JP3034484B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JP3034484B2 JP3034484B2 JP9136465A JP13646597A JP3034484B2 JP 3034484 B2 JP3034484 B2 JP 3034484B2 JP 9136465 A JP9136465 A JP 9136465A JP 13646597 A JP13646597 A JP 13646597A JP 3034484 B2 JP3034484 B2 JP 3034484B2
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- transport unit
- cassette
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板を多段に収納したカセットから基板を取り出し、こ
の基板にフォトレジストをコーティングするスピンナー
部や、熱処理部などの処理ユニットへ搬送し、各処理ユ
ニットで基板に所要の処理を施す基板処理装置に関す
る。
基板を多段に収納したカセットから基板を取り出し、こ
の基板にフォトレジストをコーティングするスピンナー
部や、熱処理部などの処理ユニットへ搬送し、各処理ユ
ニットで基板に所要の処理を施す基板処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板処理装置は、大きく分けて、
基板を多段に収納した複数個のカセットを載置した状態
で昇降する昇降台と、この昇降台に沿って水平移動可能
で、昇降台上のカセットに対して進退移動可能な基板取
り出しアームと、前記アームでカセットから取り出され
た基板を位置合わせする位置合わせ機構と、基板に種々
の処理を施す複数個の処理ユニットと、前記位置合わせ
された基板を各処理ユニットへ搬送するプロセス搬送ユ
ニットを備えている。
基板を多段に収納した複数個のカセットを載置した状態
で昇降する昇降台と、この昇降台に沿って水平移動可能
で、昇降台上のカセットに対して進退移動可能な基板取
り出しアームと、前記アームでカセットから取り出され
た基板を位置合わせする位置合わせ機構と、基板に種々
の処理を施す複数個の処理ユニットと、前記位置合わせ
された基板を各処理ユニットへ搬送するプロセス搬送ユ
ニットを備えている。
【０００３】処理対象となる基板をカセットから取り出
す場合には、まず基板取り出しアームが所定のカセット
に対向する位置にまで水平移動する。続いて、そのカセ
ット内に収納されている処理対象の基板が基板取り出し
アームに対向する高さになるように、昇降台が昇降す
る。基板と基板取り出しアームと対向すると、基板取り
出しアームが前進移動して基板の下方に進入する。アー
ムが進入した後、昇降台が少し下降する。これにより基
板が基板取り出しアーム上に移載される。基板取り出し
アームは、この基板を吸着保持した後に後退して、カセ
ットから基板を取り出す。取り出された基板は位置合わ
せ機構に受け渡されて位置合わせされる。位置合わせさ
れた基板は、さらにプロセス搬送ユニットへ受け渡され
る。プロセス搬送ユニットは、この基板を各処理ユニッ
トに搬送する。そして、各処理ユニットにおいて基板に
所定の処理が施される。各処理ユニットで処理された基
板は、上記した基板の取り出し動作とは逆の順序でカセ
ット内に戻される。
す場合には、まず基板取り出しアームが所定のカセット
に対向する位置にまで水平移動する。続いて、そのカセ
ット内に収納されている処理対象の基板が基板取り出し
アームに対向する高さになるように、昇降台が昇降す
る。基板と基板取り出しアームと対向すると、基板取り
出しアームが前進移動して基板の下方に進入する。アー
ムが進入した後、昇降台が少し下降する。これにより基
板が基板取り出しアーム上に移載される。基板取り出し
アームは、この基板を吸着保持した後に後退して、カセ
ットから基板を取り出す。取り出された基板は位置合わ
せ機構に受け渡されて位置合わせされる。位置合わせさ
れた基板は、さらにプロセス搬送ユニットへ受け渡され
る。プロセス搬送ユニットは、この基板を各処理ユニッ
トに搬送する。そして、各処理ユニットにおいて基板に
所定の処理が施される。各処理ユニットで処理された基
板は、上記した基板の取り出し動作とは逆の順序でカセ
ット内に戻される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置によれば、カセットを昇降さ
せる際に、カセットが振動するので、カセット内に付着
