠陥検出装置が開示されている。また、特開昭６３−
２０８７４６号公報には検査領域全面で均一な検出感度
を有する欠陥検査装置が開示されている。
検査する各種の装置が開発された。特開昭６２−１０５
０３８号公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し
、欠陥箇所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表
面検査装置の受光系が開示されている。特開昭６３−２
０００４３号公報には、ガラス板やプラスチック板等の
表面の傷や汚れ等の欠陥を検出するシート状被検体の表
面欠陥検出装置が開示されている。また、特開昭６３−
２０８７４６号公報には検査領域全面で均一な検出感度
を有する欠陥検査装置が開示されている。
【０００５】これらの装置は、レーザ光等をガラス基板
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が１μｍ以
下に推移してきており、１μｍに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が１μｍ以
下に推移してきており、１μｍに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
【０００６】また、上記した欠陥検査方法以外にも電子
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板１枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板１枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明者らは図３に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板２の欠陥３に様々な方向および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方向と散乱光との関係を検討した
。
めに本発明者らは図３に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板２の欠陥３に様々な方向および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方向と散乱光との関係を検討した
。
【０００９】図３の装置は、Ｘ−Ｙテーブル（不図示）
に載置された回転ステージ１０に透明ガラス基板２を載
せ、その片側に散乱光検出器（ＣＣＤカメラ）１８を配
置したものである。光源１４は移動可能で、透明ガラス
基板２に対して様々な方向から検査光を照射可能になっ
ている。基板２表面の欠陥３により生じた散乱光は散乱
光検出器１８で検出される。
に載置された回転ステージ１０に透明ガラス基板２を載
せ、その片側に散乱光検出器（ＣＣＤカメラ）１８を配
置したものである。光源１４は移動可能で、透明ガラス
基板２に対して様々な方向から検査光を照射可能になっ
ている。基板２表面の欠陥３により生じた散乱光は散乱
光検出器１８で検出される。
【００１０】本発明者らは、先ず、検査光を透明ガラス
基板２に対して散乱光検出器１８側から照射した場合と
、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光を
得られるかという試験を行なった。表面に１×５μｍ、
５×１００μｍ、１×２μｍの欠陥がある透明ガラス基
板２を用意し、その法線６に対して４５°をなす検査光
を照射して生じた散乱光を散乱光検出器１８で捕えた。
基板２に対して散乱光検出器１８側から照射した場合と
、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光を
得られるかという試験を行なった。表面に１×５μｍ、
５×１００μｍ、１×２μｍの欠陥がある透明ガラス基
板２を用意し、その法線６に対して４５°をなす検査光
を照射して生じた散乱光を散乱光検出器１８で捕えた。
【００１１】図４、図５および図６は検査光を散乱光検
出器１８側から照射して生じた後方散乱光７の画像、図
７、図８および図９はその反対側から検査光を照射して
生じた前方散乱光７の画像である。図４および図７の欠
陥の大きさは１×５μｍ、図５および図８の欠陥の大き
さは５×１００μｍ、図６および図９の欠陥の大きさは
１×２μｍである。なお、１×２μｍのような微細な欠
陥の場合、後方散乱光は検出されなかった（図６参照）
。図４〜図９の散乱光量の比較により、検査光を散乱光
検出器１８と反対側から照射した方がより強い散乱光７
が得られることがわかる。
出器１８側から照射して生じた後方散乱光７の画像、図
７、図８および図９はその反対側から検査光を照射して
生じた前方散乱光７の画像である。図４および図７の欠
陥の大きさは１×５μｍ、図５および図８の欠陥の大き
さは５×１００μｍ、図６および図９の欠陥の大きさは
１×２μｍである。なお、１×２μｍのような微細な欠
陥の場合、後方散乱光は検出されなかった（図６参照）
。図４〜図９の散乱光量の比較により、検査光を散乱光
検出器１８と反対側から照射した方がより強い散乱光７
が得られることがわかる。
【００１２】次に、検査光とガラス基板２の法線６とが
なす角θ（図３参照）、および、ガラス基板２に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光７の光入射角度依
存性を検討した。検査光の入射方位は、図１０に示すよ
うにガラス基板２の表面に任意に設定した基準方位１７
と、検査光の光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影
線１５とのなす角φで示してある。図１１には１×３μ
ｍの欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲１
１、図１２には０．５×２０μｍの欠陥に検査光を照射
した際の散乱光検出可能範囲１２を示す。これらの結果
によれば、散乱光強度は検査光と透明ガラス基板２の法
線とがなす角θおよび検査光の入射方位φにより大きな
影響を受け、散乱光７は検査光が欠陥の形状に応じた特
定の条件を満たして入射したときにのみ発生しているこ
とがわかる。例えば、検査光が欠陥の長手方向に直交し
て入射した場合には強い散乱光が得られ、欠陥の長手方
向と平行に入射した場合には弱い散乱光しか得られない
。欠陥が浅い場合には散乱光が全く検出できないことも
ある。
