JP3060703B2 - グリシジル化合物の精製方法 - Google Patents

グリシジル化合物の精製方法

Info

Publication number
JP3060703B2
JP3060703B2 JP4056887A JP5688792A JP3060703B2 JP 3060703 B2 JP3060703 B2 JP 3060703B2 JP 4056887 A JP4056887 A JP 4056887A JP 5688792 A JP5688792 A JP 5688792A JP 3060703 B2 JP3060703 B2 JP 3060703B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
added
glycidyl compound
viscosity
kyoward
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4056887A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05213920A (ja
Inventor
正彦 山中
昭二 谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
New Japan Chemical Co Ltd
Original Assignee
New Japan Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by New Japan Chemical Co Ltd filed Critical New Japan Chemical Co Ltd
Priority to JP4056887A priority Critical patent/JP3060703B2/ja
Publication of JPH05213920A publication Critical patent/JPH05213920A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3060703B2 publication Critical patent/JP3060703B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、グリシジル化合物の工
業的な精製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、グリシジル化合物の製造方法とし
て、例えば、次の2つの方法が知られている。 (1)二段階合成法 活性水素含有化合物(例えば、アルコール類、フェノー
ル類、カルボン酸類、アミン類等)とエピハロヒドリン
類とを溶媒の存在下又は無溶媒下、所望により触媒とし
て酸性化合物或いは塩基性化合物の存在下に加熱して付
加反応せしめてハロヒドリン体を得、次いで水酸化ナト
リウム等の塩基性化合物を用いて脱ハロゲン化水素する
ことによりこれを閉環してグリシジル化合物の粗物を得
る。しかる後に、上記反応時に副生する塩類、脱ハロゲ
ン化水素剤として使用した塩基性化合物の残留物を水洗
又は濾別し、次いで加熱、減圧下に揮発性物質を留去
し、その後濾過して目的物を得る。
【0003】(2)一段階合成法 上記と同様の活性水素含有化合物とエピハロヒドリン類
及び/又はハロヒドリン類とを溶媒の存在下又は無溶媒
下、水酸化ナトリウム等の塩基性化合物を用いて縮合し
てグリシジル化合物の粗物を得、以下、二段階合成法に
おけると同様の後処理方法により目的物を得る。
【0004】しかしながら、上述の一段階合成法又は二
段階合成法のいずれの方法によっても、最終製品中に加
水分解性ハロゲン原子が、通常、500〜1000ppm
程度の濃度で残留する。
【0005】このようなグリシジル化合物を原料として
得られるエポキシ樹脂をエレクトロニクスの分野(例え
ば、トランジスタ、IC、LSI、超LSI)にそのま
ま使用した場合、混在している加水分解性ハロゲン原子
が、長期間の通電使用中に環境大気中から吸収した水分
や熱の作用等によりハロゲンイオンを遊離し、アルミニ
ウム等の配線部材や基体を腐食させ、或いは絶縁不良の
原因ともなってエレクトロニクス部品の信頼性を低下さ
せる。そのため、グリシジル化合物中の加水分解性ハロ
ゲン原子は、極力除去されている必要がある。
【0006】グリシジル化合物中の加水分解性ハロゲン
原子の残存量を低減する方法としては、これまで種々の
方法が提案されている。
【0007】例えば、特開昭60−112812号公報
では、アルカリ金属アルコキシドによる後処理方法が開
示されている。当該処理により、ある程度の加水分解性
ハロゲン原子の除去効果は認められるものの、同時にエ
ポキシ基の開裂や重合を起こし最終製品中のエポキシ当
量や粘度の上昇を引き起こすという欠点を有する。
【0008】又、特開昭60−186522号公報で
は、遊離アミン型弱塩基性陰イオン交換樹脂を使用した
後処理方法が開示されているが、当該イオン交換樹脂の