していた塵埃が離脱して基板に付着したり、あるいは基
板収納溝の内壁と基板端部とが擦れあって塵埃が発生す
るといった不都合がある。そのため従来装置によれば、
カセットの振動に起因した塵埃の影響で、基板が汚染さ
れやすいという問題がある。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置によれば、カセットを昇降さ
せる際に、カセットが振動するので、カセット内に付着
していた塵埃が離脱して基板に付着したり、あるいは基
板収納溝の内壁と基板端部とが擦れあって塵埃が発生す
るといった不都合がある。そのため従来装置によれば、
カセットの振動に起因した塵埃の影響で、基板が汚染さ
れやすいという問題がある。
【０００５】また、従来装置では、位置合わせ機構の設
置位置、あるいは位置合わせ機構に載置された基板の位
置が、カセットの昇降台に沿って水平移動する基板取り
出しアームの移動域と重なっている。そのため、位置合
わせ機構に載置された基板をプロセス搬送ユニットへ受
け渡してからでないと、基板取り出しアームが次の基板
の取り出しのために昇降台に沿って移動することができ
ないという問題点がある。
置位置、あるいは位置合わせ機構に載置された基板の位
置が、カセットの昇降台に沿って水平移動する基板取り
出しアームの移動域と重なっている。そのため、位置合
わせ機構に載置された基板をプロセス搬送ユニットへ受
け渡してからでないと、基板取り出しアームが次の基板
の取り出しのために昇降台に沿って移動することができ
ないという問題点がある。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、カセットからの基板の取り出しの際
に、カセットの昇降による発塵をなくし、基板表面を清
浄な状態にして処理を行えるようにした基板処理装置を
提供することを目的とする。
たものであって、カセットからの基板の取り出しの際
に、カセットの昇降による発塵をなくし、基板表面を清
浄な状態にして処理を行えるようにした基板処理装置を
提供することを目的とする。
【０００７】また、本発明の他の目的は、カセットから
の基板の取り出しと、処理ユニットへの基板の搬送とを
同時に行うことができるとともに、カセットに多段に収
納された基板を位置合わせした上で、処理ユニットへ供
給する一連の基板搬送を円滑に行うことができる基板処
理装置を提供することにある。
の基板の取り出しと、処理ユニットへの基板の搬送とを
同時に行うことができるとともに、カセットに多段に収
納された基板を位置合わせした上で、処理ユニットへ供
給する一連の基板搬送を円滑に行うことができる基板処
理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を多段に収納する複
数個のカセットを載置する静止したカセット載置用の基
台と、前記カセット載置用の基台に沿って移動し、かつ
基板を上下多段に収納しているカセットの収納高さを昇
降して、カセットから基板を取り出すインデクサー搬送
ユニットと、複数個の処理ユニットへ基板を搬送するプ
ロセス搬送ユニットと、前記インデクサー搬送ユニット
と前記プロセス搬送ユニットとの間であって、前記イン
デクサー搬送ユニットの移動域の外に設定された基板待
機位置で基板を載置して、基板の位置合わせを行う基板
位置合わせ機構とを備え、前記インデクサー搬送ユニッ
トは、カセットから取り出した基板を、前記基板待機位
置にある基板位置合わせ機構に移載し、前記基板位置合
わせ機構は、移載された基板の位置合わせを行い、前記
プロセス搬送ユニットは、位置合わせされた基板を受け
取って、前記複数個の処理ユニットへ搬送することを特
徴とする基板処理装置。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を多段に収納する複
数個のカセットを載置する静止したカセット載置用の基
台と、前記カセット載置用の基台に沿って移動し、かつ
基板を上下多段に収納しているカセットの収納高さを昇
降して、カセットから基板を取り出すインデクサー搬送
ユニットと、複数個の処理ユニットへ基板を搬送するプ
ロセス搬送ユニットと、前記インデクサー搬送ユニット
と前記プロセス搬送ユニットとの間であって、前記イン
デクサー搬送ユニットの移動域の外に設定された基板待
機位置で基板を載置して、基板の位置合わせを行う基板
位置合わせ機構とを備え、前記インデクサー搬送ユニッ
トは、カセットから取り出した基板を、前記基板待機位
置にある基板位置合わせ機構に移載し、前記基板位置合
わせ機構は、移載された基板の位置合わせを行い、前記
