JP3038644B2 - 中継基板、その製造方法、中継基板付き基板、基板と中継基板と取付基板とからなる構造体、その製造方法およびその構造体の分解方法 - Google Patents

中継基板、その製造方法、中継基板付き基板、基板と中継基板と取付基板とからなる構造体、その製造方法およびその構造体の分解方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＧＡ型集積回路
用基板のような面接続パッドを有する基板と、この基板
を取付けるためのマザーボードのような取付基板との間
に介在させる中継基板、およびその製造方法に関し、更
には、基板に中継基板を接続した中継基板付き基板、基
板と中継基板と取付基板とからなる構造体、およびその
製造方法に関し、さらに、前記した構造体の分解方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の集積回路（ＩＣ）技術の進展によ
り、ＩＣチップに設けられる入出力端子の数が増大して
いる。しかし、入出力端子をＩＣチップの周縁部に設け
る場合には、端子の数に従ってチップサイズの増大を招
き、チップやＩＣパッケージ基板のコストアップや歩留
りの低下を生じ好ましくない。
【０００３】そこで、チップの主表面（平面）にバンプ
を格子状または千鳥状に並べ、基板にもこれと対応する
位置にパッドを形成し、両者を一挙に接続するいわゆる
フリップチップ法を採用することが行われている。ま
た、ＩＣチップ等を搭載した基板をマザーボードなどの
プリント基板（ＰＣＢ）に接続する場合にも、ＩＣ搭載
基板と対応するマザーボード基板の表面にそれぞれ格子
状にパッドを設け、いずれか一方に略球状（ボール状）
の高温ハンダやＣｕからなる端子部材を予めハンダ付け
したバンプを設けておき、その後ハンダ付けにより端子
部材を介して両者を接続することが行われる。一般に
は、パッドのみ格子状に設けた基板はＬＧＡ（ランドグ
リッドアレイ）型基板と呼ばれ、パッド上にボール状の
端子部材（接続端子）を備えた基板はＢＧＡ（ボールグ
リッドアレイ）型基板と呼ばれる。
【０００４】ところで、このようにしてチップや基板、
マザーボード基板の平面上に線状や格子状（千鳥状も含
む）にパッドやあるいは端子を形成しＩＣチップと基
板、基板とマザーボード基板を接続する場合（以下、こ
のような接続を面接続ともいう）には、ＩＣチップと基
板、基板とマザーボード基板（以下、基板等ともいう）
の材質の違いにより熱膨張率が異なるので、平面方向に
熱膨張差が発生する。即ち、端子部材から見ると、端子
が接続している基板等が平面方向についてそれぞれ逆方
向に寸法変化しようとするので、端子にはせん断応力が
働くこととなる。
【０００５】このせん断応力は、面接続される端子のう
ち、最も離れた２つの端子間で最大となる。即ち、例え
ば端子が格子状にかつ最外周の端子が正方形をなすよう
に形成されている場合、それぞれこの正方形の対角上に
位置する２つの端子間で基板等の熱膨張差が最も大きく
影響し、最も大きいせん断応力が掛かることとなる。特
に、ＬＧＡ型やＢＧＡ型などの基板をマザーボード基板
と接続する場合には、端子間の間隔（ピッチ）が比較的
大きく、従って、最も離れた端子間の距離が大きくなり
やすい。特に、ＬＧＡ型やＢＧＡ型基板にセラミック製
基板を用いた場合、一般にガラスエポキシ製基板を用い
るマザーボード基板とは、熱膨張率が大きく異なるの
で、発生するせん断応力が大きくなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このようなせん断応力
が掛かると、基板に形成したパッドとハンダと接続部近
傍のハンダ部に繰り返し熱応力がかかることによってク
ラックが入り、ついにはハンダ部で破断するようにして
破壊することがあり、高い接続信頼性を得ることができ
なかった。
【０００７】ところで、特開平８−５５９３０号公報に
おいては、絶縁基体下面の凹部底面に形成されたパッド
に、所定の寸法関係を満たすボール状端子をロウ付けし
た半導体素子収納用パッケージが開示され、これによ
り、ボール状の端子を正確、且つ強固にロウ付固着でき
る旨が示されている。しかし、かかる発明においては、
絶縁基体（基板）に凹部を設け、更にこの凹部底面にパ
ッドを設けなければならず、形状が複雑であるので、製
造が面倒であり、コストアップとなる。
【０００８】さらに、ＩＣチップメーカは、ＩＣチップ
を載置するＬＧＡ型基板を購入し、例えば、ＩＣチップ
をこの基板の上面に載置しフリップチップ接続した後
に、この接続に使用したハンダ（例えば高融点ハンダ）
よりも融点の低い低温ハンダ（例えば共晶ハンダ）によ
って基板の下面のパッド（ランド）に端子部材を接続し
てＢＧＡ型基板とする必要がある。したがって、ＩＣチ
ップを基板上面にフリップチップ接続するための設備の
ほかに、基板下面のパッドにハンダペーストを塗布した
り、端子部材をパッド上に載置するなどしてパッドに端
子部材を接続するための設備、即ち、ＬＧＡ型基板をＢ
ＧＡ型基板とするための設備が必要となる。
【０００９】更に、ＩＣチップのユーザ（エンドユー
ザ）においては、プリント基板上のパッドに低温ハンダ
ペーストを塗布し、ＢＧＡ型基板をプリント基板に載置
して、端子部材をプリント基板側パッドと位置合わせす
る。その後、再リフローしてプリント基板側パッドと端
子部材をハンダ付けしてＢＧＡ型基板とプリント基板を
接続するという面倒な手順によって行われる。
【００１０】したがって、エンドユーザは、プリント基
板のパッドに低温ハンダペーストを塗布し、ＢＧＡ基板
を載置して、プリント基板全体をリフロー炉に投入して
ＢＧＡ基板をプリント基板に接続する設備が必要であっ
た。
【００１１】その上、このようにして、ＢＧＡ型基板と
プリント基板の接続を行った後に、載置しているＩＣチ
ップや基板、プリント基板の不具合が判明した場合や設
計変更をする場合などには、プリント基板からＢＧＡ型
基板を取り外すことが行われるが、この作業は更に面倒
であった。というのも、プリント基板から面接続されて
いるＢＧＡ基板を取り外すには、両者を接続する低温ハ
ンダを溶融する必要がある。しかし、プリント基板の耐
熱温度やＢＧＡ型基板、ＩＣチップの耐熱温度、ＢＧＡ
型（ＬＧＡ型）基板とＩＣチップパッドとのフリップチ
ップ接続の耐熱温度（融点）などを考慮すると、加熱に
おいて許容される温度の幅は限定されてくる。
【００１２】しかも、面接続しているハンダの一部（例
えば数ケ）が溶融しないうちに、ＢＧＡ型基板をプリン
ト基板から引き剥がそうとすると、ＢＧＡ型基板やプリ
ント基板のパッドが損傷する場合があり、結局、再使用
できないものとなってしまう場合が少なくなかった。ま
た、うまく引き剥がせたとしても、高温ハンダボールな
どの端子部材のすべてが、ＬＧＡ型基板に接続した状
態、即ち、ＢＧＡ型基板を形成したときと同様の状態で
引き剥がせるとは限らず、端子部材がプリント基板側に
残ったときには、更に、端子部材の除去や再接続を行う
必要があった。このように、ＬＧＡ型基板（あるいはＢ
ＧＡ型基板）とプリント基板との接続の取り外し、再接
続が面倒、即ちリワーク性が悪かった。
【００１３】さらに、マザーボード等のプリント基板に
は、いくつものＢＧＡ型基板を載置するものもある。こ
の場合には、プリント基板と複数のＢＧＡ基板とを同時
に接続（ハンダ付け）する必要があった。ある基板との
接続のためにリフロー炉にプリント基板を投入すると、
既に以前に接続されていた基板との間のハンダまでもが
溶融して、この基板の位置ズレ等を引き起こす可能性が
あるからである。ましてや、いくつものＢＧＡ型基板を
載置したプリント基板から、特定のＢＧＡ型基板のみを
取り外すには、上述の困難に加え、他の基板への影響を
も考慮する必要があり、より困難な作業となっていた。
【００１４】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであって、ＬＧＡ型基板のような面接続パッドを有
