JP2890049B2 - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JP2890049B2 JP2890049B2 JP18992789A JP18992789A JP2890049B2 JP 2890049 B2 JP2890049 B2 JP 2890049B2 JP 18992789 A JP18992789 A JP 18992789A JP 18992789 A JP18992789 A JP 18992789A JP 2890049 B2 JP2890049 B2 JP 2890049B2
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- Japan
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- general formula
- photoreceptor
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に有機光導電性電
子写真感光体、更に電子写真感光体構成層の特性に関す
る。
子写真感光体、更に電子写真感光体構成層の特性に関す
る。
カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表
面を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を
消去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによ
って現像し、次いでそのトナー像を紙等に転写、定着さ
せる。
面を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を
消去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによ
って現像し、次いでそのトナー像を紙等に転写、定着さ
せる。
一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清
浄化が施され、長期に亘って反復使用される。
浄化が施され、長期に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性及び感度
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であるこ
とが要求される。
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であるこ
とが要求される。
従来、電子写真感光体としては、無機光導電性物質を
感光層主成分とする無機感光体が広く用いられていたが
近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照らして各機能を発揮する物質を広い範囲から
選択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化
する動向にある。
感光層主成分とする無機感光体が広く用いられていたが
近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照らして各機能を発揮する物質を広い範囲から
選択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化
する動向にある。
このような機能分担型の有機感光体は従来主として負
帯電用として用いられ、特開昭60−247647号に記載され
るように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、この上
に比較的厚いキャリア輸送層を設ける積層構成がとられ
ていることが多い。
帯電用として用いられ、特開昭60−247647号に記載され
るように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、この上
に比較的厚いキャリア輸送層を設ける積層構成がとられ
ていることが多い。
更に積層構成の機能の向上を図って、支持体−感光層
間の良好な接着、感光層の物理的及び/又は化学的な保
護、支持体からのキャリア注入のブロッキング或いは感
光層間に亘るキャリア注入の改善を計る事等に関し、各
種補助層の検討が積極的に進められ、又感光層のバイン
ダについても同様の観点から数多くの検討がされてい
る。
間の良好な接着、感光層の物理的及び/又は化学的な保
護、支持体からのキャリア注入のブロッキング或いは感
光層間に亘るキャリア注入の改善を計る事等に関し、各
種補助層の検討が積極的に進められ、又感光層のバイン
ダについても同様の観点から数多くの検討がされてい
る。
補助層としての下引層については支持体と感光層の接
着性、支持体からのフリーキャリアのブロッキング効果
に主眼が置かれ、塩酢ビ−マレイン酸共重合体(特開昭
56−47047号)、エチレン系高分子(特開昭60−218658
号)等の疎水性樹脂下引が検討されたが、更に製造が容
易であり、且つ塗布性がよく、フリーキャリアのブロッ
キング効果が高い或いは接着性がよい等の利点から親水
性の水溶性ポリマーが下引層として検討されているが、
これらの水溶性下引層は感光体に環境特性を劣化させ
る、即ち高湿、高温下での帯電電位及び残留電位に不安
定さを持込む欠点がある。
着性、支持体からのフリーキャリアのブロッキング効果
に主眼が置かれ、塩酢ビ−マレイン酸共重合体(特開昭
56−47047号)、エチレン系高分子(特開昭60−218658
号)等の疎水性樹脂下引が検討されたが、更に製造が容
易であり、且つ塗布性がよく、フリーキャリアのブロッ
キング効果が高い或いは接着性がよい等の利点から親水
性の水溶性ポリマーが下引層として検討されているが、
これらの水溶性下引層は感光体に環境特性を劣化させ
る、即ち高湿、高温下での帯電電位及び残留電位に不安
定さを持込む欠点がある。
又一方、感光体に使用されるバインダとしては、帯電
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールA型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールA型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
しかし本発明者等が検討を加えた結果、上記ビスフェ
ノールA型ポリカーボネートは、高分子の結晶性が高い
ためその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2日程度で使
用不可能となるという欠点を有している。又塗布により
膜形成を行うと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカーボ
ネートが析出して凸部が生じやすく、このために塗膜の
尾引きが生じて収率を低下したり、或いは感光体として
の使用時に凸部にトナーが付着してクリーニングされず
に残り、いわゆるクリーニング不良による画像欠陥が生
じやすい。
ノールA型ポリカーボネートは、高分子の結晶性が高い