なす角θ（図３参照）、および、ガラス基板２に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光７の光入射角度依
存性を検討した。検査光の入射方位は、図１０に示すよ
うにガラス基板２の表面に任意に設定した基準方位１７
と、検査光の光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影
線１５とのなす角φで示してある。図１１には１×３μ
ｍの欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲１
１、図１２には０．５×２０μｍの欠陥に検査光を照射
した際の散乱光検出可能範囲１２を示す。これらの結果
によれば、散乱光強度は検査光と透明ガラス基板２の法
線とがなす角θおよび検査光の入射方位φにより大きな
影響を受け、散乱光７は検査光が欠陥の形状に応じた特
定の条件を満たして入射したときにのみ発生しているこ
とがわかる。例えば、検査光が欠陥の長手方向に直交し
て入射した場合には強い散乱光が得られ、欠陥の長手方
向と平行に入射した場合には弱い散乱光しか得られない
。欠陥が浅い場合には散乱光が全く検出できないことも
ある。
【００１３】本発明者らは以上の試験結果を検討したと
ころ、散乱光検出器側の少なくとも３方向から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを１０°〜４０°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
ころ、散乱光検出器側の少なくとも３方向から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを１０°〜４０°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
【００１４】即ち、本発明の透明ガラス基板の欠陥検出
装置は、一実施例に対応する図１に示すように、被検査
体である透明ガラス基板２の片側に、透明ガラス基板２
の一点に向けて少なくとも３方向から検査光５１・５２
・５３ を同時に照射する光源４１・４２・４３ が配
置されている。検査光５１・５２・５３ と透明ガラス
基板２の法線６となす角θ１・θ２・θ３は１０〜４０
°である。透明ガラス基板２のもう一方の側には透明ガ
ラス基板２の欠陥３により生じた前方散乱光７を検出す
る散乱光検出器８が配置されている。
装置は、一実施例に対応する図１に示すように、被検査
体である透明ガラス基板２の片側に、透明ガラス基板２
の一点に向けて少なくとも３方向から検査光５１・５２
・５３ を同時に照射する光源４１・４２・４３ が配
置されている。検査光５１・５２・５３ と透明ガラス
基板２の法線６となす角θ１・θ２・θ３は１０〜４０
°である。透明ガラス基板２のもう一方の側には透明ガ
ラス基板２の欠陥３により生じた前方散乱光７を検出す
る散乱光検出器８が配置されている。
【００１５】被検査体である透明ガラス基板２としては
、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
【００１６】光源４１・４２・４３ は、ガラス基板の
表面に光をスポット照射できる集光作用を有するものを
使用する。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレ
ーザ光発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用の
ない光源を用いると、欠陥３による散乱光７が検出しに
くくなり、検出感度が低下してしまう。
表面に光をスポット照射できる集光作用を有するものを
使用する。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレ
ーザ光発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用の
ない光源を用いると、欠陥３による散乱光７が検出しに
くくなり、検出感度が低下してしまう。
【００１７】検査光５１・５２・５３ は透明ガラス基
板２に少なくとも３方向から照射する。照射方向は多い
方が良い。照射方向が３方向未満であると欠陥３の形状
によっては散乱光７が発生せず、欠陥３を検出できない
ことがある。また、検査光５１・５２・５３ の照度は
高いほうが好ましい。リング状の光を収束できるリング
照明系の使用も可能である。
板２に少なくとも３方向から照射する。照射方向は多い
方が良い。照射方向が３方向未満であると欠陥３の形状
によっては散乱光７が発生せず、欠陥３を検出できない
ことがある。また、検査光５１・５２・５３ の照度は
高いほうが好ましい。リング状の光を収束できるリング
照明系の使用も可能である。
【００１８】検査光５１・５２・５３ とガラス基板２
の法線とのなす角θ１・θ２・θ３ は、１０〜４０°
に設定する。 なす角θ１・θ２・θ３ が１０°に満たない場合や、
４０°を越える場合には、欠陥３の形状によっては散乱
光７が発生せず、欠陥３を検出できないことがある。例
えば３方向から検査光５１・５２・５３ を照射する場
合、検査光５１・５２・５３ とガラス基板２の法線と
のなす角θ１・θ２・θ３ は１０〜２５°に設定する
ことがより好ましい。
の法線とのなす角θ１・θ２・θ３ は、１０〜４０°
に設定する。 なす角θ１・θ２・θ３ が１０°に満たない場合や、
４０°を越える場合には、欠陥３の形状によっては散乱
光７が発生せず、欠陥３を検出できないことがある。例
えば３方向から検査光５１・５２・５３ を照射する場
合、検査光５１・５２・５３ とガラス基板２の法線と
のなす角θ１・θ２・θ３ は１０〜２５°に設定する
ことがより好ましい。
【００１９】なお、３方向から検査光５１・５２・５３
を照射する場合、各検査光５１・５２・５３の光路をガ
ラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが６
０°を越えないように光源４１・４２・４３ を配置す
ることが好ましい。６０°を越えると欠陥３を検出でき
ないことがある。また、各検査光５１・５２・５３ の
光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす
角δと、１８０°を検査光５１・５２・５３ の本数を
割った角度とが一致するように光源４１・４２・４３
を配置することが望ましい。例えば４方向の場合はなす
角δを４５°、５方向の場合はなす角δを３６°に設定