プロセス搬送ユニットは、位置合わせされた基板を受け
取って、前記複数個の処理ユニットへ搬送することを特
徴とする基板処理装置。
【０００９】請求項２に記載の発明は、基板を多段に収
納する複数個のカセットを載置する静止したカセット載
置用の基台と、前記カセット載置用の基台に沿って移動
し、かつ基板を上下多段に収納しているカセットの収納
高さを昇降して、カセットから基板を取り出すインデク
サー搬送ユニットと、複数個の処理ユニットに沿って移
動し、これらの処理ユニットへ基板を搬送するプロセス
搬送ユニットと、前記インデクサー搬送ユニットと前記
プロセス搬送ユニットとの間であって、前記インデクサ
ー搬送ユニットの移動域の外で、かつ前記プロセス搬送
ユニットの処理ユニットに沿った移動域の外に設定され
た基板待機位置で基板を載置して、基板の位置合わせを
行う基板位置合わせ機構とを備え、前記インデクサー搬
送ユニットは、カセットから取り出した基板を、前記基
板待機位置にある基板位置合わせ機構に移載し、前記基
板位置合わせ機構は、移載された基板の位置合わせを行
い、前記プロセス搬送ユニットは、位置合わせされた基
板を受け取って、前記複数個の処理ユニットへ搬送する
ことを特徴とする基板処理装置。
納する複数個のカセットを載置する静止したカセット載
置用の基台と、前記カセット載置用の基台に沿って移動
し、かつ基板を上下多段に収納しているカセットの収納
高さを昇降して、カセットから基板を取り出すインデク
サー搬送ユニットと、複数個の処理ユニットに沿って移
動し、これらの処理ユニットへ基板を搬送するプロセス
搬送ユニットと、前記インデクサー搬送ユニットと前記
プロセス搬送ユニットとの間であって、前記インデクサ
ー搬送ユニットの移動域の外で、かつ前記プロセス搬送
ユニットの処理ユニットに沿った移動域の外に設定され
た基板待機位置で基板を載置して、基板の位置合わせを
行う基板位置合わせ機構とを備え、前記インデクサー搬
送ユニットは、カセットから取り出した基板を、前記基
板待機位置にある基板位置合わせ機構に移載し、前記基
板位置合わせ機構は、移載された基板の位置合わせを行
い、前記プロセス搬送ユニットは、位置合わせされた基
板を受け取って、前記複数個の処理ユニットへ搬送する
ことを特徴とする基板処理装置。
【００１０】
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。カセットから基板を取り出すとき、インデクサー搬
送ユニットが基台に沿って、所定のカセットに対向する
位置に移動する。続いて、インデクサー搬送ユニット
が、カセット内に収納されている所定の基板に対向する
位置に昇降移動して、カセットから基板を取り出す。基
板の取り出しに際してカセットが昇降しないので、カセ
ットの振動によって発塵することがない。インデクサー
搬送ユニットは基台に沿って移動し、カセットから取り
出した基板を基板位置合わせ機構に受け渡す。基板位置
合わせ機構はインデクサー搬送ユニットの移動域の外に
設けられているので、基板位置合わせ機構に基板が載置
されても、インデクサー搬送ユニットの移動の妨げにな
らない。したがって、基板を基板位置合わせ機構に受け
渡したインデクサー搬送ユニットは、直ぐに次の基板を
カセットから取り出すために、基台に沿って移動するこ
とができる。基板位置合わせ機構は、移載された基板の
位置合わせを行う。位置合わせされた基板をプロセス搬
送ユニットが受け取り、各処理ユニットへ搬送する。処
理された基板は上記したカセット取り出し動作とは逆の
順序でカセットに戻される。すなわち、プロセス搬送ユ
ニットが処理済の基板を基板位置合わせ機構に移載し、
基板位置合わせ機構がその基板の位置合わせを行い、位
置合わせされた基板をインデクサー搬送ユニットが受け
取ってカセットに収納する。
る。カセットから基板を取り出すとき、インデクサー搬
送ユニットが基台に沿って、所定のカセットに対向する
位置に移動する。続いて、インデクサー搬送ユニット
が、カセット内に収納されている所定の基板に対向する
位置に昇降移動して、カセットから基板を取り出す。基
板の取り出しに際してカセットが昇降しないので、カセ
ットの振動によって発塵することがない。インデクサー
搬送ユニットは基台に沿って移動し、カセットから取り
出した基板を基板位置合わせ機構に受け渡す。基板位置
合わせ機構はインデクサー搬送ユニットの移動域の外に
設けられているので、基板位置合わせ機構に基板が載置
されても、インデクサー搬送ユニットの移動の妨げにな
らない。したがって、基板を基板位置合わせ機構に受け
渡したインデクサー搬送ユニットは、直ぐに次の基板を