ためその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2日程度で使
用不可能となるという欠点を有している。又塗布により
膜形成を行うと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカーボ
ネートが析出して凸部が生じやすく、このために塗膜の
尾引きが生じて収率を低下したり、或いは感光体として
の使用時に凸部にトナーが付着してクリーニングされず
に残り、いわゆるクリーニング不良による画像欠陥が生
じやすい。
又、上記ビスフェノールA型ポリカーボネートをバイ
ンダ樹脂として用いた電子写真感光体、電子写真複写機
の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニングブ
レードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光層が
次第に擦耗するという欠点を有する。
ンダ樹脂として用いた電子写真感光体、電子写真複写機
の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニングブ
レードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光層が
次第に擦耗するという欠点を有する。
又ポリビニルアセタール樹脂は繰返し使用に対する耐
用性が不充分であり、特に高温高湿下稼働の場合、生成
したキャリアが吸収した水分の影響をうけて電荷発生層
中でトラップされ、感度の低下、残留電位の上昇を招
き、前記したポリビニルアセタール樹脂の接着性をはじ
めとする数々の利点を活用する障害となっている。
用性が不充分であり、特に高温高湿下稼働の場合、生成
したキャリアが吸収した水分の影響をうけて電荷発生層
中でトラップされ、感度の低下、残留電位の上昇を招
き、前記したポリビニルアセタール樹脂の接着性をはじ
めとする数々の利点を活用する障害となっている。
前記実情に照らして、本発明の目的は、 1.接着性のよいしかも電子写真特性の安定な感光体を提
供することにある。又、 2.水溶性下引を用いた時の、環境依存性のない、特に高
温高湿下の接着性、電子写真特性の安定な、更に繰返し
使用において感度及び残留電位の安定な感光体の提供に
ある。
供することにある。又、 2.水溶性下引を用いた時の、環境依存性のない、特に高
温高湿下の接着性、電子写真特性の安定な、更に繰返し
使用において感度及び残留電位の安定な感光体の提供に
ある。
前記の本発明の目的は、支持体上に下引層、電荷発生
層、電荷輸送層をこの順に設けた感光層を有する電子写
真感光体において、前記下引層に水溶性ポリビニルアセ
タールを主成分とする樹脂を用い、前記電荷輸送層のバ
インダに下記一般式〔I〕で示される繰返し構造単位を
有するポリビスフェノール型カーボネートと、下記一般
式〔T〕で表される電荷輸送物質を含有することを特徴
とする電子写真感光体によって達成される。
層、電荷輸送層をこの順に設けた感光層を有する電子写
真感光体において、前記下引層に水溶性ポリビニルアセ
タールを主成分とする樹脂を用い、前記電荷輸送層のバ
インダに下記一般式〔I〕で示される繰返し構造単位を
有するポリビスフェノール型カーボネートと、下記一般
式〔T〕で表される電荷輸送物質を含有することを特徴
とする電子写真感光体によって達成される。
一般式〔I〕 〔式中、R1及びR2は水素原子を置換するハロゲン原子、
アルキル基、シクロアルキル基を表し、p,qは0〜4の
整数である。尚p個のR1、q個のR2の夫々の組の中で同
じでも異っていてもよい。Zはフェニレン基間の炭素環
を形成するに必要な原子群を表す。又前記の基、環は置
換されていてもよい。〕 一般式〔T〕 〔式中、Ar1、Ar2は同じでも異なっていてもよく、各々
置換・非置換のアリール基を表す。
アルキル基、シクロアルキル基を表し、p,qは0〜4の
整数である。尚p個のR1、q個のR2の夫々の組の中で同
じでも異っていてもよい。Zはフェニレン基間の炭素環
を形成するに必要な原子群を表す。又前記の基、環は置
換されていてもよい。〕 一般式〔T〕 〔式中、Ar1、Ar2は同じでも異なっていてもよく、各々
置換・非置換のアリール基を表す。
Ar3は置換・非置換のアリレン基を表す。
Ar4は置換・非置換のアリール基、フリル基、フェニ
ル基を表し置換基としてアルキル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、水酸基、ハロゲン原子よりなる群より
1つ以上の組合せで用いられる。R1は水素原子、置換若
しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の
アリール基を表す。〕 次に本発明を詳しく説明する。
ル基を表し置換基としてアルキル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、水酸基、ハロゲン原子よりなる群より
1つ以上の組合せで用いられる。R1は水素原子、置換若
しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の
アリール基を表す。〕 次に本発明を詳しく説明する。
本発明に係る下引層に用いる水溶性ポリビニルアセタ
ールは下記一般式〔II〕で表される。
ールは下記一般式〔II〕で表される。
一般式〔II〕 式中RはH、CH3、C2H5又はC3H7である。尚l、m、
nはモル%を表す。
nはモル%を表す。
上記ポリビニルアセタール樹脂はポリ酢酸ビニルを苛
性ソーダ等の存在下に酢酸ビニル構造単位を残して鹸化
してポリビニルアルコールとし、更に塩酸等の無機酸の
存在下にビニルアルコール構造単位を残してアルコール
でアセタール化し、アルカリで中和して製造される。
性ソーダ等の存在下に酢酸ビニル構造単位を残して鹸化
してポリビニルアルコールとし、更に塩酸等の無機酸の
存在下にビニルアルコール構造単位を残してアルコール
でアセタール化し、アルカリで中和して製造される。
本発明に係る水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセ
タール化は40モル%(l)以下が好ましく、この中約10
モル%はブチルアルデヒドによるブチラールであること
が好ましい。更にビニルアルコール構造単位の残留分n
は50モル%以上が好ましい。
タール化は40モル%(l)以下が好ましく、この中約10
モル%はブチルアルデヒドによるブチラールであること
が好ましい。更にビニルアルコール構造単位の残留分n
は50モル%以上が好ましい。
尚モル%指数で括られる構造単位は互いにブロックを
なしていてもよいが、モル%指数は全分子中の前記構造
単位のモル%を意味する。
なしていてもよいが、モル%指数は全分子中の前記構造
単位のモル%を意味する。
前記のように本発明に使用する水溶性ポリビニルアセ
タール樹脂はアセタール化度が低く残存ビニルアルコー
ル成分が多く、水、アルコール類への溶解性がよく一般
の有機溶媒には溶けにくい。
タール樹脂はアセタール化度が低く残存ビニルアルコー
ル成分が多く、水、アルコール類への溶解性がよく一般
の有機溶媒には溶けにくい。
