JP3003327B2 - 光学活性アミン類の製法 - Google Patents

光学活性アミン類の製法

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JP3003327B2 JP3259129A JP25912991A JP3003327B2 JP 3003327 B2 JP3003327 B2 JP 3003327B2 JP 3259129 A JP3259129 A JP 3259129A JP 25912991 A JP25912991 A JP 25912991A JP 3003327 B2 JP3003327 B2 JP 3003327B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/30Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of nitrogen-to-oxygen or nitrogen-to-nitrogen bonds
    • C07C209/40Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of nitrogen-to-oxygen or nitrogen-to-nitrogen bonds by reduction of hydroxylamino or oxyimino groups

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性アミン類の製法
に関し、詳しくは一般式 (IV) ( 式中、R7,R8 はアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表し、同一であることはない。*は不斉炭素
を表す。)で示される光学活性アミン類の製法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術、発明が解決しようとする課題】一般式
(IV)で示される光学活性アミン類は医薬、農薬あるい
はその中間体などの光学分割剤等として重要な化合物で
あり、従来よりラセミ体を一旦製造し、次いでこれを光
学活性な酸等を用いて光学分割することにより製造され
ることも良く知られている (例えばOptical Resolution
Procedures for ChemicalCompounds Vol.1)。光学分割
により光学活性アミン類を製造するという従来法は、一
旦ラセミ体を製造し、次いでこれに光学活性な酸類を作
用させて塩を形成せしめ、生成したジアステレオマー塩
の溶解度差を利用して一方のジアステレオマー塩を晶析
させ、次いで該塩を分離し、しかる後にアルカリを作用
させて該塩を分解することによって一方の対掌体である
光学活性アミン類を分離回収するという方法であり、操
作が煩雑で効率が悪いという問題があった。
【0003】本発明者等は、かかる問題点を解決すべく
不斉合成による方法について鋭意検討を重ねた結果、光
学活性アミン誘導体と水素化ホウ素化合物から得られる
不斉還元剤を、オキシム誘導体に反応せしめて一挙に光
学活性アミン類を製造する方法を見出すとともに、オキ
シム誘導体のアンチ体とシン体を使い分けることにより
任意の絶対立体配置を有する光学活性アミン類を製造し
得ることを見出し、既に提案している(特開昭 63-9904
1 号公報、Tetrahedron Lett.,29 223(1988))。その
後、本発明者等は水素化ホウ素化合物として、より取り
扱いが容易でしかも安価な水素化ホウ素金属を用いる方
法について更に検討を続けた結果、これを特定の鉱酸と
組み合わせて使用すれば、目的物の収率の向上、水素化
ホウ素金属の使用量の削減等を計り得ることを見出すと
ともに、さらに種々の検討を加えて本発明を完成した。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式 (I) ( 式中、R1 はアルキル基、アリール基またはアラルキ
ル基を、R2 は水素原子、アルキル基またはアラルキル
基を、R3 はアリール基または式(II) (式中、R4,5 は、水素原子、アリール基、アラルキ
ル基またはアルキル基を表す。)で示される置換基を表
す。)で示される光学活性アミン誘導体と水素化ホウ素
金属と硫酸とから得られる不斉還元剤を、一般式(III) ( 式中、R6 はアルキル基、アラルキル基またはアルキ
ル置換シリル基を表す。R7,R8 はアルキル基、アリー
ル基またはアラルキル基を表し、同一であることはな
い。)で示されるオキシム誘導体のシン体またはアンチ
体の一方、もしくはそれらのいずれかに富んだ混合物に
反応させることを特徴とする一般式 (IV) (式中、R7,R8 , *は前記と同じ意味を表す。)で示