する。
を照射する場合、各検査光５１・５２・５３の光路をガ
ラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが６
０°を越えないように光源４１・４２・４３ を配置す
ることが好ましい。６０°を越えると欠陥３を検出でき
ないことがある。また、各検査光５１・５２・５３ の
光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす
角δと、１８０°を検査光５１・５２・５３ の本数を
割った角度とが一致するように光源４１・４２・４３
を配置することが望ましい。例えば４方向の場合はなす
角δを４５°、５方向の場合はなす角δを３６°に設定
する。
【００２０】
【作用】光源４１・４２・４３ から照射された検査光
５１・５２・５３ が透明ガラス基板２を透過する際、
透過部分に欠陥３があると検査光５１・５２・５３が散
乱される。その散乱光７を散乱光検出器８で検出するこ
とにより欠陥３が検出される。検査光５１・５２・５３
は透明ガラス基板２の法線６と１０〜４０°の角度を
なして散乱光検出器８の反対側から透明ガラス基板２に
入射するために散乱光７が発生し易く、欠陥３が微細な
場合でも散乱光７が生じる。欠陥３の形状が細長い場合
でも、光源４１・４２・４３ から照射された検査光５
１・５２・５３ のうち何れかは欠陥３にその長手方向
と交わって入射するため、散乱光７が発生する。そのた
めどのような形状の欠陥３も確実に検出することが出来
る。
５１・５２・５３ が透明ガラス基板２を透過する際、
透過部分に欠陥３があると検査光５１・５２・５３が散
乱される。その散乱光７を散乱光検出器８で検出するこ
とにより欠陥３が検出される。検査光５１・５２・５３
は透明ガラス基板２の法線６と１０〜４０°の角度を
なして散乱光検出器８の反対側から透明ガラス基板２に
入射するために散乱光７が発生し易く、欠陥３が微細な
場合でも散乱光７が生じる。欠陥３の形状が細長い場合
でも、光源４１・４２・４３ から照射された検査光５
１・５２・５３ のうち何れかは欠陥３にその長手方向
と交わって入射するため、散乱光７が発生する。そのた
めどのような形状の欠陥３も確実に検出することが出来
る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１は本
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図２はその平面図である。この装置は、Ｘ
−Ｙテーブル（不図示）に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ１０（（株）ニコン製）の上面に被検体である透明
ガラス基板２を載せ、その上方に散乱光検出器８を配置
したものである。散乱光検出器８は、実体顕微鏡（（株
）ニコン製）にＣＣＤカメラ（プロテックジャパン社製
）を取り付けたもので、その光学系には×５のレンズが
挿入されている。透明ガラス基板２の下方には３個のハ
ロゲンランプ４１・４２・４３ （山田光学製）が設け
られている。各ハロゲンランプ４１・４２・４３ は、
照射される検査光５１・５２・５３が透明ガラス基板２
の法線６と２５°の角度をなし、透明ガラス基板２表面
の一点で交差するように配置される。各検査光５１・５
２・５３ の光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影
線同士のなす角δは６０°に設定されている。
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図２はその平面図である。この装置は、Ｘ
−Ｙテーブル（不図示）に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ１０（（株）ニコン製）の上面に被検体である透明
ガラス基板２を載せ、その上方に散乱光検出器８を配置
したものである。散乱光検出器８は、実体顕微鏡（（株
）ニコン製）にＣＣＤカメラ（プロテックジャパン社製
）を取り付けたもので、その光学系には×５のレンズが
挿入されている。透明ガラス基板２の下方には３個のハ
ロゲンランプ４１・４２・４３ （山田光学製）が設け
られている。各ハロゲンランプ４１・４２・４３ は、
照射される検査光５１・５２・５３が透明ガラス基板２
の法線６と２５°の角度をなし、透明ガラス基板２表面
の一点で交差するように配置される。各検査光５１・５
２・５３ の光路をガラス基板２へ垂直に投影した投影
線同士のなす角δは６０°に設定されている。
【００２２】ハロゲンランプ４１・４２・４３ から照
射された検査光５１・５２・５３ は、透明ガラス基板
２の表面で交差するとともに透明ガラス基板２に入射す
る。透明ガラス基板２に欠陥３がない場合には、各検査
光５１・５２・５３はそのまま透明ガラス基板２を透過
し、散乱光は発生しない。検査光５１・５２・５３ が
欠陥３に入射すると散乱光７が発生し、ＣＣＤカメラ８
により検出される。
射された検査光５１・５２・５３ は、透明ガラス基板
２の表面で交差するとともに透明ガラス基板２に入射す
る。透明ガラス基板２に欠陥３がない場合には、各検査
光５１・５２・５３はそのまま透明ガラス基板２を透過
し、散乱光は発生しない。検査光５１・５２・５３ が
欠陥３に入射すると散乱光７が発生し、ＣＣＤカメラ８
により検出される。
【００２３】以下、フォトマスク用合成石英ガラス基板
２の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
２の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
【００２４】実施例１
透明ガラス基板２として精密研磨実施後に精密洗浄を施
した１２７×１２７×２．３ｍｍのフォトマス用合成石
英ガラス基板２を１０枚用意する。各ガラス基板２は、
夫々２×２０μｍ、２×２μｍ、１×１０μｍ、１×３
μｍ、１×１μｍ、０．５×２０μｍ、０．５×５μｍ
、０．５×１μｍ、０．３×０．７μｍ、０．３×０．
３μｍの傷３を有している。
した１２７×１２７×２．３ｍｍのフォトマス用合成石
英ガラス基板２を１０枚用意する。各ガラス基板２は、
夫々２×２０μｍ、２×２μｍ、１×１０μｍ、１×３
μｍ、１×１μｍ、０．５×２０μｍ、０．５×５μｍ
、０．５×１μｍ、０．３×０．７μｍ、０．３×０．
３μｍの傷３を有している。
【００２５】各ハロゲンランプ４１・４２・４３ から