次に本発明に係る感光層のバインダに用いる一般式
〔I〕で表されるカーボネート樹脂(〔I〕型カーボネ
ートを称する)の重合度は10〜5000、好ましくは50〜10
00であり、従来用いられていたビスフェノールA型のカ
ーボネートの欠点を改善したものであって、これらのポ
リカーボネートの中心炭素原子には、かさ高い(バルキ
ィな)Zによる環が形成されるので、Zによってポリカ
ーボネートの分子鎖が特定方向に配列することが効果的
に阻止される。このためポリカーボネートが、結晶化し
て溶液がゲル化したり感光層形成時に膜表面に析出する
ことがなく、異常な凸部による収率の底化及びクリーニ
ング不良等による画像欠陥等のごとき、特性劣化を防ぐ
ことができる。
〔I〕で表されるカーボネート樹脂(〔I〕型カーボネ
ートを称する)の重合度は10〜5000、好ましくは50〜10
00であり、従来用いられていたビスフェノールA型のカ
ーボネートの欠点を改善したものであって、これらのポ
リカーボネートの中心炭素原子には、かさ高い(バルキ
ィな)Zによる環が形成されるので、Zによってポリカ
ーボネートの分子鎖が特定方向に配列することが効果的
に阻止される。このためポリカーボネートが、結晶化し
て溶液がゲル化したり感光層形成時に膜表面に析出する
ことがなく、異常な凸部による収率の底化及びクリーニ
ング不良等による画像欠陥等のごとき、特性劣化を防ぐ
ことができる。
更に、本発明の層構成にする事により、上述の公知の
効果に加えてポリビニルアセタール樹脂を下引層に用い
た場合の耐環境特性の欠点を改良する効果が著しい。
効果に加えてポリビニルアセタール樹脂を下引層に用い
た場合の耐環境特性の欠点を改良する効果が著しい。
即ち本感光体の構成により得られた感光体は常温常湿
下或いは高温高湿条件下での多数枚コピー時の残留電位
の上昇に対して著しい効果を示した。このような効果は
ポリビニルアセタール樹脂及び上記ポリカーボネート及
びトリフェニルアミンのそれぞれの効果からは全く予想
できない事であった。
下或いは高温高湿条件下での多数枚コピー時の残留電位
の上昇に対して著しい効果を示した。このような効果は
ポリビニルアセタール樹脂及び上記ポリカーボネート及
びトリフェニルアミンのそれぞれの効果からは全く予想
できない事であった。
更に、感光体として用いた時、磁気ブラシやクリーニ
ングブレードで擦過されても感光層表面に傷が付きにく
く感光層の摩耗が少ない上、クリーニング不良等の特性
不良のない高耐刷性の電子写真感光体を作成することが
できる。
ングブレードで擦過されても感光層表面に傷が付きにく
く感光層の摩耗が少ない上、クリーニング不良等の特性
不良のない高耐刷性の電子写真感光体を作成することが
できる。
又前記本発明に係るポリカーボネート樹脂には必要に
応じ、一般式〔I〕の繰返し単位の外に他の繰返し単位
を含有させた共縮合型のポリカーボネート、例えば、4,
4′−ジヒドロキシフェニル−1,1−シクロヘキサンに少
量のビスフェノールAを混合して共縮合させたポリカー
ボネートを用い、物理的、化学的或いは電気的特性な調
整してもよい。
応じ、一般式〔I〕の繰返し単位の外に他の繰返し単位
を含有させた共縮合型のポリカーボネート、例えば、4,
4′−ジヒドロキシフェニル−1,1−シクロヘキサンに少
量のビスフェノールAを混合して共縮合させたポリカー
ボネートを用い、物理的、化学的或いは電気的特性な調
整してもよい。
更に必要に応じて目的とする作用効果に支障を来さぬ
範囲で他のポリマーを混合して用いることができる。こ
の際の混合比率は50wt/%以下が好ましい。
範囲で他のポリマーを混合して用いることができる。こ
の際の混合比率は50wt/%以下が好ましい。
本発明に係る〔I〕型ポリカーボネートは、ポリカー
ボネートが本来奏する優れた帯電性能、繰返し特性、耐
刷性等の特性を感光体に付与することができる。
ボネートが本来奏する優れた帯電性能、繰返し特性、耐
刷性等の特性を感光体に付与することができる。
次に前記一般式〔I〕におけるR1及びR2の基は、水素
原子をはじめ、ハロゲン原子、メチル基等のアルキル
基、シクロヘキシル基等の炭素環基であってもよい。
原子をはじめ、ハロゲン原子、メチル基等のアルキル
基、シクロヘキシル基等の炭素環基であってもよい。
又前記Zは、5員又は6員の炭素環を形成するもので
あってもよく、こうした環としては、シクロヘキシル
環、シクロペンチル環等が挙げられ、環の一部にアセチ
ル基、アセチルアミノ基等の置換基が導入されていてよ
い。
あってもよく、こうした環としては、シクロヘキシル
環、シクロペンチル環等が挙げられ、環の一部にアセチ
ル基、アセチルアミノ基等の置換基が導入されていてよ
い。
本発明で使用するポリカーボネートの繰返し単位とし
ては具体的には次のものが挙げられる。
ては具体的には次のものが挙げられる。
:例示繰返し単位: 尚、本発明で使用する〔I〕型ポリカーボネートは電
荷輸送層(CTL)バインダの主成分を占めるが、他に併
用されてもよいバインダ成分としては通常のポリカーボ
ネート、上記のR1,R2,Zを有しないポリカーボネート等
が挙げられる。
荷輸送層(CTL)バインダの主成分を占めるが、他に併
用されてもよいバインダ成分としては通常のポリカーボ
ネート、上記のR1,R2,Zを有しないポリカーボネート等
が挙げられる。
上記ポリカーボネートは、機能分離感光体のCTLのみ
ならず電荷発生層(以後CGLと称す)のバインダとして
使用してもよい。
ならず電荷発生層(以後CGLと称す)のバインダとして
使用してもよい。
更に本発明に係る感光体のバインダとしては従来公知
のバインダを〔I〕型ポリカーボネートに併用してCGL
及びCTLに用いてもよい。又CGLには前記ポリビニルアセ
タールを混用してもよい。
のバインダを〔I〕型ポリカーボネートに併用してCGL
及びCTLに用いてもよい。又CGLには前記ポリビニルアセ
タールを混用してもよい。
次に本発明に用いられる電荷発生物質(以後CGMと称
す)は、電磁波を吸収してフリーキャリアを発生するも
のであれば、無機顔料及び有機顔料の何れも用いること
ができる。例えば無定形セレン、硫化カリドミウム、酸
化亜鉛等の無機顔料或は (1)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料、 (2)ペリレン系顔料 (3)アントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インジゴイド系顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 (6)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料の
キノンイミン顔料 (7)シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料 (8)キノリン系顔料 (9)ニトロ系顔料 等の有機顔料を用いることができる。
す)は、電磁波を吸収してフリーキャリアを発生するも
のであれば、無機顔料及び有機顔料の何れも用いること
ができる。例えば無定形セレン、硫化カリドミウム、酸
