JPS59225320A - 走査ビ−ム径測定装置 - Google Patents
走査ビ−ム径測定装置Info
- Publication number
- JPS59225320A JPS59225320A JP10106783A JP10106783A JPS59225320A JP S59225320 A JPS59225320 A JP S59225320A JP 10106783 A JP10106783 A JP 10106783A JP 10106783 A JP10106783 A JP 10106783A JP S59225320 A JPS59225320 A JP S59225320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- diameter
- beam diameter
- plane
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 239000003550 marker Substances 0.000 claims 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 210000004196 psta Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明はレーザ記録、レーザ読取、レーザ加工などのレ
ーザ走査を応用した装置のレーザ走査光学系に係シ、特
にレーザ走査光学系評価としての平面の走査ビーム集光
特性を簡単に測定するだめの走査ビーム径測定装置に関
する。
ーザ走査を応用した装置のレーザ走査光学系に係シ、特
にレーザ走査光学系評価としての平面の走査ビーム集光
特性を簡単に測定するだめの走査ビーム径測定装置に関
する。
（ｂ） 従来技術と問題点
第１図はレーザ走査光学系の構成例を示す斜視図である
。図において、レーザ発据器１から出射されたレーザビ
ームは、光変調器２で信号に従ってＯＮ１０ Ｆ Ｆの
強度変調がなされ、ミラー３を介シエクスバンダ系レン
ズ４で適切なビーム径に変換された後、回転多面＠５で
等角速度偏向され、結像レンズ６系で像面７上に集光さ
れ、かつ（像面７上では）等速度走査される。
。図において、レーザ発据器１から出射されたレーザビ
ームは、光変調器２で信号に従ってＯＮ１０ Ｆ Ｆの
強度変調がなされ、ミラー３を介シエクスバンダ系レン
ズ４で適切なビーム径に変換された後、回転多面＠５で
等角速度偏向され、結像レンズ６系で像面７上に集光さ
れ、かつ（像面７上では）等速度走査される。
従来、走査光学系の体面７上での元ビーム分布（集光径
）全測定するには、回転多面鏡５を同足（静止）シ、像
面７上の各ポイントで光ビーム測定器８を用いて測定し
ていた。この場合、第１の点（ａ）で測定を終了すると
回転多面鏡５を少し回転させ、第２の測定点（ｂ）にビ
ームを移動しかつ元ビーム測定器８を移動し測定する。
）全測定するには、回転多面鏡５を同足（静止）シ、像
面７上の各ポイントで光ビーム測定器８を用いて測定し
ていた。この場合、第１の点（ａ）で測定を終了すると
回転多面鏡５を少し回転させ、第２の測定点（ｂ）にビ
ームを移動しかつ元ビーム測定器８を移動し測定する。
以下このように光走査器（回転多面鏡）５を固定し、走
査位置の定していた。
査位置の定していた。
このため金側定位ｆＩｔ（ａｌ 、（ｂ） の平面
性が保証されず、走査中心と端部など各集光ビーム測定
位置（ａ）（ｂ戸−が理想像面７と一致しているが否か
の判断が全ポイントを測定し終えるまでできない。
性が保証されず、走査中心と端部など各集光ビーム測定
位置（ａ）（ｂ戸−が理想像面７と一致しているが否か
の判断が全ポイントを測定し終えるまでできない。
また、光走査器５は固定（静止）しているため、動作時
とＵ集光ビーム状態が異なって因る可能性もあり（回転
多面鏡の高速回転時には面状態が遠心力によって変形し
ていることも考えられる）、実際に使用する動作時と同
じ榮件での正確な測定ができないという欠点があった。
とＵ集光ビーム状態が異なって因る可能性もあり（回転
多面鏡の高速回転時には面状態が遠心力によって変形し
ていることも考えられる）、実際に使用する動作時と同
じ榮件での正確な測定ができないという欠点があった。
（ｃ） 発明の目的
本発明の目的は、レーザ走査光学系の集光ビーム特性を
動作状態で走査全域にゎたシ同時に測定できるような測
定装置を提供することにある。
動作状態で走査全域にゎたシ同時に測定できるような測
定装置を提供することにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこの目的は、本発明によればレーザ光源よシ射出
されたレーザビームを光走査器によ。走査し、該走査ビ
ームを結像光学系にょ９平面上に集光した走査ビームの
径を測定する沖ｊ定装置において、前記平面上に、ビー
ム走査方向に直交する方向に長く、走イを方向には前記