耐熱性に限界があるため、比較的低温での後処理を余儀
なくされ、所期の加水分解性ハロゲン原子の除去効果を
得るためには長時間の後処理が必要となるという欠点を
有している。
【0009】一方、本発明者らの検討によれば、閉環反
応時に脱ハロゲン化水素剤として使用する塩基性化合物
の過剰量を増やしたり、閉環反応温度を高く設定したり
反応時間を延長する等、脱ハロゲン化水素の反応条件を
より厳しくしたとしても加水分解性ハロゲン原子の混在
量を150ppm程度にしか低減することができず、しか
もかかる条件下では上記と同様の品質劣化及び収率の低
下が起こり、充分満足し得る結果が得られなかった(本
願比較例4)。
【0010】以上の如く、グリシジル化合物中の加水分
解性ハロゲン原子をより効率的に除去し、かつ最終製品
の品質劣化や収率低下を起こさない精製方法はまだ確立
されておらず、かかる技術の開発が強く望まれていた。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、比較的簡便
に、かつ工業的に有利な条件下で、グリシジ化合物中
の加水分解性ハロゲン原子の混在量を可及的に低減せし
め得る新規な精製方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる目
的を達成すべく鋭意検討の結果、一段階合成法、二段階
合成法を問わず、従来公知の方法で調製されたグリシジ
ル化合物の反応粗物をハイドロタルサイト類化合物で後
処理することにより、最終製品のエポキシ当量や粘度等
の品質劣化及び収率低下を起こすことなく、加水分解性
ハロゲン原子の含有量を100ppm以下に低減し得るこ
とを見いだした。
【0013】本発明に係るグリシジル化合物の精製方法
は、上記の知見に基づいてなされたものであって、グリ
シジル化合物中に混在する加水分解性ハロゲン原子をハ
イドロタルサイト類を用いて除去することを特徴とす
る。
【0014】本発明において使用されるハイドロタルサ
イト類化合物とは、天然ハイドロタルサイト、合成ハイ
ドロタルサイト或いはそれらの焼成物であり、例えば、
一般式(1)に示される組成比を有する化合物である。
【化1】 [式中、a、b、c、d及びeは、1<a<5、d≦
b、d≦c、b+2c=2a+3及びe<10の条件を
満たす、0及び正の数である。]
【0015】当該化合物の好ましい添加量は、目的とす
るグリシジル化合物に対して0.05〜3重量%程度で
ある。0.05重量%未満では加水分解性ハロゲン原子
を充分に除去することができず、3重量%を越えて添加
しても効果上の有意差は認められず、経済的に不利であ
る。
【0016】以下に処理方法の具体例を掲げる。尚、所
定の効果が得られる限り、当該処理条件に限定されるも
のではない。活性水素含有化合物とエピハロヒドリン類
及び/又はハロヒドリン類を原料として得られる反応粗
物に対し、必要に応じて、系内の粘度を低下せしめる目
的で不活性な溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等)を添加し、次いで、
副生塩や未反応の塩基性化合物を、濾過、水洗、遠心分
離等の工程を適宜組み合わせることにより除去する。
【0017】しかる後に、所定量のハイドロタルサイト
類化合物を添加し、通常、80〜130℃程度の温度条
件下で、好ましくは3〜20mmHg程度の減圧下、0.5
〜3時間程度攪拌する。この過程において、水及び溶媒
等の反応粗物中に混在する揮発性物質を同時に留去して
もよいし、予め加熱、減圧下に当該揮発性物質を留去し
た後、ハイドロタルサイト類化合物による精製を行って
もよい。温度条件が80℃以下の場合には加水分解性ハ
ロゲン原子の除去効率が低下する傾向が認められ、多量
のハイドロタルサイト類化合物の使用が必要となり工業
的に不利である。
【0018】その後、系を濾過又は遠心分離して固形物
を回収、除去することにより、エポキシ基の重合や開裂
等によるエポキシ当量の増加や粘度の増大を起こさず
に、加水分解性のハロゲン原子の含有量が著しく低減さ
れたグリシジル化合物が得られる。
【0019】
【実施例】以下に実施例を掲げ、本発明を詳しく説明す
る。尚、各例における評価方法は以下のとおりである。 エポキシ当量…過塩素酸により滴定する方法による。 加水分解性塩素含量…ナトリウムメチラートを60〜7
0℃、5分間作用させて加水分解性塩素をイオン化させ
た後、硝酸銀により滴定する方法による。 粘度(25℃)…B型回転粘度計による。
【0020】又、ハイドロタルサイト類化合物として
は、以下の協和化学工業(株)製合成ハイドロタルサイ
トを適用した。 キョーワード2000(Mg0.7Al0.31.15) キョーワード1000(Mg4.5Al2(OH)13CO3
・mH2O,m=3〜3.5) キョーワード500SN(Mg6Al2(OH)16CO3
・4H2O) キョーワード500SH(Mg6Al2(OH)16CO3
・4H2O)
【0021】実施例1 回転式攪拌装置、デカンタ、温度計及びガス導入管を備
えた反応器に、水素化ビスフェノールA243g(1.
