JP2878787B2 - 真空バルブ用接点 - Google Patents

真空バルブ用接点

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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、真空バルブ用接点に係り、特に耐溶着特性
及び耐電圧特性を改良した真空バルブ用接点に関する。
(従来の技術) 真空中でのアーク拡散性を利用して高真空中で大電流
遮断或いは定格電流開閉を行なわせる真空バルブの接点
は、対向する固定、可動の2つの接点から構成されてい
る。
このような真空バルブ用接点に要求される特性として
は、耐溶着、耐電圧、遮断に対する各性能で示される基
本三要件と、この他に温度上昇、接触抵抗が低く安定し
ていることが重要な要件となっている。しかしながら、
これらの要件の中には相反するものがある関係上、単一
の金属種によって全ての要件を満足させることは不可能
である。このため、実用されている多くの接点において
は、不足する性能を相互に補えるような2種以上の元素
を組合せ、かつ大電流用又は高電圧用などのように特定
の用途に合った接点の開発が行われ、それなりに優れた
特性を有するものが開発されている。しかし、さらに強
まる高耐圧化及び大電流化の要求を充分満足する真空バ
ルブ用接点は未だ得られていないのが実状である。
例えば、大電流化を指向した接点としてBiのような溶
着防止成分を5%以下の量で含有するCu−Bi合金が知ら
れている(特公昭41−12131号公報)。しかし、このCu
−Bi合金は、Cu母相に対するBiの溶解度が極めて低いた
め、しばしば偏析を生じ、遮断後の表面荒れが大きく、
また加工成形が困難であるなどの問題点を有している。
また、大電流化を指向した他の接点として、Cu−Te合
金が知られている(特公昭44−23751号公報)。この合
金は、Cu−Bi合金が持つ上記問題点を緩和してはいる
が、Cu−Bi合金に比較して雰囲気に対し、より敏感なた
め接触抵抗などの安定性に欠ける。
さらに、これらCu−Te、Cu−Bi等の材料からなる接点
の共通的特徴として、耐溶着性に優れているものの、耐
電圧特性が従来の中電圧クラスへの適用には充分である
としても、これ以上高い電圧分野への適用に対しては、
必ずしも満足でないことが明らかとなってきた。
一方、Crを含有したCu−Cr合金が真空バルブ用接点材
料として、知られている。このCu−Cr合金接点は、高温
下でのCrとCuとの熱特性が好ましい状態で発揮されるた
め高耐圧大電流用として優れた特性を有している。即
ち、Cu−Cr合金は、高耐圧特性と、大容量遮断とを両立
させ得る接点として多用されている。
しかしながら、Cu−Cr合金は、遮断器用接点として一
般に多用されている前述したBiを5%程度以下添加した
Cu−Bi合金と比較して、耐溶着特性が大幅に劣ってい
る。
ここで溶着現象とは、接点同士の接触面に発生するジ
ュール熱により接点が溶融しその後に凝固する場合と、
開閉の瞬間に発生するアーク放電により接点が気化しそ
の後に凝固する場合の2通りにおいて発生する。
Cu−Cr合金においては、上記何れの場合も凝固する段
階でCrとCuが1μm以下の微粒子となり互いに入り乱れ
た状態で数μm〜数百μm程度の層を形成する。一般
に、組織の超微細化は、材料の強度向上に寄与する要因
の一つであり、この場合も例外ではない。しかして、こ
の超微細Cu−Cr層の強度がCu−Cr合金のマトリクスの強
度に優れ、かつ、マトリクス強度が設計された引外し力
を超えたときにも溶着が発生する。
したがって、Cu−Cr合金の接点を用いた真空バルブを
駆動させる操作機構は、Cu−Bi合金接点を用いたものに
比べ引外し力を大きく設計する必要があり、小形化や経
済性の点で困難である。
また、Cu−Cr合金の耐溶着性を改良した接点として、
Cu−Cr合金にBiを添加したCu−Cr−Bi合金接点が知られ
ている(特公昭61−41091号公報)。このCu−Cr−Bi合