の検査光５１・５２・５３ は、基板２の表面で２０万
ルクスになるように調整した後、これらのフォトマス用
合成石英ガラス基板２を順に回転ステージ１０に載せ、
欠陥検出の可否を判定した。
の検査光５１・５２・５３ は、基板２の表面で２０万
ルクスになるように調整した後、これらのフォトマス用
合成石英ガラス基板２を順に回転ステージ１０に載せ、
欠陥検出の可否を判定した。
【００２６】実施例２
基板２表面の照度を６０万ルクスとする他は実施例１と
同様にして欠陥検出を試みた。
同様にして欠陥検出を試みた。
【００２７】次に、比較のため本発明を適用以外の方法
で欠陥検出を試みた。 比較例１ 実施例１の検査に使用したガラス基板２をクリーンルー
ム内に入れ、基板２の表面で２０万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
で欠陥検出を試みた。 比較例１ 実施例１の検査に使用したガラス基板２をクリーンルー
ム内に入れ、基板２の表面で２０万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
【００２８】比較例２
ハロゲンランプの本数を２本にする以外は実施例１と同
様にして欠陥を検出した。
様にして欠陥を検出した。
【００２９】比較例３
ハロゲンランプ４１・４２・４３ を散乱光検出器８側
に移して検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実
施例１と同様にして欠陥を検出した。
に移して検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実
施例１と同様にして欠陥を検出した。
【００３０】比較例４
検査光５１・５２・５３ とガラス基板２の法線とのな
す角を５°にする他は実施例１と同様にして欠陥を検出
した。
す角を５°にする他は実施例１と同様にして欠陥を検出
した。
【００３１】表１に各実施例および比較例の検出結果を
示す。
示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】表１に示す結果によれば、本発明の透明ガ
ラス基板の欠陥検出装置は１μｍ以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
ラス基板の欠陥検出装置は１μｍ以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
【００３４】なお、上記の実施例では散乱光検出器８と
してＣＣＤカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器８の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
してＣＣＤカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器８の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
【００３５】また、本発明の装置とガラス基板２の自動
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さらに
、欠陥３の光照射角度による散乱光強度の違いにより、
汚れか傷かの判別も可能となる。
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さらに
、欠陥３の光照射角度による散乱光強度の違いにより、
汚れか傷かの判別も可能となる。
【００３６】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、１μｍ以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して３方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、１μｍ以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して３方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
【図１】本発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装
置の一実施例を示す側面図である。
置の一実施例を示す側面図である。
【図２】図１に示した透明ガラス基板の欠陥検出装置の
平面図である。
平面図である。
【図３】透明ガラス基板の欠陥検出条件を求める装置の
概略側面図である。
概略側面図である。
【図４】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図５】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図６】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図７】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図８】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図９】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図１０】検査光の入射方位の説明図である。
【図１１】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
【図１２】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
２は透明ガラス基板、３は欠陥、４１・４２・４３・１
４は光源、５１・５２・５３ は検査光、６は透明ガラ
ス基板の法線、７は散乱光、８・１８は散乱光検出器、
１０は回転ステージ、１１・１２は散乱光検出可能範囲
、１５は投影線、１７は基準方位である。
４は光源、５１・５２・５３ は検査光、６は透明ガラ
ス基板の法線、７は散乱光、８・１８は散乱光検出器、
１０は回転ステージ、１１・１２は散乱光検出可能範囲
、１５は投影線、１７は基準方位である。
Claims (2)
- 【請求項１】 被検査体である透明ガラス基板の片側
に、前記透明ガラス基板の一点に向けて少なくとも３方
向から検査光を同時に照射する光源が配置され、該検査
光と透明ガラス基板の法線とが１０〜４０°の角度をな
し、前記透明ガラス基板のもう一方の側に透明ガラス基
