JP2844008B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JP2844008B2 JP13311290A JP13311290A JP2844008B2 JP 2844008 B2 JP2844008 B2 JP 2844008B2 JP 13311290 A JP13311290 A JP 13311290A JP 13311290 A JP13311290 A JP 13311290A JP 2844008 B2 JP2844008 B2 JP 2844008B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、更に具体的には機能
分離型感光体に関する。
〔従来の技術〕
ポリビニルカルバゾール、オキサジアゾール、フタロ
シアニン等の有機光導電性物質は、セレン、硫化カドミ
ニウムなどの無機光導電性物質に較べて無公害性、高生
産性なの利点があるが、感度が低いため実用化に乏しか
った。その増感方法として幾つかの提案があるが、その
うち電荷発生層と電荷輸送層を積層した機能分離型感光
体が効果的である。
電荷発生層は、スーダンレッド、ダイアンブルー、ジ
エナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴールイェロ
ー、ピレンキノン、インダンスレンブリリアントバイオ
レットRRPなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリ
レン顔料、インジゴ、チオインジゴ等のインジゴ顔料、
インドフアーストオレンジトナーなどのビスベンゾイマ
ダゾール顔料、銅フタロシアンニンなどのフタロシアニ
ン顔料、キナクリドン顔料等の電荷発生物質をポリエス
テル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル、ポリビニルピロリドン、メチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセスロースなどのバイン
ダ樹脂に分解させて、支持体上に塗布して形成される。
電荷発生層は、その内部で発生したホト・キャリアの
飛程を短かくするために薄膜層、例えば1ミクロン以
下、好ましくは0.5ミクロン以下の膜厚の薄膜層とする
ことが必要である。即ち、入射光量の大部分が電荷発生
層で吸収されて多くのホト・キャリアを生成すること、
更に発生したホト・キャリアの再結合、捕獲による失活
を避け電荷輸送層に注入する必要があるからである。
しかし、支持体上に直接、このような薄い電荷発生層
を塗布形成すると、支持体表面の極く僅かな欠陥、汚
れ、付着物、疵等により、膜厚の不均一性を生じたり、
撥き、突起粒、むらなどが生じやすい。
このため、電荷発生層を導電性層の上に形成させる際
には、その中間に樹脂層を設けている。この樹脂層は、
一般に下引層又は中間層と呼ばれている。この下引層を
形成するための材料としては、ポリウレタン、ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール、エポキシ、エチレン−アク
リル酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、カゼ
イン、メチルセルロース、ニトロセルロース、アルキド
樹脂、等が知られている。
しかし、このような下引層を電荷発生層と導電性層間
に介在させると、電荷発生層の膜厚を均一にすることが
できる反面、下引層の電気的性質、及び下引層と電荷発
生層と整合性により、感光体の特性が大きく影響を受け
る。
ここで、導電性支持体表面の平滑性を得るためには、
下引層は可能な限り厚い方が好ましいが、厚みに応じ抵
抗が上がり、電荷が蓄積されやすくなる。従って厚膜に
するためには十分抵抗の低い材料を選択しなければなら
ない。更に、この下引層の上に光導電層を塗布する際
に、その溶媒に浸されないような耐溶剤性を有している
ことも必要である。
従って下引層の樹脂材料の選択は重要な問題である。
又電荷輸送の用に供される電荷輸送物質としては光照
射によって発生するホールの支持体側への輸送能力の優
れたものが選ばれ、従来オキサゾール、チアジアゾー
ル、スチリル、ベンゾフラン、アミノスチリベン、フェ
ナジンその他の化合物或はその上の誘導体が用いられて
来ている。
更に電荷発生物質、電荷輸送物質を分散、保持するバ
インダとしては、前記両物質の分散保持性の良好なこと
は勿論、感光体の電子写真特性を損わぬこと、耐刷性、
耐摩耗性、耐湿性等の物性或は耐環境性のようなことな
どが要求される。
しかもこれら電荷発生物質、電荷輸送物質及びそれら
のバインダ間には互いに調和し少なくとも他の特性を毀
損することなく感光体の電子写真特性、物性を良好に保
つことが要求され、その組合せの如何は感光体の死命を
制するものであるが、その好適な組合せを得ることは甚
だ困難である。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、導電性支持体表面に平滑性と清浄性
を与え、かつ低抵抗で耐溶媒性を有し、感光体の感度を
毀損することのない下引層を有した電子写真特性のよい
電子写真感光体を提供することにある。
〔発明の構成〕
前記本発明の目的に沿い、アルコール可溶性ナイロン
(ポリアミド樹脂)に着目し検討を進めたが、下引層の
厚みによって性能が大きく揺れ、厚い場合には感度低
下、繰返し使用による残留電位の増大があり、薄い場合
には帯電性能の低下、画像欠陥の発生があり、最適厚み
の決定が困難であり、たとえ最適厚みにした場合にも僅
かな条件差、経時によって性能が変動するなど満足すべ