カセットから取り出すために、基台に沿って移動するこ
とができる。基板位置合わせ機構は、移載された基板の
位置合わせを行う。位置合わせされた基板をプロセス搬
送ユニットが受け取り、各処理ユニットへ搬送する。処
理された基板は上記したカセット取り出し動作とは逆の
順序でカセットに戻される。すなわち、プロセス搬送ユ
ニットが処理済の基板を基板位置合わせ機構に移載し、
基板位置合わせ機構がその基板の位置合わせを行い、位
置合わせされた基板をインデクサー搬送ユニットが受け
取ってカセットに収納する。
【００１１】請求項２に記載の発明の作用は次のとおり
である。カセットからの基板の取り出し動作や、カセッ
トへの基板の収納動作は請求項１に記載の発明と同様で
あるので、ここでの説明は省略する。請求項２の発明の
場合、基板位置合わせ機構はインデクサー搬送ユニット
の移動域の外であって、しかもプロセス搬送ユニットの
処理ユニットに沿った移動域の外に設けられているの
で、プロセス搬送ユニットが処理済の基板を基板位置合
わせ機構に載置しても、そのことによってプロセス搬送
ユニットの移動が妨げられることがない。したがって、
基板を基板位置合わせ機構に受け渡したプロセス搬送ユ
ニットは、直ぐに次の処理済の基板を処理ユニットから
受け取るために移動することができる。
である。カセットからの基板の取り出し動作や、カセッ
トへの基板の収納動作は請求項１に記載の発明と同様で
あるので、ここでの説明は省略する。請求項２の発明の
場合、基板位置合わせ機構はインデクサー搬送ユニット
の移動域の外であって、しかもプロセス搬送ユニットの
処理ユニットに沿った移動域の外に設けられているの
で、プロセス搬送ユニットが処理済の基板を基板位置合
わせ機構に載置しても、そのことによってプロセス搬送
ユニットの移動が妨げられることがない。したがって、
基板を基板位置合わせ機構に受け渡したプロセス搬送ユ
ニットは、直ぐに次の処理済の基板を処理ユニットから
受け取るために移動することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明に係わる基板処理装
置の一実施例の概略構成を示した平面図である。
実施例を説明する。図１は、本発明に係わる基板処理装
置の一実施例の概略構成を示した平面図である。
【００１３】基板Ｗを多段に収納した複数個のカセット
Ｃが、静止した基台１に一列状態に載置されている。基
台１に沿って水平移動可能なインデクサー搬送ユニット
２があり、このインデクサー搬送ユニット２には、昇降
可能で、カセットＣに対して進退移動可能な基板吸着ア
ーム３が備えられている。インデクサー搬送ユニット２
は、所定のカセットＣから基板Ｗを搬出すると、この基
板Ｗを基板位置合わせ機構４に移載する。基板位置合わ
せ機構４は、受け取った基板Ｗを、基板待機位置Ｐ、す
なわち、後述するプロセス搬送ユニット５が基板Ｗを受
け取りに来る位置に対して、位置合わせを行う。位置合
わせされた基板Ｗは、旋回可能なＵの字状の基板支持ア
ーム５ａを備えたプロセス搬送ユニット５に受渡され
る。この基板Ｗは、プロセス搬送ユニット５によって、
処理ユニット６1 〜６4 に順にセッティングされて、所
定の処理を施される。
Ｃが、静止した基台１に一列状態に載置されている。基
台１に沿って水平移動可能なインデクサー搬送ユニット
２があり、このインデクサー搬送ユニット２には、昇降
可能で、カセットＣに対して進退移動可能な基板吸着ア
ーム３が備えられている。インデクサー搬送ユニット２
は、所定のカセットＣから基板Ｗを搬出すると、この基
板Ｗを基板位置合わせ機構４に移載する。基板位置合わ
せ機構４は、受け取った基板Ｗを、基板待機位置Ｐ、す
なわち、後述するプロセス搬送ユニット５が基板Ｗを受
け取りに来る位置に対して、位置合わせを行う。位置合
わせされた基板Ｗは、旋回可能なＵの字状の基板支持ア
ーム５ａを備えたプロセス搬送ユニット５に受渡され
る。この基板Ｗは、プロセス搬送ユニット５によって、
処理ユニット６1 〜６4 に順にセッティングされて、所
定の処理を施される。
【００１４】処理済みの基板Ｗは、プロセス搬送ユニッ
ト５によって処理ユニット６1 〜６ 4 のいずれかから基
板位置合わせ機構４に移送されて、ここで位置合わせさ
れた後、インデクサー搬送ユニット２に受渡される。イ
ンデクサー搬送ユニット２は、その基板Ｗを元のカセッ
トＣの元の収納溝内に収納する。
ト５によって処理ユニット６1 〜６ 4 のいずれかから基
板位置合わせ機構４に移送されて、ここで位置合わせさ
れた後、インデクサー搬送ユニット２に受渡される。イ