板の欠陥により生じた前方散乱光を検出する散乱光検出
器が配置されていることを特徴とする透明ガラス基板の
欠陥検出装置。 - 【請求項２】 前記透明ガラス基板がフォトマスク用
ガラス基板であることを特徴とする請求項１に記載の透
明ガラス基板の欠陥検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04344447A true JPH04344447A (ja) | 1992-12-01 |
| JP2705764B2 JP2705764B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=14704372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11713791A Expired - Fee Related JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2705764B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6396579B1 (en) | 1997-03-10 | 2002-05-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method, apparatus, and system for inspecting transparent objects |
| JP2008241787A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Lasertec Corp | 欠陥修正方法及び装置 |
| JP2011227260A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Hoya Corp | 再生フォトマスク用基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、再生フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 |
| WO2019207892A1 (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 株式会社日立産機システム | 安全キャビネット |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5737253A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-01 | Asahi Glass Co Ltd | Defect detection device for transparent body |
| JPS6125042A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 表面欠陥検査装置 |
| JPS61186806A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Nec Corp | 透明体の欠点検出装置 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11713791A patent/JP2705764B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5737253A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-01 | Asahi Glass Co Ltd | Defect detection device for transparent body |
| JPS6125042A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 表面欠陥検査装置 |
| JPS61186806A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Nec Corp | 透明体の欠点検出装置 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6396579B1 (en) | 1997-03-10 | 2002-05-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method, apparatus, and system for inspecting transparent objects |
| JP2008241787A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Lasertec Corp | 欠陥修正方法及び装置 |
| JP2011227260A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Hoya Corp | 再生フォトマスク用基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、再生フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 |
| WO2019207892A1 (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 株式会社日立産機システム | 安全キャビネット |
| JP2019188321A (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 株式会社日立産機システム | 安全キャビネット |
| CN111542391A (zh) * | 2018-04-24 | 2020-08-14 | 株式会社日立产机系统 | 安全柜 |
| US11554395B2 (en) | 2018-04-24 | 2023-01-17 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co., Ltd. | Safety cabinet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2705764B2 (ja) | 1998-01-28 |
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