き結果がえられない。しかしながらナイロン6,66及び61
0をモノマー成分とするポリアミド樹脂において本発明
の目的に添う有用な効果が示された。
かつ前記ポリアミド樹脂の下引層にフルオレノン系ビ
スアゾ顔料とポリブチラール樹脂を含有する電荷発生層
を組合せることによって、感度が高く、高画質であり、
しかも繰返し使用においても電子写真特性に変動の少な
い感光体が得られる知見をえた。
前記知見に基き、本発明の目的は; 導電性支持体上に順次下引層/電荷発生層/電荷輸送
層を積層した電子写真感光体において、 イ.下引層にナイロン6,66及び610をモノマー成分とし
たアルコール可溶性ポリアミド樹脂を含有し、 ロ.電荷発生物質としてフルオレノン系ビスアゾ顔料を
含有し、又 ハ.電荷発生層のバインダにポリビニルブチラール樹脂
を含有する ことを特徴とする電子写真感光体によって達成される。
尚本発明の態様としては、電荷輸送層(CTLと標記)
のバインダにビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂
を含有することが好ましく、更に電荷輸送物質(CTMと
標記)としては、α−フェニルスチルベン構造を有する
化合物及び/又はジスチリル構造を有する化合物を前記
電荷発生物質(CGMと標記);フルオレノン系ビスアゾ
顔料と対をなして組合せ使用することが好ましい。
更に本発明を詳細、具体的に説明する。
本発明に用いる共重合ポリアミド樹脂は線状のポリア
ミドが好ましく、又溶液塗布に適応した低或は非結晶性
が好ましい。かかる樹脂は2種以上のナイロンの原料を
混合して共重合により得られることができる。
ナイロンの原料としては、例えばナイロン6の原料で
あるカプロラクタム、ないし6アミノカプロン酸、ナイ
ロン66、ナイロン610の原料であるヘキサメチレンジア
ミンとアジピン酸、セバシン酸などのジカルボン酸など
が挙げら、更に、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メ
タン、メタキシクレンジアミン、もしくはこの水素化
物、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、トリメチ
ルヘキサメチレンジアミンなどのジアミンも挙げられ
る。
本発明においては、特にナイロン6/66/610共重合体を
特定とするものである。
又市販品としては、 ウルトラミッド(BASFジャパン(株)) 6/66/610共重合ナイロン エルバマイド(デュポン・ジャパン) 6/66/610共重合体ナイロン 等が挙げられる。
特性としては、接着性、ホールブロッキング性が良好
であり、又残留電位上昇を抑制する。
前記ポリアミド樹脂はメタノール、エタノール、ブタ
ノール等のアルコールに溶解させるが、溶液安定性向上
のためにトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を加え
ることも有効である。下引層(UCLと標記)の厚さは0.0
1〜5μm程度が好適である。
本発明においてUCLに共重合ポリアミド樹脂を用いれ
ば、支持体との密着性に優れ、感光体の耐用性を高め、
電気抵抗が1011〜1013Ωcmと他の樹脂より低く、電荷の
蓄積がほとんどない。又塗布性がよく、薄く平滑な表面
を与える。
本発明の電子写真感光体においては、CGMとしてフル
オレノン系ジスアゾ顔料が用いられる。特に次に示すフ
ルオレノン系ジスアゾ顔料を本発明に用いると、感度、
耐久性及び画質等の点で著しく改良された効果を示す。
本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料は、
下記一般式〔F〕で表される。
一般式〔F〕 X1及びX2は、それぞれ、ハロゲン原子を表す。
p及びqはそれぞれ0,1又は2の整数を表し、p及び
qが2のときは、X1及びX2はそれぞれ同一又は異なる基
であってもよい。
Aは下記一般式〔F−1〕で表される基を示す。
一般式〔F−1〕 式中、Arは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族弗素環基を表す。Zは置換若しく
は無置換の芳香族炭素環又は置換若しくは無置換の芳香
族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。m
及びnはそれぞれ0,1又は2の整数を表す。但し、m及
びnが同時に0となることはない。
下記に本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔
料の具体列を挙げるが、これによって限定されるもので
はない。
本発明に用いられる前記一般式〔F〕で表されるフル
オレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法により容易に合
成され、例えば特願昭62−304862号等の方法により合成
される。
本発明に係るポリビニルブチラール樹脂は下記一般式
〔V〕で表される繰返し単位を有している。
一般式〔V〕 式中、Rは水素原子、メチル基、メチル基を表す。
又、a,b,s及びhは重合度を表す。
一般にポリビニルブチラール樹脂は、その組成によっ
て物理的及び化学的性質が変化し、又その重合度によっ
て機械的性質、溶液粘性が変動する。
本発明に係る電荷発生層(CGLと標記)のバインダに
用いるポリビニルブチラールは、ポリ酢酸ビニル樹脂を
鹸化し、酢酸ビニル部分(一般式〔V〕において重合度
指数sを付した構造単位)を残すポリビニルアルコール
樹脂を製造し、重合度指数hを付したビニルアルコール
構造単位を残す条件を選んで、ホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド、プロピルアルデヒドの少なくとも1つで
