JP2896751B2 - 電子部品用接着テープ - Google Patents

電子部品用接着テープ

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置を構成する
リードフレーム周辺の部材間、例えば、リードピン、半
導体チップ搭載用基板、放熱板、半導体チップ自身等の
接着に使用するための電子部品用接着テープに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、樹脂封止型半導体装置内において
使用される接着テープ等には、リードフレーム固定用接
着テープ、TABテープなどがあり、例えば、リードフ
レーム固定用接着テープの場合には、リードフレームの
リードピンを固定し、リードフレーム自体および半導体
アセンブリ工程全体の生産歩留まりおよび生産性の向上
を目的として使用されており、一般にリードフレームメ
ーカーでリードフレーム上にテーピングされ、半導体メ
ーカーに持ち込まれ、IC搭載後、樹脂封止される。そ
のためリードフレーム固定用接着テープには、半導体レ
ベルでの一般的な信頼性およびテーピング時の作業性等
は勿論のこと、テーピング直後の十分な室温接着力、半
導体装置組立て工程での加熱に耐える十分な耐熱性等が
要求される。従来、この様な用途に使用される接着テー
プとしては、例えば、ポリイミドフィルム等の支持体フ
ィルム上に、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸エ
ステル或いはアクリロニトリル−ブタジエン共重合体等
の合成ゴム系樹脂等の単独、または他の樹脂で変性した
もの、或いは他の樹脂と混合した接着剤を塗布し、Bス
テージ状態としたものが使用されている。
【0003】近年、図1〜図3に示されるような構造の
樹脂封止型半導体装置(半導体パッケージ)が開発また
は製造されている。図1においては、リードピン3と金
属放熱板2とが、接着層6によって接続され、半導体チ
ップ1が金属放熱板2上に搭載されており、半導体チッ
プ1とリードピン3との間のボンディングワイヤー4と
共に、樹脂5によって封止された構造を有している。図
2においては、リードフレームのリードピン3が半導体
チップ1と接着層6によって固定されており、ボンディ
ングワイヤー4と共に、樹脂5によって封止された構造
を有している。また、図3においては、ダイパッド7の
上に半導体チップ1が搭載され、また、電極8が接着層
6によって固定されており、そして、半導体チップ1と
電極8との間および電極8とリードピン3との間が、そ
れぞれボンディングワイヤー4によって連結され、それ
らが樹脂5によって封止された構造を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これら図1〜図3に示
される構造の樹脂封止型半導体装置における接着層にお
いて、従来の接着剤を塗布した接着テープを使用した場
合には、耐熱性等が充分でない等の問題があった。ま
た、ポリイミド樹脂等を適用した場合には、そのテーピ
ング温度や圧力、ポリイミド樹脂の硬化条件等が厳し
く、リードフレーム等の金属材料を損傷する恐れがあっ
た。したがって、比較的低温で接着、硬化でき、十分な
耐熱性および信頼性等を有する接着剤の開発が望まれて
いる。
【0005】本発明者等は、先に、後記の一般式(I)
で示されるピペラジニルエチルアミノカルボニル基含有
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体と2個以上のマ
レイミド基を含有する後記特定の化合物とよりなる接着
剤を用いた接着テープを提案し(特開平7−12659
1号)、それにより上記の目的が達成されることを見出
した。しかしながら、これらの接着テープには、未だ不
十分な点が存在している。すなわち、接着剤を耐熱性フ
ィルム上に設けた接着テープの場合には、耐熱性フィル
ムと接着剤との間の親和性不足により耐熱性フィルムと
接着層との界面で剥離が生じやすいこと、耐熱性フィル
ムと接着層、または接着層と、例えば金属放熱板等の被
接着物の熱膨脹係数の相違により、界面で剥離を生じや
すいこと等の問題がある。また、接着層単層よりなる接
着テープの場合には、加熱圧着の際、リードフレームの
先端が接着層に埋没し貫通して被接着物の表面に接触
し、その結果絶縁性の確保ができなくなって半導体装置
としての信頼性が低下するという問題がある。これを避
けるためにリードフレームの先端が被接着物の表面に接
触しないように接着層を硬化させると、接着テープを被
接着物に仮接着するのが困難になるという問題がある。
【0006】本発明は、上記のような問題点を解決する
ことを目的としてなされたものである。すなわち、本発
明の目的は、比較的低温で接着、硬化ができ、リードフ
レームを接着する場合にも絶縁性の確保ができ、十分な
信頼性を有する電子部品を得ることが可能な接着テープ
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の電子部品
用接着テープは、剥離性フィルムの一面に、(a)重量
平均分子量10,000〜200,000で、アクリロ
ニトリル含有率5〜50重量%、アミノ基当量500〜
10,000の下記一般式(I)で示されるピペラジニ
ルエチルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロ
ニトリル共重合体と、
【化5】 (式中、k、mおよびnは、モル比であって、n=1に
対して、k=3〜175、m=0.3〜93の範囲の数
を表わす。) (b)下記式(II−1)ないし式(II−6)で示される
化合物から選択された2個以上のマレイミド基を含有す
る化合物とを含有し、
【0008】
【化6】
【化7】 成分(a)100重量部に対して、成分(b)が10〜
900重量部である接着層を積層してなり、その接着層
がBステージまで硬化されたものであって、互いに異な
る硬化度を有する二以上の半硬化層よりなることを特徴
とする。本発明の第2の電子部品用接着テープは、上記
第1の電子部品用接着テープにおける接着層の表面に、
さらに剥離性フィルムを設けたことを特徴とする。
【0009】本発明の第3の電子部品用接着テープは、
剥離性フィルムの一面に、上記成分(a)のピペラジニ
ルエチルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロ
ニトリル共重合体、成分(b)の2個以上のマレイミド
基を含有する化合物、および(c)一般式(III )で示
されるジアミン化合物 H2 N−R1 −NH2 (III ) (式中、R1 は二価の脂肪族基、芳香族基または脂環式
基を表わす。) または重量平均分子量200〜7,000の一般式(I
V)で示されるアミノ基含有ポリシロキサン化合物を含
有し、
【化8】 (式中、R2 は二価の脂肪族基、芳香族基または脂環式
基を表わし、sは0ないし7の整数を意味する。) 成分(a)100重量部に対して、成分(b)と成分
(c)の総和が10〜900重量部であり、成分(c)
のアミノ基1モル当量に対する成分(b)のマレイミド
基が1〜100モル当量である接着層を積層してなり、
その接着層がBステージまで硬化されたものであって、
互いに異なる硬化度を有する二以上の半硬化層よりなる
ことを特徴とする。本発明の第4の電子部品用接着テー
プは、上記第3の電子部品用接着テープにおける接着層
の表面に、さらに剥離性フィルムを設けたことを特徴と
する。
【0010】以下、本発明について詳細に説明する。ま
ず、本発明の第1および第2の電子部品用接着テープに
使用する液状接着剤(第1の液状接着剤)について説明
する。成分(a)として使用される重量平均分子量1
0,000〜200,000で、アクリロニトリル含有
率5〜50重量%、アミノ基当量500〜10,000
の上記一般式(I)で示されるピペラジニルエチルアミ
ノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニトリル共重
合体は、新規な物質であって、下記一般式(V)で示さ
れるカルボキシル基含有ブタジエン−アクリロニトリル
共重合体とN−アミノエチルピペラジンとを、例えば、
亜りん酸エステルの存在下で縮合させることによって合
成することができる。
【化9】 (式中、k、mおよびnは、上記と同意義を有する。)
【0011】本発明において、ピペラジニルエチルアミ
ノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニトリル共重
合体は、重量平均分子量10,000〜200,00
0、好ましくは20,000〜150,000、アクリ
ロニトリル含有率5〜50重量%、好ましくは10〜4
0重量%、アミノ基当量500〜10,000、好まし
くは1,000〜8,000を有するものが使用され
る。この場合、重量平均分子量が10,000より低く
なると、熱安定性が不良になり、耐熱性が低下する。ま
た、200,000より高くなると、溶剤溶解性が不良
になり、また、溶融粘度が増大して、接着剤として使用
した場合の作業性が不良になる。また、アクリロニトリ
ル含有量が5重量%よりも低くなると、溶媒溶解性が低
下し、50重量%よりも高くなると、絶縁性が不安定に
なる。さらにまた、アミノ基当量が500よりも低くな
ると、溶媒溶解性が低下し、一方、10,000よりも
高くなると、マレイミド化合物と混合して接着剤として
使用する際、低粘度となりすぎ、接着の作業性が低下す
る。
【0012】上記の液状接着剤において、上記成分
(a)と成分(b)との配合割合は、成分(a)100
重量部に対して、成分(b)が10〜900重量部、好
ましくは20〜800の範囲に設定される。成分(b)
の量が10重量部より少なくなると、塗布して硬化した
後、接着層の耐熱性、特にTg、ヤング率の低下が著し
くなり、目的の用途に適さなくなり、また、900重量
部より多くなると、接着層をBステージまで硬化した際
に、接着層自体が脆くなり、作業性が悪くなる。
【0013】上記成分(a)と成分(b)との混合は、
両者を溶解する溶媒中で行う。溶媒としては、例えば、
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−
イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトニトリル、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロエタン、トリクロ
ロエタン等があげられ、これらの中から、成分(a)と
成分(b)が溶解するように種類と量を適宜選択して使
用する。
【0014】本発明の第3および第4の電子部品用接着
テープに使用する液状接着剤(第2の液状接着剤)は、
上記した液状接着剤における成分(a)および成分
(b)の外に、さらに成分(c)として、上記一般式
(III )で示されるジアミン化合物、または重量平均分
子量200〜7,000の上記一般式(IV)で示される
アミノ基含有ポリシロキサン化合物を含有する。この場
合、成分(a)、成分(b)および成分(c)の配合割
合は、成分(a)100重量部に対して、成分(b)と
成分(c)の総和が10〜900重量部、好ましくは2
0〜800の範囲に設定される。成分(b)と成分
(c)の総和が10重量部より少なくなると、塗布して
硬化した後、接着層の耐熱性、特にTg、ヤング率の低
下が著しくなり、目的の用途に適さなくなり、また、9
00重量部より多くなると、接着層をBステージまで硬
化した際に、接着層自体が脆くなり、作業性が悪くな
る。
【0015】また、成分(b)と成分(c)の配合割合
は、成分(c)のアミノ基1モル当量に対する成分
(b)のマレイミド基が1〜100モル当量になるよう
にする必要があり、好ましくは1〜80の範囲に設定す
る。成分(b)のマレイミド基が1モル当量よりも低く
なると、混合に際して、ゲル化するため、接着剤を調製
することができなくなる。また、100モル当量よりも
多くなると、接着層をBステージまで硬化した際に、接
着層自体が脆くなり、作業性が悪くなる。
【0016】成分(c)として使用される上記一般式
(III )で示されるジアミン化合物としては、例えば次
のものがあげられる。N,N′−ビス(2−アミノフェ
ニル)イソフタルアミド、N,N′−ビス(3−アミノ
フェニル)イソフタルアミド、N,N′−ビス(4−ア
ミノフェニル)イソフタルアミド、N,N′−ビス(2
−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,N′−ビス
(3−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,N′−
ビス(4−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,
N′−ビス(2−アミノフェニル)フタルアミド、N,
N′−ビス(3−アミノフェニル)フタルアミド、N,
N′−ビス(4−アミノフェニル)フタルアミド、N,
N′−ビス(2−アミノフェニル)フタルアミド、N,
N′−ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)
イソフタルアミド、N,N′−ビス(4−アミノ−3,
5−ジメチルフェニル)テレフタルアミド、N,N′−
ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)フタル
アミド、N,N′−ビス(4−アミノ−n−ブチル)イ
ソフタルアミド、N,N′−ビス(4−アミノ−n−ヘ
キシル)イソフタルアミド、N,N′−ビス(4−アミ
ノ−n−ドデシル)イソフタルアミド、m−フェニレン
ジアミン、p−フェニレンジアミン、m−トリレンジア
ミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジ
フェニルチオエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′
−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3′−ジエト
キシ−4,4′−ジアミノジフェニルチオエーテル、
3,3′−ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4′
−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4,
4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジアミノジ
フェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)プ
ロパン、2,2′−ビス(3−アミノフェニル)プロパ