0モル)、キシレン116g及び塩化第二錫五水和物
(付加反応触媒)3.1gを仕込み、100℃でエピク
ロルヒドリン222g(2.4モル)を滴下した後、更
に攪拌を続けて付加反応を終了した。次いで、塩化ベン
ジルトリメチルアンモニウム(相間移動触媒)6.9
g、50%水酸化ナトリウム水溶液223gを添加後、
80℃、5時間攪拌を続けて閉環反応を終了した。副生
した塩化ナトリウム及び未反応の水酸化ナトリウムを水
洗により除去し、更に、キョーワード2000を2g添
加して、130℃、3mmHgで3時間、脱水・脱溶媒しつ
つ攪拌した後、固形物を濾別した。その結果、エポキシ
当量215、加水分解性塩素含量30ppm、粘度250
0cPの水素化ビスフェノールAのジグリシジルエーテ
ル372g(収率98.6%)を得た。
【0022】実施例2 実施例1と同様の反応器に、ビスフェノールA・エチレ
ンオキサイド6モル付加体246g(0.5モル)、エ
ピクロルヒドリン463g(5.0モル)、塩化ベンジ
ルトリメチルアンモニウム5.5g、50%水酸化ナト
リウム水溶液100gを仕込み、50℃でエピクロルヒ
ドリン還流下に共沸脱水しつつ4時間攪拌して縮合反応
を終了した。副生した塩化ナトリウム及び未反応の水酸
化ナトリウムを水洗により除去し、更に、加熱、減圧下
に過剰のエピクロルヒドリンを回収した後、キョーワー
ド1000を2g添加し、120℃、5mmHgで1時間攪
拌した。その後、濾過してエポキシ当量315、加水分
解性塩素含量50ppm、粘度950cPのビスフェノー
ルA・エチレンオキサイド6モル付加体のジグリシジル
エーテル287g(収率95.0%)を得た。
【0023】実施例3 実施例1と同様の反応器に、トリメチロールプロパン1
34g(1.0モル)、キシレン41g及び三フッ化ホ
ウ素エーテル錯塩4.3gを仕込み、60℃でエピクロ
ルヒドリン277g(3.0モル)を滴下し、更に攪拌
を続けて付加反応を終了した。次いで、固体の水酸化ナ
トリウム120gを添加し、40℃で1時間攪拌を続け
て閉環反応を終了した。副生した塩化ナトリウム及び未
反応の水酸化ナトリウムを濾別し、80℃、3mmHgで2
時間脱水・脱溶媒した後、キョーワード500SNを8
g添加し、80℃、常圧下で2時間攪拌した。その後、
濾過して、エポキシ当量122、加水分解性塩素含量9
0ppm、粘度110cPのトリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテル298g(収率98.8%)を得
た。
【0024】実施例4 実施例1と同様の反応器に、4−メチルヘキサヒドロ無
水フタル酸168g(1.0モル)、エピクロルヒドリ
ン250g(2.7モル)、塩化テトラメチルアンモニ
ウム3.3g及び蒸留水30gを仕込み、80℃で攪拌
して付加反応を終了した後、トルエン149gを添加し
た。次いで、45%水酸化ナトリウム水溶液213gを
滴下しつつ80℃で共沸脱水を行い、閉環反応を終了し
た。副生した塩化ナトリウム及び未反応の水酸化ナトリ
ウムを濾別し、120℃、5mmHgで2時間脱水・脱溶媒
した後、キョーワード500SHを3g添加して、更に
30分間攪拌した。その後、濾過してエポキシ当量17
1、加水分解性塩素含量60ppm、粘度520cPの4
−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸ジグリシジルエステ
ル295g(収率92.4%)を得た。
【0025】比較例1 キョーワード2000を添加しない他は実施例1に準じ
て処理したところ、目的とする水素化ビスフェノールA
のジグリシジルエーテルが375g(収率99.4%)
得られた。ちなみに、このもののエポキシ当量は21
3、加水分解性塩素含量は260ppm、粘度は2500
cPであった。
【0026】比較例2 キョーワード1000を添加しない他は実施例2に準じ
て処理したところ、目的とするビスフェノールA・エチ
レンオキサイド6モル付加体のジグリシジルエーテルが
290g(収率96.0%)得られた。ちなみに、この
もののエポキシ当量は315、加水分解性塩素含量は2
40ppm、粘度は950cPであった。
【0027】比較例3 キョーワード500SNを添加しない他は実施例3に準
じて処理したところ、目的とするトリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルが299g(収率99.1
%)得られた。ちなみに、このもののエポキシ当量は1
20、加水分解性塩素含量は690ppm、粘度は110
cPであった。
【0028】比較例4 閉環反応を60℃で3時間攪拌下に行い、かつキョーワ
ード500SNを添加しない他は実施例3に準じて処理
したところ、目的とするトリメチロールプロパントリグ
リシジルエーテルが271g(収率89.8%)得られ
た。ちなみに、このもののエポキシ当量は190、加水
分解性塩素含量は150ppm、粘度は220cPであっ
た。
【0029】比較例5 キョーワード500SHを添加しない他は実施例4に準
じて処理したところ、目的とする4−メチルヘキサヒド
ロ無水フタル酸ジグリシジルエステルが297g(収率
93.0%)得られた。ちなみに、このもののエポキシ
当量は173、加水分解性塩素含量は310ppm、粘度
は520cPであった。
【0030】
【発明の効果】本発明に係るグリシジル化合物の精製方
法により、最終製品のエポキシ当量の増加、粘度の増大
等の品質劣化や収率低下を起こすことなく、より簡便