重合度指数aを付したアセタール化構造単位及びブチル
アルデヒドを用いて重合度指数bを付したブチラール化
構造単位を形成した共重合体樹脂であって、ブチラール
化度は50モル%以上が好ましく、又、(a+b)は50モ
ル%以上が好ましい。且つ重合度として1000以上が必要
である。尚上限としては10000以下、好ましくは5000以
下である。
本発明に係るCTLに用いられるバインダ;ビスフェノ
ールZ型ポリカーボネート樹脂は、下記一般式〔Z〕で
示される繰返し単位を主要構造組成として含む重合体で
ある。
一般式〔Z〕 式中R1及びR2は夫々ハロゲン原子、水素原子、メチル
基、エチル基或はプロピル基を表す。
これらのポリカーボネート樹脂は従来用いられていた
ビスフェノールA型のカーボネートの欠点を改善したも
のであって、これらのポリカーボネートの中心炭素原子
には、シクロヘキシル環が形成されているので、ポリカ
ーボネートの分子鎖が特定方向に配列することが効果的
に阻止される。このためポリカーボネートが、結晶化し
て溶液がゲル化したり感光層形成時に膜表面に析出する
ことがなく、異常な凸部による収率の低下及びクリーニ
ング不良等による画像欠陥等のごとき、特性劣化を防ぐ
ことができる。こうした顕著な効果には、前記一般式
〔Z〕のシクロヘキシル環が直接寄与している。
更に、本発明に於ては、前記一般式〔Z〕で示される
ポリカーボネートをバインダ樹脂として用いることによ
り皮膜物性に優れ、電荷保持力、感度残留電位等の電子
写真特性に優れ、かつ繰返し使用に供した時にも疲労劣
化が少ない安定した特性を発揮する電子写真感光体を作
成することができる。
又、感光体として用いた時、磁気ブラシやクリーニン
グブレードで擦過されても観光層表面に傷が付きにくく
感光層の摩耗が少ない上、クリーニング不良等の特性不
良のない高耐刷性の電子写真感光体を作成することがで
きる。
本発明のポリカーボネート樹脂は、例えば下記一般式
に示したフェノール系化合物を用いて常法に従い容易に
合成される。
式中、R1,R2は水素原子、塩素原子、メチル基を表
す。但し全てが水素原子であることはない。
本発明のポリカーボネート樹脂を製造する方法を例示
すると、具体的には塩化メチレン、1,2−ジクロルエタ
ン等の不活性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、
酸受容体としてアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、
ホスゲンを導入しながら反応させる方法が挙げられる。
酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は、触媒とし
てトリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミ
ン、或はテオラブチルアンモニウムクロリド、ベンジル
トリブチルアンモニウムブロミド等の第4級アンモニウ
ム化合物を用いると、反応速度が増大する。
又必要に応じて分子量調節剤としてフェノール、p−
t−ブチルフェノール等1価のフェノールを共存させて
もよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを
作った後に入れて高分子量価する等任意の方法がとれ
る。
又前記本発明に係るZ型ポリカーボネート樹脂には必
要に応じ、一般式〔Z〕の繰返し単位の外に他の繰返し
単位を含有させた共縮合型のポリカーボネート、例えば
4,4′−ジヒドロキシ−3−メチルフェニル−1,1−シク
ロヘキサンに少量のビスフェノールAを混合して共縮合
させたポリカーボネートを用い、物理的、化学的或は電
気的特性に調整してもよい。更に必要に応じ目的とする
作用効果に支障を来さぬ範囲で他のポリマーを混合して
用いることができる。この際の混合比率は50wt%以下が
好ましい。
本発明で使用するバインダはポリカーボネート系のも
のであるからポリカーボネートが本来奏する優れた帯電
特性、繰返し特性、耐刷性等の特性を感光体に付与する
ことができる。
本発明で使用するZ型ポリカーボネートの繰返し単位
としては具体的には次のものが挙げられる。
例示B繰返し単位 更に本発明の層構成による事により、前述の効果に加
えてポリビニルブチラールをCGLに用いた場合の耐環境
特性の欠点を改良する効果が著しい。即ち、本感光体の
構成により得られた感光体は常温常湿下或は低温低湿条
件下での多数枚コピー時の残留電位の上昇に対して著し
い効果を示した。
前記したバインダとして用いられるZ型ポリカーボネ
ートに併用して用いてもよいバインダとしては、例えば
次のものを挙げることができる。
(1) ポリエステル (2) メタクリル樹脂 (3) アクリル樹脂 (4) ポリ塩化ビニル (5) ポリ塩化ビニリデン (6) ポリスチレン (7) ポリビニルアセテート (8) スチレン共重合樹脂(例えば、スチレン−ブタ
ヂエン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合
体、等) (9) アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩
化ビニリデン−アルリトロニトリル共重合体、等) (10) 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 (11) 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体 (12) シリコーン樹脂 (13) シリコーン−アルキッド樹脂 (14) フェノール樹脂(例えば、フェノールホールム
アルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
等) (15) スチレン−アルキッド樹脂 (16) ポリ−N−ビニルカルバゾール (17) ポリビニルブチラール (18) ポリビニルホルマール (19) ポリヒドロキシスチレン これらのバインダは、単独で或は2種以上の混合物と
して本発明に係るカーボネートに併用することができ
る。
次に本発明に用いられるα−フェニルスチルベン構造
を有する化合物は下記一般式〔T1〕で示される。
一般式〔T1 式中、Ar1,Ar2は脂肪族基又は芳香族基、Ar3はフェニ
レン基を表し、Ar1,Ar2で環を形成してもよい。R11,R12
は水素原子、脂肪族基、芳香族基、R13は脂肪族基、芳
香族基を表す。
前記芳香族基とはフェニル基、ナフチル基、縮合多環
を表し、Ar1,Ar2,Ar3,R11,R12,R13で述べた、脂肪族基
及び芳香族基にはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子、アミノ基等の置換基を含んでいてもよい。
Ar1,Ar2でカルバゾール環、イソドリン環等の環を形
成してもよく、又R12,R13のなす環は5〜7員の炭素環
又は複素環である。
前記化合物はキャリア輸送能が高く、高感度化に資す
る所、大である。
以下一般式〔T1〕で表される化合物の例を述べるが、
これに限定されるものではない。
:一般式〔T1〕化合物の具体例: 本発明に用いられるジスチリル構造を有する化合物は
下記一般式〔T2〕で示される。
一般式〔T2 式中、Ar1は、 置換もしくは無置換の続記3つの基;縮合多環系炭化水
素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表す。
Ar2及びAr3は、 置換もしくは無置換の続記3つの基;縮合多環系炭化水
素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表す。
Ar4及びAr5は、 置換もしくは無置換の続記3つの基;縮合多環系炭化水
素基、複素環基、縮合多環経営複素環基を表す。
R1及びR2は、 置換もしくは無置換の続記3つの基;縮合多環系炭化水
素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表し、又Ar4
びAr5と共同して環を形成してもよい。
R3は置換もしくは無置換アルキル基、フェニル基、ア
ルコキシ基、フェノキシ基及びシアノ基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニト
ロ基、アミノ基、更に置換もしくは無置換の続記6と
基;アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキル
アミノ基、環状炭化水素基、縮合多環系炭化水素基、複
素環基を表す。
R4,R5及びR6は、置換もしくは無置換の続記4つの
基;アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基及びシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ア
シル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、更に置
換もしくは無置換の続記6つの基;アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、環状炭化水素
基、縮合多環系水素基、複素環基を表す。
i,k,lは、0〜5の整数を表し、jは、0〜4の整数
を表す。
前記化合物は、CTMとしての性能が高く、高感度化に
資する所、大である。
次に一般式〔T2〕で示されるCTMの具体例を挙げる。
本発明において併用して使用可能なCTMとしては、特
に制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジ
アゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘
導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミ
ダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾ
リジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピ
ラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、
ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、
キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘
導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレ
ン、ポリ−9−ビニルアントラセン等である。
本発明において用いられるCTMとしては光照射時発生
するホールの支持体側への輸送能力が優れている外、前
記本発明に用いられる有機系顔料との組合せに好適なも
のが好ましい。
本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としては、例
えばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化
水素類、メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1,