する基板とプリント基板のようなこれを取付けるために
面接続取付パッドを有する取付基板との接続を容易に
し、しかも、耐久性、信頼性の高い接続が可能とする中
継基板、およびその製造方法を提供し、更には、リワー
クの容易な中継基板、その製造方法を提供することを目
的とする。更に加えて、基板にこのような中継基板を接
続して、取付基板との接続や引き剥がし、再接続を容易
とした中継基板付き基板や、リワークの容易な基板、中
継基板および取付基板の構造体及びその製造方法を提供
することを目的とする。さらには、このような中継基板
付き基板や構造体の容易な分解方法をも提供することを
目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】しかして、前記目的を達
成するための請求項１に記載の発明は、面接続パッドを
有する基板と、該面接続パッドに対応する位置に面接続
取付パッドを有する取付基板との間に介在させ、該基板
と該取付基板とを接続するための中継基板であって、第
１面と第２面とを有する略板形状をなす中継基板本体
と、該中継基板本体の該第１面に形成された前記基板の
面接続パッドと接続するための複数の第１端子と、該中
継基板本体の該第２面に形成された前記取付基板の面接
続取付パッドと接続するための複数の第２端子と、該中
継基板本体に形成され、通電により、該第１端子の頂部
および第２端子の頂部の少なくともいずれかが溶融する
ように配置された電熱配線と、を有する中継基板であ
る。
【００１６】ここで、基板としては、ＩＣチップやその
他の電子部品などが実装される基板が挙げられる。ま
た、面接続パッドとは、電気的接続のための端子用パッ
ドであって、面接続によって接続を行うものを指す。な
お、面接続とは、前述したようにチップや基板、マザー
ボード基板の平面上に線状や格子状（千鳥状も含む）に
パッドやあるいは端子を形成し、ＩＣチップと基板、基
板とマザーボード基板を接続する場合を指し、線状の配
置の例としては、例えば四角形の枠状配置が挙げられ
る。また、面接続パッドを有する基板の例としては、パ
ッド（ランド）を格子状に配列したＬＧＡ型基板が挙げ
られる。
【００１７】一方、取付基板は、前記基板を取付けるた
めの基板であって、マザーボード等のプリント基板が挙
げられる。この取付基板には、面接続によって基板を取
付けるための面接続取付パッドが形成されている。な
お、本発明の中継基板は、基板と取付基板の間に介在し
て、それぞれと接続するものであるので、便宜的に基板
と接続する側を第１面側、取付基板と接続する側を第２
面側として両者を区別することとする。
【００１８】また、電熱配線の材質としては、発熱温度
や中継基板本体との熱膨張係数の違い、接続強度、形成
の容易さ等を考慮して適宜選択すれば良く、例えばアル
ミナセラミックを中継基板本体に用いた場合には、タン
グステン、モリブデン等を主成分とする電熱配線やニク
ロムを主成分とする電熱配線を形成することができる。
また、その配置は、第１端子および第２端子の配置に応
じて適当な配置とすることができ、たとえば一筆書き状
に一本の配線を引き回して構成してもよいが、梯子状あ
るいは格子状に構成してもよい。
【００１９】このようにすると、通電により第１面側ま
たは第２面側に配置された第１端子または第２端子の頂
部が溶融するので、例えば第１端子の頂部が溶融する場
合には、基板と中継基板を接続するときに、電熱配線に
通電して第１面側の第１端子の頂部を溶融すれば足り
る。つまり従来のように、基板を中継基板に載置してリ
フロー炉に投入する必要はなく、電熱配線に電流を流す
ための電源があれば足りる。したがって、基板全体を加
熱する必要がないので、基板に搭載しているＩＣチップ
に熱が掛からず、ＩＣが劣化する虞れがない。また同様
に、第２端子の頂部が溶融する場合には、同様に中継基
板と取付基板を接続するときに、電熱配線に通電すれば
足りる。したがって、取付基板全体を加熱する必要がな
いので、取付基板にいくつもの基板を接続する場合であ
っても、個別に取付け作業を行うことができる。
【００２０】さらに、上記とは逆に、既に接続した基板
と中継基板（中継基板付き基板）や基板と中継基板と取
付基板とからなる構造体（以下、単に構造体ともいう）
について、基板と中継基板の間を引き離す（分解する）
場合に、電熱配線に通電して両者を接続している第１端
子の頂部を溶融すれば、容易に両者を分離できる。同様
に、既に接続した中継基板と取付基板（中継基板付き取
付基板）や構造体について、中継基板と取付基板との間
を引き離す（分解する）場合に、電熱配線に通電して両
者を接続している第２端子の頂部を溶融すれば、容易に
両者を分離できる。したがって、いずれの場合にも、従
来のように基板や取付基板全体を加熱して接続部のハン
ダを溶融する必要はなく、分離時にパッドを損傷するこ
ともない。即ち、基板または取付基板と中継基板とを接
続するにあたって、リフロー炉を要さず、単に通電する
だけで接続ができる。また、基板または取付基板と中継
基板とを引き離す場合にも、単に通電するだけで足り
る。
【００２１】さらに前記目的を達成するための請求項２
に記載の発明は、前記電熱配線が、通電により前記複数
の第１端子の頂部が溶融するように配置された第１面側
電熱配線、および、通電により前記複数の第２端子の頂
部が溶融するように配置された第２面側電熱配線の少な
くともいずれかからなる請求項１に記載の中継基板であ
る。
【００２２】このようにすると、第１面側電熱配線を設
けた場合には、基板と中継基板とを接続する場合に、第
１面側電熱配線に通電して第１端子の頂部を溶融すれば
足りる。逆に、すでに接続してある基板と中継基板とを
分離する場合にも、第１面側電熱配線に通電して第１面
側の第１端子の頂部を溶融すれば足りる。同様に第２面
側電熱配線を設けた場合には、中継基板と取付基板とを
接続する場合に、第２面側電熱配線に通電して第２端子
の頂部を溶融すれば足りる。逆に、すでに接続してある
中継基板と取付基板とを分離する場合にも、第２面側電
熱配線に通電して第２端子の頂部を溶融すれば足りる。
さらに、たとえば第１面側電熱配線に通電して第１端子
の頂部を溶融させても、第２面側の第２端子、さらに
は、第２端子に取付基板が接続している場合には取付基
板への影響が少なくなる。逆に、第２面側電熱配線に通
電して第２端子の頂部を溶融させた場合でも、第１面側
の第１端子、さらには、第１端子に基板が接続している
場合には基板への影響が少なくなる。
【００２３】さらに前記目的を達成するための請求項３
に記載の発明は、前記電熱配線に通電したときに、前記
複数の第１端子または第２端子各々の温度が、その位置
にかかわらず略同温度となるように電熱配線が形成され
ている請求項１または２に記載の中継基板である。
【００２４】電熱配線に通電すると発熱するが、一般的
に外周近傍は熱が発散しやすい（外部に逃げやすい）の
で、内周側に位置する端子よりも外周近傍に位置する端
子の温度は低くなりやすい。温度が大きく異なると、溶
融している頂部としていない頂部が発生する場合があ
り、端子によっては不十分、不完全な接続となったり、
引き離し時に中継基板自身あるいは相手側のパッドを損
傷させることがある。しかし、端子の位置にかかわら
ず、温度が略同温度となるように電熱配線を形成すれ
ば、いずれの端子の頂部も溶融するので、均一な接続が
可能であり、また、容易かつ確実に引き離すことができ
る。このような電熱配線としては、電熱配線もつ抵抗値
（単位長さたりの抵抗値）を適宜変化させて、発熱量を
部分的に変化させる方法、電熱配線の配置密度に粗密を
もうけ、単位面積当たりの発熱量を部分的に変化させる
方法などがある。
【００２５】さらに前記目的を達成するための請求項４
に記載の発明は、前記電熱配線のうち、内周部に位置す
る内周部電熱配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも、外
周近傍に位置する外周部電熱配線の単位長さ当たりの抵
抗値の方が高くなるようにされている請求項３に記載の