ンデクサー搬送ユニット２は、その基板Ｗを元のカセッ
トＣの元の収納溝内に収納する。
【００１５】なお、インデクサー搬送ユニット２とプロ
セス搬送ユニット５との間で基板Ｗを受け渡す際に、基
板位置合わせ機構４で位置合わせするのは、以下の理由
からである。カセットＣ内にて基板Ｗが必ずしも整列し
て収納されるとは限らないから、インデクサー搬送ユニ
ット２の基板吸着アーム３がカセットＣから基板Ｗを取
り出した状態において、基板Ｗとアーム３との相対位置
は特定されていない。このため、プロセス搬送ユニット
５が基板Ｗを受け取りに来る基板待機位置Ｐに対して、
基板Ｗを位置合わせしてからプロセス搬送ユニット５へ
基板Ｗを移載しないことには、プロセス搬送ユニット５
の基板支持アーム５ａに対する基板Ｗの位置が特定せ
ず、かかる基板支持アーム５ａから基板Ｗが落下した
り、処理ユニット６ 1 〜６4 へ正確に基板Ｗを搬送でき
なかったりして、種々不都合を生じるからである。
セス搬送ユニット５との間で基板Ｗを受け渡す際に、基
板位置合わせ機構４で位置合わせするのは、以下の理由
からである。カセットＣ内にて基板Ｗが必ずしも整列し
て収納されるとは限らないから、インデクサー搬送ユニ
ット２の基板吸着アーム３がカセットＣから基板Ｗを取
り出した状態において、基板Ｗとアーム３との相対位置
は特定されていない。このため、プロセス搬送ユニット
５が基板Ｗを受け取りに来る基板待機位置Ｐに対して、
基板Ｗを位置合わせしてからプロセス搬送ユニット５へ
基板Ｗを移載しないことには、プロセス搬送ユニット５
の基板支持アーム５ａに対する基板Ｗの位置が特定せ
ず、かかる基板支持アーム５ａから基板Ｗが落下した
り、処理ユニット６ 1 〜６4 へ正確に基板Ｗを搬送でき
なかったりして、種々不都合を生じるからである。
【００１６】また、プロセス搬送ユニット５からインデ
クサー搬送ユニット２へ基板Ｗを受渡しする際、プロセ
ス搬送ユニット５の基板支持アーム５ａと基板Ｗとの相
対位置が、特定していないことがあり、基板Ｗを位置合
わせしてからでないと、インデクサー搬送ユニット２の
基板保持アーム３に対する基板Ｗの位置が特定せず、か
かる基板保持アーム３から基板Ｗが落下したり、カセッ
トＣへ基板Ｗを搬送収納できなかったりして、種々不都
合を生じるからである。
クサー搬送ユニット２へ基板Ｗを受渡しする際、プロセ
ス搬送ユニット５の基板支持アーム５ａと基板Ｗとの相
対位置が、特定していないことがあり、基板Ｗを位置合
わせしてからでないと、インデクサー搬送ユニット２の
基板保持アーム３に対する基板Ｗの位置が特定せず、か
かる基板保持アーム３から基板Ｗが落下したり、カセッ
トＣへ基板Ｗを搬送収納できなかったりして、種々不都
合を生じるからである。
【００１７】図１から明らかなように、基板待機位置Ｐ
は、基台１に沿って水平移動するインデクサー搬送ユニ
ット２の移動域の外にある。したがって、インデクサー
搬送ユニット２から、基板待機位置Ｐにある基板位置合
わせ機構４に基板Ｗが移載されたとしても、そのことに
よってインデクサー搬送ユニット２の移動が妨げられる
ことはない。すなわち、インデクサー搬送ユニット２
は、基板位置合わせ機構４に基板Ｗを移載すると直ぐ
に、次の基板Ｗを取り出すために基台１に沿って所定の
カセットＣにまで移動することができる。
は、基台１に沿って水平移動するインデクサー搬送ユニ
ット２の移動域の外にある。したがって、インデクサー
搬送ユニット２から、基板待機位置Ｐにある基板位置合
わせ機構４に基板Ｗが移載されたとしても、そのことに
よってインデクサー搬送ユニット２の移動が妨げられる
ことはない。すなわち、インデクサー搬送ユニット２
は、基板位置合わせ機構４に基板Ｗを移載すると直ぐ
に、次の基板Ｗを取り出すために基台１に沿って所定の
カセットＣにまで移動することができる。
【００１８】また、図１から明らかなように、基板待機
位置Ｐは、処理ユニット６1 〜６4に沿って移動するプ
ロセス搬送ユニット５の移動域の外にある。したがっ
て、プロセス搬送ユニット５から、基板待機位置Ｐにあ
る基板位置合わせ機構４に処理済の基板Ｗが移載された
としても、そのことによってプロセス搬送ユニット５の
移動が妨げられることはない。すなわち、プロセス搬送
ユニット５は、基板位置合わせ機構４に処理済の基板Ｗ
を移載すると直ぐに、次の処理済の基板Ｗを受け取るた
めに処理ユニット６1 〜６4 に沿って移動することがで
きる。
位置Ｐは、処理ユニット６1 〜６4に沿って移動するプ
ロセス搬送ユニット５の移動域の外にある。したがっ
て、プロセス搬送ユニット５から、基板待機位置Ｐにあ
る基板位置合わせ機構４に処理済の基板Ｗが移載された