集光ビーム径より小さな幅の複数のスリット形状、或い
は集光ビーム径よシ小さな径の複数の円形のマーカを設
けるとともに、走査ビームの該マーカの通過時の反射又
は透過光全検出する検出器を備えるか、或いはさらに前
記平面上に前記集光ビーム径に比べ十分率さなピッチで
、かつ十分大きな長さを持った固体光検知素子アレイを
走査方向に刻し、垂直な方向がアレイ方向となるように
複数個設けたことを特徴とする走査ビーム径測定装置全
提供することにより達成される。
されたレーザビームを光走査器によ。走査し、該走査ビ
ームを結像光学系にょ９平面上に集光した走査ビームの
径を測定する沖ｊ定装置において、前記平面上に、ビー
ム走査方向に直交する方向に長く、走イを方向には前記
集光ビーム径より小さな幅の複数のスリット形状、或い
は集光ビーム径よシ小さな径の複数の円形のマーカを設
けるとともに、走査ビームの該マーカの通過時の反射又
は透過光全検出する検出器を備えるか、或いはさらに前
記平面上に前記集光ビーム径に比べ十分率さなピッチで
、かつ十分大きな長さを持った固体光検知素子アレイを
走査方向に刻し、垂直な方向がアレイ方向となるように
複数個設けたことを特徴とする走査ビーム径測定装置全
提供することにより達成される。
（ｅ） 発明の実施例
以下本発明の実施例を図面により詳述する。
レーザ走査光学系の像面上での光分布（集光径）を測定
する測定法としては、第２図（イ）に示すようなナイン
エツジ法、第３図（イ）に示すようなピンホール法、ス
リット法、第４図（イ）に示すような固体元検知紮子プ
レイ法がある。
する測定法としては、第２図（イ）に示すようなナイン
エツジ法、第３図（イ）に示すようなピンホール法、ス
リット法、第４図（イ）に示すような固体元検知紮子プ
レイ法がある。
第２図（イ）に示すナイフェツジ法はナイフェツジ９が
ビーム１０のあるところを遮蔽していくと光量の分布は
第２図（ロ）に示すように積分波形となる。
ビーム１０のあるところを遮蔽していくと光量の分布は
第２図（ロ）に示すように積分波形となる。
−第３図（イ）に示すピンホール（スリット）法ハピン
ホール１１がビーム１ｏの通過音だけ光検知器に受ける
ので、第３図（ロ）に示すように光量に即した分布が得
られる。スリット１２でも同様の分布が得られる。
ホール１１がビーム１ｏの通過音だけ光検知器に受ける
ので、第３図（ロ）に示すように光量に即した分布が得
られる。スリット１２でも同様の分布が得られる。
第４図（イ）に示す固体光検知素子（ホトダイオ−ドア
レイＰＳｔＡ、或いはチャージ番カッゲルト・ロジック
ＣＣＤ）のアレイ素子１３をおき、アレイの各素子の出
力の包絡線が光分布となる。
レイＰＳｔＡ、或いはチャージ番カッゲルト・ロジック
ＣＣＤ）のアレイ素子１３をおき、アレイの各素子の出
力の包絡線が光分布となる。
上記測定法のうち、光分布形状が直観的に判るのけ第３
図（イ）のピンホール法（スリット法）と第４図（イ）
のアレイ法である。そこで本発明では、まず第３図（イ
）の測定法を走査方向のビーム径の測定に適用する。こ
れは従来移動させていたピンホール１１（またはスリッ
ト１２）を固定し、光ビーム１０を走査（移動りしても
同様の光出刃分布測定が可能であること全利用する。こ
の場合、ビンホール１１またはスリット１２は光ビーム
１（）が照射される走査幅内のいずれの住僧に設けても
良く、一平面上に複数個設けることによって、走査全域
の測定が可能となると同時に測定平面の確保も可能とな
る。
図（イ）のピンホール法（スリット法）と第４図（イ）
のアレイ法である。そこで本発明では、まず第３図（イ
）の測定法を走査方向のビーム径の測定に適用する。こ
れは従来移動させていたピンホール１１（またはスリッ
ト１２）を固定し、光ビーム１０を走査（移動りしても
同様の光出刃分布測定が可能であること全利用する。こ
の場合、ビンホール１１またはスリット１２は光ビーム
１（）が照射される走査幅内のいずれの住僧に設けても
良く、一平面上に複数個設けることによって、走査全域
の測定が可能となると同時に測定平面の確保も可能とな
る。
第５図は本発明の一平面１４上に、複数個の円形（ピン
ホール）１１または矩形（スリット）１２のマーカ（反
射板）と該マーカの反射光全検知する光検知器１５を設
けた走査方向ビーム径測定装置の斜視図を示す。
ホール）１１または矩形（スリット）１２のマーカ（反
射板）と該マーカの反射光全検知する光検知器１５を設
けた走査方向ビーム径測定装置の斜視図を示す。
図において、回転多面鏡５で走査された光ビーム１６は
結像レンズ６で平面１４（像面〕上に集光される。像面
での光ビーム１６移動速度が等速時には問題とならない
が、不等速時にはその補正を行う必要がある。（回転鏡
の場合は一般にＦ −θレンズで等速になるように補正
される。）加えて、スリット１２筐たはピンホール１１
が測定ビーム径１０に比べ十分小さいことが必要である
が、測定ビーム径１０に近い場合にはその補正を行なう
。