ン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、ベンチジン、3,3′−ジメチ
ルベンチジン、3,3′−ジメトキシベンチジン、3,
3′−ジアミノビフェニル、2,2−ビス[4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス
[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[3−クロロ−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス
[3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3−クロ
ロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタ
ン、ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル]メタン、ピペラジン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、p−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、3
−メチルヘプタメチレンジアミン、1、3−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、4,4′−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4′−
[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]
ビスアニリン、4,4′−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビス(2,6−ジメチリル
ビスアニリン)等。
【0017】重量平均分子量200〜7,000の上記
一般式(IV)で示されるアミノ基含有ポリシロキサン化
合物としては、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、α,ω−
ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチル)−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、α,ω−ビス
(3−アミノフェノキシメチル)ポリジメチルシロキサ
ン、1,3−ビス[2−(3−アミノフェノキシ)エチ
ル]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、
α,ω−ビス[2−(3−アミノフェノキシ)エチル]
ポリジメチルシロキサン、1,3−ビス[3−(3−ア
ミノフェノキシ)プロピル]−1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン、α,ω−ビス[3−(3−アミノ
フェノキシ)プロピル]ポリジメチルシロキサン等があ
げられる。
【0018】上記成分(a)、成分(b)および成分
(c)の混合は、それらを溶解する溶媒中で行う。溶媒
としては、上記第1の液状接着剤において例示したもの
が使用できる。本発明の第1の液状接着剤および第2の
液状接着剤においては、必要に応じて、上記成分(a)
と成分(b)との付加反応、および成分(b)同士の付
加反応を促進させてBステージの硬化度を調整するため
に、ジアザビシクロオクタン、または、メチルエチルケ
トンパーオキサイド、シクロヘキサンパーオキサイド、
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルア
セトアセテートパーオキサイド、アセチルアセトンパー
オキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)オクタン、n−ブチル−
4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレート、2,
2−ビス(t−ブチルパーオキシブタン)、t−ブチル
ハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド、P−メンタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジ
メチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、
1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキ
サイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルク
ミルパーオキサイド、ジ−クミルパーオキサイド、α,
α′−ビス(t−プチルパーオキシ−m−イソプロピ
ル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブ
チルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、アセチルパー
オキサイド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイル
パーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,
5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、スク
シニックアシッドパーオキサイド、2,4−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、m−トルオイルパーオキサイ
ド、ジ−イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−n
−プロピルパーオキシジカーボネート、ビスー(4−t
−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、
ジ−ミリスティルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−メトキ
シイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メ
チル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネー
ト、ジ−アリルパーオキシジカーボネート、t−ブチル
パーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシイソブチ
レート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチル
パーオキシネオデカネート、クミルパーオキシネオドデ
カネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチル
ヘキサネート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−
ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルパーオ
キシイソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオ
キシマレイン酸、t−ブチルパーオキシイソプロピルカ
ーボネート、クミルパーオキシオクテート、t−ヘキシ
ルパーオキシネオデカネート、t−ヘキシルパーオキシ
ピバレート、t−ブチルパーオキシネオヘキサネート、
t−ヘキシルパーオキシネオヘキサネート、クミルパー
オキシネオヘキサネート、アセチルシクロヘキシルスル
フォニルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアリル
カーボネート等の有機過酸化物類、1,2−ジメチルイ
ミダゾール、1−メチル−2−エチルイミダゾール、2
−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベン
ジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フ
ェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミ
ダゾール・トリメリット酸塩、1−ベンジル−2−エチ
ルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチル−5−メチ
ルイミダゾール、2−エチルイミダゾ−ル、2−イソプ
ロピルイミダゾール、2−フェニル−4−ベンジルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−イソプロピルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1
−シアノエチル−2−メチルイミダゾリウムトリメリテ
ート、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミ
ダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フ
ェニルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミ
ノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1)′]−エ
チル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′
−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)′]−エチ
ル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−
ウンデシルイミダゾリル−(1)′]−エチル−S−ト
リアジン、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌール酸
付加物、2−フェニルイミダゾリウムイソシアヌール酸
付加物、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダ
ゾール−(1)′]−エチル−S−トリアジン−イソシ
アヌール酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキ
シメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5
−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−
ベンジル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、4,
4′−メチレン−ビス−(2−エチル−5−メチル−イ
ミダゾール)、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾ
ール、1−シアノエチル−2−フェニル−4,5−ジ
(シアノエトキシメチル)イミダゾール、1−ドデシル
−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライ
ド、4,4′−メチレン−ビス−(2−エチル−5−メ
チルイミダゾール)、2−メチルイミダゾール・ベンゾ
トリアゾール付加物、1,2−ジメチルイミダゾール・
ベンゾトリアゾール付加物、1−アミノエチル−2−エ
チルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)
−2−メチルイミダゾール、N,N′−[2−メチルイ
ミダゾリル−(1)−エチル]−アジポイルジアミド、
N,N′−ビス−(2−メチルイミダゾリル−1−エチ
ル)尿素、N−[2−メチルイミダゾリル−1−エチ
ル]−尿素、N,N′−[2−メチルイミダゾリル−
(1)−エチル]ドデカンジオイルジアミド、N,N′
−[2−メチルイミダゾリル−(1)−エチル]エイコ
サンジオイルジアミド、1−ベンジル−2−フェニルイ
ミダゾール・塩化水素酸塩、1−シアノエチル−2−フ
ェニル−4,5−ジ(シアノエトキシメチル)イミダゾ
ール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン類等
の反応促進剤を添加することができる。この反応促進剤
の含有量を調整することによって、接着層の硬化度をプ
レキュアーによって所望の範囲に制御することが可能に
なる。
【0019】また、上記の第1および第2の液状接着剤
には、接着剤のテーピング特性を安定化させるために、
粒径1μm以下のフィラーを含ませることができる。フ
ィラーの含有量は、全固形分の4〜40重量%、好まし
くは9〜24重量%の範囲に設定される。含有量が4重
量%よりも低くなると、接着テープのテーピング特性の
安定化効果が小さくなり、また、40重量%よりも多く
なると、接着テープの接着強度が低下し、かつラミネー
ト等の加工性が悪くなる。フィラーとしては、例えば、
シリカ、石英粉、アルミナ、炭酸カルシウム、酸化マグ
ネシウム、ダイヤモンド粉、マイカ、フッ素樹脂粉、ジ
ルコン粉等が使用される。
【0020】本発明の電子部品用接着テープは、上記第
1または第2の液状接着剤を用いて形成されるものであ
って、剥離性フィルム上に形成される接着層はBステー
ジまで硬化されたものであって、かつ、硬化度が異なる
2以上の半硬化層より構成される。各半硬化層の膜厚
は、5〜100μmの範囲が好ましく、より好ましい範
囲は10〜50μmである。本発明の第2および第4の
電子部品用接着テープにおいては、接着層の表面に、さ
らに剥離性フィルムが設けられている。剥離性フィルム
としては、厚さ1〜200μm、好ましくは10〜10
0μmのものが使用され、仮の支持体として作用する。
使用可能な剥離性フィルムとしては、ポリプロピレンフ
ィルム、フッ素樹脂系フィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、紙および場
合によってはそれらにシリコーン樹脂で剥離性を付与し
たもの等があげられる。これらの剥離性フィルムは、9
0°ピール剥離強度が0.01〜7.0gの範囲にある
ことが望ましい。剥離強度が上記の範囲よりも低い場合
には、接着テープ搬送時に、剥離性フィルムが簡単に剥
離する等の問題があり、また、上記の範囲よりも高い場
合には、剥離性フィルムが接着層から綺麗に剥がれず、
作業性が悪くなる。
【0021】本発明において、接着層が硬化度の異なる
2つの半硬化層よりなる場合、高硬化度の半硬化層は、
滑り速度が0.01〜0.3μm/secの範囲にあ
り、低硬化度の半硬化層は、滑り速度が0.1〜10.
0μm/secの範囲にあり、かつ、高硬化度の半硬化
層の滑り速度(V1 )と低硬化度の半硬化層の滑り速度
(V2 )が、V2 >V1 の関係を有することが好まし
い。なお、2つの半硬化層におけるV1 が0.3μm/
secを越えると、リードが接着層に埋没して金属放熱
板等の被接着物に接触しやすくなるので、絶縁性の保持
が困難になり、一方、V1 が0.01μm/sec未満
であると、接着層の前記被接着物への接着性が低下する
恐れがある。また、V2 が10μm/secを越える
と、接着層が接着テープの端面よりはみ出し、被着体の
リードフレームを汚染し、一方、0.1μm/sec未
満であると、被着体のリードフレームへの接着性が低下
するので好ましくない。
【0022】また、接着層が硬化度の異なる3つの半硬
化層よりなる場合、剥離性フィルムの上に低硬化度の半
硬化層、高硬化度の半硬化層および低硬化度の半硬化層
が順次積層された構造を有するものであって、特に、滑
り速度が0.1〜10.0μm/secの範囲の低硬化
度の第1の半硬化層、滑り速度0.3μm/sec以下
の高硬化度の半硬化層および滑り速度0.1〜10.0
μm/secの範囲の低硬化度の第2の半硬化層とが順
次積層され、かつ高硬化度の半硬化層の滑り速度
(V3 )と低硬化度の第1の半硬化層の滑り速度
(V4 )および低硬化度の第2の半硬化層の滑り速度
(V5 )が、V4 >V3 およびV5 >V3 の関係にある
構造のものが好ましい。なお、3つの半硬化層における
3 が0.3μm/secを越えると、リードが接着層
に埋没して金属放熱板等の被接着物に接触しやすくなる
ので、絶縁性の保持が困難になる。また、V4 およびV
5 が10.0μm/secを越えると、接着層が接着テ
ープの端面よりはみ出し、リードフレームや金属放熱板
等を汚染し、一方、0.1μm/sec未満の場合は、
前記被接着物への接着性が低下するので好ましくない。
【0023】なお、Bステージまで硬化された半硬化層
の滑り速度は、硬化度の度合いを意味する値であって、
次の測定方法により測定される値である。すなわち、測
定すべきテープを、5mm×20mmのサイズに切断し
て試料を作製し、それぞれ先端から5mmまでの部分の
みが重なるように重ね合わせ、150℃に加熱された1
対の加熱ロール間をロール速度1m/minで通過させ
て貼り合わせる。得られた試料を23±3℃、65±5
%RHで48±12時間保持した後、試料の貼り合わさ
れていない両端部分を熱機械試験器(TM−3000、
真空理工社製)のチャックで固定し、温度25℃から2
00℃まで10℃/minの割合で加熱しながら荷重5
gの力で両方に引っ張る。その際における貼り合わせ部
分の時間当りの滑り距離(移動距離)を測定してプロッ
トし、時間当りの最大の滑りが生じた段階での滑り速度
(μm/sec)をもってその半硬化層の滑り速度値と
する。
【0024】次に、上記の第1および第2の液状接着剤
を使用して本発明の電子部品用接着テープを製造する方
法について説明する。本発明の電子部品用接着テープ
は、剥離性フィルムの一面に、上記液状接着剤を用いて
硬化度の異なる2以上の層よりなる半硬化層を形成する
ことによって作製されるが、硬化度の異なる2以上の半
硬化層を形成する方法としては、反応促進剤の配合、液
状接着剤の塗布、乾燥後のプレキュアー条件、接着層の
貼り合わせ等を適宜組み合わせた種々の方法が採用でき
る。具体的には、例えば2層構成の接着層を形成する場
合には、(1)剥離性フィルムの表面に上記液状接着剤
を塗布し、乾燥して未硬化接着剤シートを作製した後、
それらを異なる条件で硬化して異なる硬化度のBステー
ジ接着剤シートを作製し、それらの2つを貼り合わせる
方法、(2)剥離性フィルムの表面に上記液状接着剤を
塗布し、それを直接加熱硬化して、異なる硬化度の2つ
のBステージ接着剤シートを作製し、それらを貼り合わ
せる方法、(3)剥離性フィルムの表面に上記液状接着
剤を塗布した未硬化接着剤シートと、それをプレキュア
ーしたBステージ接着剤シートとを貼り合わせ、次いで
プレキュアーする方法、(4)剥離性フィルムの表面に
上記液状接着剤を塗布して所定の硬化度のBステージ接
着剤シートを作製した後、その表面に未硬化の液状接着
剤を塗布し、プレキュアーする方法、(5)反応促進剤
の含有量を異にする以外は同一組成の2つの液状接着剤
を塗布して形成した未硬化接着剤シートを同一条件でプ
レキュアーした後、両者を貼り合わせる方法、(6)剥
離性フィルムの表面に本発明における液状接着剤を塗布
した後、またはそれをプレキュアーして所定の硬化度の
Bステージ接着剤シートを作製した後、その液状接着剤
とは反応促進剤の含有量を異にする接着剤を塗布し、同
一条件でプレキュアーする方法等が使用できる。
【0025】また、3層構成の接着層を形成する場合に
は、(1)上記種々の方法で作製された2種以上の異な
る硬化度を有するBステージ接着剤シートを用い、その
一つのBステージ接着剤シートから剥離性シートを除去
して、接着層の両面に、他の接着剤シートを貼り合わせ
る方法、(2)上記種々の方法で作製された所定の硬化
度を有するBステージ接着剤シートの上に、同一または
反応促進剤の量のみが異なる同種の液状接着剤を塗布
し、剥離性フィルムを重ねた後、プレキュアーする方
法、(3)所定の硬化度を有するBステージ接着剤シー
トと、未硬化接着剤シートとを貼り合わせた後プレキュ
アーする方法等が使用できる。
【0026】
【実施例】
実施例1 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物70重量部、お
よび過酸化ベンゾイル1重量部を、テトラヒドロフラン
中に添加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量
%の液状接着剤を得た。この液状接着剤を、乾燥後の接
着層の厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離
処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一
面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120℃で5分間
乾燥して、未硬化接着剤フィルムを作製した。上記未硬
化接着剤シートを2つ用意し、その一つを熱風循環型乾
燥機中にて100℃で12時間プレキュアーして、滑り
速度が0.02μm/secのBステージ接着剤シート
(a)を作製した。上記未硬化接着剤シートの他の一つ
を熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時間プレキュア
ーして、滑り速度が0.30μm/secのBステージ
接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ接着
剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層を対
向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱ロー
ル間をロール速度1m/minで通過させて貼り合わ
せ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0027】実施例2 実施例1における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さ
が20μmになるように実施例1と同様の剥離性フィル
ムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で
5分間乾燥して、滑り速度が0.05μm/secのB
ステージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾
燥機中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、
上記と同様にして滑り速度が0.4μm/secのBス
テージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステー
ジ接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤
層を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の加
熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り
合わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0028】実施例3 実施例1における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さ
が20μmになるように実施例1と同様の剥離性フィル
ムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で
5分間乾燥して、滑り速度が0.05μm/secのB
ステージ接着剤シートを作製した。このBステージ接着
剤シートの上に、実施例1において用いた液状接着剤を
乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、160℃
で5分間加熱乾燥して、滑り速度が0.4μm/sec
のBステージ接着剤層を形成し、接着層が2層構成の接
着テープを得た。
【0029】実施例4 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物70重量部、過
酸化ベンゾイル1重量部およびラウロイルパーオキサイ
ド2重量部をテトラヒドロフラン中に添加、混合して、
充分に溶解し、固形分率40重量%の液状接着剤を得
た。上記液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さが20μ
mになるように実施例1と同様の剥離性フィルムの一面
に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾
燥して、滑り速度が0.01μm/secのBステージ
接着剤シート(a)を作製した。ラウロイルパーオキサ
イド2重量部を0.05重量部に代えた以外は上記と同
様にして液状接着剤を作製し、同様に操作して滑り速度
が0.5μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)およ
び(b)を、それらの接着剤層を対向するように重ね、
140℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1
m/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成
の接着テープを作製した。
【0030】実施例5 実施例4におけるBステージ接着剤シート(a)と同様
にして得られた滑り速度が0.01μm/secのBス
テージ接着剤シートの上に、実施例4におけるラウロイ
ルパーオキサイド2重量部を0.05重量部に代えた以
外は上記と同様にして得られた液状接着剤を塗布し、熱
風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑り
速度が0.5μm/secのBステージ接着剤層を形成
し、2層構成の接着テープを作製した。
【0031】実施例6 実施例1と同様にして、滑り速度が0.02μm/se
cのBステージ接着剤シート(a)および滑り速度が
0.30μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。次いで、Bステージ接着剤シート(a)の
剥離性フィルムを除去してその両面にBステージ接着剤
シート(b)を重ね、140℃に加熱した一対の加熱ロ
ール間をロール速度1m/minで通過させて貼り合わ
せ、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0032】実施例7 実施例1における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さ
が20μmになるように実施例1と同様の剥離性フィル
ムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で
5分間乾燥して、滑り速度が0.05μm/secのB
ステージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾
燥機中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、
上記と同様にして滑り速度が0.4μm/secのBス
テージ接着剤シート(b)を作製した。次いで、Bステ
ージ接着剤シート(a)の剥離性フィルムを除去してそ
の両面に上記Bステージ接着剤シート(b)を重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が3層構成の
接着テープを作製した。
【0033】実施例8 実施例1における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さ
が20μmになるように実施例1と同様の剥離性フィル
ムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で
5分間乾燥して、滑り速度が0.05μm/secのB
ステージ接着剤シートを作製した。このBステージ接着
剤シートから剥離性フィルムを除去して、その両面に実
施例1で用いたと同様の液状接着剤を乾燥後の膜厚が2
0μmになるように塗布し、厚さ38μmの剥離処理を
施したポリエチレンテレフタレートフィルムを重ね、1
60℃で5分間乾燥して滑り速度が0.4μm/sec
のBステージ接着剤層を形成し、接着層が3層構成の接
着テープを作製した。
【0034】実施例9 実施例4におけると同様にして、滑り速度が0.01μ
m/secのBステージ接着剤シート(a)および滑り
速度が0.5μm/secのBステージ接着剤シート
(b)を作製した。このBステージ接着剤シート(a)
から剥離性フィルムを除去し、その両面に上記Bステー
ジ接着剤シート(b)重ね、140℃に加熱した一対の
加熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼
り合わせ、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0035】実施例10 実施例4における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚さ
が20μmになるように厚さ38μmの剥離処理を施し
たポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に塗布
し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥し
て、滑り速度が0.01μm/secのBステージ接着
剤シートを作製した。このBステージ接着剤シートか
ら、剥離性フィルムを除去し、その両面に、実施例4に
おけるラウロイルパーオキサイド2重量部を0.05重
量部に代えた以外は上記と同様にして得られた液状接着
剤を塗布し、前記剥離性フィルムを重ね、熱風循環型乾
燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.
5μm/secのBステージ接着剤層を形成し、接着層
が3層構成の接着テープを作製した。
【0036】実施例11 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)70重量
部、前記式(II−1)で示される化合物30重量部、お
よび過酸化ベンゾイル1重量部を、テトラヒドロフラン
中に添加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量
%の液状接着剤を得た。この液状接着剤を、乾燥後の接
着層の厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離
処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一
面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120℃で5分間
乾燥して、未硬化接着剤フィルムを作製した。上記未硬
化接着剤シートを2つ用意し、その一つを熱風循環型乾
燥機中にて100℃で12時間プレキュアーして、滑り
速度が0.05μm/secのBステージ接着剤シート
(a)を作製した。上記未硬化接着剤シートの他の一つ
を熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時間プレキュア
ーして、滑り速度が0.35μm/secのBステージ
接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ接着
剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層を対
向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱ロー
ル間をロール速度1m/minで通過させて貼り合わ
せ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0037】実施例12 実施例11において用いた液状接着剤を、乾燥後の接着
層の厚さが20μmになるように実施例11と同様の剥
離性フィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて
180℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.1μm/s
ecのBステージ接着剤シート(a)を作製した。熱風
循環型乾燥機中における乾燥を160℃で5分間行った
以外は、上記と同様にして滑り速度が0.6μm/se
cのBステージ接着剤シート(b)を作製した。上記の
Bステージ接着剤シート(a)および(b)を、それら
の接着剤層を対向するように重ね、140℃に加熱した
一対の加熱ロール間をロール速度1m/minで通過さ
せて貼り合わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製
した。
【0038】実施例13 実施例11において用いた液状接着剤を、乾燥後の接着
層の厚さが20μmになるように実施例11と同様の剥
離性フィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて
180℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.1μm/s
ecのBステージ接着剤シートを作製した。このBステ
ージ接着剤シートの上に、実施例11において用いた液
状接着剤を乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布
し、160℃で5分間加熱乾燥して、滑り速度が0.6
μm/secのBステージ接着剤層を形成し、接着層が
2層構成の接着テープを得た。
【0039】実施例14 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は1.46)および過酸化ベンゾイル1重量部を、テト
ラヒドロフラン中に添加、混合して、充分に溶解し、固
形分率40重量%の液状接着剤を得た。上記液状接着剤
を、乾燥後の接着層の厚さが20μmになるように厚さ
38μmの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレー
トフィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて1
20℃で5分間乾燥して、未硬化接着剤シートを作製し
た。この未硬化接着剤シートを2つ用意し、その一つを
熱風循環型乾燥機中にて100℃で12時間プレキュア
ーして、滑り速度が0.02μm/secのBステージ
接着剤シート(a)を作製した。上記未硬化接着剤シー
トの他の一つを熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時
間プレキュアーして、滑り速度が0.35μm/sec
のBステージ接着剤シート(b)を作製した。上記のB
ステージ接着剤シート(a)および(b)を、それらの
接着剤層を対向するように重ね、140℃に加熱した一
対の加熱ロール間をロール速度1m/minで通過させ
て貼り合わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製し
た。
【0040】実施例15 実施例14における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように38μmの剥離処理を施したポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、熱風循環
型乾燥機中にて180℃で5分間乾燥して、滑り速度が
0.04μm/secのBステージ接着剤シート(a)
を作製した。熱風循環型乾燥機中における乾燥を160
℃で5分間行った以外は、上記と同様にして滑り速度が
0.45μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)およ
び(b)を、それらの接着剤層が対向するように重ね、
140℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1
m/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成
の接着テープを作製した。
【0041】実施例16 実施例14における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように同様の剥離性フィルムの一面に塗布
し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分間乾燥し
て、滑り速度が0.04μm/secのBステージ接着
剤シートを作製した。このBステージ接着剤シートの上
に、上記と同様の液状接着剤を塗布し、熱風循環型乾燥
機中にて160℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.4
5μm/secのBステージ接着剤層を形成し、接着層
が2層構成の接着テープを作製した。
【0042】実施例17 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は1.46)、過酸化ベンゾイル1重量部およびラウロ
イルパーオキサイド2重量部をテトラヒドロフラン中に
添加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量%の
液状接着剤を得た。上記液状接着剤を、乾燥後の接着層
の厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離処理
を施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に
塗布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥
して、滑り速度が0.02μm/secのBステージ接
着剤シート(a)を作製した。ラウロイルパーオキサイ
ド2重量部を0.05重量部に代えた以外は上記と同様
にして液状接着剤を作製し、同様に操作して滑り速度が
0.55μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)およ
び(b)を、それらの接着剤層が対向するように重ね、
140℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1
m/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成
の接着テープを作製した。
【0043】実施例18 実施例17で得られた滑り速度が0.02μm/sec
のBステージ接着剤シート(a)の上に、実施例17に
おけるラウロイルパーオキサイド2重量部を0.05重
量部に代えた以外は同様にして得られた液状接着剤を塗
布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥し
て、滑り速度が0.55μm/secのBステージ接着
剤層を形成し、接着層が2層構成の接着テープを作製し
た。
【0044】実施例19 実施例14と同様にして滑り速度が0.02μm/se
cのBステージ接着剤シート(a)および滑り速度が
0.35μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)から
剥離性フィルムを除去し、その両面に上記Bステージ接
着剤シート(b)を重ね、140℃に加熱した一対の加
熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り
合わせ、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0045】実施例20 実施例14における液状接着剤を、乾燥後の厚さが20
μmに成るように実施例14と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾燥機
中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、上記
と同様にして滑り速度が0.45μm/secのBステ
ージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ
接着剤シート(a)から剥離性フィルムを除去し、その
両面に上記Bステージ接着剤シート(b)を重ね、14
0℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m/
minで通過させて貼り合わせ、接着層が3層構成の接
着テープを作製した。
【0046】実施例21 実施例14における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように実施例14と同様の38μmの剥離性
フィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて18
0℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.04μm/se
cのBステージ接着剤シートを作製した。このBステー
ジ接着剤シートの剥離性フィルムを除去して、その両面
に実施例14で用いたと同様の液状接着剤を乾燥後の膜
厚が20μmになるように塗布し、厚さ38μmの剥離
処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを重
ね、160℃で5分間乾燥して滑り速度が0.45μm
/secのBステージ接着剤層を形成し、接着層が3層
構成の接着テープを作製した。
【0047】実施例22 実施例17と同様にして滑り速度が0.02μm/se
cのBステージ接着剤シート(a)および滑り速度が
0.55μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)から
剥離性フィルムを除去し、その両面に上記Bステージ接
着剤シート(b)を重ね、140℃に加熱した一対の加
熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り
合わせ、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0048】実施例23 実施例17におけるBステージ接着剤シート(a)と同
様にして得られた滑り速度が0.02μm/secのB
ステージ接着剤シートから、剥離性フィルムを剥離し
て、その両面に実施例17におけるラウロイルパーオキ
サイド2重量部を0.02重量部に代えた以外は同様に
して得られた液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20μmに
なるように塗布し、厚さ38μmの剥離処理を施したポ
リエチレンテレフタレートフィルムを重ね、熱風循環型
乾燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑り速度が
0.55μm/secのBステージ接着剤層を形成し、
接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0049】実施例24 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)50重量
部、前記式(II−1)で示される化合物47重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン3重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は1.46)、過酸化ベンゾイル1重量部およびラウロ
イルパーオキサイド2重量部をテトラヒドロフラン中に
添加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量%の
液状接着剤を得た。上記液状接着剤を、乾燥後の接着層
の厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離処理
を施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に
塗布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥
して、滑り速度が0.05μm/secのBステージ接
着剤シート(a)を作製した。ラウロイルパーオキサイ
ド2重量部を0.05重量部に代えた以外は上記と同様
にして液状接着剤を作製し、同様に操作して滑り速度が
1.0μm/secのBステージ接着剤シート(b)を
作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)および
(b)を、それらの接着剤層が対向するように重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成の
接着テープを作製した。
【0050】実施例25 実施例24において得られた滑り速度が0.05μm/
secのBステージ接着剤シート(a)の上に、実施例
24におけるラウロイルパーオキサイド2重量部を0.
05重量部に代えた以外は同様にして得られた液状接着
剤を塗布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間
乾燥して、滑り速度が0.9μm/secのBステージ
接着剤層を形成し、接着層が2層構成の接着テープを作
製した。
【0051】実施例26 実施例24における液状接着剤を、乾燥後の接着層の厚
さが20μmになるように厚さ38μmの剥離処理を施
したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に塗布
し、熱風循環型乾燥機中にて120℃で5分間乾燥し
て、未硬化接着剤シートを作製した。この未硬化接着剤
シートを2つ用意し、その一つを熱風循環型乾燥機中に
て100℃で12時間プレキュアーして、滑り速度が
0.02μm/secのBステージ接着剤シート(a)
を作製した。上記未硬化接着剤シートの他の一つを熱風
循環型乾燥機中にて70℃で12時間プレキュアーし
て、滑り速度が0.35μm/secのBステージ接着
剤シート(b)を作製した。上記のBステージ接着剤シ
ート(a)および(b)を、それらの接着剤層を対向す
るように重ね、140℃に加熱した一対の加熱ロール間
をロール速度1m/minで通過させて貼り合わせ、接
着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0052】実施例27 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物68重量部、ヘ
キサメチレンジアミン2重量部(そのアミノ基1モル当
量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量は3.
00)、過酸化ベンゾイル1重量部およびラウロイルパ
ーオキサイド2重量部を、テトラヒドロフラン中に添
加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量%の液
状接着剤を得た。上記液状接着剤を、乾燥後の接着層の
厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離処理を
施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に塗
布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥し
て、滑り速度が0.15μm/secのBステージ接着
剤シートを作製した。このBステージ接着剤シートから
剥離性フィルムを除去し、その両面に、ラウロイルパー
オキサイド2重量部を0.02重量部に代えた以外は、
上記と同様にして作製した液状接着剤を乾燥後の膜厚が
20μmになるように塗布し、厚さ38μmの剥離処理
を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを重ね、
熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑
り速度が2.00μm/secのBステージ接着剤層を
形成し、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0053】実施例28 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物68重量部、ヘ
キサメチレンジアミン2重量部(そのアミノ基1モル当
量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量は3.
00)および過酸化ベンゾイル1重量部を、テトラヒド
ロフラン中に添加、混合して、充分に溶解し、固形分率
40重量%の液状接着剤を得た。この液状接着剤を、乾
燥後の接着層の厚さが20μmになるように厚さ38μ
mの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120℃
で5分間乾燥して、未硬化接着剤シートを作製した。こ
の未硬化接着剤シートを2つ用意し、その一つを熱風循
環型乾燥機中にて100℃で12時間プレキュアーし
て、滑り速度が0.1μm/secのBステージ接着剤
シート(a)を作製した。上記未硬化接着剤シートの他
の一つを熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時間プレ
キュアーして、滑り速度が1.5μm/secのBステ
ージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ
接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層
を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱
ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り合
わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0054】実施例29 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物68重量部、ヘ
キサメチレンジアミン2重量部(そのアミノ基1モル当
量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量は3.
00)および過酸化ベンゾイル1重量部を、テトラヒド
ロフラン中に添加、混合して、充分に溶解し、固形分率
40重量%の液状接着剤を得た。この液状接着剤を、乾
燥後の接着層の厚さが20μmになるように厚さ38μ
mの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120℃
で5分間乾燥して、未硬化接着剤シートを作製した。こ
の未硬化接着剤シートを2つ用意し、その一つを熱風循
環型乾燥機中にて100℃で12時間プレキュアーし
て、滑り速度が0.2μm/secのBステージ接着剤
シート(a)を作製した。上記未硬化接着剤シートの他
の一つを熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時間プレ
キュアーして、滑り速度が2.35μm/secのBス
テージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステー
ジ接着剤シート(a)から剥離性フィルムを除去し、そ
の両面に上記Bステージ接着剤シート(b)を重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が3層構成の
接着テープを作製した。
【0055】実施例30 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−2)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は2.33)および過酸化ベンゾイル1重量部を、テト
ラヒドロフラン中に添加、混合して、充分に溶解し、固
形分率40重量%の液状接着剤を得た。上記液状接着剤
を、乾燥後の接着層の厚さが20μmになるように厚さ
38μmの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレー
トフィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて1
80℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.01μm/s
ecのBステージ接着剤シート(a)を作製した。熱風
循環型乾燥機中における乾燥を160℃で5分間行った
以外は、上記と同様にして滑り速度が0.20μm/s
ecのBステージ接着剤シート(b)を作製した。上記
のBステージ接着剤シート(a)から剥離性フィルムを
除去し、その両面に上記Bステージ接着剤シート(b)
を重ね、140℃に加熱した一対の加熱ロール間をロー
ル速度1m/minで通過させて貼り合わせ、接着層が
3層構成の接着テープを作製した。
【0056】実施例31 実施例30におけるBステージ接着剤シート(a)と同
様にして作製された滑り速度が0.01μm/secの
Bステージ接着剤シートから剥離性フィルムを除去し、
その両面に、実施例30において用いた液状接着剤を、
乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、厚さ38
μmの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを重ね、熱風循環型乾燥機中にて160℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.25μm/secのBステ
ージ接着剤層を形成し、接着層が3層構成の接着テープ
を作製した。
【0057】実施例32 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−2)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は2.33)、過酸化ベンゾイル1重量部及びラウロイ
ルパーオキサイド2重量部を、テトラヒドロフラン中に
添加、混合して、充分に溶解し、固形分率40重量%の
液状接着剤を得た。この液状接着剤を、乾燥後の接着層
の厚さが20μmになるように厚さ38μmの剥離処理
を施したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に
塗布し、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥
して、滑り速度が0.01μm/secのBステージ接
着剤シート(a)を作製した。上記液状接着剤における
ラウロイルパーオキサイド2重量部を0.01重量部に
代えた以外は、同様のものを用い、同様にして滑り速度
が0.20μm/secのBステージ接着剤シート
(b)を作製した。上記のBステージ接着剤シート
(a)から剥離性フィルムを除去し、その両面に上記B
ステージ接着剤シート(b)を重ね、140℃に加熱し
た一対の加熱ロール間をロール速度1m/minで通過
させて貼り合わせ、接着層が3層構成の接着テープを作
製した。
【0058】実施例33 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は1.46)および過酸化ベンゾイル1重量部を、テト
ラヒドロフラン中に添加、混合して、充分に溶解し、得
られた固形分率40重量%の液状混合物中にアルミナフ
ィラー(昭和電工社製、粒径0.05μm)10重量部
を添加混合して、液状接着剤を得た。この液状接着剤を
乾燥後の接着層の厚さが20μmになるように厚さ38
μmの剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120
℃で5分間乾燥して、未硬化接着剤シートを作製した。
この未硬化接着剤シートを2つ用意し、その一つを熱風
循環型乾燥機中にて100℃で12時間プレキュアーし
て、滑り速度が0.02μm/secのBステージ接着
剤シート(a)を作製した。上記未硬化接着剤シートの
他の一つを熱風循環型乾燥機中にて70℃で12時間プ
レキュアーして、滑り速度が0.35μm/secのB
ステージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステ
ージ接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着
剤層を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の
加熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼
り合わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0059】実施例34 実施例33における液状接着剤を、乾燥後の厚さが20
μmになるように実施例33と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾燥機
中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、上記
と同様にして滑り速度が0.45μm/secのBステ
ージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ
接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層
を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱
ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り合
わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0060】実施例35 実施例33における液状接着剤を、乾燥後の厚さが20
μmになるように実施例33と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シートを作製した。このBステージ接着剤シ
ートの上に、実施例33におけると同様にして得られた
液状接着剤を塗布し、熱風循環型乾燥機中にて160℃
で5分間乾燥して、滑り速度が0.45μm/secの
Bステージ接着剤層を形成し、接着層が2層構成の接着
テープを作製した。
【0061】実施例36 重量平均分子量70,000、アクリロニトリル含有率
25重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=55、m=18、n=1)30重量
部、前記式(II−1)で示される化合物61重量部、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミノ基1
モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモル当量
は1.46)、過酸化ベンゾイル1重量部およびラウロ
イルパーオキサイド2重量部を、テトラヒドロフラン中
に添加、混合して、充分に溶解し、得られた固形分率4
0重量%の液状混合物中にアルミナフィラー(昭和電工
社製、粒径0.05μm)10重量部を添加混合して、
液状接着剤を得た。この液状接着剤を乾燥後の膜厚が2
0μmになるように、厚さ38μmの剥離処理を施した
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、
熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑
り速度が0.02μm/secのBステージ接着剤シー
ト(a)を作製した。ラウロイルパーオキサイド2重量
部を0.05重量部に代えた以外は同様にして得られた
液状接着剤を用い、同様に操作して滑り速度が0.55
μm/secのBステージ接着剤シート(b)を作製し
た。上記のBステージ接着剤シート(a)および(b)
を、それらの接着剤層を対向するように重ね、140℃
に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m/mi
nで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成の接着テ
ープを作製した。
【0062】実施例37 実施例36にけるBステージ接着剤シート(a)と同様
にして作製された滑り速度が0.02μm/secのB
ステージ接着剤シート上に、実施例36におけるラウロ
イルパーオキサイド2重量部を0.05重量部に代えた
以外は同様にして得られた液状接着剤を塗布し、熱風循
環型乾燥機中にて140℃で5分間乾燥して、滑り速度
が0.55μm/secのBステージ接着剤層を形成
し、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0063】実施例38 実施例33と同様にして滑り速度が0.02μm/se
cのBステージ接着剤シート(a)および滑り速度が
0.35μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)から
剥離性フィルムを除去し、その両面に上記Bステージ接
着剤シート(b)を重ね、140℃に加熱した一対の加
熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り
合わせ、接着層が3層構成の接着テープを作製した。
【0064】実施例39 実施例33における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように実施例33と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤フィルム(a)を作製した。熱風循環型乾燥
機中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、上
記と同様にして滑り速度が0.45μm/secのBス
テージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステー
ジ接着剤シート(a)から剥離性フィルムを除去し、そ
の両面に上記Bステージ接着剤シート(b)を重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が3層構成の
接着テープを作製した。
【0065】実施例40 実施例33における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように実施例33と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シートを作製した。このBステージ接着剤シ
ートから剥離性フィルムを除去した後、その両面に、実
施例33におけると同様の液状接着剤を、乾燥後の膜厚
が20μmになるように塗布し、厚さ38μmの剥離処
理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを重
ね、160℃で5分間乾燥して、滑り速度が0.45μ
m/secのBステージ接着剤層を形成し、接着層が3
層構成の接着テープを作製した。
【0066】実施例41 実施例36と同様にして滑り速度が0.02μm/se
cのBステージ接着剤シート(a)および滑り速度が
0.55μm/secのBステージ接着剤シート(b)
を作製した。上記のBステージ接着剤シート(a)から
剥離性フィルムを除去し、その両面に上記Bステージ接
着剤シート(b)を重ね、140℃に加熱した一対の加
熱ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り
合わせ、接着剤層が3層構成の接着テープを作製した。
【0067】実施例42 実施例36におけるBステージ接着剤シート(a)と同
様にして作製された滑り速度が0.02μm/secの
Bステージ接着剤シートを用い、剥離性フィルムを除去
した後、その両面に、実施例36におけるラウロイルパ
ーオキサイド2重量部を0.02重量部に代えた以外は
同様にして得られた液状接着剤を塗布し、厚さ38μm
の剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィル
ムを重ね、熱風循環型乾燥機中にて140℃で5分間乾
燥して、滑り速度が0.55μm/secのBステージ
接着剤層を形成し、接着層が3層構成の接着テープを作
製した。
【0068】実施例43 重量平均分子量20,000、アクリロニトリル含有率
20重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニルエ
チルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体(k=58.4、m=14.6、n=1)
30重量部、前記式(II−1)で示される化合物61重
量部、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン9重量部(そのアミ
ノ基1モル当量に対する上記化合物のマレイミド基のモ
ル当量は1.46)および過酸化ベンゾイル1重量部
を、テトラヒドロフラン中に添加、混合して、充分に溶
解し、得られた固形分率40重量%の液状接着剤を得
た。この液状接着剤を乾燥後の接着層の厚さが20μm
になるように厚さ38μmの剥離処理を施したポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、熱風循環
型乾燥機中にて120℃で5分間乾燥して、未硬化接着
剤シートを作製した。この未硬化接着剤シートを2つ用
意し、その一つを熱風循環型乾燥機中にて100℃で1
2時間プレキュアーして、滑り速度が0.02μm/s
ecのBステージ接着剤シート(a)を作製した。上記
未硬化接着剤シートの他の一つを熱風循環型乾燥機中に
て70℃で12時間プレキュアーして、滑り速度が0.
35μm/secのBステージ接着剤シート(b)を作
製した。上記のBステージ接着剤シート(a)および
(b)を、それらの接着剤層を対向するように重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成の
接着テープを作製した。
【0069】実施例44 実施例43における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように実施例43と同様の剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾燥機
中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、上記
と同様にして滑り速度が0.45μm/secのBステ
ージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ
接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層
を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱
ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り合
わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0070】実施例45 実施例43におけるBステージ接着剤シート(a)と同
様にして得られた滑り速度が0.04μm/secのB
ステージ接着剤シート上に、実施例43における液状接
着剤を、乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、
熱風循環型乾燥機中にて160℃で5分間乾燥して、滑
り速度が0.45μm/secのBステージ接着剤層を
形成し、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0071】実施例46 重量平均分子量150,000、アクリロニトリル含有
率20重量%、アミノ基当量4,000のピペラジニル
エチルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体(k=58.4、m=14.6、n=
1)30重量部、前記式(II−1)で示される化合物6
1重量部、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン9重量部(その
アミノ基1モル当量に対する上記化合物のマレイミド基
のモル当量は1.46)および過酸化ベンゾイル1重量
部を、テトラヒドロフラン中に添加、混合して、充分に
溶解し、得られた固形分率40重量%の液状接着剤を得
た。この液状接着剤を乾燥後の接着層の厚さが20μm
になるように厚さ38μmの剥離処理を施したポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、熱風循環
型乾燥機中にて120℃で5分間乾燥して、未硬化接着
剤シートを作製した。この未硬化接着剤シートを2つ用
意し、その一つを熱風循環型乾燥機中にて100℃で1
2時間プレキュアーして、滑り速度が0.02μm/s
ecのBステージ接着剤シート(a)を作製した。上記
未硬化接着剤シートの他の一つを熱風循環型乾燥機中に
て70℃で12時間プレキュアーして、滑り速度が0.
35μm/secのBステージ接着剤シート(b)を作
製した。上記のBステージ接着剤シート(a)および
(b)を、それらの接着剤層を対向するように重ね、1
40℃に加熱した一対の加熱ロール間をロール速度1m
/minで通過させて貼り合わせ、接着層が2層構成の
接着テープを作製した。
【0072】実施例47 実施例46における液状接着剤を、乾燥後の膜厚が20
μmになるように実施例46と同様な剥離性フィルムの
一面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて180℃で5分
間乾燥して、滑り速度が0.04μm/secのBステ
ージ接着剤シート(a)を作製した。熱風循環型乾燥機
中における乾燥を160℃で5分間行った以外は、上記
と同様にして滑り速度が0.45μm/secのBステ
ージ接着剤シート(b)を作製した。上記のBステージ
接着剤シート(a)および(b)を、それらの接着剤層
を対向するように重ね、140℃に加熱した一対の加熱
ロール間をロール速度1m/minで通過させて貼り合
わせ、接着層が2層構成の接着テープを作製した。
【0073】実施例48 実施例46におけるBステージ接着剤シート(a)と同
様にして得られた滑り速度が0.04μm/secのB
ステージ接着剤シート上に、実施例46における液状接
着剤を、乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、
熱風循環型乾燥機中にて160℃で5分間乾燥して、滑
り速度が0.45μm/secのBステージ接着剤層を
形成し、接着剤層が2層構成の接着テープを作製した。
【0074】比較例1 ナイロンエポキシ系接着剤(トレジンFS−410、帝
国化学産業(株)製)(固形分率20%、溶剤:イソプ
ロピルアルコール:メチルエチルケトン=2:1)を用
意した。この接着剤を、乾燥後の接着層の厚さが40μ
mになるように厚さ38μmの剥離処理を施したポリエ
チレンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、熱風循
環型乾燥機中にて150℃で15分間乾燥して、Bステ
ージ接着層を有する接着テープを作製した。
【0075】比較例2 ポリイミド系ワニス(ラークTPI、三井東圧化学
(株)製)のN−メチルピロリドン20重量%溶液を用
意した。この接着剤を、乾燥後の接着層の厚さが40μ
mになるように厚さ38μmの剥離処理を施したポリエ
チレンテレフタレートフィルムの一面に塗布し、熱風循
環型乾燥機中にて150℃で120分間、次いで250
℃で60分間乾燥して、Bステージ接着層を有する接着
テープを作製した。 比較例3 実施例1の液状接着剤を、厚さ38μmの剥離処理を施
したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に、乾
燥後の膜厚が40μmになるように塗布し、熱風循環型
乾燥機中にて120℃で5分間乾燥し、さらに熱風循環
型乾燥機にて100℃で12時間プレキュアーすること
により、高硬化度の半硬化層のみからなる滑り速度が
0.02μm/secのBステージ接着層を有する接着
テープを作製した。 比較例4 実施例1の液状接着剤を、厚さ38μmの剥離処理を施
したポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に、乾
燥後の膜厚が40μmになるように塗布し、熱風循環型
乾燥機中にて120℃で5分間乾燥し、さらに熱風循環
型乾燥機にて70℃で12時間プレキュアーすることに
より、低硬化度の半硬化層のみからなる滑り速度が0.
3μm/secのBステージ接着層を有する接着テープ
を作製した。
【0076】(リードフレームの組立て)図1に示す半
導体パッケージに用いられるリードフレームを、次に示
す手順で表1に示す作業条件の下で組み立てた。 (a)接着テープの打ち抜き 金型による接着テープのリング状打ち抜き (b)接着テープの仮接着 ホットプレート上にプレーンを置き、リング状に打ち抜
いたテープをプレーンに金属ロッドで押し付け仮接着し
た。 (c)リードフレーム組立て 上記工程で接着テープを仮接着したプレーンとリードフ
レーム本体を位置合わせし、120℃に加熱したホット
プレート上で加熱加圧し、リードフレームとプレーンを
接着テープを介して貼り合わせた。 (d)接着テープキュアー 熱風循環型オーブン内を窒素置換し、3つの工程で組み
立てたリードフレーム上で表1に記載の条件で硬化させ
た。
【0077】
【表1】
【0078】(半導体パッケージの組立て)その後、作
成したリードフレームを使用し、以下の手順で半導体パ
ッケージを組み立てた。リードフレーム組立て時に接着
条件および硬化条件が異なるのは、各接着テープの特性
が異なるためである。ここでは、各接着テープに最適の
接着条件を選定し、それに基づいて接着硬化させた。 (a)ダイボンディング 半導体チップをダイボンディング用銀ペーストを用い
て、プレーン部に接着し、150℃で2時間硬化させ
た。 (b)ワイヤーボンディング ワイヤーボンダーにより、金線で半導体チップ上のワイ
ヤーパッドとインナーリード線端部の銀メッキ部分とを
配線する。 (c)モールディング エポキシ系モールド材でトランスファーモールドする。 (d)仕上げ工程 ホーミング、ダイカット、アウターリード部のメッキ等
の工程を含め、パッケージに仕上げる。
【0079】(接着テープおよび半導体パッケージの評
価結果) (a)テーピング可能温度 接着テープを容易かつ迅速に被着体、すなわち、プレー
ンもしくはリードピンに接着できるか否かの評価を行っ
た。具体的には、テーピングマシンで各接着テープをリ
ードフレームに接着することができる温度域を測定し
た。その結果、本発明の接着テープおよび比較例1と比
較例4の接着テープは100〜180℃の温度域で接着
できたが、比較例2の場合は400℃以上の温度を要し
た。また、比較例3の接着テープは250℃以上の温度
を要した。 (b)リードフレームの酸化 接着剤硬化中に、リードフレーム表面の酸化が起こって
いるか否かの評価を、リードフレーム表面の変色に対す
る視覚判定により行った。その結果、本発明の接着テー
プは、低温でテーピングができるので、酸化は生じなか
ったが、比較例2と比較例3の場合は、接着温度が高す
ぎるために変色が認められ、リードフレームの酸化が生
じていた。 (c)接着力 銅板に140℃で接着テープを貼着(テーピング)した
後の、10mm幅のテープの室温での90°ピール強度
を測定した。その結果、本発明の接着テープと比較例4
の接着テープは、25〜40g/10mmであるのに対
して、比較例1の場合は2〜4g/10mmであり、ま
た、比較例2と比較例3の場合は10〜40g/10m
mで変動幅が大きかった。 (d)ボイド 接着剤を硬化させる際に、接着剤内に発生するボイドが
実用上問題になるレベルにあるか否かを顕微鏡による視
覚判定にて評価した。その結果、本発明の接着テープ
は、ボイドの発生は全くなかったが、比較例1の場合は
ボイドの発生が認められた。 (e)作業性 リードフレームの組立ての際の接着テープのテーピング
等、使用時のハンドリング性(カール、走行性)および
接着テープの接着剤表面のタックについて評価を行っ
た。その結果、本発明の接着テープは、全てハンドリン
グ性が良好であり、表面のタックを生じなかったが、比
較例2の場合は、ハンドリング性に問題を生じた。
【0080】(f)ワイヤーボンダビリティー パッケージ組立てに際して、金線のワイヤーボンディン
グ時のリードフレーム上へのワイヤーボンダビリティー
を確認した。その結果、本発明の接着テープを使用した
場合、832ピンの試験において、ボンディング不良は
ゼロであった。一方、比較例1の場合は、832ピン中
125ピンのボンディング不良が確認され、金ワイヤー
のボンディングを十分な強度にすることができなかっ
た。 (g)半導体パッケージの評価 前述のようにして得られたパッケージに対して、PCB
T試験(Pressure Cooker Biase
d Test)を行った。条件は5ボルト印加、121
℃、2atm、100%RHで実施し、電気的信頼性テ
ストを行った。その結果、本発明の場合は、1000時
間でショートが生じなかった。一方、比較例4の場合
は、50個の試験体中、15個の試験体が試験前の導通