中継基板である。
【００２６】このようにすると、内周部電熱配線より外
周部電熱配線の発熱が大きくなるので、第１または第２
端子の温度がその位置に拘わらず略同温度とすることが
できる。
【００２７】さらに前記目的を達成するための請求項５
に記載の発明は、前記電熱配線を、前記中継基板本体内
部に設けた請求項１〜４のいずれかに記載の中継基板で
ある。
【００２８】このようにすれば、第１あるいは第２端子
の頂部が溶融して拡がった場合にも、端子と電熱配線と
が接触してショートすることがない。即ち、接続信頼性
の高い中継基板とすることができる。
【００２９】さらに前記目的を達成するための請求項６
に記載の発明は、前記電熱配線の一端に接続する第１取
出し端子と前記電熱配線の他端に接続する第２取出し端
子とを、それぞれ前記中継基板本体の外周縁角部に形成
してなる請求項１〜５のいずれかに記載の中継基板であ
る。
【００３０】このようにすると、電熱配線への通電に当
たり、外部に電源との接続を容易にすることができる。
なお、電熱配線が複数ある場合、例えば第１面側電熱配
線と第２面側電熱配線とがある場合には、それぞれ近い
側の面に取り出し端子を設けるとよい。
【００３１】さらに前記目的を達成するための請求項７
に記載の発明は、前記中継基板本体が、セラミックから
なる請求項１〜６のいずれかに記載の中継基板である。
なお、セラミックの材質としては、アルミナセラミック
のほか、ムライト、窒化アルミ、ガラスセラミック等、
製造の容易さや熱伝導率、熱膨張係数の大きさを考慮し
て適宜選択すればよい。
【００３２】このようにすると、基板や取付基板との接
続時やこれらとの引き離し時に、中継基板本体に掛かる
熱に対して安定であり、反りや歪み等の変形が生じにく
い。また、電熱配線に通電したときに、電熱配線及びそ
の近傍は特に温度が高くなるが、中継基板本体の材質に
セラミックを用いれば、分解、焼損、炭化等の熱に伴う
故障を生じない。
【００３３】さらに前記目的を達成するための請求項８
に記載の発明は、前記中継基板本体は前記第１面と前記
第２面の間を貫通する複数の貫通孔を有し、前記複数の
第１端子、前記複数の第２端子および対応する該第１と
第２端子間を導通する内部配線が、該貫通孔内に貫挿さ
れ、前記該第１面および第２面の少なくともいずれかよ
り盛り上がった盛り上がり部分を備えた軟質金属体と、
該第１面および第２面側の該軟質金属体の表面上にそれ
ぞれ配設され、該軟質金属体よりも低い融点を持つ第１
ハンダ層および第２ハンダ層からなる請求項１〜７のい
ずれかに記載の中継基板である。
【００３４】ここで、軟質金属体とは、柔らかい金属か
らなるものであって、具体的には、鉛（Ｐｂ）やスズ
（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）などの軟質金属やこれらを主体
とする軟質合金などが挙げられ、Ｐｂ９５％−Ｓｎ５％
合金、Ｐｂ９０％−Ｓｎ１０％合金などの高温ハンダな
どが挙げられる。軟質金属体は、熱膨張係数の違いなど
によって、基板と取付基板、あるいは、基板と中継基板
本体や中継基板本体と取付基板間で発生する応力を主と
して塑性変形によって吸収する。たとえば、鉛等は再結
晶温度が常温にあるので、塑性変形をしても再結晶す
る。したがって、繰り返し応力がかかっても容易に破断
（破壊）に至らないので都合がよい。
【００３５】また、第１および第２ハンダ層は、上記軟
質金属体よりも融点が低いハンダであれば良いが、軟質
金属体との融点に適度の差を持つように選択するのが好
ましく、例えば軟質金属体として、Ｐｂ９０％−Ｓｎ１
０％の高温ハンダ（融点３０１℃）を用いた場合には、
Ｐｂ３６％−Ｓｎ６４％共晶ハンダ（融点１８３℃）な
どを用いればよい。
【００３６】このようにすると、中継基板本体に貫挿さ
れた軟質金属体が、熱膨張係数の違いなどによって生ず
る基板と取付基板あるいは基板と中継基板、中継基板と
取付基板の間に生じる応力を塑性変形によって吸収す
る。したがって、軟質金属体が破断することもなく、ま
た、基板の面接続パッドや取付基板の面接続取付パッド
が応力によって破壊することがなくなる。さらに、軟質
金属体は第１面側と第２面側の少なくともいずれかにお
いて、盛り上がり部分を備えるので、基板または取付基
板と中継基板の間に生ずる応力を、この盛り上がり部分
でより多く吸収できる。盛り上がり部分は中継基板の貫
通孔に拘束されずに変形できるので、より多くの変形が
可能だからである。
【００３７】その上、この軟質金属体の第１面側および
第２面側表面には、軟質金属体よりも低い融点を持つ第
１および第２ハンダ層が形成されている。したがって、
軟質金属体は溶融しないがハンダ層は溶融する温度に加
熱することで、このハンダ層によって中継基板を基板あ
るいは取付基板にハンダ付けすることができる。したが
って、例えば、ＬＧＡ型基板のパッド（ランド）に単に
この中継基板を取付けることで、従来のようにパッドに
ハンダペーストを塗布したり、ボール状端子を載置した
りする工程を経ずに、容易にＬＧＡ基板にＢＧＡ基板の
ような端子を持たせることができる。即ち、ペースト印
刷や端子載置のための設備が不要となる。また、中継基
板と取付基板との接続においても、中継基板のハンダ層
を溶融して取付基板の面接続取付パッドとを接続すれば
足り、従来にように、面接続取付パッド上にハンダペー
ストを塗布する必要がない。
【００３８】さらに前記目的を達成するための請求項９
に記載の発明は、対応する位置にそれぞれ貫通孔を穿孔
した第１および第２セラミックグリーンシートのうち、
第２セラミックグリーンシートの上面に電熱体ペースト
からなる電熱配線用パターンを形成し、その後、該電熱
配線用パターンが内部になるように該第２セラミックグ
リーンシートの上面に第１セラミックグリーンシートを
積層して積層体を形成する工程と、該貫通孔の内周面お
よび積層体表面の貫通孔周縁部に金属ペーストを配設す
る工程と、該積層体を焼成して、第１面および第２面を
有し貫通孔に金属層を有する中継基板本体を形成する工
程と、該中継基板本体の前記貫通孔に、前記第１面側ま
たは第２面側のいずれかから溶融した軟質金属を注入し
て、該第１面および第２面の少なくともいずれかより盛
り上がった盛り上がり部分を有するように前記軟質金属
体を形成する工程と、該第１面および第２面側の該軟質
金属体の表面上に、それぞれ該軟質金属体よりも低い融
点を持つ第１ハンダ層及び第２ハンダ層を形成する工程
と、を有する中継基板の製造方法である。
【００３９】ここで、第１および第２ハンダ層を形成す
る方法としては、軟質金属体よりも低い融点を持つハン
ダペーストを塗布し、このペーストを加熱する方法や、
溶融したハンダ層にディップする方法などを採用でき
る。
【００４０】このようにすると、セラミック製中継基板
本体を製作するときに同時に電熱配線も形成できるの
で、安価に電熱配線を形成できる。なお、第１及び第２
セラミックグリーンシートを積層した後に、貫通孔を穿
孔して積層体を完成してもよい。
【００４１】さらに前記目的を達成するための請求項１
０に記載の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の中
継基板のうち通電により前記複数の第２端子の頂部が溶
融するように前記電熱配線が配置された中継基板の前記
複数の第１端子と、前記基板の前記面接続パッドとをそ
れぞれ接続させてなる中継基板付き基板である。
【００４２】このようにすると、中継基板付き基板をさ
らにプリント基板等の取付基板に接続する場合に、電熱
配線に通電して第２面側の第２端子の頂部を溶融すれ
ば、中継基板付き基板と取付基板とを接続することがで
き、中継基板付き基板や取付基板を外部から加熱する必
要がない。また、取付基板の面接続取付パッド上にハン
ダペーストを塗布する必要もない。さらに、取付基板と
この中継基板付き基板とを分離（引き離す）する場合に
も、電熱配線に通電して両者を接続している第２端子の
頂部を溶融すれば容易に両者を分離することができる。