される光学活性アミン類の工業的に優れた製法を提供す
るものである。
【0005】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明は、光学活性アミン誘導体と水素化ホウ素金属と硫
酸という特定の鉱酸とから得られる不斉還元剤を用いる
点に特徴を有するものであるが、光学活性アミン誘導体
としては、例えば一般式(I)で示される光学活性アミ
ン等が挙げられる。一般式 (I) におけるR1 として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の炭素数1〜6のアルキル基、フェニル
基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フ
ェニルブチル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル等
の炭素数7〜12のアラルキル基などが挙げられる。R2
としては、例えば水素原子、R1 と同様の炭素数1〜6
のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基などが挙げ
られる。
【0006】またR3 が式(II)の場合、R4,R5 とし
ては、例えば水素原子、フェニル基、メチル,エチル,
プロピル,ブチル,ペンチル,ヘキシル等の炭素数1〜
6のアルキルが置換しているフェニル基、メトキシ,エ
トキシ,プロポキシ,ブトキシ,ペンチルオキシ,ヘキ
シルオキシ等の炭素数1〜6のアルコキシが置換してい
るフェニル基、前記アルキル及びアルコキシが置換して
いるフェニル基、R1 と同様の炭素数7〜12のアラルキ
ル基、炭素数1〜6のアルキル基などを挙げることがで
きる。
【0007】より具体的な化合物としては、光学活性な
ノルエフェドリン、エフェドリン、2-アミノ-1-(2-メチ
ルフェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2-エチルフ
ェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1- (2- メトキシフ
ェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2-エトキシフェ
ニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2,5-ジメチルフェ
ニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2,5-ジエチルフェ
ニル)-1-プロパノール、 2-アミノ-1-(2,5-ジメトキシ
フェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2,5-ジエトキ
シフェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1-(2-メトキシ
-5- メチルフェニル)-1-プロパノール、2-アミノ-1- フ
ェニル-1- ブタノール、2-アミノ-1- (2-メチルフェニ
ル)-1-ブタノール、2-アミノ-1- (2-エチルフェニル)-1
-ブタノール、2-アミノ-1- フェニル-1- ペンタノー
ル、
【0008】2-アミノ-1-(2,5-ジメトキシフェニル)-1-
ペンタノール、2-アミノ-1- フェニル-1- ヘキサノー
ル、2-アミノ-1- フェニル-1- ヘプタノール、2-アミノ
-1- フェニル-1- オクタノール、2-アミノ-1,2- ジフェ
ニルエタノール、2-アミノ-1- プロパノール、2-アミノ
-3- メチル-1- ブタノール、2-アミノ-1- ブタノール、
2-アミノ-4- メチル-1- ペンタノール、2-アミノ-3- メ
チル-1- ペンタノール、2-アミノ-2- フェニルエタノー
ル、2-アミノ-3- フェニル-1- プロパノール、2-アミノ
-1,1- ジフェニル-1- プロパノール、2-アミノ-1,1- ジ
フェニル-1- ブタノール、2-アミノ-1,1- ジフェニル-4
- メチル-1- ペンタノール、2-アミノ-1,1-ジフェニル-
3- メチル-1- ペンタノール、2-アミノ-1,1- ジフェニ
ル-3- メチル-1- ブタノール、2-アミノ-1,1,2- トリフ
ェニルエタノール、2-アミノ-1,1,3-トリフェニル-1-
プロパノール、2-アミノ-1,1- ジベンジル-1- プロパノ
ール、2-アミノ-1,1- ジ(2- メトキシフェニル)-4-メチ
ル-1- ペンタノール、2-アミノ-1,1,4- トリメチル-1-
ペンタノール、2-アミノ-1,1- ジメチル-4- メチル-1-
ペンタノール等が例示できる。
【0009】またR3 がアリール基の場合、アリール基
としては、例えばフェニル、2-ヒドロキシフエニル,2-
ヒドロキシ-3-メチルフェニル,2-ヒドロキシ-3- エチ
ルフェニル,2-ヒドロキシ-3- メトキシフェニル,2-ヒ
ドロキシ-3- エトキシフェニル,2-ヒドロキシ-5- メト
キシフェニル,2-ヒドロキシ-5- エトキシフェニル,2-
ヒドロキシ-4- メチルフェニル,2-ヒドロキシ-5- メチ
ルフェニル,2-ヒドロキシ-6- メチルフェニル,2-ヒド
ロキシ-6- メトキシフェニル等の炭素数1〜6のアルキ
ル,炭素数1〜6のアルコキシが置換していることもあ
るヒドロキシフェニル基、1-ナフチル、2-ナフチルなど
が挙げられる。
【0010】具体化合物としては、例えば光学活性な1-
(2- ヒドロキシフェニル) エチルアミン、1-(2- ヒドロ
キシ-3- メチルフェニル) エチルアミン、1-(2- ヒドロ
キシ-3- エチルフェニル) エチルアミン、1-(2- ヒドロ
キシ-3- メトキシフェニル)エチルアミン、1-(2- ヒド
ロキシ-3- エトキシフェニル) エチルアミン、1-(2-ヒ
ドロキシ-5- メトキシフェニル) エチルアミン、1-(2-
ヒドロキシ-5- エトキシフェニル) エチルアミン、1-(2
- ヒドロキシ-4- メチルフェニル) エチルアミン、1-(2
- ヒドロキシ-5- メチルフェニル) エチルアミン、1-(2
-ヒドロキシフェニル) プロピルアミン、1-(2- ヒドロ
キシ-3- エチルフェニル) プロピルアミン、1-(2- ヒド
ロキシ-3- メトキシフェニル) プロピルアミン、1-(2-
ヒドロキシ-5- メトキシフェニル) プロピルアミン、1-
(2-ヒドロキシ-6- メチルフェニル) エチルアミン、1-
(2- ヒドロキシ-3- エチルフェニル) エチルアミン、1-
(2- ヒドロキシ-6- メトキシフェニル) プロピルアミ
ン、1-フェニルエチルアミン、1-(1- ナフチル) エチル
アミン、1-(2- ナフチル) エチルアミン等が例示でき
る。またかかる光学活性アミン誘導体は、例えば対応す
るケトン化合物のオキシム誘導体を不斉還元することに
より製造することができる(特開平 02-238 号公報およ
び特開平 02-289 号公報) 。
【0011】本発明は、上記のような光学活性アミン誘
導体と水素化ホウ素金属と硫酸から得られる不斉還元剤
を用いるものであるが、水素化ホウ素金属としては例え
ば、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛等が挙げられ
る。通常は水素化ホウ素ナトリウムが用いられる。水素
化ホウ素金属の使用量は光学活性アミン誘導体に対し
て、ボラン換算で通常 0.8〜8モル倍程度、好ましくは
約1.5 〜5モル倍である。硫酸としては、高濃度のもの
が好ましい。通常濃硫酸が使用されるが、100 %硫酸等
を用いることにより反応をより効率的に進行せしめるこ
ともできる。硫酸の使用量は、水素化ホウ素金属に対し
て通常0.7 〜1.3 当量である。
【0012】不斉還元剤を調製するにあたっては、通常
溶媒の存在下に実施される。かかる溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジグライム、トリ
グライム等のエーテル類、ジメチルスルフィド、ジエチ
ルスルフィド、テトラヒドロチオフェン等のスルフィド
類、これ等の混合物、これ等とベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロルベンゼン、クロロホルム、1,2-ジクロロ
エタン等の炭化水素類などとの混合溶媒が挙げられる。
【0013】不斉還元剤は、溶媒、光学活性アミン誘導
体、水素化ホウ素金属等の混合物に硫酸を加えることに
より、通常調製される。 調製温度は、通常 100℃以
下であり、好ましくは0〜80℃である。
【0014】本発明は、かくして得られる不斉還元剤を
前記一般式 (III)で示されるオキシム誘導体のアンチ体
またはシン体もしくはこれ等のいずれかに富んだ混合物
に反応させるものであるが、該オキシム誘導体における
6 としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキ
シル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、シクロオ
クチル、ノニル、デシル等炭素数1〜10のアルキル基、
ベンジル、β- フェネチル等炭素数7〜12のアラルキ
ル、トリメチルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、ト
リ-n- プロピルシリル、トリ−n-ブチルシリル等の炭素
数3〜12のアルキルシリル基などが例示できる。
【0015】置換基R7,R8 としてはフェニル、o-,m-,
p-クロロフェニル、o-,m-,p-ブロモフェニル、2,3-、2,
4-、2,5-、2,6-、3,4-、3,5-ジクロロフェニルなどのハ
ロゲン置換フェニル、o-,m-,p-メチルフェニル、o-, m
-,p-エチルフェニル、o-,m-,p-ブチルフェニル、2,3-、
2,4-、2,5-、2,6-、3,4-、3,5-ジメチルフェニルなどの
炭素数が1〜6のアルキルが置換したフェニル、o-,m-,
p-メトキシフェニル、o-,m-,p-エトキシフェニル、o-,m
-,p-プロポキシフェニルなどの炭素数1〜6のアルコキ
シが置換したフェニル、o-,m-,p-ベンジルオキシフェニ
ル、2-ベンジルオキシ-3-メチルフェニル、 2-ベンジル
オキシ-4- メチルフェニル、2-ベンジルオキシ-5- メチ
ルフェニル、2-ベンジルオキシ-5-t-ブチルフェニル、2
-ベンジルオキシ-3- メトキシフェニル、2-ベンジルオ
キシ-4-メトキシフェニル、2-ベンジルオキシ-5- メト
キシフェニル、2-ベンジルオキシ-3,5- ジクロロフェニ
ルなどのベンジルオキシが置換したフェニル、o-,m-,p-
シアノフェニル、2-,3-,4-ピリジル、α-,β-ナフチル
等の全炭素数が5〜17のアリール基、
【0016】メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘ
プチル、オクチルなどのアルキル、クロロメチル、ジク
ロロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ト
リフルオロメチル、2-クロロエチル、3-クロロプロピ
ル、4-クロロブチルなどのハロゲン化アルキル等の全炭
素数が1〜8のアルキル基、ベンジル、o-,m-,p-トリル
メチル、o-,m-,p-エチルベンジル、o-,m-,p-メトキシベ
ンジル、o-,m-,p-エトキシベンジル、 2,3-、2,4-、2,5
-、2,6-、3,4-、3,5-ジメチルベンジル、3-スルファモ
イル-4−メトキシベンジル、 (2,3- 、2,4-、2,5-、2,6-
ジメトキシフェニル) エチル、2-フェニルエチル、2-(o
-,m-,p-トリル) エチル、(2,3-、2,4-、2,5-、2,6-、3,
4-、3,5-ジメチルフェニル)エチル、3-フェニルプロピ
ル、ナフチルメチル等の全炭素数が7〜12のアラルキル
基などが例示できる。
【0017】代表的なオキシム誘導体としては、例えば
アセトフェノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、
イソブチロフェノン、クロロメチル( フェニル) ケト
ン、ブロモメチル( フェニル)ケトン、2-アセチルピリ
ジン、o-メトキシアセトフェノン、o-エトキシアセトフ
ェノン、o-プロポキシアセトフェノン、o-ベンジルオキ
シアセトフェノン、α−アセトナフトン、β- アセトナ
フトン、(p- クロルフェニル) メチルケトン、(p- ブロ
ムフエニル) メチルケトン、(p- シアノフェニル) メチ
ルケトン、3-スルファモイル-4−メトキシベンジルメチ
ルケトン、フエニルベンジルケトン、フェニル(o-トリ
ルメチル)ケトン、フエニル(m-トリルメチル) ケトン、
フェニル(p- トリルメチル) ケトン、
【0018】フェニル(2- フェニルエチル) ケトン、2-
ブタノン、2-ペンタノン、2-ヘキサノン、2-ヘプタノ
ン、2-オクタノン、3-ヘプタノン、3-オクタノン、2-ノ
ナノン、2-デカノン、シクロヘキシルメチルケトン、シ
クロヘキシルエチルケトン、シクロヘキシルベンジルケ
トン、α- フェニルアセトン、(2- フェニルエチル) メ
チルケトン、(2- フェニルエチル)エチルケトン、(3-
フェニルプロピル) メチルケトン、デオキシアニソイ
ン、ピナコロンなどの O- メチル、O-オクチル、O-シク
ロヘキシル、O-ベンジル、O-トリメチルシリル等のオキ
シム誘導体が挙げられ、これらのシン体、アンチ体もし
くはシン体、アンチ体のいずれか一方に富んだ混合物が
用いられる。
【0019】オキシム誘導体は、対応するケトンより公
知の方法で製造することができる。またシン体もしくは
アンチ体の一方を用いる場合は分離した残りの異性体を
シン体/アンチ体の異性化反応を行うことにより、再び
必要な異性体に変換でき、原料を有効に利用し得る。
【0020】還元反応を行うにあたり、用いる溶媒とし
ては例えば、還元剤の調製に用いられると同様のエーテ
ル類、スルフィド類、これ等の混合物、これ等と炭化水
素系溶媒との混合物を例示することができる。その使用
量はオキシム誘導体に対して通常2〜50重量倍程度であ
る。また還元剤の使用量はオキシム誘導体に対し、光学
活性アミン誘導体換算で通常 0.2〜5モル倍、好ましく
は 0.3〜2.5 モル倍である。ボラン換算では通常1〜5
モル倍であり、2〜3モル倍でも反応は十分進行する。
【0021】還元反応は、ルイス酸の共存下で実施する
ことにより、より一層効率的に進行せしめることができ
る。 かかるルイス酸としては、例えば塩化亜鉛、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、四
塩化チタン、四塩化スズ、二塩化スズ等が挙げられる。
その使用量は、オキシム誘導体に対して、通常0.2〜
1.3 モル倍程度である。還元反応の温度は、通常150 ℃
以下である。好ましくは -20〜100 ℃であるが、必要に
応じさらに加温することができる。反応の進行はガスク
ロマトグラフィー等の分析手段により確認することがで
きる。
【0022】反応終了後、例えば反応液に塩酸等の鉱酸
を加えることによって還元剤を失活させた後、不斉助剤
がR3 として式(II)の置換基を有する光学活性アミン
である場合は、例えば、アルカリ性にしてトルエンのよ
うな溶媒を用いて抽出することにより、有機層から目的
とする光学活性アミン類および該不斉助剤を得、次いで
蒸留等の通常の分離手段を用いることにより目的物、該
不斉助剤をそれぞれ単離回収することができる。ここで
抽出溶媒としてヘキサン、トルエンのような溶媒を用い
ると目的物と該不斉助剤との溶解度差を利用することに
より、有機層から目的物を、水層から該不斉助剤をそれ
ぞれ単離回収できる。
【0023】また不斉助剤がR3 としてヒドロキシフェ
ニル基を有する光学活性アミンである場合は、例えば還
元剤を失活させた後、苛性ソーダ水溶液などでアルカリ
性にして有機溶媒で抽出することにより有機層から目的
物を単離回収でき、水層を中和することにより該配位子
を単離回収することができる。このようにして得られた
目的とする光学活性アミン類はさらに蒸留、カラムクロ
マトグラフィー等の精製手段により、更に一層精製する
こともできる。
【0024】
【発明の効果】かくして目的とする光学活性アミン類が
製造されるが、本発明の方法によれば、取り扱いが容易
で、安価な水素化ホウ素金属が使用でき、しかも目的物
の収率の向上、水素化ホウ素金属の使用量の削減等を計
ることができる等の利点を有するので工業的な光学活性
アミン類の製造方法として有利である。
【0025】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【0026】実施例1 窒素雰囲気下、室温で(-)-ノルエフェドリン2.6 ミリモル
(0.393 g) とテトラヒドロフラン(THF)1.1 gからなる
溶液に、水素化ホウ素ナトリウム6ミリモル(0.229g)を懸濁
させ、室温下これに97%硫酸3ミリモル(0.303g)とTHF 0.36
g からなる溶液を加えた。次いでアンチ-フェニル(p-ト
リルメチル)ケトン(O-メチルオキシム)2ミリモル( 0.479g)
とトルエン2.8gからなる溶液を加えて、35℃で14時間攪
拌した後、10時間還流させた。
【0027】その後、室温まで冷却して10%塩酸 10 g
を加え、同温度で1時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮
した。 これに、カセイソーダ水溶液を加えて塩基性に
した後、ヘキサンで抽出し、分液したヘキサン層を濃縮
して1-フェニル-2-(p-トリル) エチルアミン0.41 gを得
た。ガスクロマトグラフィーにより分析したところ反応
率は 100%であり、生成物の組成はアミン体100 %であ
った。光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフ
ィーにより、アミン体のエナンチオマー比を求めたとこ
ろR体 7.7%、S体 92.3 %であった。
【0028】実施例2 実施例1 において、トルエンの代わりに1,2-ジクロロエ
タン 4g を用いる以外は、実施例1 に準拠して実施し
た。反応率 100%、アミン体 100%であり、エナンチオ
マー比はR体 7.4%、S体92.6 %であった。
【0029】実施例3 実施例1 において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに、
(-)-1-(2-ヒドロキシフェニル) エチルアミン2.6ミリモル
(0.357g) を用いる以外は実施例1に準拠して実施し
た。反応率 85.8%、アミン体 99.8 %、N-メトキシ体
(C=N二重結合のみが還元されたもの) 0.2%であり、ア
ミン体のエナンチオマー比はR体16.8%、S体 83.2 %
であった。
【0030】実施例4 窒素雰囲気、室温下で(-)-ノルエフェドリン2ミリモル(0.
302g) とTHF1.1g からなる溶液に、水素化ホウ素ナトリ
ウム 4.4ミリモル(0.1665g) を懸濁させた後、10℃下これに
100 %硫酸2.2ミリモル(0.216g) とTHF0.36gからなる溶液を
加えた。次いで同温度で1時間攪拌した後、50℃に加温
し、アンチ-フェニル(p-トリルメチル)ケトン(O- メチ
ルオキシム)2ミリモル(0.479g)とトルエン2.8gからなる溶液
を加えて、同温度で24時間攪拌し、さらに80℃で24時間
攪拌した。後処理は、実施例1に準じて実施した。反応
率 99.5 %、アミン体 98.6 %、N-メトキシ体 1.4%で
あり、アミン体のエナンチオマー比はR体 7.1%、S体
92.9 %であった。
【0031】実施例5 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代りに(-)-
1-(2,5- ジメトキシフェニル)-2-アミノ-1- プロパノー
ル2ミリモル(0.4225g) を用いる以外は実施例4に準拠して
実施した。反応率は97.1%、アミン体 63.6 %、N-メト
キシ体36.4%であり、アミン体のエナンチオマー比は、
R体 6.7%、S体 93.3 %であった。
【0032】実施例6 実施例4において、水素化ホウ素ナトリウム 4ミリモル(0.1
513g)、100 %硫酸 2ミリモル(0.1961g) を用いる以外は実
施例4に準拠して実施した。反応率は87.9%、生成物の
組成はアミン体 80.5 %、N-メトキシ体19.5%であり、
アミン体のエナンチオマー比は、R体 4.6%、S体95.4
%であった。
【0033】実施例7 実施例4において、水素化ホウ素ナトリウム 4ミリモル(0.1
513g)、100 %硫酸 2ミリモル(0.1961g) を用い、トルエン
の代わりにトルエン2.8gと三フッ化ホウ素エーテル錯体
2ミリモル(0.2839g) からなる混合物を用いる以外は実施例
4に準拠して実施した。反応率は97.6%、生成物の組成
はアミン体95.7%、N-メトキシ体 4.3%であり、アミン
体のエナンチオマー比は、R体11.7%、S体88.3%であ
った。
【0034】実施例8 実施例4において、水素化ホウ素ナトリウム 4ミリモル(0.1
513g)、100 %硫酸 2ミリモル(0.1961g) を用い、トルエン
の代わりにトルエン2.8gと塩化亜鉛 1ミリモル(0.1363g) か
らなる混合物を用いる以外は実施例4に準拠して実施し
た。反応率は92.8%、アミン体 100%であり、エナンチ
オマー比は、R体 7.5%、S体92.5%であった。
【0035】実施例9 実施例4において、100 %硫酸の代わりに95%硫酸 2ミリ
モル(0.227g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施し
た。反応率は87.9%、生成物の組成はアミン体 80.3
%、N-メトキシ体 19.7 %であり、アミン体のエナンチ
オマー比は、R体 6.1%、S体93.9%であった。
【0036】実施例10 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(+)-2-アミノ-1-(2,4-ジメチルフェニル)-1-プロパノー
ル 2ミリモル(0.359g)を用いる以外は実施例4に準拠して実
施した。反応率は89.6%、生成物の組成はアミン体79.5
%、N-メトキシ体20.5%であり、アミン体のエナンチオ
マー比は、R体 81.8 %、S体18.2%であった。
【0037】実施例11 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに(1
S,2R)-2-アミノ-1,2-ジフェニル-1- エタノール 2ミリモル
(0.427g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施した。
反応率は35.8%、生成物の組成はアミン体42.5%、N-メ
トキシ体57.5%であり、アミン体のエナンチオマー比
は、R体 19.1 %、S体80.9%であった。
【0038】実施例12 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(R)-(-)-2-フェニルグリシノール 2ミリモル(0.274g)を用い
る以外は実施例4に準拠して実施した。反応率は98.6
%、生成物の組成はアミン体95.5%、N-メトキシ体 4.5
%であり、アミン体のエナンチオマー比は、R体 92.5
%、S体 7.5%であった。
【0039】実施例13 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(R)-(-)-2-アミノ-3- メチル-1- ブタノール 2ミリモル(0.2
06g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施した。反応
率は99.7%、生成物の組成はアミン体97.9%、N-メトキ
シ体 2.1%であり、アミン体のエナンチオマー比は、R
体94%、S体6%であった。
【0040】実施例14 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(S)-2-アミノ-1,1- ジフェニル-1- プロパノール 2ミリモル
(0.455g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施した。
反応率は48.1%、生成物の組成はアミン体43.9%、N-メ
トキシ体56.1%であり、アミン体のエナンチオマー比
は、R体 26.4 %、S体73.6%であった。
【0041】実施例15 実施例4において、アンチ-フェニル(p-トリルメチル)
ケトン(O-メチルオキシム) の代わりにアンチ-アセトフ
ェノン(O-メチルオキシム)2ミリモル(0.298g)を用いる以外
は実施例4に準拠して実施した。反応率は91.7%、生成
物の組成はアミン体61.9%、N-メトキシ体38.1%であ
り、アミン体のエナンチオマー比は、R体5.3 %、S体
94.7%であった。
【0042】実施例16 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(S)-(-)-1-(1- ナフチル) エチルアミン 2ミリモル(0.343
g)、水素化ホウ素ナトリウム 4ミリモル(0.1513g) を用いる
以外は実施例4に準拠して実施した。反応率は100 %、
生成物の組成はアミン体100 %であり、アミン体のエナ
ンチオマー比は、R体 31 %、S体69%であった。
【0043】実施例17 実施例4において、アンチ-フェニル(p-トリルメチル)
ケトン(O- メチルオキシム) の代わりにアンチ- デオキ
シアニソインオキシム-O- メチルエーテル 2ミリモル(0.571
g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施した。 反応
率は92.8%、生成物の組成はアミン体98.7%、N-メトキ
シ体 1.3%であり、アミン体のエナンチオマー比は、R
体 11.1 %、S体88.9%であった。
【0044】実施例18 窒素雰囲気、室温下で(S)-(-)-2-アミノ-3- フェニル-1
- プロパノール 2ミリモル(0.302g)とテトラヒドロフラン1.
1gからなる溶液に、水素化ホウ素ナトリウム 4.4ミリモル
(0.1665g) を懸濁させた後、10℃に冷却し、これに97%
硫酸2.2ミリモル(0.222g) とテトラヒドロフラン0.36g から
なる溶液を加えた。次いで、同温度で1時間攪拌した
後、50℃に昇温し、アンチ-フェニル(p-トリルメチル)
ケトン(O-メチルオキシム) 2ミリモル(0.479g) とトルエン
からなる溶液を加えて同温度で8時間攪拌し、さらに80
℃で8時間攪拌を続けた。後処理は実施例1に準拠して
行った。反応率は92.9%、生成物の組成はアミン体85.8
%、N-メトキシ体14.2%であり、アミン体のエナンチオ
マー比は、R体 10.9 %、S体89.1%であった。
【0045】実施例19 実施例4において、(-)-ノルエフェドリンの代わりに
(R)-(-)-2-フェニルグリシノール 2ミリモル(0.274g)、アン
チ-フェニル(p-トリルメチル)ケトン(O- メチルオキシ
ム) の代わりにアンチ- アセトフェノン(O- メチルオキ
シム) 2ミリモル(0.298g) を用いる以外は実施例4に準拠し
て実施した。反応率は97%、生成物の組成はアミン体7
8.1%、N-メトキシ体21.9%であり、アミン体のエナン
チオマー比は、R体88.9%、S体11.1%であった。
【0046】比較例1 実施例4において、100 %硫酸の代わりに99%リン酸1.
46ミリモル(0.146g)を用いる以外は実施例4に準拠して実施
した。反応率31.1%、生成物の組成は、アミン体26%、
N-メトキシ体 74 %であり、アミン体のエナンチオマー
比はR体 9%、S体 91 %であった。
【0047】比較例2 実施例4において、100 %硫酸の代わりに三フッ化ホウ
素エーテル錯体 2.2ミリモル(0.3122g) を用いる以外は実施
例4に準拠して実施した。反応率64.7%、アミン体100
%であり、エナンチオマー比はR体 15.2 %、S体 84.
8 %であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西井 真二 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友 化学工業株式会社内 (72)発明者 鈴鴨 剛夫 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友 化学工業株式会社内 (72)発明者 坂根 寛子 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友 化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−99041(JP,A) 特開 平2−289(JP,A) 特開 平2−311446(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 209/52 C07B 53/00 C07C 211/03 C07C 211/27

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (I) ( 式中、R1 はアルキル基、アリール基、またはアラル
    キル基を、R2 は水素原子、アルキル基またはアラルキ
    ル基を、R3 はアリール基または式(II) (式中、R4,5 は、水素原子、アリール基、アラルキ
    ル基またはアルキル基を表す。)で示される置換基を表
    す。*は不斉炭素を表す。)で示される光学活性アミン
    誘導体と水素化ホウ素金属と硫酸とから得られる不斉還
    元剤を、一般式 (III) ( 式中、R6 はアルキル基、アラルキル基またはアルキ
    ル置換シリル基を表す。R7,R8 はアルキル基、アリー
    ル基またはアラルキル基を表し、同一であることはな
    い。)で示されるオキシム誘導体のシン体またはアンチ
    体の一方、もしくはそれらのいずれかに富んだ混合物に
    反応させることを特徴とする一般式 (IV) (式中、R7,R8 , *は前記と同じ意味を表す。)で示
    される光学活性アミン類の製法。
  2. 【請求項2】ルイス酸の共存下で還元を実施する請求項
    第1項の製法。
  3. 【請求項3】光学活性アミン誘導体(I)のR1 が炭素
    数1〜6のアルキル基、フェニル基または炭素数7〜12
    のアラルキル基である請求項第1乃至第2項の製法。
  4. 【請求項4】光学活性アミン誘導体(I)のR2 が水素
    原子、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数7〜12の
    アラルキル基である請求項第1乃至第2項の製法。
  5. 【請求項5】光学活性アミン誘導体(I)のR3 がフェ
    ニル基、炭素数1〜6のアルキルが置換していることも
    あるヒドロキシフェニル基、炭素数1〜6のアルコキシ
    が置換していることもあるヒドロキシフェニル基、また
    はナフチル基である請求項第1乃至第2項の製法。
  6. 【請求項6】光学活性アミン誘導体(I)のR3 が式
    (II)で示される置換基であり、該置換基のR4 、R5
    が水素原子、炭素数1〜6のアルキル, 炭素数1〜6の
    アルコキシが置換していることもあるフェニル基、炭素
    数7〜12のアラルキル基または炭素数1〜6のアルキル
    基である請求項第1乃至第2項の製法。
  7. 【請求項7】オキシム誘導体(III )のR6 が炭素数1
    〜10のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基または
    炭素数3〜12のアルキルシリル基である請求項第1乃至
    第2項の製法。
  8. 【請求項8】オキシム誘導体(III )のR7,8 が全炭
    素数5〜17のアリール基、全炭素数が1〜8のアルキル
    基または全炭素数が7〜12のアラルキル基である請求項
    第1乃至第2項の製法。
  9. 【請求項9】全炭素数5〜17のアリール基がフェニル
    基、ハロゲン置換フェニル基、炭素数1〜6のアルキル
    が置換したフェニル基、炭素数1〜6のアルコキシが置
    換したフェニル基、ベンジルオキシ基が置換したフェニ
    ル基、シアノフェニル基、ピリジル基またはナフチル基
    である請求項第8項の製法。
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