結像レンズ６で平面１４（像面〕上に集光される。像面
での光ビーム１６移動速度が等速時には問題とならない
が、不等速時にはその補正を行う必要がある。（回転鏡
の場合は一般にＦ −θレンズで等速になるように補正
される。）加えて、スリット１２筐たはピンホール１１
が測定ビーム径１０に比べ十分小さいことが必要である
が、測定ビーム径１０に近い場合にはその補正を行なう
。
次に、走査方向に垂直方向ビーム径は、測定時のビーム
移動に左右されない測定ができる紀４図（イ）の測定法
全適用する。そこで、走査方向ビーム径測定同様測定平
面全確保するために、第６図に示すように一平面１７上
に複数個、光検知アレイ素子１３全設けることによって
、走査全域の測定が可能となると同時に測定平面の確保
も１コ」能と彦る０ 以上述べた走査ビーム径測定は測定平面１４と１７を共
有することによって、両方向の走査ビーム分布（ｌｉｌ
ｌ駕が可能となることは１９までもない０第７図は本発
明の望ましい実施例を示す測定装＃：：＜ｆ示す斜視図
である。図において、１８は測定平面、１９はスリット
、２０Ｉｔｉ固体光検知素子アレイ（ＰＤＡ、ＣＣＤア
レイ）、２１は光検知器、２２は測定装置を示す。
移動に左右されない測定ができる紀４図（イ）の測定法
全適用する。そこで、走査方向ビーム径測定同様測定平
面全確保するために、第６図に示すように一平面１７上
に複数個、光検知アレイ素子１３全設けることによって
、走査全域の測定が可能となると同時に測定平面の確保
も１コ」能と彦る０ 以上述べた走査ビーム径測定は測定平面１４と１７を共
有することによって、両方向の走査ビーム分布（ｌｉｌ
ｌ駕が可能となることは１９までもない０第７図は本発
明の望ましい実施例を示す測定装＃：：＜ｆ示す斜視図
である。図において、１８は測定平面、１９はスリット
、２０Ｉｔｉ固体光検知素子アレイ（ＰＤＡ、ＣＣＤア
レイ）、２１は光検知器、２２は測定装置を示す。
元ビーム１０を矢印方向に走査したとき、走査方向のビ
ーム径測定を行なうスリット１９と走査方向に垂直方向
のビーム径測定を行なうＰＤＡ（またはＣＣＤアレイ）
２０による走査ビーム径測定法である。この例では走査
方向ビーム径測定は透過光によって行なうため、測定端
子２３．２４がレーザ走査光学系５，６と反対側に設け
られるため、配ｆへが容易である○ 上記のように同一平面上に複数のマーカと光検知アレイ
を設けることによシ従来の測定装置では出来なかった走
査全域にわた逆走査光学系にＭ要な動作時の走査ビーム
径が同時に測定できる。
ーム径測定を行なうスリット１９と走査方向に垂直方向
のビーム径測定を行なうＰＤＡ（またはＣＣＤアレイ）
２０による走査ビーム径測定法である。この例では走査
方向ビーム径測定は透過光によって行なうため、測定端
子２３．２４がレーザ走査光学系５，６と反対側に設け
られるため、配ｆへが容易である○ 上記のように同一平面上に複数のマーカと光検知アレイ
を設けることによシ従来の測定装置では出来なかった走
査全域にわた逆走査光学系にＭ要な動作時の走査ビーム
径が同時に測定できる。
（ｆ） 発明の効果
以上詳細に説明したように本発明の走査ビーム径測定装
置は一平面上に複数のマーカと光検知アレイを設けて測
定平面全構成することにより従来レーザ走査光学系の走
査面の１ポイントでしか走査ビーム径の測定ができなか
ったものが、走査面全域にわたｐビーム走査状態での走
査方向、走査方向に垂直方向、両方向の走査ビーム測定
が同時に出来るようにしている。
置は一平面上に複数のマーカと光検知アレイを設けて測
定平面全構成することにより従来レーザ走査光学系の走
査面の１ポイントでしか走査ビーム径の測定ができなか
ったものが、走査面全域にわたｐビーム走査状態での走
査方向、走査方向に垂直方向、両方向の走査ビーム測定
が同時に出来るようにしている。
第１図はレーザ走査光学系の栴成例を示す斜視図、第２
図（イ）（ロ）、第３図（イ）（口へ第４図（イ）（ロ
）は光ビーム分布（集光径）の測定法を説明するための
図、第５図は本発明の走査方向ビーム径測定装置の１例
を示す斜視図、第６図は本発明の走査方向に垂直方向の
ビーム径測定装置の１例を示す斜視図、第７図（ｄ本発
明の走査方向ビーム径と走査方向に垂直方向のビーム径
全同時測定する装置の１例を示す斜視図をボす。 図において、５は回転多面鏡、６は結像レンズ、１０は
元ビーム、１１は円形、１２は矩形、１３゜２０は光検
知プレイ、１４．１７は一平面、１５゜２１は光検知器
、１６は光ビーム、１８は測定平面、１９はスリット、
２２は測定装置、２３．２４は測定端子である。 第１図 副因 第３囚 剃Ｉ 寮５図 第５ｇ 第７図 ２
図（イ）（ロ）、第３図（イ）（口へ第４図（イ）（ロ
）は光ビーム分布（集光径）の測定法を説明するための
図、第５図は本発明の走査方向ビーム径測定装置の１例
を示す斜視図、第６図は本発明の走査方向に垂直方向の
ビーム径測定装置の１例を示す斜視図、第７図（ｄ本発
明の走査方向ビーム径と走査方向に垂直方向のビーム径
全同時測定する装置の１例を示す斜視図をボす。 図において、５は回転多面鏡、６は結像レンズ、１０は
元ビーム、１１は円形、１２は矩形、１３゜２０は光検
知プレイ、１４．１７は一平面、１５゜２１は光検知器
、１６は光ビーム、１８は測定平面、１９はスリット、
２２は測定装置、２３．２４は測定端子である。 第１図 副因 第３囚 剃Ｉ 寮５図 第５ｇ 第７図 ２
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）レーザ光源よシ射出されたレーザビームラ光走査器
により走査し、該走査ビームを結像光学系により平面上
に集光した走査ビームの径を測定する装置において、前
記平面上の複数箇所に、ビーム走食方回に直交する方向
に畏く、走査方向には前記集光ビーム径よ９小きな幅の
スリット形状のマーカ、或いは集光ビーム径より小さな
径の円形のマーカを設けるとともに、走査ビームの該マ
ーカの通過時の反射又は透過光を検出する検出器を備え
たことを特徴とする走査ビーム径測定装置。 ２）レーザ九詠よシ射出されたレーザビームに光、 走
査器によジ走査し、該走査ビーム全結像光学系によｐ平
向上に集光した走査ビームの径を測定する装置において
、前記平面上に、前記集光ビーム径に比べ十分小さなピ
ッチで、かつ十分大きな長さを持った固体光検知索子ア
レイを走査方向に対し垂直な方向がアレイ方向となるよ
うに複数個設けたことを％徴とする走査ビーム径測定装
置。 ３）レーザ光源より射出されたレーザビームを光走査器
により走査し、該走査ビームを結像光学系により平面上
に集光した走査ビームの径を測定する装置において、前
記平面上に、ビーム走査方向に直交する方向に長く、走
査方向には前記集光ビーム径より小さな幅の複数のスリ
ット形状、或いは集光ビーム径よシφさな径の複数の円
形のマーカを設けるとともに、走査ビームの該マーカの
通過時の反射又は透過光を検出する検出器を備え、さら
に該平面上の複数箇所に前記集光ビーム径に比べ十分小
さなピッチで、かつ十分大きな長さを有する固体光検知
素子アレイを、走査方向に直交する方向がアレイ方向と
なるように設けたことを特徴とする走査ビーム径測定装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10106783A JPS59225320A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 走査ビ−ム径測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10106783A JPS59225320A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 走査ビ−ム径測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59225320A true JPS59225320A (ja) | 1984-12-18 |
Family
ID=14290755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10106783A Pending JPS59225320A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 走査ビ−ム径測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59225320A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559934B1 (en) * | 1999-09-14 | 2003-05-06 | Visx, Incorporated | Method and apparatus for determining characteristics of a laser beam spot |
| US6666855B2 (en) | 1999-09-14 | 2003-12-23 | Visx, Inc. | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
| JP2007033364A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Alt Kk | 走査レーザビーム径測定装置 |
| EP1884755A2 (de) * | 2006-07-31 | 2008-02-06 | Ivoclar Vivadent AG | Lichtmessvorrichtung |
| US7652761B2 (en) | 1999-09-14 | 2010-01-26 | Amo Manufacturing Usa, Llc. | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