2−ジクロルエタン、syn−テトラクロルエタン、cis−
1,2−ジクロルエチレン、1,1,2−トリクロルエタン、1,
1,1−トリクロルエタン、1,2−ジクロルプロパン、クロ
ロホルム、ブロモホルム、クロルベンゼン等のハロゲン
化炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、エチレ
ングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
酢酸セロソルブ等のアルコール及びこの誘導体、テトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサン、フラン、フルフラー
ル等のエーテル、アセタール類、リジンやブチルアミ
ン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノ
ールアミン等のアミン類、N,N−ジメチルホルムアミド
等のアミド類等の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノール
類、二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等
が挙げられる。
前記本発明に係るポリビニルブチラール及びZ型ポリ
カーボネートは、機能分離型感光体のCTL、或はCGL夫々
の層機能を損わぬ範囲で相互に混用してもよい。
本発明の感光体の感光層構成は積層構成を採るが、必
要により表面層として設ける保護層(OCL)、及びCTL,C
GL或はUCLのいずれか、もしくはそれらの複数層に感度
の向上、残留塩入ないし反復使用時の疲労低減等を目的
として、少なくとも1種の電子受容性物質を含有せしめ
ることができる。
又更に表面改質剤としてシリコーンオイルを存在させ
てよい。又耐久性向上剤としてアンモニウム化合物が含
有されていてもよい。
更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いてもよい。
好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベ
ン化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミ
ダゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、
オキサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘
導体等の含窒素化合物類が用いられる。
又酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合
物等が挙げられる。
又本発明に係るOCL中には加工性及び物性の改良(亀
裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑
性樹脂を50wt%未満含有せしめることができる。
本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支
持体としては、主として下記のものが用いられるが、こ
れにより限定されるものではない。
1) アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
2) 紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、
アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミネ
ートもしくは蒸着によって設けたもの。
3) 紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、
導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導電性
化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。
本発明の感光体は、第1図に示すように導電性支持体
1上にCGMを主成分とするCGL2とCTMを主成分として含有
するCTL3との積層体により成る感光層4を設ける。更に
導電性支持体1上にUCL5が設けられる。このように感光
層4を二層構成としたときに最もすぐれた電子写真特性
を有する電子写真感光体が得られる。
更に前記感光層4の上には第2図に示すように必要に
応じ保護層6を設けてもよい。
又、二層構成の感光層4を構成するCGL2は、UCL5を有
する導電性支持体1上に直接或は必要に応じて接着層も
しくはブロッキング層などの中間層を設けた上に、次の
方法によって形成することができる。
(1)CGMを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布する方法 (2)CGMをボールミル、サンドグラインダ等によって
分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バインダと混
合分散して得られる分散液を塗布する方法。
即ち具体的には、ディッピング、スプレイ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるCGL2と厚さは、0.01〜5μ
mであることが好しく、更に好ましくは0.05〜3μmで
ある。
又CTL3の厚さは、必要に応じて変更し得るが通常5〜
30μmであることが好ましい。このCTL3における組成割
合は、本発明のCTM1重量部(wtと標記する)に対してバ
インダ0.1〜5wtとするのが好ましい。又微粒子状のCGM
をCTL3中に分散せしめることもできる。