さらには、中継基板を基板と取付基板との間に介在させ
るので、熱膨張係数の違い等によって生ずる応力を吸収
して、耐久性の高い接続が可能となる。
【００４３】さらに前記目的を達成するための請求項１
１に記載の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の中
継基板のうち通電により前記複数の第１端子の頂部が溶
融するように前記電熱配線が配置された中継基板の該第
１端子と、前記基板の前記面接続パッドとをそれぞれ接
続させてなる中継基板付き基板である。
【００４４】このようにすると、この中継基板付き基板
から中継基板を分離（引き離す）する場合に、電熱配線
に通電して両者を接続している第１端子の頂部を溶融す
れば容易に両者を分離することができる。
【００４５】さらに前記目的を達成するための請求項１
２に記載の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の中
継基板を、前記面接続パッドを有する基板と、前記面接
続取付パッドを有する取付基板との間に介在させ、前記
第１面側で該面接続パッドと第１端子とをそれぞれ接続
させ、前記第２面側で該面接続取付パッドと第２端子と
をそれぞれ接続させてなる基板と中継基板と取付基板と
からなる構造体である。
【００４６】このようにすると、この構造体から基板あ
るいは取付基板を分離（引き離す）する場合、即ち、基
板と中継基板付き取付基板とに分離、あるいは中継基板
付き基板と取付基板とに分離する場合に、電熱配線に通
電して第１あるいは第２端子の頂部を溶融すれば容易に
分離することができる。
【００４７】さらに前記目的を達成するための請求項１
３に記載の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の中
継基板のうち通電により前記複数の第１端子の頂部およ
び前記複数の第２端子の頂部が溶融するように前記電熱
配線が配置された中継基板を、前記面接続パッドを有す
る基板と、前記面接続取付パッドを有する取付基板との
間に介在させ、前記電熱配線に通電して前記第１端子お
よび第２端子の頂部をそれぞれ溶融させることにより、
前記第１面側での該面接続パッドと該第１端子との接
続、および該第２面側での該面接続取付パッドと該第２
端子との接続をそれぞれおこなう基板と中継基板と取付
基板とからなる構造体の製造方法である。
【００４８】このようにすると、基板と取付基板との間
に中継基板を介在させて通電するだけで、一挙に三者を
接続して構造体を形成することができる。したがって、
例えばＬＧＡ型基板（基板）とプリント基板（取付基
板）との接続にあたって、中継基板を用意すれば、あと
は、中継基板の電熱配線に通電することで、基板と中継
基板、および中継基板と取付基板との接続ができる。す
なわち、基板にハンダボール等の端子部材を取付けるた
めの工程も、取付基板の面接続取付パッドにハンダペー
ストを塗布する工程も不要となり、安価にこの構造体を
製造することができる。また、例えばＩＣチップメーカ
が、ＬＧＡ型基板をＢＧＡ型基板にするための設備を持
つ必要はなく、またエンドユーザはプリント基板にハン
ダペーストを塗布する設備や工程を省略できる。さら
に、基板に搭載したＩＣチップに対して高熱が掛かる回
数を従来の２回から１回に減らして、基板と取付基板の
接続ができるので、ＩＣチップの熱による劣化が生じ難
い。また、この構造体から基板や取付基板を分離したい
場合には、電熱配線に通電して第１および第２端子の頂
部を溶融すれば、容易にこれらを分離できる。
【００４９】さらに前記目的を達成するための請求項１
４に記載の発明は、請求項１０に記載の中継基板付き基
板を前記取付基板上に載置し、前記電熱配線に通電する
ことにより前記第２面側の複数の第２端子の頂部を溶融
して、該取付基板の前記面接続取付パッドと該第２端子
とを接続する基板と中継基板と取付基板とからなる構造
体の製造方法である。
【００５０】このようにすることで、取付基板の面接続
取付パッドにハンダペーストを塗布する工程が不要とな
り、安価に基板と中継基板と取付基板とからなる構造体
を製造することができる。
【００５１】さらに前記目的を達成するための請求項１
５に記載の発明は、請求項１２に記載の基板と中継基板
と取付基板とからなる構造体の分解方法であって、前記
電熱配線に通電して前記複数の第１端子および第２端子
の少なくともいずれかの頂部を溶融させることにより、
基板と中継基板との間および中継基板と取付基板との間
の少なくともいずれか引き離す基板と中継基板と取付基
板からなる構造体の分解方法である。
【００５２】このようにすることで、基板または取付基
板と中継基板との接続を容易にしかも確実に引き離すこ
とができ、基板や取付基板の再使用も容易である。ま
た、取付基板に複数の基板が接続されている場合には、
各々別個に分解ができ、全体を加熱する必要がなくな
る。
【００５３】
【発明の実施の態様】本発明にかかる中継基板およびそ
の製造方法の実施態様について、図を参照しつつ説明す
る。まず、周知のセラミックグリーンシート形成技術に
よって、対応する位置に格子状に貫通孔Ｈ１（図示しな
い）およびＨ２がそれぞれ穿孔されたアルミナセラミッ
クグリーンシートＧ１およびＧ２を形成する。このうち
シートＧ２の上面に図１(a)に示すように電熱配線用タ
ングステンペーストにより所定パターンＲを形成する。
本例では、貫通孔Ｈ２の列（図中左右方向の列）の間を
縫うようにして形成された一筆書き状のヒーターパター
ンＲとした。次いで、図１(b)に示すように、パターン
Ｒが内部に位置するように、シートＧ２の上面にシート
Ｇ１を積層・圧着して、格子状に貫通孔Ｈが形成された
積層体Ｓを形成する。なお、積層体Ｓ表面の２つの隣り
合う角部には、パターンＲの端部に各々接続する端子Ｄ
ａ、Ｄｂが形成されている。
【００５４】さらに、図２(a)に示すように、貫通孔Ｈ
の内周面Ｈ３に、タングステンペーストＰを塗布する。
次いで、この積層体Ｓを還元雰囲気中で最高温度約１５
５０℃にて焼成し、図２(b)に示すような断面を有する
セラミック製中継基板本体１を形成する。この本体１に
は、内部に電熱配線Ｄが形成され、また、タングステン
を主成分とする下地金属層２が貫通孔Ｈの内周面に形成
されている。また図示しないが、表面の２つの角部には
電熱配線Ｄの端子ＤａおよびＤｂが形成されている。こ
こで、焼成後の中継基板本体１は、厚さ０．３ｍｍで、
一辺２５ｍｍの略正方形状を有し、貫通孔Ｈの内径はφ
０．８ｍｍで、１．２７ｍｍのピッチで格子状に、縦横
各１９ヶ、計３６１ヶの貫通孔が形成されている。ま
た、下地金属層２の厚さは約２０μｍである。電熱配線
Ｄは、本体１の内部で隣接する貫通孔Ｈの列の間に位置
するように引き回して形成されている。
【００５５】さらに、この下地金属層２上に、図２(c)
に示すように、厚さ約４μｍの無電解Ｎｉ−Ｂメッキ層
３を形成して、両者で後述するように軟質金属を溶着す
る金属層４を形成する。さらに、Ｎｉ−Ｂメッキ層３の
酸化防止のため、厚さ０．１μｍの無電解金メッキ層５
を形成する。
【００５６】次いで、図３(a)に示すように、図中上面
にそれぞれの貫通孔Ｈの位置に合わせて半径０．５ｍｍ
の半球状の凹部Ｊ１が形成してあるカーボン治具Ｊを用
意し、貫通孔Ｈが凹部Ｊ１と一致するようにして中継基
板本体１を載置する。カーボン治具は、後述する高融点
ハンダなどの溶融金属に濡れにくい性質を有するもので
ある。なお、カーボン治具Ｊの凹部Ｊ１の頂部（図中最
下部）には、カーボン治具Ｊを下方に貫通する小径（φ
０．２ｍｍ）のガス抜き孔Ｊ２がそれぞれ形成されてい
る。さらに、それぞれの貫通孔Ｈの図中上端には、９０
％Ｐｂ−１０％Ｓｎからなり、直径０．９ｍｍの高融点
ハンダボールＢを載置する。
【００５７】次いで、窒素雰囲気下で、最高温度３６０
℃、最高温度保持時間１分のリフロー炉にこれらを投入
し、高融点ハンダボールを溶融させる。すると、図３
(b)に示すように、溶融した高融点ハンダは、重力で図
中下方に下がり、貫通孔Ｈに注入され、金属層４（Ｎｉ