金接点は、一般的にCu−Cr合金の耐溶着性の改善には効
果を示すが、Bi添加の影響のため、素材が著しく脆化
し、耐圧特性の低下及び再点弧発生確率の増加を再発さ
せる欠点を有する。
(発明が解決しようとする課題) 上記したように、Cu−Cr−Bi合金の接点は一般的にCu
−Cr合金の接点と比較して、耐溶着性は改善されるが、
耐電圧及び再点弧発生の面で問題が残っている。
そこで、本発明は、Cu−Cr−Bi合金接点の持つ耐溶着
性を維持したまま、耐電圧の低下及び再点弧発生確率の
低下を極力抑えることのできる真空バルブ用接点を提供
することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために、本発明の真空バルブ用接
点は、第1に、Cr含有量が20〜60重量%であり、Bi含有
量がCu含有量の0.05〜1.0重量%であるCu、Bi及びCrか
ら構成される接点材料を接点形状に加工し、真空熱処理
を施してなることを要旨とする。
第2に、前記真空熱処理の温度は、300乃至1083℃で
あることを要旨とする。
(作用) Cu−Cr−Bi合金の接点において、Biの存在形態は次の
4つに分類される。Cuへの固溶、Cr粒子とCuを主成
分とする導電材料(Cuマトリクス)界面への存在、Cu
マトリクス結晶粒界への存在、Cuマトリクス結晶粒内
への存在である。これら存在形態のうち接点強度に一番
強い影響を与えるのは、Cuマトリクス結晶粒界へのBiの
存在であり、ここへのBi量が多い程接点強度が脆く結果
として耐電圧の低下及び再点弧発生確率の助長が促され
る。
これに対し、本発明では、Cu−Cr−Biの接点材料を接
点形状に加工した後、真空中での熱処理を施すことによ
り、接点表層部のBiが除去され、これとともに、熱処理
前までBiを介して接触していたCuを主成分とする結晶粒
及び/又はCr粒子の一部分或いは全てが、Biの排除によ
って、より密接に接合される。この結果、表面強度が向
上し、接点表面の脆化が抑制され、耐電圧及び再点弧発
生確率の低下が抑えられる。また、Biの除去は接点表層
部のみで行われ、表層部直下の部分には、なお規定量の
Biが存在してその部分から溶着引外しが行われて耐溶着
性は殆んど低下しない。そして、(Cu+Bi)中のBi含有
量が0.05重量%より少ないと上記の耐溶着性の改善はみ
られず、またBi含有量が1.0重量%より大きいと熱処理
を施す効果が認められず耐電圧及び再点弧発生確率の低
下が著しくなる。
また、真空熱処理の温度に関しては、300℃より低い
と接点表層部のBiの除去が不十分となって耐電圧の向上
及び再点弧発生確率の改善が不十分となる。一方、Cuの
融点を越えると接点表面の荒れが著しくなる。したがっ
て真空熱処理は300〜1083℃の温度範囲がよく、この熱
処理は、接点形状への加工後、1回以上が行われる。
Cr含有量に関しては、20重量%より少ないと、Cu含有
量が多くなり過ぎて耐電圧が低下する。また、60重量%
より多いと、Cr量過多となって真空熱処理による接点表
面の脆化防止が不可能となり、耐電圧及び再点弧発生確
率の低下を抑制し得なくなる。
上述の要因により、本発明の真空バルブ用接点は、Cu
−Cr−Bi接点材料を接点形状に加工した後、真空熱処理
を施すことによって、耐溶着特性を維持したまま、Cu−
Cr接点材料とほぼ同等の耐電圧、再点弧発生確率とする
ことが可能となる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を具体的実施態様に基づいて説
明する。
まず、本実施例に係る接点の製造方法について説明す
る。本実施例のCu−Cr−Bi合金接点の製造方法は2つに
大別され、その1つは溶浸法であり、もう1つは固相法
である。
まず溶浸法の一例について記す。
所定粒径のCr粉末を加圧成形して粉末成形体を得る。
次いで、この粉末成形体を露点が−50℃以下の水素雰囲
気又は真空度が1×10-3Torr以下で、所定温度、例えば
950℃×1時間にて仮焼結し、仮焼結体を得る。
次いで、この仮焼結体の残存空孔中に予め所定のBi%
