JP2752662B2 - ドライエッチング装置 - Google Patents

ドライエッチング装置

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JP2752662B2
JP2752662B2 JP63277851A JP27785188A JP2752662B2 JP 2752662 B2 JP2752662 B2 JP 2752662B2 JP 63277851 A JP63277851 A JP 63277851A JP 27785188 A JP27785188 A JP 27785188A JP 2752662 B2 JP2752662 B2 JP 2752662B2
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Japan
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etching
dry etching
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etching equipment
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崇元 福島
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NEC Kyushu Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はドライエッチング装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種のドライエッチング装置は、処理室内に
上部電極と下部電極とを有し、下部電極上に置かれた半
導体基板等の被処理物を反応ガスによりエッチングする
ように構成されており、処理室の内壁面へのエッチング
残渣の堆積防止として、内壁面より内側に保護カバーを
取り付けていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のドライエッチング装置は、処理室の内
壁面に設けた保護カバーにエッチング残渣を堆積させる
構造となっているので、定期的に保護カバーを洗浄しな
ければならず、そのため工数が増大し、装置の稼働率が
低下するという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のドライエッチング装置は、上部電極を備える
上面部、被処理物が載置される下部電極を備える下面
部、及び上面部及び下面部を結ぶ側面部からなるエッチ
ング処理室と、上部電極から下部電極へ向かって反応ガ
スを流す手段と、エッチング処理室の側面部全体にのみ
設けられた複数のクリーニングガス吹出し口とを有して
いる。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の第１の実施例の断面図である。
第１図において、エッチング処理室５の内壁面には、
ガス導入管８に接続する複数のクリーニングガス吹出し
穴９が形成されている。そして、エッチング処理室５の
内部には処理ガスを流す事のできる上部電極１と、ウェ
ハー２を置く事のできる下部電極３が配置され、それぞ
れ高周波電源４へ接続されている。
上部電極１より流された処理ガスは、上部電極１と下
部電極３間で高周波電圧により励起され、下部電極３上
に置かれたウェハー２のエッチング処理を行ない、エッ
チング処理室５の内壁面に沿って下方にある排気口６へ
排出される。この時、ガス導入管８より導入され、エッ
チング処理室５の内壁面の複数の小孔より吹き出すO2等
のクリーニングガスにより、エッチング後のガスに含ま
れるエッチング残渣は、エッチング処理室５の内壁面に
付着し堆積する事なく、排気口６より排出される。この
ため従来のように保護カバーを用いる必要がないため、
エッチング装置の稼働率は向上する。
第２図は本発明の第２の実施例の断面図である。
本第２の実施例では、エッチング処置室５の内壁部よ
り内側に、複数個のクリーニングガス吹出し穴９を有す
る側面パネル７を設けたものである。
このように構成された第２の実施例においても反応ガ
スに含まれるエッチング残渣は排気口６より排出され
る。そして、第１の実施例のように、エッチング処置室
５へ小孔を開口する必要がないため、低価格で装置を作
製できる利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ドライエッチング装置
のエッチング処理室の内壁部に複数個のクリーニングガ
ス吹出し口を設けることにより、エッチング処理中に発
生する残渣が内壁面に付着するのを抑制できるので、定
期的な清掃も不用となり、装置の稼働率を向上させるこ
とかできる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の断
面図である。 １……上部電極、２……ウェハー、３……下部電極、４
……高周波電源、５……エッチング処理室、６……排気
口、７……側面パネル、８……ガス導入管、９……クリ
ーニングガス吹出し穴。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】上部電極を備える上面部、被処理物が載置
    される下部電極を備える下面部、及び前記上面部及び前
    記下面部を結ぶ側面部からなるエッチング処理室と、前
    記上部電極から前記下部電極へ向かって反応ガスを流す
    手段と、前記エッチング処理室の前記側面部全体にのみ
    設けられた複数のクリーニングガス吹出し口とを有する
    ドライエッチング装置。
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JP2007300045A (ja) * 2006-05-08 2007-11-15 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd ドライエッチング装置

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JPS6370530A (ja) * 1986-09-12 1988-03-30 Hitachi Ltd 処理装置
JPS63111621A (ja) * 1986-10-29 1988-05-16 Mitsubishi Electric Corp エツチング処理装置

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