に、加水分解性ハロゲン原子の残存量を著しく低下させ
ることが可能になる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−64243(JP,A) 特開 平5−17464(JP,A) 特開 平3−77876(JP,A) 特開 平2−191267(JP,A) 特開 昭63−225273(JP,A) 特開 昭63−174981(JP,A) 特表 昭62−500793(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 301/32 C07D 303/22 CA(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グリシジル化合物中に混在する加水分解
    性ハロゲン原子をハイドロタルサイト類を用いて除去す
    ることを特徴とするグリシジル化合物の精製方法。
JP4056887A 1992-02-06 1992-02-06 グリシジル化合物の精製方法 Expired - Fee Related JP3060703B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4056887A JP3060703B2 (ja) 1992-02-06 1992-02-06 グリシジル化合物の精製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4056887A JP3060703B2 (ja) 1992-02-06 1992-02-06 グリシジル化合物の精製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05213920A JPH05213920A (ja) 1993-08-24
JP3060703B2 true JP3060703B2 (ja) 2000-07-10

Family

ID=13039942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4056887A Expired - Fee Related JP3060703B2 (ja) 1992-02-06 1992-02-06 グリシジル化合物の精製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3060703B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002128771A (ja) * 2000-10-26 2002-05-09 Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd 新規なエポキシ化合物の製造法、およびその方法で製造されたエポキシ化合物を含むエポキシ樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05213920A (ja) 1993-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4907821B2 (ja) 加水分解性ハロゲン化物および他の高分子量材料を含有する材料をエピハロヒドリン誘導エポキシ樹脂から除去する方法
JPS6316409B2 (ja)
JPS5839677A (ja) 新規ポリエポキシ化合物
JP5130728B2 (ja) エポキシ樹脂の精製方法
JP3060703B2 (ja) グリシジル化合物の精製方法
JP3644761B2 (ja) 脂肪族ポリグリシジルエーテルの製造方法
CA1085990A (en) Method for the preparation of novolak epoxy resins
JPH0521925B2 (ja)
JP3028385B2 (ja) フェノール樹脂の製造方法
JP2897850B2 (ja) 高純度テトラキスフェノールエタンの製造方法
JPH0517463A (ja) 高純度エポキシ樹脂の製造方法
JPH0321627A (ja) フエノール類ノボラック型エポキシ樹脂及びその製造法
US4211715A (en) Epoxy resins and process for producing the same
JPS63264622A (ja) 多官能エポキシ樹脂
JP2857236B2 (ja) グリシジル化合物の製造方法
JP3054065B2 (ja) フェノール系樹脂の製造方法
JP2865439B2 (ja) エポキシ樹脂及びその硬化物
JP3114304B2 (ja) グリシジルエーテル類の製造方法
JPS629128B2 (ja)
JPH066616B2 (ja) ジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂の製造法
JP2823056B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH1025286A (ja) 新規なポリエポキシ化合物及びその製造方法
JPS627719A (ja) エポキシ樹脂の製法
JP4004787B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、その製造方法及び半導体封止材用樹脂組成物
JP2000204136A (ja) 液状エポキシ樹脂の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees