JP2950226B2 - 高さ測定装置 - Google Patents
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高さ測定装置、特
に、微小物体の高さを高精度に測定する高さ装置に関す
る。
に、微小物体の高さを高精度に測定する高さ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の高さ測定装置について図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【０００３】図５は従来の高さ測定装置の一例を示す斜
視図である。図５に示す高さ測定装置は、第一のレーザ
光源５０Ａと、第二のレーザ光源５０Ｂと、第一のレー
ザ光源５０Ａからワイヤ２０に対して一定角度φ（φ＜
９０°）で照射される第一のレーザ光５１Ａと、第一の
レーザ光５１Ａの光軸に対して２φの角度で光軸を持つ
第二のレーザ光源５０Ｂと、第二のレーザ光源５０Ｂか
ら照射される第二のレーザ光５１Ｂと、第一のレーザ光
５１Ａの点滅を行う第一のシャッタ５２Ａと、第二のレ
ーザ光５１Ｂの点滅を行う第二のシャッタ５２Ｂと、第
一のレーザ光５１Ａを集光する第一のレンズ５３Ａと、
第二のレーザ光５１Ｂを集光する第二のレンズ５３Ｂ
と、２つのレーザ光５１の間に設置され、ワイヤ２０か
ら反射してくる両方のレーザ光５１を受光する受光器５
４と、２つのレーザ光５１を交互に点灯させ、かつ受光
器５４からの信号がどちらのレーザ光５１の点灯時の信
号か選別する制御機構６０と、制御機構６０からの２つ
の信号より高さを計算する演算処理機構６１と、を含ん
で構成される。（例えば、特願平６−１２２５７５号参
照）図６（ａ）〜（ｃ）は従来例の動作を示す原理図で
ある。ワイヤ２０の高さを測定するには、まず、２つの
レーザ光５１を同時に点灯させて、レーザ光５１が基準
の高さとなるものの上で丁度一致するように全体の高さ
を調整する。そして、２つのレーザ光５１の光軸を含む
平面がワイヤ２０に対して垂直な方向に装置を設定す
る。その後、２つのレーザ光５１を交互に点滅させなが
ら装置を走査する。すると、制御機構６０から得られる
２つのレーザ光による信号７０のピーク間の距離からワ
イヤの高さを計算することができる。
視図である。図５に示す高さ測定装置は、第一のレーザ
光源５０Ａと、第二のレーザ光源５０Ｂと、第一のレー
ザ光源５０Ａからワイヤ２０に対して一定角度φ（φ＜
９０°）で照射される第一のレーザ光５１Ａと、第一の
レーザ光５１Ａの光軸に対して２φの角度で光軸を持つ
第二のレーザ光源５０Ｂと、第二のレーザ光源５０Ｂか
ら照射される第二のレーザ光５１Ｂと、第一のレーザ光
５１Ａの点滅を行う第一のシャッタ５２Ａと、第二のレ
ーザ光５１Ｂの点滅を行う第二のシャッタ５２Ｂと、第
一のレーザ光５１Ａを集光する第一のレンズ５３Ａと、
第二のレーザ光５１Ｂを集光する第二のレンズ５３Ｂ
と、２つのレーザ光５１の間に設置され、ワイヤ２０か
ら反射してくる両方のレーザ光５１を受光する受光器５
４と、２つのレーザ光５１を交互に点灯させ、かつ受光
器５４からの信号がどちらのレーザ光５１の点灯時の信
号か選別する制御機構６０と、制御機構６０からの２つ
の信号より高さを計算する演算処理機構６１と、を含ん
で構成される。（例えば、特願平６−１２２５７５号参
照）図６（ａ）〜（ｃ）は従来例の動作を示す原理図で
ある。ワイヤ２０の高さを測定するには、まず、２つの
レーザ光５１を同時に点灯させて、レーザ光５１が基準
の高さとなるものの上で丁度一致するように全体の高さ
を調整する。そして、２つのレーザ光５１の光軸を含む
平面がワイヤ２０に対して垂直な方向に装置を設定す
る。その後、２つのレーザ光５１を交互に点滅させなが
ら装置を走査する。すると、制御機構６０から得られる
２つのレーザ光による信号７０のピーク間の距離からワ
イヤの高さを計算することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の高さ測
定装置は、測定範囲によって大きな受光面積の受光器が
必要なため、隣のワイヤやチップ面等からの乱反射光も
一緒に受光してしまい、実際に測定しているワイヤから
の正反射光が埋もれてしまい、高さの計算に必要なピー
ク位置が決定できないという欠点があった。
定装置は、測定範囲によって大きな受光面積の受光器が
必要なため、隣のワイヤやチップ面等からの乱反射光も
一緒に受光してしまい、実際に測定しているワイヤから
の正反射光が埋もれてしまい、高さの計算に必要なピー
ク位置が決定できないという欠点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の高さ測定装置
は、被測定物体に対して一定角度θ（θ＜９０°）で照
射されるレーザ光を発生させるレーザ光源と、前記レー
ザ光の照射光軸に対して２θの角度の受光光軸を持ち、
前記受光光軸と平行に前記測定物体から反射してくる前
記レーザ光を一点に集光するレンズと、前記レンズの集
光点に配置された受光器と、前記受光器の直前に配置さ
れたピンホール部と、前記被測定物体と前記レンズの間
に配置され、スリットを有する輪状の遮光帯と、前記レ
ンズの光軸に対して垂直な方向に前記遮光帯を回転させ
ると共に、前記スリットの位置を出力する回転機構と、
前記受光器からの出力と前記回転機構からの出力から前
記スリットの位置を特定し、前記被測定物体の高さを算
出する演算処理機構と、を含んで構成される。
は、被測定物体に対して一定角度θ（θ＜９０°）で照
射されるレーザ光を発生させるレーザ光源と、前記レー
ザ光の照射光軸に対して２θの角度の受光光軸を持ち、
前記受光光軸と平行に前記測定物体から反射してくる前
記レーザ光を一点に集光するレンズと、前記レンズの集
光点に配置された受光器と、前記受光器の直前に配置さ
れたピンホール部と、前記被測定物体と前記レンズの間
に配置され、スリットを有する輪状の遮光帯と、前記レ
ンズの光軸に対して垂直な方向に前記遮光帯を回転させ
ると共に、前記スリットの位置を出力する回転機構と、
前記受光器からの出力と前記回転機構からの出力から前
記スリットの位置を特定し、前記被測定物体の高さを算
出する演算処理機構と、を含んで構成される。
【０００６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。
図面を参照して詳細に説明する。
【０００７】図１は本発明の一実施形態を示す斜視図で
ある。図１に示す高さ測定装置は、被測定物であるワイ
ヤ２０に対して角度θで照射されるレーザ光２Ａを発生
するレーザ光源１と、レーザ光２Ａの光軸に対して２θ
の角度の受光光軸を持ち、受光光軸と平行にワイヤ２０
から反射してくるレーザ光２Ｂを一点に集光するレンズ
３と、レンズ３の集光点に配置された受光器４と、受光
器４の直前に配置されたピンホール５部と、ワイヤ２０
とレンズ３の間に配置された輪状の遮光帯１０と、遮光
帯１０にレンズ３の有効径より大きい一定間隔で複数箇
所に開けられたスリット１１と、レンズ３の光軸に対し
て垂直な方向に遮光帯１０を回転させると共に、スリッ
ト１１の位置を出力する回転機構１２と、レーザ光源
１、レンズ３、受光器４、ピンホール部５、遮光帯１
０、回転機構１２を搭載してワイヤ２０の上を走査する
走査機構１３と、受光器４からの出力と回転機構１２か
らの出力からスリット１１の位置を特定し、ワイヤ２０
の高さを算出する演算処理機構１４と、を含んで構成さ
れる。
ある。図１に示す高さ測定装置は、被測定物であるワイ
ヤ２０に対して角度θで照射されるレーザ光２Ａを発生
するレーザ光源１と、レーザ光２Ａの光軸に対して２θ
の角度の受光光軸を持ち、受光光軸と平行にワイヤ２０
から反射してくるレーザ光２Ｂを一点に集光するレンズ
３と、レンズ３の集光点に配置された受光器４と、受光
器４の直前に配置されたピンホール５部と、ワイヤ２０
とレンズ３の間に配置された輪状の遮光帯１０と、遮光
帯１０にレンズ３の有効径より大きい一定間隔で複数箇
所に開けられたスリット１１と、レンズ３の光軸に対し
て垂直な方向に遮光帯１０を回転させると共に、スリッ
ト１１の位置を出力する回転機構１２と、レーザ光源
１、レンズ３、受光器４、ピンホール部５、遮光帯１
０、回転機構１２を搭載してワイヤ２０の上を走査する
走査機構１３と、受光器４からの出力と回転機構１２か
らの出力からスリット１１の位置を特定し、ワイヤ２０
の高さを算出する演算処理機構１４と、を含んで構成さ
れる。
【０００８】図２，図３，図４は、それぞれ、本発明の
動作を示す側面図である。図２は通常の高さのワイヤ２
０Ａにレーザ光２Ａを照射した時の遮光帯１０のスリッ
ト１１の位置を示し、図３は通常より低いワイヤ２０Ｂ
の場合、図４は通常より高いワイヤ２０Ｃの場合のそれ
ぞれスリット１１の位置を示す。
動作を示す側面図である。図２は通常の高さのワイヤ２
０Ａにレーザ光２Ａを照射した時の遮光帯１０のスリッ
ト１１の位置を示し、図３は通常より低いワイヤ２０Ｂ
の場合、図４は通常より高いワイヤ２０Ｃの場合のそれ
ぞれスリット１１の位置を示す。
【０００９】本発明の高さ測定装置によってワイヤ２０
の高さを測定するには、まず、遮光帯１０を回転機構１
２で回転させ、レーザ光２Ａを照射する。そして、基準
の高さとなるものにレーザ光２Ａを当てて、反射してく
るレーザ光２Ｂがレンズ３のほぼ中央を通るように走査
機構１３全体の高さを調整する。その後、２つのレーザ
光２の光軸を含む平面がワイヤ２０に対して垂直な方向
に走査機構１３でワイヤ２０の上を移動させる。する
と、通常の高さのワイヤ２０Ａから反射してくるレーザ
光２Ｂは、スリット１１がレンズ３のほぼ中央に来たと
きに受光器４に到達する。また、通常より低いワイヤ２
０Ｂの場合は、反射してくるレーザ光２Ｂはスリット１
１がレンズ３の下方に来たときに受光器４に到達する。
一方、通常より高いワイヤ２０Ｃの場合は、スリット１
１が上方に来たときに到達する。それぞれの場合の受光
器４からの出力信号を受けた演算処理機構１４は、その
時点の回転機構１２の出力信号を読み取ってスリット１
１の位置をそれぞれ決定していく。これらスリット１１
の位置からそれぞれのワイヤ２０の高さを計算すること
ができる。
の高さを測定するには、まず、遮光帯１０を回転機構１
２で回転させ、レーザ光２Ａを照射する。そして、基準
の高さとなるものにレーザ光２Ａを当てて、反射してく
るレーザ光２Ｂがレンズ３のほぼ中央を通るように走査
機構１３全体の高さを調整する。その後、２つのレーザ
光２の光軸を含む平面がワイヤ２０に対して垂直な方向
に走査機構１３でワイヤ２０の上を移動させる。する
と、通常の高さのワイヤ２０Ａから反射してくるレーザ
光２Ｂは、スリット１１がレンズ３のほぼ中央に来たと
きに受光器４に到達する。また、通常より低いワイヤ２
０Ｂの場合は、反射してくるレーザ光２Ｂはスリット１
１がレンズ３の下方に来たときに受光器４に到達する。
一方、通常より高いワイヤ２０Ｃの場合は、スリット１
１が上方に来たときに到達する。それぞれの場合の受光
器４からの出力信号を受けた演算処理機構１４は、その
時点の回転機構１２の出力信号を読み取ってスリット１
１の位置をそれぞれ決定していく。これらスリット１１
の位置からそれぞれのワイヤ２０の高さを計算すること
ができる。
【００１０】この測定中に発生する他のワイヤ２０やチ
ップ２１から乱反射してくるレーザ光２Ｃは、遮光帯１
０によって遮られたり、たとえスリット１１の位置によ
ってレンズ３に届いても、レンズ３で集光されずにピン
ホール５によって遮られてしまい受光器４には到達しな
い。
ップ２１から乱反射してくるレーザ光２Ｃは、遮光帯１
０によって遮られたり、たとえスリット１１の位置によ
ってレンズ３に届いても、レンズ３で集光されずにピン
ホール５によって遮られてしまい受光器４には到達しな
い。
【００１１】
【発明の効果】本発明の高さ測定装置は、スリットやピ
ンホールを使用して反射光に対する受光面を小さくし
て、乱反射光を除いた正反射光のみを受光できるので、
回転しているスリットの位置を正確に決定でき、高さの
計算の精度が向上するという効果がある。
ンホールを使用して反射光に対する受光面を小さくし
て、乱反射光を除いた正反射光のみを受光できるので、
回転しているスリットの位置を正確に決定でき、高さの
計算の精度が向上するという効果がある。
【図１】本発明の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明の動作を示す側面図である。
【図３】本発明の動作を示す側面図である。
【図４】本発明の動作を示す側面図である。
【図５】従来の一例を示す斜視図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は従来の動作を示す原理図であ
る。
る。
１ レーザ光源 ２Ａ，２Ｂ，２Ｃ レーザ光 ３ レンズ ４ 受光器 ５ ピンホール部 １０ 遮光帯 １１ スリット １２ 回転機構 １３ 走査機構 １４ 演算処理機構 ２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ ワイヤ ２１ チップ ５０Ａ 第一のレーザ光源 ５０Ｂ 第二のレーザ光源 ５１Ａ 第一のレーザ光 ５１Ｂ 第二のレーザ光 ５２Ａ 第一のシャッタ ５２Ｂ 第二のシャッタ ５３Ａ 第一のレンズ ５３Ｂ 第二のレンズ ５４ 受光器 ６０ 制御機構 ６１ 演算処理機構 ７０Ａ 第一のレーザ光による信号 ７０Ｂ 第二のレーザ光による信号
Claims (1)
- 【請求項１】 機械，光学的な高さ測定装置であって、
受光系のまえにスリットのある遮光帯を回転させること
により、高さ情報を求める高さ測定装置において、 被測定物体に対して一定角度θ（θ＜９０°）で照射さ
れるレーザ光を発生させるレーザ光源と、 前記レーザ光の照射光軸に対して２θの角度の受光光軸
を持ち、前記受光光軸と平行に前記測定物体から反射し
てくる前記レーザ光を一点に集光するレンズと、 前記レンズの集光点に配置された受光器と、 前記受光器の直前に配置されたピンホール部と、 前記被測定物体と前記レンズの間に配置され、スリット
を有する輪状の遮光体と、 前記レンズの光軸に対して垂直な方向に前記遮光帯を回
転させると共に、前記スリットの位置を出力する回転機
構と、 前記受光器からの出力と前記回転機構からの出力から前
記スリットの位置を特定し、前記被測定物体の高さを算
出する演算処理機構と、 を含むことを特徴とする高さ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP910596A JP2950226B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 高さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP910596A JP2950226B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 高さ測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09196627A JPH09196627A (ja) | 1997-07-31 |
| JP2950226B2 true JP2950226B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=11711357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP910596A Expired - Lifetime JP2950226B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 高さ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2950226B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5995600B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2016-09-21 | 株式会社藤商事 | 遊戯盤の検査装置および検査方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS544162A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | Liquid level detecting system |
-
1996
- 1996-01-23 JP JP910596A patent/JP2950226B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09196627A (ja) | 1997-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990608 |