としても、そのことによってプロセス搬送ユニット５の
移動が妨げられることはない。すなわち、プロセス搬送
ユニット５は、基板位置合わせ機構４に処理済の基板Ｗ
を移載すると直ぐに、次の処理済の基板Ｗを受け取るた
めに処理ユニット６1 〜６4 に沿って移動することがで
きる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。請求項１および請求項２の
いずれの発明においても、カセットからの基板の取り出
しや、カセットへの基板の収納の際に、カセット自体は
昇降しないので、基板の取り出し・収納の際にカセット
が振動して塵埃が発生することがない。したがって、こ
れらの発明によれば、基板を清浄な環境で搬送して処理
を行うことができる。
によれば次の効果を奏する。請求項１および請求項２の
いずれの発明においても、カセットからの基板の取り出
しや、カセットへの基板の収納の際に、カセット自体は
昇降しないので、基板の取り出し・収納の際にカセット
が振動して塵埃が発生することがない。したがって、こ
れらの発明によれば、基板を清浄な環境で搬送して処理
を行うことができる。
【００２０】また、請求項１および請求項２のいずれの
発明においても、基板位置合わせ機構がインデクサー搬
送ユニットの移動域の外に設けられるので、基板位置合
わせ機構に基板が載置されても、インデクサー搬送ユニ
ットの移動の妨げにならない。つまり、基板位置合わせ
機構による基板の位置合わせ前、あるいは位置合わせさ
れた基板をプロセス搬送ユニットが受け取る前であって
も、基板を基板位置合わせ機構に受け渡したインデクサ
ー搬送ユニットは、直ぐに次の基板をカセットから取り
出すために、基台に沿って移動することができる。した
がって、これらの発明によれば、インデクサー搬送ユニ
ットによるカセットからの基板の取り出し動作を円滑に
行うことができる。
発明においても、基板位置合わせ機構がインデクサー搬
送ユニットの移動域の外に設けられるので、基板位置合
わせ機構に基板が載置されても、インデクサー搬送ユニ
ットの移動の妨げにならない。つまり、基板位置合わせ
機構による基板の位置合わせ前、あるいは位置合わせさ
れた基板をプロセス搬送ユニットが受け取る前であって
も、基板を基板位置合わせ機構に受け渡したインデクサ
ー搬送ユニットは、直ぐに次の基板をカセットから取り
出すために、基台に沿って移動することができる。した
がって、これらの発明によれば、インデクサー搬送ユニ
ットによるカセットからの基板の取り出し動作を円滑に
行うことができる。
【００２１】さらに、請求項２に記載の発明によれば、
基板位置合わせ機構がインデクサー搬送ユニットの移動
域の外であって、しかもプロセス搬送ユニットの処理ユ
ニットに沿った移動域の外に設けられているので、プロ
セス搬送ユニットが処理済の基板を基板位置合わせ機構
に載置しても、そのことによってプロセス搬送ユニット
の移動が妨げられることがない。つまり、基板を基板位
置合わせ機構に受け渡したプロセス搬送ユニットは、基
板位置合わせ機構によって位置合わせされた基板をイン
デクサー搬送ユニットが受け取る前であっても、次の処
理済の基板を処理ユニットから受け取るために移動する
ことができる。したがって、請求項２の発明によれば、
プロセス搬送ユニットによる基板搬送も円滑に行うこと
ができる。
基板位置合わせ機構がインデクサー搬送ユニットの移動
域の外であって、しかもプロセス搬送ユニットの処理ユ
ニットに沿った移動域の外に設けられているので、プロ
セス搬送ユニットが処理済の基板を基板位置合わせ機構
に載置しても、そのことによってプロセス搬送ユニット
の移動が妨げられることがない。つまり、基板を基板位
置合わせ機構に受け渡したプロセス搬送ユニットは、基
板位置合わせ機構によって位置合わせされた基板をイン
デクサー搬送ユニットが受け取る前であっても、次の処
理済の基板を処理ユニットから受け取るために移動する
ことができる。したがって、請求項２の発明によれば、
プロセス搬送ユニットによる基板搬送も円滑に行うこと
ができる。
【図１】本発明に係わる基板処理装置の一実施例の概略
構成を示した平面図である。
構成を示した平面図である。