−Ｂメッキ層３）に溶着する。中継基板本体１の図中下
部では、治具Ｊの凹部Ｊ１があるため、高融点ハンダは
この凹部Ｊ１の形状に倣って半球状に盛り上がる。一
方、中継基板本体１の図中上方では、治具Ｊの凹部Ｊ１
と貫通孔Ｈとのなす体積よりも高融点ハンダの体積が多
い分だけ、上方に盛り上がる。この上方への盛り上がり
形状は、高融点ハンダの表面張力によって形成され、体
積により略球状、半球状などの形状になる。本例では、
略半球状となった。
【００５８】なお、金メッキ層５は、溶融した高融点ハ
ンダ中に拡散して消滅するので、高融点ハンダとＮｉ−
Ｂメッキ層３とは直接溶着し、高融点ハンダからなる軟
質金属体６は、中継基板本体１に固着される。また、治
具Ｊのガス抜き孔Ｊ２は、溶融した高融点ハンダが下方
に移動するときに、排除される空気を逃がす役割をする
が、治具Ｊがハンダに濡れず、ガス抜き孔Ｊ２が小径で
あるので、ハンダがガス抜き孔Ｊ２に浸入することはな
い。このようにすることで、貫通孔Ｈに高融点ハンダか
らなる軟質金属体６を形成した。
【００５９】図４に示すように、この軟質金属体６は、
中継基板本体１の貫通孔Ｈに貫挿され、本体１に金属層
４を介して固着されている。また、図中下面側では、治
具Ｊの凹部Ｊ１に倣って本体１からの高さ０．３ｍｍ、
半径０．４３ｍｍの略半球状の突出部（盛り上がり部）
６ｂを備え、図中上面側では、表面張力により同様に本
体１からの高さ０．３ｍｍ、半径０．４３ｍｍの略半球
状の突出部（盛り上がり部）６ａを備える。なお、軟質
金属体６の突出部６ｂの高さは勿論、突出部６ａの高さ
も一定の高さとなった。一定体積（一定の径）の高融点
ハンダボールＢを用いたからである。
【００６０】次いで、中継基板本体１の貫通孔Ｈの位置
に合わせて貫通孔Ｌ１を形成した板状カーボン治具（転
写板）Ｌを２枚用意し、この貫通孔Ｌ１にそれぞれ低融
点ハンダ（共晶ハンダ）ペースト７をスキージによって
刷り込み充填する。このようにすることで、貫通孔Ｌ１
に充填されたペースト７の量は容易に一定量となる。こ
の治具Ｌの貫通孔Ｌ１の位置をそれぞれ軟質金属体６
（貫通孔Ｈ）の位置に合わせ、カーボン台座治具Ｍ上
に、治具Ｌ、中継基板本体１、治具Ｌの順に重ねてセッ
トする（図５(a)参照）。
【００６１】その後、窒素雰囲気下で、最高温度２２０
℃、最高温度保持時間１分のリフロー炉にこれらを投入
し、低融点ハンダペースト７を溶融させる。なお、この
温度条件では軟質金属体６は溶融しない。溶融した低融
点ハンダは、図５(b)に示すように、軟質金属体６の上
下の盛り上がり部６ａおよび６ｂに濡れて拡がり、それ
ぞれハンダ層８ａ、８ｂとなる。このハンダ層８ａ、８
ｂは、ペースト７の量が一定に規制されているので、各
々一定量（体積）となり、高さも均一になる。なお、カ
ーボン治具Ｌの厚さを厚くする代わりに貫通孔Ｌ１の直
径を適当に小さくすると、治具Ｌがハンダに濡れないた
め、ハンダ層８ａ、８ｂが図中横方向に拡がってハンダ
層の高さが低くなることを抑制することができ、同じハ
ンダ量で形成されるハンダ層の高さを稼ぐことができ
る。
【００６２】このようにして、図６に示すような中継基
板１０を完成した。中継基板１０は、中継基板本体１の
内部に電熱配線Ｄを有し、本体１の図中下面（第２面）
１ｂ側では、軟質金属体６の突出部６ｂの表面に、本体
１表面からの高さ０．３５ｍｍの略半球状で上部にハン
ダ層８ｂを有する第２端子Ｔ２を備え、図中上面（第１
面）１ａ側では、同様に表面張力により突出部６ａの表
面に本体１からの高さ０．３５ｍｍの略半球状で上部に
ハンダ層８ａを有する第１端子Ｔ１を備える。
【００６３】次いで、完成した中継基板１０を以下のよ
うにして、基板および取付基板と接続した。まず、中継
基板１０を接続する基板として、図７(a)に示すよう
な、厚さ１．０ｍｍ、一辺２５ｍｍの略正方形状のＬＧ
Ａ型基板２０を用意した。このＬＧＡ型基板は、アルミ
ナセラミックからなり、図中上面２０ａにＩＣチップを
載置するためのキャビティ２１を備え、図中下面２０ｂ
に外部接続端子としてパッド２２を備えている。このパ
ッド２２は、直径０．８６ｍｍで、中継基板の第１端子
Ｔ１の位置に適合するように、ピッチ１．２７ｍｍの格
子状に縦横各１９ヶ配列され、下地のタングステン層上
に無電解Ｎｉ−Ｂメッキが施され、さらに酸化防止のた
めに薄く無電解金メッキが施されている。また、図示し
ない内部配線によって、キャビティ２１に形成されたＩ
Ｃチップとのボンディングパッド（図示しない）と接続
している。
【００６４】また、取付基板として、図７(b)に示すよ
うなプリント基板４０を用意した。プリント基板４０
は、厚さ１．６ｍｍ、一辺３０ｍｍの略正方形板状で、
ガラスエポキシ（ＪＩＳ：ＦＲ−４）からなり、主面４
０ａには、ＬＧＡ型基板２０のパッド２２と、したがっ
て、中継基板１０の第２端子Ｔ２とも対応する位置に、
パッド４２が形成されている。このパッド４２は、厚さ
２５μｍの銅からなり、直径０．７２ｍｍで、ピッチ
１．２７ｍｍで格子状に縦横各１９ヶ、計３６１ヶ形成
されている。
【００６５】この基板４０を、図８(a)に示すように、
パッド４２のある主面４０ａが上になるように置き、さ
らに上述の方法によって形成した中継基板１０を載置す
る。このとき、各パッド４２と軟質金属体６上の図中中
継基板本体下面（第２面）１ｂ側のハンダ層８ｂ、即ち
第２端子Ｔ２との位置を合わせるようにする。
【００６６】さらに、基板２０を、図８(b)に示すよう
に、パッド２２のある面２０ｂが下になるようにして中
継基板１０上に載置する。このとき、各パッド２２と軟
質金属体６上の図中中継基板本体上面（第１面）１ａ側
のハンダ層８ａ、即ち第１端子Ｔ１との位置を合わせる
ようにする。次いで、端子ＤａおよびＤｂに図示しない
電源を接続して電熱配線Ｄに通電し、電熱配線Ｄを発熱
させる。これにより第１端子Ｔ１および第２端子Ｔ２の
頂部の半田層８ａおよび８ｂを溶融させ、パッド２２お
よび４２とそれぞれ接続させる。なお、このとき、高融
点ハンダからなる軟質金属体６は溶融しないようにす
る。
【００６７】これにより、図９に示すように、中継基板
１０はＬＧＡ型基板２０に接続され、同時にプリント基
板４０にも接続され、基板、中継基板、取付基板の三者
が接続、結合した構造体１００が完成する。このように
することで、基板２０は、中継基板１０を介して、取付
基板４０に接続されたことになる。また、接続時にはフ
ラックスを用いても良いが、パッド２２および４２は金
メッキ層によって酸化防止されているので、フラックス
がなくても接続することができる。
【００６８】従来では、まず、ＬＧＡ型基板２０のパッ
ド２２に低融点ハンダペーストを塗布し、高融点ハンダ
等でできたボール状の端子部材を１つづつパッド２２に
載置した後、リフローして端子を形成し、ＢＧＡ型基板
としなければならなかった。さらに、従来では、プリン
ト基板４０のパッド４２に低融点ハンダペーストを塗布
し、その後、ＢＧＡ型基板を載置した後、リフローして
接続しなければならなかった。
【００６９】しかし、上述のようにすれば、中継基板１
０と基板２０をプリント基板４０に順に重ねて電熱配線
Ｄに通電し発熱させるだけで、プリント基板４０に基板
２０を容易に接続できるため、ＬＧＡ型基板をいったん
ＢＧＡ型基板とする工程が不要であり、さらに、プリン
ト基板にハンダペーストを塗布する工程が不要となる。
さらに、上述のように、フラックスを用いないで接続
（ハンダ付け）する場合には、ハンダペーストを用いた
場合に要する洗浄工程をも不要となる。その上、従来の
手法によれば基板２０に搭載されたＩＣチップはＢＧＡ
型基板を形成する際、およびプリント基板との接続時の
２回にわたり高温に曝されるが、上記方法によれば１回
で済ますことができ、ＩＣチップの劣化を防止できる。
【００７０】なお、上述の実施例では、プリント基板４
０と中継基板１０とＬＧＡ型基板２０をこの順に重ね、
電熱配線Ｄに通電して、基板２０と中継基板１０、およ
び中継基板１０とプリント基板４０とを一挙に接続（ハ