-
1983
- 1983-06-07 JP JP10106783A patent/JPS59225320A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559934B1 (en) * | 1999-09-14 | 2003-05-06 | Visx, Incorporated | Method and apparatus for determining characteristics of a laser beam spot |
| US6666855B2 (en) | 1999-09-14 | 2003-12-23 | Visx, Inc. | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
| US7001376B2 (en) | 1999-09-14 | 2006-02-21 | Visx, Inc. | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
| US7001375B2 (en) | 1999-09-14 | 2006-02-21 | Advanced Medical Optics, Inc. | Method and apparatus for determining characteristics of a laser beam spot |
| US7238177B2 (en) | 1999-09-14 | 2007-07-03 | Visx, Incorporated | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
| US7652761B2 (en) | 1999-09-14 | 2010-01-26 | Amo Manufacturing Usa, Llc. | Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment |
| JP2007033364A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Alt Kk | 走査レーザビーム径測定装置 |
| EP1884755A2 (de) * | 2006-07-31 | 2008-02-06 | Ivoclar Vivadent AG | Lichtmessvorrichtung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01292310A (ja) | 走査光学装置 | |
| KR100632650B1 (ko) | 인쇄땜납 검사장치 | |
| JPH04319615A (ja) | 光学式高さ測定装置 | |
| JP2700454B2 (ja) | 光学レンズの性能を特徴づける方法および装置 | |
| US4806753A (en) | Light scanning device with a short-path synchronizing grid | |
| JPS59225320A (ja) | 走査ビ−ム径測定装置 | |
| JPH02188713A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2992075B2 (ja) | 光ビームの走査装置 | |
| JPH0587681A (ja) | 被覆状態測定方法及び装置 | |
| JPS61175611A (ja) | 同期光検出装置 | |
| JP2577008B2 (ja) | 屈折角測定装置 | |
| JPH0634557A (ja) | レーザ光学系、及びレーザビームを用いた被検面の表面状態の読取方法 | |
| JPH0921969A (ja) | マルチビーム検出装置 | |
| JPH02272516A (ja) | 走査光学装置 | |
| JPS5850333Y2 (ja) | 光走査位置検出装置 | |
| JPS63285512A (ja) | 光偏向器における面倒れ検出装置 | |
| JPH11242171A (ja) | マルチビーム検出装置及び該検出装置を備えた光偏向走査装置 | |
| EP0087235A1 (en) | Surface fault detector | |
| JPS6167818A (ja) | 半導体レ−ザ光走査装置 | |
| JPH05322701A (ja) | ジッター量測定装置 | |
| EP0087860A1 (en) | Surface fault detector | |
| JPH0122951B2 (ja) | ||
| JPS62192611A (ja) | 路面性状計測システムにおけるレ−ザスキヤン位置検出器 | |
| JPH05346317A (ja) | 光ビーム形状測定装置 | |
| JPH07151990A (ja) | ポリゴンミラーの面倒れ測定方法及びその装置 |