テストで絶縁性の確保ができていなかった。
【0081】以上の結果から明らかなように、本発明の
電子部品用接着テープの場合は、半導体パッケージを良
好に作製することができる。これに対して、比較例1〜
4の接着テープの場合には、リードフレームの酸化が生
じる、接着条件がリードフレームの組立てに適さない、
金線のワイヤーボンディングを行うことができない、お
よびリードフレーム組立て後、リードフレームと金属放
熱板等の被接着物との絶縁性が確保できない等の問題が
あり、電子部品作製の用途に適していない。
【0082】
【発明の効果】本発明の電子部品用接着テープは、上記
の構成を有するから、比較的低温で接着、硬化ができ、
十分な耐熱性、信頼性等を有しており、例えば、リード
フレーム固定用接着テープ、TABテープ等として、半
導体装置を構成するリードフレーム周辺の部材間、例え
ば、リードピン、半導体チップ搭載用基板、放熱板、半
導体チップ自身等の接着に好適に使用することができ
る。また、リードピンに対して使用する際には、硬化処
理に際してリードピンが接着テープの接着層中に埋没す
ることがないので、絶縁性が確保でき、半導体装置とし
て信頼性が高いものを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明または従来の接着テープを使用した樹
脂封止型半導体装置の一例の断面図である。
【図2】 本発明または従来の接着テープを使用した樹
脂封止型半導体装置の他の一例の断面図である。
【図3】 本発明または従来の接着テープを使用した樹
脂封止型半導体装置のさらに他の一例の断面図である。
【符号の説明】
1…半導体チップ、2…金属放熱板、3…リードピン、
4…ボンディングワイヤー、5…樹脂、6…接着層、7
…ダイパッド、8…電極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09J 109/02 C09J 109/02 133/20 133/20 H01L 21/52 H01L 21/52 E 23/40 23/40 F (72)発明者 西ヶ谷 剛 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社巴川製紙所電子・ディスプレイ材料研 究所内 (72)発明者 山梨 史義 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社巴川製紙所電子・ディスプレイ材料研 究所内 (56)参考文献 特開 平8−269406(JP,A) 特開 平7−126592(JP,A) 特開 平7−126591(JP,A) 特開 昭62−59678(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09J 7/00 - 7/04 C09J 109/02 C09J 133/20 C08F 220/60 C08F 265/08 H01L 21/52 H01L 23/40 C08G 73/00 C08G 77/26

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 剥離性フィルムの一面に、(a)重量平
    均分子量10,000〜200,000で、アクリロニ
    トリル含有率5〜50重量%、アミノ基当量500〜1
    0,000の下記一般式(I)で示されるピペラジニル
    エチルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニ
    トリル共重合体と、 【化1】 (式中、k、mおよびnは、モル比であって、n=1に
    対して、k=3〜175、m=0.3〜93の範囲の数
    を表わす。) (b)下記式(II−1)ないし式(II−6)で示される
    化合物から選択された2個以上のマレイミド基を含有す
    る化合物とを含有し、 【化2】 【化3】 成分(a)100重量部に対して、成分(b)が10〜
    900重量部である接着層を積層してなり、該接着層が
    Bステージまで硬化されたものであって、互いに異なる
    硬化度を有する二以上の半硬化層よりなることを特徴と
    する電子部品用接着テープ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の電子部品用接着テープ
    における接着層の表面に、さらに剥離性フィルムが設け
    られたことを特徴とする電子部品用接着テープ。
  3. 【請求項3】 剥離性フィルムの一面に、(a)重量平
    均分子量10,000〜200,000で、アクリロニ
    トリル含有率5〜50重量%、アミノ基当量500〜1
    0,000の上記一般式(I)で示されるピペラジニル
    エチルアミノカルボニル基含有ブタジエン−アクリロニ
    トリル共重合体、(b)上記式(II−1)ないし式(II
    −6)で示される化合物から選択された2個以上のマレ
    イミド基を含有する化合物、および(c)下記一般式
    (III )で示されるジアミン化合物 H2 N−R1 −NH2 (III ) (式中、R1 は二価の脂肪族基、芳香族基または脂環式
    基を表わす。) または重量平均分子量200〜7,000の下記一般式
    (IV)で示されるアミノ基含有ポリシロキサン化合物を
    含有し、 【化4】 (式中、R2 は二価の脂肪族基、芳香族基または脂環式
    基を表わし、sは0ないし7の整数を意味する。) 成分(a)100重量部に対して、成分(b)と成分
    (c)の総和が10〜900重量部であり、成分(c)
    のアミノ基1モル当量に対する成分(b)のマレイミド
    基が1〜100モル当量である接着層を積層してなり、
    該接着層がBステージ状態に硬化されたものであって、
    互いに異なる硬化度を有する二以上の半硬化層よりなる
    ことを特徴とする電子部品用接着テープ。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の電子部品用接着テープ
    における接着層の表面に、さらに剥離性フィルムが設け
    られたことを特徴とする電子部品用接着テープ。
  5. 【請求項5】 接着層に粒径1μm以下のフィラーが4
    〜40重量%含まれていることを特徴とする請求項1な
    し4のいずれかに記載の電子部品用接着テープ。
  6. 【請求項6】 Bステージ状態に硬化された接着層が、
    滑り速度0.01〜0.3μm/secの範囲の高硬化
    度の半硬化層と、滑り速度0.1〜10.0μm/se
    cの範囲の低硬化度の半硬化層よりなり、かつ高硬化度
    の半硬化層の滑り速度(V1 )と低硬化度の半硬化層の
    滑り速度(V2 )が、V2 >V1 の関係を有することを
    特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の電子部
    品用接着テープ。
  7. 【請求項7】 Bステージまで硬化された接着層が、滑
    り速度が0.1〜10.0μm/secの範囲の低硬化
    度の第1の半硬化層、滑り速度0.3μm/sec以下
    の高硬化度の半硬化層および滑り速度0.1〜10.0
    μm/secの範囲の低硬化度の第2の半硬化層とを順
    次積層してなり、かつ高硬化度の半硬化層の滑り速度
    (V3 )と低硬化度の第1の半硬化層の滑り速度
    (V4 )および第2の半硬化層の滑り速度(V5 )が、
    4 >V3 およびV5 >V3 の関係を有することを特徴
    とする請求項1ないし4のいずれかに記載の電子部品用
    接着テープ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001131501A (ja) * 1999-11-04 2001-05-15 Hitachi Chem Co Ltd 三層接着フィルム、半導体チップ搭載用基板及び半導体装置
JP2001152107A (ja) * 1999-11-25 2001-06-05 Hitachi Chem Co Ltd 積層接着フィルム、半導体チップ搭載用基板及び半導体装置
US7390570B2 (en) * 2004-05-13 2008-06-24 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Maleimide terminated rubber and curable composition produced by using the maleimide terminated rubber
JP2006028242A (ja) * 2004-07-13 2006-02-02 Tomoegawa Paper Co Ltd 電子部品用接着テープおよび電子部品
US8105880B2 (en) * 2007-12-05 2012-01-31 Analog Devices, Inc. Method for attaching a semiconductor die to a leadframe, and a semiconductor device
JP5110441B2 (ja) 2008-01-15 2012-12-26 大日本印刷株式会社 半導体装置用配線部材、半導体装置用複合配線部材、および樹脂封止型半導体装置
TWI501371B (zh) * 2009-01-13 2015-09-21 Dainippon Printing Co Ltd A wiring member for a semiconductor device, a composite wiring member for a semiconductor device, and a resin-sealed type semiconductor device
WO2013032975A1 (en) 2011-08-29 2013-03-07 Ticona Llc Thermotropic liquid crystalline polymer with improved low shear viscosity
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TW201313884A (zh) 2011-08-29 2013-04-01 Ticona Llc 液晶聚合物之固態聚合
CN103764793B (zh) 2011-08-29 2016-09-14 提克纳有限责任公司 高流动液晶聚合物组合物
JP2014525499A (ja) 2011-08-29 2014-09-29 ティコナ・エルエルシー 低い融解温度をもつ耐熱性液晶ポリマー組成物
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US9206300B2 (en) 2013-06-07 2015-12-08 Ticona Llc High strength thermotropic liquid crystalline polymer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2732020B2 (ja) * 1993-10-22 1998-03-25 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープおよび液状接着剤
JP3137518B2 (ja) * 1993-10-29 2001-02-26 株式会社巴川製紙所 電子部品用液状接着剤およびそれを用いる絶縁接着層の形成方法

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