ンダ付け）して構造体１００を形成した例を示したが、
このように一挙に製作しない方法も採ることができる。
即ち、中継基板１０を、いったんＬＧＡ型基板２０に取
付けて中継基板付基板とした後に、さらにプリント基板
４０に接続しても良い。この場合、中継基板１０上にＬ
ＧＡ型基板２０を重ね、電熱配線Ｄに通電して両者を接
続し、更にその後プリント基板４０上に載置し、再び電
熱配線Ｄに通電して中継基板１０とプリント基板４０を
接続する。また、電熱配線Ｄに通電して中継基板１０と
プリント基板４０とを先に接続し、その後基板２０を中
継基板１０と接続しても良い。いずれにしても、本例の
中継基板１０を使用すれば、低融点ハンダペーストを塗
布したり、端子部材をパッド上に１つづつ載置する必要
はなく、１回ないしは２回の電熱配線Ｄへの通電によっ
て、基板１０と取付基板４０とを接続し、構造体１００
を構成することができる。したがって、ＩＣチップメー
カやユーザにおいて、面倒な工程や設備を省略すること
ができる。
【００７１】一方、構造体１００において、電熱配線Ｄ
に通電すれば第１端子および第２端子の頂部、即ち、ハ
ンダ層８ａ、８ｂが溶融するので、容易にプリント基板
４０から中継基板１０（および基板２０）を引き離すこ
とができる。さらに、基板２０から中継基板１０を引き
離すこともできる。なお、引き離しの順所はこの逆でも
よい。いずれにしても、従来のように基板やプリント基
板４０全体を加熱する必要がなく通電のみで分解が可能
である。
【００７２】さらに、かかるＬＧＡ型基板と中継基板と
プリント基板とからなる構造体において、中継基板は、
基板２０とプリント基板４０の間に発生する熱膨張差な
どによる熱応力を吸収することで、構造体の耐久性、信
頼性を高めることができる。以下に、その作用について
考察する。
【００７３】基板２０と中継基板本体１の間ではほとん
ど応力は生じない。これは、基板２０と中継基板本体１
とは同じ材質であり、熱膨張差が生じないからである。
一方、中継基板本体１とプリント基板４０の間では応力
が発生する。中継基板本体１とプリント基板４０とは材
質が異なるからである。この場合、最大応力は、軟質金
属体６のプリント基板４０側の突起部６ｂ部、およびプ
リント基板４０近傍のハンダ層８ｂに発生する。ところ
が、軟質金属体６（突起部６ｂ）は、容易に塑性変形す
るから、突起部６ｂにおいて変形して応力を緩和する。
したがって、中継基板本体１とプリント基板４０の間に
発生した応力が結果として小さくなり、破壊しにくい信
頼性のある接続とすることができる。特に、従来では、
破壊が生じ易かった基板２０側のパッド２２近傍のハン
ダ層８ａには、中継基板１０により応力がかからない。
一方、中継基板１０とプリント基板４０との間の応力は
軟質金属体６が変形して吸収するので、軟質金属体６の
突起部６ｂは破壊し難く、また、プリント基板４０のパ
ッド４２金属のハンダ層８ｂも破壊し難くなる。
【００７４】即ち、従来は、基板とプリント基板の間に
発生する応力が、比較的硬く脆い低温ハンダ部分で最も
高くなるような構造となっていた。しかし、本発明によ
れば、中継基板を用いることで、塑性変形が容易で破断
しにくい軟質金属体の部分に高い応力が掛かるようにし
て、これを塑性変形で吸収し、低温ハンダ部分に余り大
きな応力が掛からないようにすることができる。
【００７５】上記実施態様においては、中継基板本体１
の内部に１つの電熱配線Ｄを形成し、第１及び第２端子
の両者の頂部を溶融した例を示した。しかし、図１０に
示すように、本体１’の内部で上面１ａ側と下面１ｂ側
に第１面側電熱配線Ｄ１および第２面側電熱配線Ｄ２を
設けた中継基板１０’としてもよい。
【００７６】このようにすると、第１面側電熱配線Ｄ１
に通電するとこれに近い第１端子Ｔ１の頂部、即ちハン
ダ層８ａが溶融しやすくなる。一方、第２面側電熱配線
Ｄ２に通電するとこれに近い第２端子Ｔ２の頂部、即ち
ハンダ層８ｂが溶融しやすくなる。このような中継基板
本体１’は、３枚のセラミックグリーンシートを用いれ
ば、上述の実施態様とほぼ同様な手法により形成できる
ことは明らかであろう。このような中継基板１０’によ
れば、ＬＧＡ型基板２０およびプリント基板４０と接続
するにあたって、上記実施態様と同様に三者を重ねてお
いて、電熱配線Ｄ１およびＤ２に通電して一挙に接続す
る手法を採りうることは勿論である。さらに、ＬＧＡ型
基板２０と中継基板１０’とは第１面側電熱配線Ｄ１に
通電して両者を接続すればよく、中継基板１０’とプリ
ント基板４０とを接続するには第２面側電熱配線Ｄ２に
通電すればよい。
【００７７】また、ＬＧＡ型基板２０と中継基板１０’
およびプリント基板４０からなる構造体を分解する場合
にも、第１面側電熱配線Ｄ１に通電すれば、ＬＧＡ型基
板２０と中継基板１０’との間で容易に分解できる。逆
に、第２面側電熱配線Ｄ２に通電すれば、中継基板１
０’とプリント基板４０との間で分解しやすくなる。し
たがって、通電する電熱配線を替えることで、分離した
いものの間のハンダを選択的にあるいは優先的に溶融さ
せることができ、分離がより容易かつ効率的にできる。
また、当然のことながら、ＬＧＡ型基板２０と中継基板
１０’とが接続している中継基板付基板を分解するのに
も、第１面側電熱配線Ｄ１に通電すれば、より効率的に
分解できる。また、この逆に、中継基板１０’とプリン
ト基板４０との間の分離には第２面側電熱配線Ｄ２を用
いるのが効率的である。
【００７８】なお、上記では、電熱配線Ｄ等を、中継基
板本体１’の内部に形成した例を示したが、中継基板本
体の第１面あるいは第２面上に形成してもよい。この場
合、電熱配線Ｄを後焼成法（ポストファイア法）によっ
て焼き付けて形成してもよく、このようにすると、同時
焼成では使い難い材質も使用できるので、電熱配線Ｄの
材質を選択しやすい。
【００７９】なお、上記では、基板および中継基板本体
にアルミナセラミックを、プリント基板にガラスエポキ
シ樹脂を用いた場合を想定したが、中継基板の材質に基
板と取付基板の中間の熱膨張率を有するものを使用すれ
ば、熱膨張差に伴う応力を基板−中継基板間と中継基板
−取付基板間に振り分けることができるので、よりハン
ダ層の破壊が生じ難くなるよう設定できる。
【００８０】上記実施態様においては、中継基板本体１
の材質としてアルミナセラミックを使用した例を示した
が、これに限定されることはなく、窒化アルミニウム、
窒化珪素、炭化珪素、ムライトその他のセラミックを用
いることができる。特に、中継基板本体１には、比較的
高い応力が掛かるので、破壊強度や靱性の高いものを適
宜選択すると良い。一方、熱伝導性のよい材質（例えば
窒化アルミニウム、炭化珪素等）を用いると、電熱配線
からの発熱を、より効率的に端子に伝えることができ
る。また、端子の場所（内周側か外周側か等）による温
度のばらつきを抑えられて好ましい。なお、基板や取付
基板の材質によっては、ガラスエポキシや、ＢＴレジン
等の樹脂系材料を用いても良いが、電熱配線の発熱によ
る材料劣化を生じやすいので発熱時の温度などに対して
注意を要する。
【００８１】基板２０についても、上記したアルミナセ
ラミック製基板に限定されず、その他、窒化アルミ、窒
化珪素、ムライト、ガラスセラミック等のセラミック材
料を、適宜選択して用いることができる。さらに、ガラ
スエポキシやＢＴレジン等の樹脂系材料を用いた基板で
も良い。また、基板２０は、集積回路チップを搭載した
ものに特に限定はされない。即ち、集積回路チップのほ
か、トランジスタ等の能動素子、抵抗やコンデンサ等の
電子部品を搭載したものでも良い。また、基板２０に搭
載するＩＣと基板２０との接続は、ワイヤボンディング
によってもよいし、フリップチップ接続によってもよ
い。
【００８２】さらに、取付基板についても、上記実施例
においては、ガラスエポキシ製のプリント基板４０を用
いた例を示したが、特に限定されることはない。即ち、
その他ＢＴレジンやフェノール樹脂等を用いたものでも
良く、アルミナ等のセラミックを用いた基板であっても
良い。また、取付基板としては、マザーボードを例示し
