JP2845309B2 - ウェット処理装置 - Google Patents

ウェット処理装置

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JP2845309B2
JP2845309B2 JP5207407A JP20740793A JP2845309B2 JP 2845309 B2 JP2845309 B2 JP 2845309B2 JP 5207407 A JP5207407 A JP 5207407A JP 20740793 A JP20740793 A JP 20740793A JP 2845309 B2 JP2845309 B2 JP 2845309B2
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JP
Japan
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pure water
carrier
water supply
wafer
bottom plate
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勝 安藤
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KANSAI NIPPON DENKI KK
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薬液処理されたウェーハ
を水洗するウェット処理装置の水洗槽における純水給水
構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のウェット処理装置の水洗
槽は図２ａの側断面図、図２ｂの底板をのぞいた平面
図、図２ｃの底板の平面図に示すように水洗槽１の槽中
央にある純水給水穴より純水を供給しており、またキャ
リア３を載せる底板４には、純水を通す丸穴４ａが多数
設けられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の純水
給水方法は、槽中央部より供給しているがその上に丸穴
４ａを設けた底板４があるため、ウェーハ２への純水の
流れを妨げてしまい、純水の流れのほとんどが側壁６を
つたわって流れウェーハ２付近の水がよどんでしまい、
純水の置換効率が悪くなるという欠点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、キャリアに載
せたウェーハの水洗を行うウェット処理装置において、
キャリアの真下に給水穴を多数設けた純粋給水パイプを
設け、かつキャリアを載せる底板にキャリアに合わせた
長穴を設け、前記給水穴はウェーハに向けて純水を噴出
するよう設けられていることを特徴とする。
【０００５】
【作用】上記の構成によると、純水給水パイプから給水
された純水はウェーハ表面に当たって流れるため、ウェ
ーハ付近の純水置換効率が向上する。
【０００６】
【実施例】以下、本発明について図面を参照して説明す
る。
【０００７】図１ａはその側断面図、図１ｂは底板をの
ぞいた状態の平面図、図１ｃは底板４の平面図である。
水洗槽１の純水給水口として純水給水パイプ５を取り付
ける。これはウェーハ２を載せたキャリア３の真下に位
置する多数の給水穴５ａを有している。純水給水パイプ
５の給水穴５ａは、ウェーハ２の中心に純水が飛び出す
よう傾を有している。さらにその上には全面にわたって
底板４が設けられ、その底板には純水給水パイプ５より
給水される純水の流れをキャリア３に集中し、かつ妨げ
ないように長穴４ａを設ける。
【０００８】図１ｃに示す本実施例の底板４に設けた長
穴４ａは、ウェーハのキャリア３より若干大きめの外寸
とし、キャリア３が落下しないようにバー４ｂを双方に
２本ずつ設けている。
【０００９】しかしながら、キャリア３を置く位置を精
度よく置く（ストッパ等の設置）ことにより、長穴４ａ
をキャリアの大きさに合わせることもできる。
【００１０】この実施例によれば、ウェーハ２の真下よ
り純水を給水することができることから、ウェーハ付近
の純水の流れが活発になり、純水置換効率が向上すると
いう利点がある。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明はウェー
ハ付近の純水置換効率を向上させたことにより、ウェー
ハ表裏のゴミ除去率が上がり、ゴミ不良を低減できる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ａは、本発明の実施例を示す側断面図。ｂ
は、その底板をのぞいた状態の平面図。ｃは、その底板
の平面図。
【図２】 ａは、従来の水洗装置の側断面図。ｂは、そ
の底板をのぞいた状態の平面図。ｃは、その底板の平面
図。
【符号の説明】
１ 水洗槽 ２ ウェーハ ３ キャリア ４ 底板 ５ 純水給水パイプ ６ 給水穴 ７ 長穴

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】キャリアに載せたウェーハの水洗を行うウ
    ェット処理装置において、キャリアの真下に給水穴を多
    数設けた純粋給水パイプを設け、かつキャリアを載せる
    底板にキャリアに合わせた長穴を設け、前記給水穴はウ
    ェーハに向けて純水を噴出するよう設けられているウェ
    ット処理装置。
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JPH0533819A (ja) * 1991-07-30 1993-02-09 Toyoda Mach Works Ltd 駆動力伝達装置
JP3003017B2 (ja) * 1993-05-26 2000-01-24 東京エレクトロン株式会社 洗浄処理装置

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