JP3049040B1 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JP3049040B1
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伸之 森
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九州日本電気株式会社
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector

Abstract

【要約】 【課題】 樹脂封止における半導体素子の損傷を抑制す
ることができるリードフレーム及びそれを備えた半導体
装置を提供する。 【解決手段】 リードフレームには、ダイパッド部1の
裏面から突出し表面側から金型が押圧されたときに少な
くともその押圧力が予め規定されている範囲内である場
合に弾性変形する4個の突起2が隅部近傍に設けられて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は樹脂モールドパッケ
ージングに好適な半導体装置の製造方法に関し、特に、
半導体素子の損傷の低減を図った半導体装置の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近時、半導体装置のパッケージングに
は、樹脂モールドパッケージングが多用されている。し
かし、樹脂モールドパッケージングには、熱膨張係数の
相違及び樹脂中の水分の気化により封入樹脂材とリード
フレームのダイパッド部との接着強度が低下するという
欠点があった。
【0003】そこで、この欠点を解消すべく種々のダイ
パッド部の形状が提案されている(特開昭61−125
162号公報、特開昭63−224246号公報、特開
昭64−82554号公報、特開平3−259555号
公報)。
【0004】特開昭61−125162号公報に記載さ
れたダイパッド部には、その表面又は裏面のいずれかに
リードフレームの長手方向に延びる凸部又は凹部が形成
されている。そして、この凸部又は凹部により封入樹脂
材との接着強度の向上が図られている。
【0005】また、特開平3−259555号公報に
は、ダイパッド部の裏面に突起が設けられた半導体装置
が2種類提案されている。図6(a)及び(b)は特開
平3−259555号公報に記載された従来の半導体装
置を示す断面図である。
【0006】図6(a)及び(b)に示すように、特開
平3−259555号公報に記載された従来の半導体装
置においては、リードフレームのダイパッド部11の表
面に接着剤13を使用して半導体素子14がダイボンデ
ィングされており、前記リードフレームのリード17と
半導体素子14とがワイヤ18により接続されている。
そして、図6(a)に示す一方の半導体装置において
は、ダイパッド部11の裏面から突出する舌片状の突起
12aがプレスによる打ち抜きによって形成されてい
る。一方、図6(b)に示す他方の半導体装置において
は、ダイパッド部11の裏面から突出する突起12bが
溶接により接合されている。そして、リード17の一部
を除いてこれらが封入樹脂材15により樹脂封入(樹脂
モールドパッケージング)されている。
【0007】このように構成された従来の半導体装置に
おいては、突起12a又は12bによる封入樹脂材15
への食いつきによりリードフレームのダイパッド部11
と封入樹脂材15との接着強度が確保されている。
【0008】特開昭63−224246号公報又は特開
昭64−82554号公報に記載された半導体装置にお
いても、上述の特開平3−259555号公報に記載さ
れたものと同様に、ダイパッド部の裏面から突出する突
起が形成されており、封入樹脂材との接着強度が確保さ
れている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ような突起が形成された従来のダイパッド部において
は、樹脂封入の際にその表面に載置された半導体素子に
損傷が発生しやすいという問題点がある。
【0010】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、樹脂封入における半導体素子の損傷を抑制
することができる半導体装置の製造方法を提供すること
を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体装置
の製造方法は、ダイパッド部の裏面から突出し表面側か
ら金型が押圧されたときに少なくともその押圧力が予め
規定されている範囲内である場合に弾性変形する弾性部
材をリードフレームに形成する工程と、前記ダイパッド