たが、基板を単数取付けるものであっても、複数取付け
るものであってもよい。
【００８３】また、上記実施例においては、溶融した軟
質金属やハンダをはじく性質を持つ治具として、カーボ
ン（黒鉛）を用いた例を示したが、耐熱性があり、使用
する溶融金属に対して濡れ性のないものであれば良く、
カーボンの他、窒化ホウ素、窒化珪素、アルミナ等のセ
ラミックや、ステンレス等の金属であってもよい。特
に、上述した転写板は板状体であるため、ステンレス等
を用いると、割れ等が生じ難く都合がよい。一方、熱膨
張係数を小さくしたり、熱による反り等を防止するに
は、セラミックを用いるのが都合がよい。
【００８４】なお、上述の例では、貫通孔を形成した転
写板を使用したが、凹孔を形成したものでも良い。特に
凹孔の深さを調整すると、ハンダ層の頂部を平坦にする
ことができる。この場合には、各々のハンダ層の高さを
均一に揃えることができるので、基板や取付基板と中継
基板を重ねたときに、ハンダ層がパッドと接しあるいは
十分に近接するようにできるので、パッドとハンダ層と
を確実に接続できる。また、頂部が平坦であると、基板
等と重ねたときに位置ズレが起こり難く、より接続が容
易となる。なお、第１面側及び第２面側のハンダ層を形
成した後に平行平板で加圧したり、加圧しつつ加熱して
ハンダ層を溶融することでも頂部を平坦にすることがで
きる。
【００８５】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、基板や
取付基板との接続が容易にできる。即ち、例えば電熱配
線に通電して第１面側の第１端子の頂部を溶融すれば、
基板と中継基板を接続できる。電熱配線に通電して第２
端子の頂部を溶融すれば、中継基板と取付基板を接続で
きる。逆に、中継基板付き基板や構造体について、基板
と中継基板の間を引き離す場合に、電熱配線に通電して
両者を接続している第１端子の頂部を溶融すれば、容易
に両者を分離できる。同様に、中継基板付き取付基板や
構造体について、中継基板と取付基板との間を引き離す
場合に、電熱配線に通電して両者を接続している第２端
子の頂部を溶融すれば、容易に両者を分離できる。
【００８６】請求項２に記載の発明によれば、基板と中
継基板とを接続する場合に、第１面側電熱配線に通電し
て第１端子の頂部を溶融すれば足りる。逆に、すでに接
続してある基板と中継基板とを分離する場合にも、第１
面側電熱配線に通電して第１面側の第１端子の頂部を溶
融すれば足りる。また、第２面側の第２端子や取付基板
への影響が少なくなる。同様に第２面側電熱配線を設け
た場合には、中継基板と取付基板とを接続する場合に、
第２面側電熱配線に通電して第２端子の頂部を溶融すれ
ば足りる。逆に、すでに接続してある中継基板と取付基
板とを分離する場合にも、第２面側電熱配線に通電して
第２端子の頂部を溶融すれば足りる。また、第１面側の
第１端子や基板への影響が少なくなる。
【００８７】請求項３に記載の発明によれば、いずれの
端子の頂部も溶融するので、均一な接続が可能であり、
また、容易かつ確実に引き離すことができる。
【００８８】請求項４に記載の発明によれば、第１また
は第２端子の温度がその位置に拘わらず略同温度とする
ことができる。
【００８９】請求項５に記載の発明によれば、第１ある
いは第２端子の頂部が溶融して拡がった場合にも、端子
と電熱配線とが接触してショートすることがなく、接続
信頼性の高い中継基板とすることができる。
【００９０】請求項６に記載の発明によれば、電熱配線
への通電に当たり、外部に電源との接続を容易にするこ
とができる。
【００９１】請求項７に記載の発明によれば、中継基板
本体に掛かる熱に対して安定であり、反りや歪み等の変
形が生じにくい。また、電熱配線に通電したときに、分
解、焼損、炭化等の熱に伴う故障を生じない。
【００９２】請求項８に記載の発明によれば、軟質金属
体が応力を塑性変形するので破断することがない。ま
た、基板の面接続パッドや取付基板の面接続取付パッド
が応力によって破壊することがなくなる。また、第１お
よび第２ハンダ層によって中継基板を基板あるいは取付
基板にハンダ付けすることができ、パッドに単にこの中
継基板を取付けることで、容易にＬＧＡ基板にＢＧＡ基
板のような端子を持たせることができる。
【００９３】請求項９に記載の発明によれば、セラミッ
ク製中継基板本体を製作するときに同時に電熱配線も形
成できるので、安価に電熱配線を形成できる。
【００９４】請求項１０に記載の発明によれば、電熱配
線に通電して第２面側の第２端子の頂部を溶融すれば、
中継基板付き基板と取付基板とを接続することができ、
中継基板付き基板や取付基板を外部から加熱する必要が
ない。取付基板とこの中継基板付き基板とを分離（引き
離す）する場合にも、容易に両者を分離することができ
る。中継基板を基板と取付基板との間に介在させるの
で、熱膨張係数の違い等によって生ずる応力を吸収し
て、耐久性の高い接続が可能となる。
【００９５】請求項１１に記載の発明によれば、中継基
板付き基板から中継基板を分離（引き離す）する場合
に、電熱配線に通電して容易に両者を分離することがで
きる。
【００９６】請求項１２に記載の発明によれば、この構
造体から基板あるいは取付基板を分離（引き離す）する
場合に、電熱配線に通電して第１あるいは第２端子の頂
部を溶融すれば容易に分離することができる。
【００９７】請求項１３に記載の発明によれば、基板と
取付基板との間に中継基板を介在させて通電するだけ
で、一挙に３者を接続して構造体を形成することができ
る。また、この構造体から基板や取付基板を分離したい
場合には、電熱配線に通電して第１および第２端子の頂
部を溶融すれば、容易にこれらを分離できる。
【００９８】請求項１４に記載の発明によれば、取付基
板の面接続取付パッドにハンダペーストを塗布する工程
が不要となり、安価に基板と中継基板と取付基板とから
なる構造体を製造することができる。
【００９９】請求項１５に記載の発明によれば、基板ま
たは取付基板と中継基板との接続を容易にしかも確実に
引き離す（分解する）ことができ、基板や取付基板の再
使用も容易である。また、取付基板に複数の基板が接続
されている場合には、各々別個に分解ができ、全体を加
熱する必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】中継基板本体を形成する工程の内、積層体を形
成する工程を示す斜視図である。（ａ）はグリーンシー
トの状態、（ｂ）は積層体の状態を示す。
【図２】中継基板本体を形成する工程を示す部分拡大断
面図である。（ａ）は焼成前の状態、（ｂ）は焼成後の
状態、（ｃ）はメッキを施した状態を示す。
【図３】中継基板本体に軟質金属体を注入する工程を示
す部分拡大断面図である。（ａ）は注入前の状態、
（ｂ）は注入後の状態を示す。
【図４】中継基板本体に軟質金属体を貫挿した状態を示
す部分拡大断面図である。
【図５】軟質金属体に第１面側及び第２面側ハンダ層を
形成する工程を示す部分拡大断面図である。（ａ）は転
写板をセットした状態、（ｂ）はリフロー後の状態の中
継基板を示す部分拡大断面図である。
【図６】完成した中継基板の状態を示す部分拡大断面図
である。
【図７】中継基板と接続する基板（ａ）およびプリント
基板（ｂ）の断面図である。
【図８】中継基板を基板および取付基板と接続する工程
を示す断面図である。（ａ）は中継基板をプリント基板
に重ねた状態、（ｂ）は更に基板を重ねた状態を示す。
【図９】基板と中継基板と取付基板とを接続した状態を
示す断面図である。
【図１０】中継基板本体に２つの電熱配線を形成した中
継基板の例を示す部分拡大断面図である。
【符号の説明】
１、１’：中継基板本体 Ｈ、Ｈ１、Ｈ２：貫通孔 Ｒ：電熱配線用ペーストのパターン Ｄ、Ｄ１、Ｄ２：電熱配線 ２：下地金属層 ３：Ｎｉ−Ｂメッキ層 ４：金属層 ５：金メッキ層 ６：軟質金属体 ６ａ、６ｂ：突出部 ８ａ、８ｂ：ハンダ層 Ｔ１、Ｔ２：端子 １０、１０’：中継基板 ２０：ＬＧＡ型基板（基板） ２１：キャビティ ２２：パッド ４０：プリント基板（取付基板） ４２：パッド １００：基板と中継基板と取付基板からなる構造体