を含有したCu−Bi合金材料を例えば1100℃×30分で溶浸
した後、所定の冷却方法で冷却凝固し、Cu−Cr−Bi合金
材料を得る。溶浸は主として真空中で行うが、水素中で
も行い得る。
ここで、焼結熱処理又は/及び溶浸熱処理温度を高め
に選択すると、Cu及びBiの蒸発が激しく、その成分量の
制御が重要となる。しかし、炉の性能、又は一度に熱処
理する素材の量、大きさ、熱容量などによって熱処理温
度は変動するので、その温度を普遍的に表現することは
無理である。そして実際には残存するCu量を、例えばX
線法によって直接的に決定し管理する方法が取られ得る
が、概して1300℃以上の温度の選択はCuの存在を少なく
し、好ましくないことが明らかになっている。
一方、下限温度は、焼結熱処理においては、原料又は
成形体の脱ガスの観点から600℃以上、好ましくは900℃
以上を必要とし、また溶浸熱処理においては、スケルト
ンを脱ガスし、かつCuを溶融する必要性から少なくとも
1100℃を必要とする。
以上のようにして溶浸法のCu−Cr−Bi接点材料を得
る。
次いで、固相焼結法の一例について記す。
所定のCr粉末Cu粉末及びBi粉末を混合した後、プレス
機にて圧粉体を成形し、次いで露点が−50℃以下の水素
雰囲気又は1×10-3Torr以下の真空雰囲気にて焼結す
る。このプレス工程と焼結工程を複数回繰り返し、目的
とするCu−Cr−Bi接点材料を得る。
このようにして製造された溶浸法又は固相焼結法のCu
−Cr−Bi接点材料を所定の接点形状に加工し、その後、
例えば800℃×30分の熱処理を例えば10-5Torrの真空度
にて行う。
このようにして製造されたCu−Cr−Bi合金接点は、耐
圧特性がBi無添加のCu−Cr合金接点と同等であり、真空
バルブ用接点として最適である。
次に、第1図の表を用いて、以上のようにして製造さ
れた各接点例を比較例と対比して示す。なお、この各接
点例において評価したときの条件、方法は、次の通りで
ある。
(1)耐溶着性 外径25mmφの一対の円板状試料に、外径25mmφで先端
が100Rの球面をなす加圧ロッドを対向させ、100Kgの荷
重を加え10-5mmHgの真空中において50Hz、20KAの電流を
20ミリ秒間通電し、その時の試料−ロッド間の引外しに
必要な力を測定し耐溶着性の判断をした。なお、評価
は、比較例1に示した溶浸上りのCu−Cr合金材料の溶着
引外し力を1.00としたときの相対的な値で比較した。表
中の各例には上記接点数3個の測定値におけるばらつき
幅を示す。
(2)耐電圧特性 各接点合金についてバル研磨により鏡面仕上をしたNi
針を陽極とし、同じように鏡面仕上をした後、真空熱処
理を施した各試料を陰極とし、両極間のギャップを0.5m
mとし、10-6mmHgの真空において徐々に電圧を上昇しス
パークを発生したときの電圧値を測定し、静耐圧値を求
めた。表中に示す測定データは、3回の繰返しテストを
行ったときのばらつき値を含めて、溶浸上りのCu−Cr合
金の静耐圧値を1.00(比較例1)としたときの相対的な
値で示した。
(3)再点弧特性 外径30mm、厚さ5mmの円板状接点片を、ディマウンタ
ブル形真空バルブに装着し、6KV×500Aの回路を2000回
しゃ断した時の再点弧発生頻度を測定し、2台のしゃ断
器(バルブとして6本)のばらつき幅(最大及び最小)
で示した。
実施例1〜3、比較例1〜4 Cr量約50wt%、Bi/(Cu+Bi)量約0.5wt%の接点を用
い、熱処理条件を、なし、200℃×1Hr、300℃×1Hr、80
0℃×1Hr、1050℃×1Hr、1200℃×1Hrとし、各特性を評
価した(各々比較例−2、3、実施例1〜3、比較例
4)。各々の特性は表中に示す通り、耐溶着特性に関し
てはBiを添加していないCu−Cr接点(比較例−1)に比
べて大幅に良好となっているが耐電圧特性並びに再点弧
発生確率は熱処理温度に大きく依存した。即ち、接点加
工後の熱処理を実施しなかったもの(比較例−2)及び
熱処理温度が200℃のもの(比較例−3)は、接点表面