化亜鉛等の無機顔料或は (1)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料、 (2)ペリレン系顔料 (3)アントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インジゴイド系顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 (6)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料の
キノンイミン顔料 (7)シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料 (8)キノリン系顔料 (9)ニトロ系顔料 等の有機顔料を用いることができる。
本発明において特に好ましいCGMとしてはビスアゾ構
造を帯同したフルオレノン系顔料、特に下記一般式
〔G〕で示されるフルオレノンが好ましい。
造を帯同したフルオレノン系顔料、特に下記一般式
〔G〕で示されるフルオレノンが好ましい。
一般式〔G〕 式中Q1,Q2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表
す。ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、沃素原
子;アクリル基としては、メチル基、エチル、ブチル
基;アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基なとが挙げられる。特に好ましくは水素原子、
ハロゲン原子である。
アルコキシ基、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表
す。ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、沃素原
子;アクリル基としては、メチル基、エチル、ブチル
基;アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基なとが挙げられる。特に好ましくは水素原子、
ハロゲン原子である。
Cpはカプラー残基を表し、下記構造式で示すカプラー
残基が好ましい。
残基が好ましい。
式中、Zはベンゼン環と縮合して多環式芳香族を形成
するに必要な原子群を表す。
するに必要な原子群を表す。
R1,R2は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、複素環基或いはそれらの置換体を表す。又窒素
原子或いは炭素原子と共に環を形成してもよい。
ール基、複素環基或いはそれらの置換体を表す。又窒素
原子或いは炭素原子と共に環を形成してもよい。
これらのカプラー残基の中で、特に下記構造式(1−
a),(1−b)が好ましい。
a),(1−b)が好ましい。
式中、Y1,Y2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロ
メチル基を表す。
基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロ
メチル基を表す。
次に本発明で使用可能な電荷輸送物質(以後CTMと称
す)としては、下記一般式〔T〕で示されるスチリルト
リフェニルアミンである。
す)としては、下記一般式〔T〕で示されるスチリルト
リフェニルアミンである。
式中、Ar1,Ar2は同じでも異なっていてもよく、各々
置換・非置換のアリール基を表す。
置換・非置換のアリール基を表す。
Ar3は置換・非置換のアリレン基を表す。
Ar4は置換・非置換のアリール基、フリル基、フェニ
ル基を表し置換基としてアルキル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、水酸基、ハロゲン原子よりなる群より
1つ以上の組合せで用いられる。R1は水素原子、置換若
しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の
アリール基を表す。
ル基を表し置換基としてアルキル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、水酸基、ハロゲン原子よりなる群より
1つ以上の組合せで用いられる。R1は水素原子、置換若
しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の
アリール基を表す。
Ar1,Ar2,Ar3の好ましい置換基としてはハロゲン原
子、置換・非置換のアルキル基、アルコキシ基、置換・
非置換のアミノ基、水酸基、アリールオキシ基である。
子、置換・非置換のアルキル基、アルコキシ基、置換・
非置換のアミノ基、水酸基、アリールオキシ基である。
このような化合物の具体例は特開昭58−65440号及び
同58−198043号に詳細に記載されている。
同58−198043号に詳細に記載されている。
本発明においては、前記一般式〔T〕で示されるトリ
アリールアミン誘導体のキャリア輸送能を利用し、機能
分離型感光体の感光層におけるCTMとして用いることに
より被覆物性に優れ、電荷保持力、感度、残留電位等の
電子写真特性に優れ且つ、繰返し使用に供したときにも
疲労劣化が少ない上、上述の特性が変化することがなく
て安定した特性を発揮し得る電子写真感光体を作成する
ことができる。
アリールアミン誘導体のキャリア輸送能を利用し、機能
分離型感光体の感光層におけるCTMとして用いることに
より被覆物性に優れ、電荷保持力、感度、残留電位等の
電子写真特性に優れ且つ、繰返し使用に供したときにも
疲労劣化が少ない上、上述の特性が変化することがなく
て安定した特性を発揮し得る電子写真感光体を作成する
ことができる。
本発明の感光体の感光層構成には積層構成を採るが、
必要により表面層として設ける保護層(OCL)、及びCT
L,CGL或いは中間層のいずれか、もしくはそれらの複数
層に感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減
等を目的として、少なくとも1種の電子受容性物質を含
有せしめることができる。
必要により表面層として設ける保護層(OCL)、及びCT
L,CGL或いは中間層のいずれか、もしくはそれらの複数
層に感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減
等を目的として、少なくとも1種の電子受容性物質を含
有せしめることができる。
又更に表面改質剤としてシリコーンオイルを存在させ
てもよい。又耐久性向上剤としてアンモニウム化合物が
含有されていてもよい。
てもよい。又耐久性向上剤としてアンモニウム化合物が
含有されていてもよい。
更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いてもよい。
好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベ
ン化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミ
ダゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、
オキサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘
導体等の含窒素化合物類が用いられる。
ン化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミ
ダゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、
オキサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘
導体等の含窒素化合物類が用いられる。
又酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合
物等が挙げられる。
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合
物等が挙げられる。
又本発明に係るOCL中には加工性及び物性の改良(亀
裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑
性樹脂を50wt%未満含有せしめることができる。
裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑
性樹脂を50wt%未満含有せしめることができる。
又、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として
機能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリ
ビニルアルコール、エチルセルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、ニトロセルロー
ス、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−無
水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アルコキシメチ
ル化ナイロン、アルコール可溶性ナイロン、ポリエチレ
ン、ポリスチレン等が用いられる。
機能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリ
ビニルアルコール、エチルセルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、ニトロセルロー
ス、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−無
水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アルコキシメチ
ル化ナイロン、アルコール可溶性ナイロン、ポリエチレ
ン、ポリスチレン等が用いられる。
前記本発明の目的を遂げるには好ましい界面活性剤と
しては、ポリエチレングリコール型或いは多価アルコー
ル型の非イオン界面活性剤が選ばれ、アニオン、カチオ
ン或いは両性界面活性剤は耐湿性等に於て問題を起し易
い。
しては、ポリエチレングリコール型或いは多価アルコー
ル型の非イオン界面活性剤が選ばれ、アニオン、カチオ
ン或いは両性界面活性剤は耐湿性等に於て問題を起し易
い。
更に該非イオン界面活性剤は、その親水性部分のエー
テル結合、水酸基に対する疎水基が炭化水素のままであ
る炭化水素系、炭化水素の水素が珪素原子で置換された
シリコーン系及び弗素原子で置換された弗素系のものが
あり、 弗素系>シリコーン系>炭化水素系 の順に弗素系が最も好ましい。
テル結合、水酸基に対する疎水基が炭化水素のままであ
る炭化水素系、炭化水素の水素が珪素原子で置換された
シリコーン系及び弗素原子で置換された弗素系のものが
あり、 弗素系>シリコーン系>炭化水素系 の順に弗素系が最も好ましい。
添加使用量は塗料組成によって大幅に変動するが、塗
料の10-4〜1.0wt%の範囲であり、最適量は実用的に定
められる。
料の10-4〜1.0wt%の範囲であり、最適量は実用的に定
められる。
本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支
持体としては、主として下記のものが用いられるが、こ
れらにより限定されるものではない。
持体としては、主として下記のものが用いられるが、こ
れらにより限定されるものではない。
1) アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
2) 紙或いはプラスチックフィルムなどの支持体上
に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラ
ミネートもしくは蒸着によって設けたもの。
に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラ
ミネートもしくは蒸着によって設けたもの。
3) 紙或いはプラスチックフィルムなどの支持体上
に、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導
電性化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたも
の。
に、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導
電性化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたも
の。
本発明の感光体は、第1図に示すように導電性支持体
1上にCGMを主成分とするCGL2とCTMを主成分として含有
するCTL3との積層体より成る感光層4を設ける。更に導
電性支持体1上に中間層(UCL)5が設けられる。この
ように感光層4を二層構成としたときに最もすぐれた電
子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。
1上にCGMを主成分とするCGL2とCTMを主成分として含有
するCTL3との積層体より成る感光層4を設ける。更に導
電性支持体1上に中間層(UCL)5が設けられる。この
ように感光層4を二層構成としたときに最もすぐれた電
子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。
更に前記感光層4の上には必要に応じ保護層6を設け
てもよい。この保護層には本発明に係るポリカーボネー
トと好ましくは非イオン界面活性剤が含まれる。
てもよい。この保護層には本発明に係るポリカーボネー
トと好ましくは非イオン界面活性剤が含まれる。
又、二層構成の感光層4を構成するCGL2は、UCL5を有
する導電性支持体1上に直接或いは必要に応じて接着層
もしくはブロッキング層などの中間層を設けた上に、次
の方法によって形成することができる。
する導電性支持体1上に直接或いは必要に応じて接着層
もしくはブロッキング層などの中間層を設けた上に、次
の方法によって形成することができる。
(1)CGMを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布する方法 (2)CGMをボールミル、サンドグラインダ等によって
分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バインダと混
合分散して得られる分散液を塗布する方法。
分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バインダと混
合分散して得られる分散液を塗布する方法。
即ち具体的には、ディッピング、スプレイ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるCGL2の厚さは、0.01μm〜
5μmであることが好しく、更に好ましくは0.05μm〜
3μmである。
5μmであることが好しく、更に好ましくは0.05μm〜
3μmである。
又CTL3の厚さは、必要に応じて変更し得るが通常5μ
m〜30μmであることが好ましい。このCTL3における組
成割合は、本発明のCTM1重量部(wtと標記する)に対し
てバインダ0.1〜5wtとするのが好ましい。又微粒子状の
CGMをCTL3中に分散せしめることもできる。
m〜30μmであることが好ましい。このCTL3における組
成割合は、本発明のCTM1重量部(wtと標記する)に対し
てバインダ0.1〜5wtとするのが好ましい。又微粒子状の
CGMをCTL3中に分散せしめることもできる。
又CGLをバインダ中分散型のものとして構成する場合
には、CGM1wtに対してバインダを5wt以下の範囲で用い
ることが好ましい。
には、CGM1wtに対してバインダを5wt以下の範囲で用い
ることが好ましい。
本発明の感光体は以上のような構成であって、後述す
るような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特
性、画像形成特性に優れたものである。特に反復転写式
電子写真方式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性
が優れたものである。
るような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特
性、画像形成特性に優れたものである。特に反復転写式
電子写真方式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性
が優れたものである。
以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これによ
り本発明の実施態様が限定されるものではない。
り本発明の実施態様が限定されるものではない。
実施例1 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート
フィルム上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレ
ックW−201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液1wtに
純水(比抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東
化学社製特級試薬)10wtよりなる塗料をワイヤバーにて
流延塗布し、100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のU
CLを形成した。
フィルム上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレ
ックW−201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液1wtに
純水(比抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東
化学社製特級試薬)10wtよりなる塗料をワイヤバーにて
流延塗布し、100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のU
CLを形成した。
一方、CGMとして、下記構造式のビスアゾ顔料を使用
し、次のようにしてCGL塗料を調製した。
し、次のようにしてCGL塗料を調製した。
ポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ−200:三菱瓦斯
化学社製) : 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) :80wt
から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延
塗布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成し
た。
化学社製) : 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) :80wt
から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延
塗布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成し
た。
続いて、CTMとして下記構造式のスチリルトリフェニ
ルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ−200:三菱瓦斯
化学社製) ; 10wt 1,2−ジクロルエタン ;125wt 上記から成る混合溶液を用意し、CGL上にドクターブ
レードにて流延塗布し、90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真用感光体を作成した。
化学社製) ; 10wt 1,2−ジクロルエタン ;125wt 上記から成る混合溶液を用意し、CGL上にドクターブ
レードにて流延塗布し、90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真用感光体を作成した。
実施例2 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレックW−
201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液溶液1wtに純水
(比抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東化学
社製特級試薬)10wtより成る塗料をワイヤバーにて流延
塗布し100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形
成した。
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレックW−
201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液溶液1wtに純水
(比抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東化学
社製特級試薬)10wtより成る塗料をワイヤバーにて流延
塗布し100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形
成した。
一方、CGMとして、下記構造式のビスアゾ顔料を使用
し、次の様にしてCGL塗料を調製した。
し、次の様にしてCGL塗料を調製した。
ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂(ユーピロ
ンZ−200:三菱瓦斯化学社製) ; 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) ;80wt から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延
塗布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成し
た。
ンZ−200:三菱瓦斯化学社製) ; 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) ;80wt から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延
塗布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成し
た。
続いてCTMとして、下記構造式のスチリルトリフェニ
ルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ポリカーボネート樹脂例示(11)の重合体 ; 10wt 1,2−ジクロルエタン 125wt 上記からなる混合溶液を用意し、CGL上にドクターブ
レードにて、流延塗布し90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真感光体を作成した。
レードにて、流延塗布し90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真感光体を作成した。
実施例3 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレックW−
201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液1wtに純水(比
抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東化学社製
特級試薬)10wtより成る塗料をワイヤバーにて流延塗布
し、100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形成
した。
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレックW−
201、積水化学工業社製)の25wt%水溶液1wtに純水(比
抵抗18MΩ・cm)5wt、イソプロパノール(関東化学社製
特級試薬)10wtより成る塗料をワイヤバーにて流延塗布
し、100℃/30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形成
した。
一方、CGMとして下記構造式のビスアゾ顔料を使用
し、次の様にしてCGL塗料を調製した。
し、次の様にしてCGL塗料を調製した。
ポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ−200:三菱瓦斯
化学社製) : 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) :80wt から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延塗
布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成した。
化学社製) : 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製特級試薬) :80wt から成る混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
UH−3C)にて分散せしめ、ドクターブレードにて流延塗
布し、十分乾燥して、約0.5μm膜厚のCGLを形成した。
続いて、CTMとして、下記構造式のスチリルトリフェ
ニルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ニルアミン系化合物を使用したCTL塗料を調製した。
ポリカーボネート樹脂例示(10)の重合体 ; 10wt 1,2−ジクロルエタン ;125wt 上記から成る混合溶液を用意し、CGL上にドクターブ
レードにて流延塗布し。90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真感光体を作成した。
レードにて流延塗布し。90℃/60分間乾燥後の膜厚が約2
0μmのCTLを設け、導電性支持体−UCL−CGL−CTLより
成る積層型電子写真感光体を作成した。
実施例4 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレック W2
01、積水化学社製)の25%水溶液1wtに純水(比抵抗18M
Ωcm)5wt、イソプロパノール(関東化学社製 特級試
薬)10wtよりなる塗布をワイヤーバーにて流延塗布し、
100℃、30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形成し
た。
上に水溶性ポリビニルアセタール樹脂(エスレック W2
01、積水化学社製)の25%水溶液1wtに純水(比抵抗18M
Ωcm)5wt、イソプロパノール(関東化学社製 特級試
薬)10wtよりなる塗布をワイヤーバーにて流延塗布し、
100℃、30分間乾燥させ、約0.5μm膜厚のUCLを形成し
た。
一方、CGMとして実施例1で用いたビスアゾ顔料を使
用し、次の様にして、CGL塗料を調整した。
用し、次の様にして、CGL塗料を調整した。
CGM 実施例1と同様 ; 2wt ポリカーボネート樹脂(ビスフェノールA型ポリカー
ボネート樹脂;ユーピロンS−2000、三菱瓦斯化学社
製) ; 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製 特級試薬) ;80wt からなる混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製 UH−3C)にて分散せしめドクタブレードにて流延塗
布し、十分乾燥して約0.5μm膜厚のCGLを形成した。
又、CTLは、実施例1とまったく同様にして調整し、CGL
上へ流延塗布し、90℃、60分間乾燥後の膜厚が20μmと
なるようにした。
ボネート樹脂;ユーピロンS−2000、三菱瓦斯化学社
製) ; 1wt メチルエチルケトン(関東化学社製 特級試薬) ;80wt からなる混合溶液を超音波分散装置(超音波工業(株)
製 UH−3C)にて分散せしめドクタブレードにて流延塗
布し、十分乾燥して約0.5μm膜厚のCGLを形成した。
又、CTLは、実施例1とまったく同様にして調整し、CGL
上へ流延塗布し、90℃、60分間乾燥後の膜厚が20μmと
なるようにした。
比較例 (1) UCLを除いた以外は、実施例1とまったく、同一の材