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−123093（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−81447（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−161866（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−12989（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−12990（ＪＰ，Ａ) 特公 平５−50876（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05K 1/18 H01L 23/32 H01L 21/60

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】面接続パッドを有する基板と、該面接続パ
    ッドに対応する位置に面接続取付パッドを有する取付基
    板との間に介在させ、該基板と該取付基板とを接続する
    ための中継基板であって、 第１面と第２面とを有する略板形状をなす中継基板本体
    と、 該中継基板本体の該第１面に形成された前記基板の面接
    続パッドと接続するための複数の第１端子と、 該中継基板本体の該第２面に形成された前記取付基板の
    面接続取付パッドと接続するための複数の第２端子と、 該中継基板本体に形成され、通電により、該第１端子の
    頂部および第２端子の頂部の少なくともいずれかが溶融
    するように配置された電熱配線と、を有する中継基板。
  2. 【請求項２】前記電熱配線が、 通電により前記複数の第１端子の頂部が溶融するように
    配置された第１面側電熱配線、 および、通電により前記複数の第２端子の頂部が溶融す
    るように配置された第２面側電熱配線の少なくともいず
    れかからなる請求項１に記載の中継基板。
  3. 【請求項３】前記電熱配線に通電したときに、前記複数
    の第１端子または第２端子各々の温度が、その位置にか
    かわらず略同温度となるように電熱配線が形成されてい
    る請求項１または２に記載の中継基板。
  4. 【請求項４】前記電熱配線のうち、内周部に位置する内
    周部電熱配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも、外周近
    傍に位置する外周部電熱配線の単位長さ当たりの抵抗値
    の方が高くなるようにされている請求項３に記載の中継
    基板。
  5. 【請求項５】前記電熱配線を、 前記中継基板本体内部に設けた請求項１〜４のいずれか
    に記載の中継基板。
  6. 【請求項６】前記電熱配線の一端に接続する第１取出し
    端子と前記電熱配線の他端に接続する第２取出し端子と
    を、それぞれ前記中継基板本体の外周縁角部に形成して
    なる請求項１〜５のいずれかに記載の中継基板。
  7. 【請求項７】前記中継基板本体が、セラミックからなる
    請求項１〜６のいずれかに記載の中継基板。
  8. 【請求項８】前記中継基板本体は前記第１面と前記第２
    面の間を貫通する複数の貫通孔を有し、 前記複数の第１端子、前記複数の第２端子および対応す
    る該第１と第２端子間を導通する内部配線が、 該貫通孔内に貫挿され、前記該第１面および第２面の少
    なくともいずれかより盛り上がった盛り上がり部分を備
    えた軟質金属体と、該第１面および第２面側の該軟質金
    属体の表面上にそれぞれ配設され、該軟質金属体よりも
    低い融点を持つ第１ハンダ層および第２ハンダ層からな
    る請求項１〜７のいずれかに記載の中継基板。
  9. 【請求項９】対応する位置にそれぞれ貫通孔を穿孔した
    第１および第２セラミックグリーンシートのうち、第２
    セラミックグリーンシートの上面に電熱体ペーストから
    なる電熱配線用パターンを形成し、その後、該電熱配線
    用パターンが内部になるように該第２セラミックグリー
    ンシートの上面に第１セラミックグリーンシートを積層
    して積層体を形成する工程と、 該貫通孔の内周面および積層体表面の貫通孔周縁部に金
    属ペーストを配設する工程と、 該積層体を焼成して、第１面および第２面を有し貫通孔
    に金属層を有する中継基板本体を形成する工程と、 該中継基板本体の前記貫通孔に、前記第１面側または第
    ２面側のいずれかから溶融した軟質金属を注入して、該
    第１面および第２面の少なくともいずれかより盛り上が
    った盛り上がり部分を有するように前記軟質金属体を形
    成する工程と、 該第１面および第２面側の該軟質金属体の表面上に、そ
    れぞれ該軟質金属体よりも低い融点を持つ第１ハンダ層
    及び第２ハンダ層を形成する工程と、を有する中継基板
    の製造方法。
  10. 【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の中継基
    板のうち通電により前記複数の第２端子の頂部が溶融す
    るように前記電熱配線が配置された中継基板の前記複数
    の第１端子と、前記基板の前記面接続パッドとをそれぞ
    れ接続させてなる中継基板付き基板。
  11. 【請求項１１】請求項１〜８のいずれかに記載の中継基
    板のうち通電により前記複数の第１端子の頂部が溶融す
    るように前記電熱配線が配置された中継基板の該第１端
    子と、前記基板の前記面接続パッドとをそれぞれ接続さ
    せてなる中継基板付き基板。
  12. 【請求項１２】請求項１〜８のいずれかに記載の中継基
    板を、前記面接続パッドを有する基板と、前記面接続取
    付パッドを有する取付基板との間に介在させ、 前記第１面側で該面接続パッドと第１端子とをそれぞれ
    接続させ、 前記第２面側で該面接続取付パッドと第２端子とをそれ
    ぞれ接続させてなる基板と中継基板と取付基板とからな
    る構造体。
  13. 【請求項１３】請求項１〜８のいずれかに記載の中継基
    板のうち通電により前記複数の第１端子の頂部および前
    記複数の第２端子の頂部が溶融するように前記電熱配線
    が配置された中継基板を、 前記面接続パッドを有する基板と、前記面接続取付パッ
    ドを有する取付基板との間に介在させ、 前記電熱配線に通電して前記第１端子および第２端子の
    頂部をそれぞれ溶融させることにより、 前記第１面側での該面接続パッドと該第１端子との接
    続、および該第２面側での該面接続取付パッドと該第２
    端子との接続をそれぞれおこなう基板と中継基板と取付
    基板とからなる構造体の製造方法。
  14. 【請求項１４】請求項１０に記載の中継基板付き基板を
    前記取付基板上に載置し、前記電熱配線に通電すること
    により前記第２面側の複数の第２端子の頂部を溶融し
    て、該取付基板の前記面接続取付パッドと該第２端子と
    を接続する基板と中継基板と取付基板とからなる構造体
    の製造方法。
  15. 【請求項１５】請求項１２に記載の基板と中継基板と取
    付基板とからなる構造体の分解方法であって、 前記電熱配線に通電して前記複数の第１端子および第２
    端子の少なくともいずれかの頂部を溶融させることによ
    り、 基板と中継基板との間および中継基板と取付基板との間
    の少なくともいずれか引き離す基板と中継基板と取付基
    板とからなる構造体の分解方法。
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