のBi除去が不十分なため、耐電圧の向上及び再点弧発生
確率の改善が見られなかった。また、熱処理温度がCuの
融点を越えたもの(比較例−4)は、接点表面の荒れが
著しく、各特性を測定する事が不可能であった。これに
対し、熱処理温度300℃、800℃、1050℃のもの(実施例
−1、2、3)は、耐電圧特性、再点弧発生確率とも向
上が認られた。
実施例2、4、5、比較例5〜6 Cr量50wt%、Bi/(Cu+Bi)量を、0.01、0.05、0.4
3、0.97、5.6wt%と変化させたCu−Cr−Bi接点の特性を
評価した(比較例−5、実施例4、2、5、比較例−
6)。表中に示すようにBi含有量の少ないもの(比較例
−5)は耐電圧特性、再点弧発生確率は良好であった
が、耐溶着性の改善は殆んど見られなかった。一方、Bi
含有量の多いもの(比較例−6)では、熱処理を施す効
果は認められず、再点弧発生確率及び耐電圧特性の低下
が著しかった。以上よりBi/(Cu+Bi)量は0.05〜1.0wt
%が適当であると言える。
実施例6〜8、比較例7〜8 Cr含有量の有効範囲について検討する。Cr含有量を1
2.3、22.5、47.9,59.1、87.6wt%となるCu−Cr−Bi合金
接点につき検討した(比較例7、実施例6〜8、比較例
8)。各接点例について諸特性を評価したところ、耐溶
着性は全て良好であった。しかし、耐電圧の面では、Cr
量12.3wt%(比較例−7)なる接点はCu量が多すぎたた
め、著しい耐電圧の低下が認められた。但し再点弧発生
の面では問題がなかった。また、87.6wt%Cr量の接点
(比較例8)ではCr量過多のため、熱処理による接点表
面の脆化防止が不可能であり、耐電圧特性、再点弧発生
確率とも良好な結果を得られなかった。一方、Cr量22.
5、47.9、59.1wt%の接点(実施例6〜8)は全て良好
な結果を示した。以上の結果より、Cr%は20〜60wt%が
望ましい。
以上で述べた各実施例は、接点単体につき熱処理を施
したものであるが、本発明の特徴である熱処理は、接点
単体にて実施するだけではなく、真空バルブに組み立て
るまでの何れの工程で実施しても上記と同様な諸特性の
改善を得られることは明らかである。
[発明の効果] 以上述べたように、本発明によれば、真空バルブ用Cu
−Cr−Bi合金接点の耐溶着性を維持したまま、耐電圧特
性及び再点弧発生確率の低下を極力抑えることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る真空バルブ用接点の各実施例で得
られる耐溶着特性、耐電圧特性及び再点弧発生確率の各
特性データを比較例と対比して示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 敦史 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東 芝府中工場内 (56)参考文献 特開 昭54−113077(JP,A) 特開 平2−117030(JP,A) 特公 昭61−41091(JP,B2) 特公 昭45−27216(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01H 33/66

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Cr含有量が20〜60重量%であり、Cu、Bi及
    びCrから構成される接点材料を接点形状に加工し、真空
    熱処理を施すことにより接点表層部のCuとCrの界面及び
    CuとCuの界面を密接に接合し、接点表層部以外の部分の
    Bi含有量はBi/(Bi+Cu)=0.05〜1.0重量%であること
    を特徴とする真空バルブ用接点。
  2. 【請求項2】前記真空熱処理の温度は、300乃至1083℃
    であることを特徴とする請求項1記載の真空バルブ用接
    点。
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