料・条件で積層型電子写真感光体を作成し、実施例との
比較サンプルとした。
料・条件で積層型電子写真感光体を作成し、実施例との
比較サンプルとした。
比較例 (2) CTLのバインダ樹脂をビスフェノールA型ポリカーボ
ネート樹脂(ユーピロンS−2000:三菱瓦斯化学社製)
に変えた以外は、実施例2と全く同一の材料・条件で積
層型電子写真感光体を作成し、実施例1との比較サンプ
ルとした。
ネート樹脂(ユーピロンS−2000:三菱瓦斯化学社製)
に変えた以外は、実施例2と全く同一の材料・条件で積
層型電子写真感光体を作成し、実施例1との比較サンプ
ルとした。
比較例 (3) CTLのバインダ樹脂をメチルメタクリレート樹脂(エ
ルバサイト2010、デュポン社製)に変えた以外は、実施
例1と全く同一の材料・条件で積層型電子写真感光体を
作成し、実施例1との比較サンプルとした。
ルバサイト2010、デュポン社製)に変えた以外は、実施
例1と全く同一の材料・条件で積層型電子写真感光体を
作成し、実施例1との比較サンプルとした。
比較例 (4) CTLのバインダ樹脂をポリエステル樹脂(バイロン20
0、東洋紡社製)に変えた以外は、実施例1と全く、同
一の材料・条件で積層型電子写真感光体を作成し、実施
例1との比較サンプルとした。
0、東洋紡社製)に変えた以外は、実施例1と全く、同
一の材料・条件で積層型電子写真感光体を作成し、実施
例1との比較サンプルとした。
<感光体特性の評価> 以上の様にして得た電子写真感光体サンプルをコニカ
社製U−Bix1550MRに装着し、2万サイクルの電位繰返
し特性を、高温高湿下(33℃/80%RH)において調べ表
1に掲げた。但し、表1には、Vb,Vw,Vr(初期値及び2
万サイクル後)と碁盤目試験(JISK−5400)の結果を示
す。(良好:○、不良:×) 尚、ここで黒紙電位Vbは反射濃度1.3の黒紙を原稿と
し、上述の繰返しを実施した時の感光体の表面電位を表
し、白紙電位Vwは白紙を原稿とした時の感光体の表面電
位を表す。又Vrは残留電位である。この測定結果を表−
1に示す。
社製U−Bix1550MRに装着し、2万サイクルの電位繰返
し特性を、高温高湿下(33℃/80%RH)において調べ表
1に掲げた。但し、表1には、Vb,Vw,Vr(初期値及び2
万サイクル後)と碁盤目試験(JISK−5400)の結果を示
す。(良好:○、不良:×) 尚、ここで黒紙電位Vbは反射濃度1.3の黒紙を原稿と
し、上述の繰返しを実施した時の感光体の表面電位を表
し、白紙電位Vwは白紙を原稿とした時の感光体の表面電
位を表す。又Vrは残留電位である。この測定結果を表−
1に示す。
これらの結果より、実施例の電子写真感光体はCTLの
バインダ樹脂が〔I〕型ポリカーボネート樹脂で構成さ
れているので、高温高湿においても感光体の接着性は良
好であり高い帯電性を保持し、なおかつ低い残留電位を
示すことから、環境による電気特性の変動の少ない等の
利点を有することがわかる。
バインダ樹脂が〔I〕型ポリカーボネート樹脂で構成さ
れているので、高温高湿においても感光体の接着性は良
好であり高い帯電性を保持し、なおかつ低い残留電位を
示すことから、環境による電気特性の変動の少ない等の
利点を有することがわかる。
第1図は本発明の感光体の機械的構成例について示す断
面図である。 1……導電性支持体 2……キャリア発生層 3……キャリア輸送層 4……感光層 5……下引層 6……保護層
面図である。 1……導電性支持体 2……キャリア発生層 3……キャリア輸送層 4……感光層 5……下引層 6……保護層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03G 5/14 101 G03G 5/14 101D (56)参考文献 特開 昭63−169657(JP,A) 特開 昭60−213952(JP,A) 特開 昭61−270765(JP,A) 特開 昭63−187247(JP,A) 特開 平2−203352(JP,A) 特開 平2−189551(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 5/00 - 5/16
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に下引層、電荷発生層、電荷輸送
層をこの順に設けた感光層を有する電子写真感光体にお
いて、前記下引層に水溶性ポリビニルアセタールを主成
分とする樹脂を用い、前記電荷輸送層のバインダに下記
一般式〔I〕で示される繰返し構造単位を有するポリビ
スフェノール型カーボネートと、下記一般式〔T〕で表
される電荷輸送物質を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 一般式〔I〕 〔式中、R1及びR2は水素原子を置換するハロゲン原子、
アルキル基、シクロアルキル基を表し、p,qは0〜4の
整数である。尚p個のR1、q個のR2は夫々の組の中で同
じでも異っていてもよい。Zはフェニレン基間の炭素原
子を含んで炭素環を形成するに必要な原子群を表す。又
前記の基、環は置換されていてもよい。〕 一般式〔T〕 〔式中、Ar1,Ar2は同じでも異なっていてもよく、各々
置換・非置換のアリール基を表す。 Ar3は置換・非置換のアリレン基を表す。 Ar4は置換・非置換のアリール基、フリル基、フェニル
基を表し置換基としてアルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、水酸基、ハロゲン原子よりなる群より1
つ以上の組合せで用いられる。R1は水素原子、置換若し
くは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のア
リール基を表す。〕
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|
JP7930489 | 1989-03-29 | ||
JP1-79304 | 1989-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0315075A JPH0315075A (ja) | 1991-01-23 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2890049B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5538826A (en) * | 1993-09-09 | 1996-07-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic image forming method, apparatus and device unit |
-
1989
- 1989-07-20 JP JP18992789A patent/JP2890049B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0315075A (ja) | 1991-01-23 |
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