部上に半導体素子を接着する工程と、下金型により前記
弾性部材を前記ダイパッド部の表面側に押圧しながら前
記リードフレームを上金型及び前記下金型により挟持し
て前記ダイパッド部の表面側を樹脂封止する工程と、前
記リードフレームを前記上金型及び下金型から取り出し
て前記弾性部材への押圧を解放する工程と、前記ダイパ
ッド部の裏面側を樹脂封止する工程と、を有することを
特徴とする。
【0012】本発明においては、樹脂封入の際にダイパ
ッド部の表面に接着された半導体素子に上金型及び下金
型の挟持による押圧力が印加されると弾性部材が弾性変
形する。従って、半導体素子の一部分への力の集中が弾
性部材により吸収されるので、半導体素子の損傷が抑制
される。
【0013】なお、前記弾性部材を形成する工程は、少
なくとも3個の前記弾性部材を形成する工程を有し、少
なくとも1個の弾性部材は、他の2個の弾性部材を結ぶ
直線から外れた位置に形成することが好ましく、前記半
導体素子を接着する予定の領域よりも外側に前記各弾性
部材を形成する工程を有することがより一層好ましい。
【0014】同一の直線上にない3箇所に弾性部材が設
けられていれば、これらの弾性部材を含む1つの面が決
定されるので、押圧力がどのような方向に印加されても
弾性部材による吸収が可能となる。また、それらの位置
が半導体素子が搭載される予定の領域よりも外側であれ
ば、弾性部材による押圧力の吸収の均衡が高まるので、
損傷防止の効果が向上する。
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】
【発明の実施の形態】本願発明者等が前記課題を解決す
べく、鋭意実験研究を重ねた結果、従来のリードフレー
ムを使用して樹脂封入を行う場合、ダイパッド部を含む
リードフレームが封入上金型及び封入下金型に挟持され
る際に半導体素子の表面が封入上金型の当接面と完全に
平行でなければ、一部に押圧力が集中して半導体素子に
損傷が発生していることに想到した。そこで、半導体素
子の表面が封入上金型の当接面に完全な平行ではない場
合でも、従来一部に集中していた押圧力を吸収する手段
を設けることにより、半導体素子の損傷を防止すること
ができることを見い出した。
【0019】以下、本発明の実施例に係るリードフレー
ムについて、添付の図面を参照して具体的に説明する。
図1は本発明の実施例に係るリードフレームのダイパッ
ド部を示す図であって、(a)は平面図、(b)は
(a)中のA−A線による断面図である。また、図5は
突起を示す断面図である。
【0020】本実施例においては、厚さが0.12mm
程度である長方形板状のダイパッド部1が設けられてお
り、その4つの隅部近傍にその裏面側に突出する深さが
0.12mm程度の突起(弾性部材)2が形成されてい
る。これらの突起2は樹脂封入で使用される金型からの
押圧力の範囲内でその深さ方向に弾性変形することが可
能である。このような突起2は、例えば先端に丸い凸部
が設けられたパンチを使用しダイパッド部1を金型等で
打ち抜かない程度にせん断加工すると共に,塑性変形さ
せることにより形成することができる。
【0021】このように構成された本実施例において
は、樹脂封入のために封入上金型と封入下金型との間に
挟持されるときに突起2が弾性変形するため、そのリー
ドフレームの板厚弱の0.1mm以上の部分がダイパッ
ド部1の開口部に押し込まれる。従って、半導体素子の
表面が封入上金型の当接面と平行でない場合でも、従来
集中していた押圧力は突起2の弾性により吸収され、半
導体素子の損傷が防止される。
【0022】また、封入上金型及び封入下金型の開放後
には、突起2はその弾性により元の形状に復元するの
で、その後にダイパッド部1の裏面側の樹脂封入を行う
場合であっても、突起2による封入樹脂材への食いつき
により十分な接着強度を確保することができる。
【0023】なお、従来の形状寸法を採用した場合に
は、封入樹脂材の力に負けてしまって変形するため、効
果がないことになる。
【0024】次に、上述の実施例に係るリードフレーム
を備えた半導体装置を製造する方法について説明する。
図2乃至図4は半導体装置を製造する方法を工程順に示
す図であって、図2(a)は平面図、図2(b)は図2
(a)中のB−B線による断面図、図3(a)は図2
(a)及び(b)に示す工程の次工程を示す平面図、図
3(b)は図3(a)中のC−C線による断面図、図4
は図3に示す工程の次工程を示す断面図である。
【0025】先ず、図2(a)及び(b)に示すよう
に、リードフレームのダイパッド部1上に銀ペースト3
を塗布し、その上に半導体素子4を載置して接着する。
【0026】次に、図3(a)及び(b)に示すよう