１…基台 ２…インデクサー搬送ユニット ３…基板吸着アーム ４…基板位置合わせ機構 ５…プロセス搬送ユニット ５ａ…基板支持アーム ６1 〜６4 …処理ユニット Ｗ…基板 Ｃ…カセット Ｐ…基板待機位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 健男 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西工場 内 (72)発明者 岡 義二 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西工場 内 (56)参考文献 特開 平１−238135（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−132840（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07 H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 基板を多段に収納する複数個のカセット
を載置する静止したカセット載置用の基台と、 前記カセット載置用の基台に沿って移動し、かつ基板を
上下多段に収納しているカセットの収納高さを昇降し
て、カセットから基板を取り出すインデクサー搬送ユニ
ットと、 複数個の処理ユニットへ基板を搬送するプロセス搬送ユ
ニットと、 前記インデクサー搬送ユニットと前記プロセス搬送ユニ
ットとの間であって、前記インデクサー搬送ユニットの
移動域の外に設定された基板待機位置で基板を載置し
て、基板の位置合わせを行う基板位置合わせ機構とを備
え、 前記インデクサー搬送ユニットは、カセットから取り出
した基板を、前記基板待機位置にある基板位置合わせ機
構に移載し、前記基板位置合わせ機構は、移載された基
板の位置合わせを行い、前記プロセス搬送ユニットは、
位置合わせされた基板を受け取って、前記複数個の処理
ユニットへ搬送することを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項２】 基板を多段に収納する複数個のカセット
を載置する静止したカセット載置用の基台と、 前記カセット載置用の基台に沿って移動し、かつ基板を
上下多段に収納しているカセットの収納高さを昇降し
て、カセットから基板を取り出すインデクサー搬送ユニ
ットと、 複数個の処理ユニットに沿って移動し、これらの処理ユ
ニットへ基板を搬送するプロセス搬送ユニットと、 前記インデクサー搬送ユニットと前記プロセス搬送ユニ
ットとの間であって、前記インデクサー搬送ユニットの
移動域の外で、かつ前記プロセス搬送ユニットの処理ユ
ニットに沿った移動域の外に設定された基板待機位置で
基板を載置して、基板の位置合わせを行う基板位置合わ
せ機構とを備え、 前記インデクサー搬送ユニットは、カセットから取り出
した基板を、前記基板待機位置にある基板位置合わせ機
構に移載し、前記基板位置合わせ機構は、移載された基
板の位置合わせを行い、前記プロセス搬送ユニットは、
位置合わせされた基板を受け取って、前記複数個の処理
ユニットへ搬送することを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9136465A JP3034484B2 (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9136465A JP3034484B2 (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 基板処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13749090A Division JP2862956B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064974A JPH1064974A (ja) | 1998-03-06 |
| JP3034484B2 true JP3034484B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=15175754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9136465A Expired - Lifetime JP3034484B2 (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034484B2 (ja) |
-
1997
- 1997-05-27 JP JP9136465A patent/JP3034484B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1064974A (ja) | 1998-03-06 |
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