又CGLをバインダ中分散型のものとして構成する場合
には、CGM1wtに対してバインダを5wt以下の範囲で用い
ることが好ましい。
本発明の感光体は以上のような構成であって、後述す
るような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特
性、画像形成特性に優れたものである。
特に反転現象方式に供したときにも疲労劣化が少なく
画質が良好で耐久性が優れたものである。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これによ
り本発明の実施態様が限定されるものではない。
実施例1 ナイロン6/ナイロン66/ナイロン610共重合体(エルバ
マイド8061;デュポン社製)5gを50℃に加温したメタノ
ール800mlに溶解し更にブタノール200mlを加えUCL塗布
液を調製した。該UCL塗布液にAlシリンダを浸漬し、厚
さ0.1μmのUCLを形成した。
次にCGLのバインダとしてポリビニルブチラール樹
脂;エレックスBX−1(積水化学製)8gを1000mlのメチ
ルエチルケトンに溶解した後、CGMの例示化合物F−23;
20gを加え、サンドグラインダによって30時間分散処理
してCGL塗布液を調製し、前記UCL上に浸漬塗布して厚さ
0.4μmのCGLを形成した。
更にCTLのバインダとしてZ型ポリカーボネート樹
脂;ユーピロンZ−200(三菱瓦斯化学製)200gを1,2−
ジクロエタン100mlに溶解し、CTMの例示化合物T1−2
(α−フェニルスチルベン系)150gを加えCTL塗布液を
調製し、前記CGL上に浸漬塗布し、乾燥厚み17μmのCTL
を形成した。
その後100℃、60分間の乾燥を行い、UCL/CGL/CTLの順
に積層された本発明の感光体を作成した。
更に実施例1の調製及び作成条件を同様に踏襲し、CG
M,CTM及びバインダの組合せを変えて実施例2〜7並び
に比較例1及び2の試料感光体を作成した。
実施例2 実施例1のCTMを例示T2−10へ変更。
実施例3 実施例1のCGMを例示F−15へ変更。
実施例4 実施例1のCGMを例示F−15へ、CTMを例示T2−10へ変
更。
実施例5 実施例1のCTLのバインダをポリビニルブチラール樹
脂エスレックBM−S(積水化学製)へ変更。
実施例6 実施例1のUCL樹脂をナイロン6/ナイロン66/ナイロン
610共重合体(エルバマイド8062、デュポン社製)へ変
更。
実施例7 実施例1のUCL樹脂をナイロン6/ナイロン66/ナイロン
610共重合体(エルバマイド8063、デュポン社製)へ、
かつCGMを例示F−4へ変更。
比較例1 実施例1のUCL樹脂をCM−8000(東レ社製)へ変更。
比較例2 実施例1のCGLバインダをポリカーボネート樹脂ユー
ピロンZ−200(三菱瓦斯化学社製)へ変更。
比較例3 実施例1でUCLを塗工しない以外は同様にしてサンプ
ルを作成。
得られた感光対を電子写真複写機L−Bix2025(コニ
カ社製)改造機に装着し10万コピーの実写テストを実施
した。10万コピー実写前後で現像位置での帯電電位Va
(V)、表面電位を600Vから100Vに減水させるのに必要
な露光量で表した感度 残留電位Vr(V)を測定した。結果を表1及び表2に示
す。
実施例1〜7の感光体は10万コピーに渡って濃度の高
い、かぶり、むらのない良好な画質が得られた。又電子
写真特性の変化も少ない。
一方比較例1〜3の感光対は10万コピーでいずれも画
像にかぶりが発生した。又比較例2では初期から画像に
むらが見られ、これは感光体のCGLのむらによるもので
あることがわかった。比較例3では初期から画像に微細
な点状の白抜け欠陥が多数認められた。
以上のように本発明の感光体は高感度で長期に渡って
良好な画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第2図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構成
例について示す断面図である。 1……導電性支持体 2……キャリア発生層 3……キャリア輸送層 4……感光層 5……下引層 6……保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−14159(JP,A) 特開 平3−94265(JP,A) 特開 平1−315767(JP,A) 特開 昭60−501723(JP,A) 特開 昭60−227264(JP,A) 特開 昭61−254951(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 5/14 101

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導電性支持体上に順次下引層/電荷発生層
    /電荷輸送層を積層した電子写真感光体において、 イ.下引層にナイロン6,66及び610をモノマー成分とし
    たアルコール可溶性ポリアミド樹脂を含有し、 ロ.電荷発生物質としてフルオレノン系ビスアゾ顔料を
    含有し、又 ハ.電荷発生層のバインダにポリビニルブチラール樹脂
    を含有する ことを特徴とする電子写真感光体。
  2. 【請求項2】前記電荷輸送層のバインダにビスフェノー
    ルZ型ポリカーボネート樹脂を含有する請求項1に記載
    の電子写真感光体。
  3. 【請求項3】電荷輸送物質としてα−フェニルスチルベ
    ン構造を有する化合物及び/又はジスチリル構造を有す
    る化合物を含有する請求項1又は2に記載の電子写真感
    光体。
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