に、ダイパッド部1に半導体素子4が搭載されたリード
フレームを封入上金型5と封入下金型6とにより挟持す
る。このとき、前述のように、突起2はほとんどダイパ
ッド部1の開口部に押し込まれる。従って、前述のよう
に、半導体素子に印加される押圧力が吸収されるので、
半導体素子4はほとんど変形しない。
【0027】次いで、封入上金型5とダイパッド部1と
の間に形成された空間内に封入樹脂材7を流し込む。そ
の後、封入樹脂材7を硬化させ、図4に示すように、封
入上金型5及び封入下金型6を開き、樹脂封入された半
導体装置を取り出す。このとき、突起2は弾性により元
の形状に戻る。
【0028】なお、上述の実施例においては、突起2が
せん断加工により形成され、ダイパッド部2の平板部と
突起2との間に切れ目が設けられているが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えばリードフレームの
表面に打ち抜かない程度に円形のパンチを押し付けて窪
みを形成することにより、その裏面側に突出する突起を
形成することも可能である。
【0029】また、弾性部材は前述のような突起に限定
されるものではなく、金型による押圧力を吸収可能で半
導体装置に適用したときにその特性に悪影響を及ぼさな
いものであれば使用可能である。
【0030】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
金型からの押圧力の範囲内で弾性変形する弾性部材を
成しているので、半導体素子の一部分への力の集中を弾
性部材に吸収させることができ、半導体素子の損傷を抑
制することができる。また、少なくとも3個以上の弾性
部材を同一の直線上にない3箇所に形成することによ
り、押圧力がどのような方向に印加されても効果的に吸
収することができる。更に、それらの位置を半導体素子
を接着する予定の領域よりも外側とすることにより、弾
性部材による押圧力の吸収の均衡を高め、損傷防止の効
果を向上させることができる。
【0031】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るリードフレームのダイパ
ッド部を示す図であって、(a)は平面図、(b)は
(a)中のA−A線による断面図である。
【図2】半導体装置を製造する方法を示す図であって、
(a)は平面図、(b)は(a)中のB−B線による断
面図である。
【図3】図2(a)及び(b)に示す工程の次工程を示
す図であって、(a)は平面図、(b)は(a)中のC
−C線による断面図である。
【図4】図3に示す工程の次工程を示す断面図である。
【図5】突起を示す断面図である。
【図6】(a)及び(b)は特開平3−259555号
公報に記載された従来の半導体装置を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1、11;ダイパッド部 2、12a、12b;突起 3;銀ペースト 4、14;半導体素子 5;封入上金型 6;封入下金型 7、15;封入樹脂材 13;接着剤 17;リード 18;ワイヤ

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ダイパッド部の裏面から突出し表面側か
    ら金型が押圧されたときに少なくともその押圧力が予め
    規定されている範囲内である場合に弾性変形する弾性部
    材をリードフレームに形成する工程と、前記ダイパッド
    部上に半導体素子を接着する工程と、下金型により前記
    弾性部材を前記ダイパッド部の表面側に押圧しながら前
    記リードフレームを上金型及び前記下金型により挟持し
    て前記ダイパッド部の表面側を樹脂封止する工程と、前
    記リードフレームを前記上金型及び下金型から取り出し
    て前記弾性部材への押圧を解放する工程と、前記ダイパ
    ッド部の裏面側を樹脂封止する工程と、を有することを
    特徴とする半導体装置の製造方法
  2. 【請求項2】 前記弾性部材を形成する工程は、少なく
    とも3個の前記弾性部材を形成する工程を有し、少なく
    とも1個の弾性部材は、他の2個の弾性部材を結ぶ直線
    から外れた位置に形成することを特徴とする請求項1に
    記載の半導体装置の製造方法
  3. 【請求項3】 前記弾性部材を形成する工程は、前記
    導体素子を接着する予定の領域よりも外側に前記各弾性
    部材を形成する工程を有することを特徴とする請求項2
    に記載の半導体装置の製造方法
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