JPS59195651A - ホトマスク洗浄装置 - Google Patents
ホトマスク洗浄装置Info
- Publication number
- JPS59195651A JPS59195651A JP58070500A JP7050083A JPS59195651A JP S59195651 A JPS59195651 A JP S59195651A JP 58070500 A JP58070500 A JP 58070500A JP 7050083 A JP7050083 A JP 7050083A JP S59195651 A JPS59195651 A JP S59195651A
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- JP
- Japan
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- soln
- washing
- cleaning
- photomask
- pipe
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Links
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- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims abstract description 12
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
- B08B1/34—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members rotating about an axis parallel to the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/50—Cleaning by methods involving the use of tools involving cleaning of the cleaning members
- B08B1/52—Cleaning by methods involving the use of tools involving cleaning of the cleaning members using fluids
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は投影式露光機に使用するレチクル又はホトマス
クの洗浄装置に関するものである。
クの洗浄装置に関するものである。
近年、半導体集積回路装置の微細化が進んでおシ、それ
とともに集積回路装置の製造に使用する製造設備も高級
な装置になシつつある。例えば投影式露光機などがその
良い例であろう。具体的には、１対１のミラー系プロジ
エククヨン露光機。
とともに集積回路装置の製造に使用する製造設備も高級
な装置になシつつある。例えば投影式露光機などがその
良い例であろう。具体的には、１対１のミラー系プロジ
エククヨン露光機。
縮小投影露光機などがあるが、それらの露光機に使用す
るホトマスク又はレチクル（以下ホトマスクと総称する
）の清浄度が大きな問題となってきている。例えば縮小
投影露光機に使用するレチクル表面に電気的欠陥となり
得る塵埃が付着していると、＜シ返し露光を行なうため
その塵埃に当るチップは全部不良となってしまう。また
ミラーブロジェクシ胃ンのホトマスクにおいても、縮小
投影式に比べその被害は軽減されるとはいうもののマス
ク表面に付着した塵埃に当るチップは不良となり、歩留
りに多大な影脣を及ばず。従ってホトマスクの洗浄技術
が重要なものとなる。
るホトマスク又はレチクル（以下ホトマスクと総称する
）の清浄度が大きな問題となってきている。例えば縮小
投影露光機に使用するレチクル表面に電気的欠陥となり
得る塵埃が付着していると、＜シ返し露光を行なうため
その塵埃に当るチップは全部不良となってしまう。また
ミラーブロジェクシ胃ンのホトマスクにおいても、縮小
投影式に比べその被害は軽減されるとはいうもののマス
ク表面に付着した塵埃に当るチップは不良となり、歩留
りに多大な影脣を及ばず。従ってホトマスクの洗浄技術
が重要なものとなる。
ホトマスク洗浄法としては両面スクラブ方法が一般的で
あるが、従来のホトマスク洗浄装置ではスクラブに使用
するプラン自身の洗浄に関しとくに配慮がなされていな
い。すなわち、スクラブに使用するブラフ（以後単にブ
ラシと言う）が汚れると洗浄効果が劣化し、完壁な洗浄
が不可能となる。従来のホトマスク洗浄装置では、ブラ
シが汚れるとブラシを取りはずして交換するがまたはブ
ラシを洗浄して取り付は直していた。この方法ではブラ
シの交換時間に数時間を要し、さらに交換後も洗浄槽及
びブラシの清浄度を維持するため、空運動を数時間実施
する必要があった。
あるが、従来のホトマスク洗浄装置ではスクラブに使用
するプラン自身の洗浄に関しとくに配慮がなされていな
い。すなわち、スクラブに使用するブラフ（以後単にブ
ラシと言う）が汚れると洗浄効果が劣化し、完壁な洗浄
が不可能となる。従来のホトマスク洗浄装置では、ブラ
シが汚れるとブラシを取りはずして交換するがまたはブ
ラシを洗浄して取り付は直していた。この方法ではブラ
シの交換時間に数時間を要し、さらに交換後も洗浄槽及
びブラシの清浄度を維持するため、空運動を数時間実施
する必要があった。
そこで本発明の目的は、ホトマスク洗浄用スクラブブラ
シ自身の洗浄を容易にかつ短時間に効果的に行う機能を
兼ね備えたホトマスク洗浄装置を提供することである。
シ自身の洗浄を容易にかつ短時間に効果的に行う機能を
兼ね備えたホトマスク洗浄装置を提供することである。
本Ｑ明ｉ、ｊ：、７”ラシを有する洗浄槽内にホトマス
ク洗浄に使用すると同じ洗浄液を満たし、その洗浄液内
で気泡発生ができるように構成され、さらにホトマスク
洗浄を行なう前に、この満たされた洗浄液内で清汗な空
気又は炭酸ガスなどのバブリングによってブック及び槽
内に付着している汚れを洗浄することを特徴とする。
ク洗浄に使用すると同じ洗浄液を満たし、その洗浄液内
で気泡発生ができるように構成され、さらにホトマスク
洗浄を行なう前に、この満たされた洗浄液内で清汗な空
気又は炭酸ガスなどのバブリングによってブック及び槽
内に付着している汚れを洗浄することを特徴とする。
本発明による効果は、まずブラシの取りはずし取シつけ
などが不要となるため、短時間にてプランの洗浄を行な
えることがあげられる。また、ブラシの取りはずし取り
つけによって生じる塵埃が無いため、塵埃を外部から持
ち込むことがない。
などが不要となるため、短時間にてプランの洗浄を行な
えることがあげられる。また、ブラシの取りはずし取り
つけによって生じる塵埃が無いため、塵埃を外部から持
ち込むことがない。
従って清浄度を維持したままブラシのみならず同時に洗
浄槽内の洗浄を行うことができる。
浄槽内の洗浄を行うことができる。
次に図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。第
１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見た
断面図であり、第２図は側面方向から見た断面図である
。
１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見た
断面図であり、第２図は側面方向から見た断面図である
。
まず適肖な間隔をあけて洗浄槽４内に平行に設置された
２本のスクラブ用プラクｌを洗浄液に浸漬させる九め、
シャワー供給パイプ２から洗浄液を供給する。このとき
排水弁３は閉じておく。洗浄液が洗浄槽４内に満たされ
たとき、フィルターを通した清浄を空気を気体供給パイ
プ８から流し、その小さな孔９よ多気泡を発生させる。
２本のスクラブ用プラクｌを洗浄液に浸漬させる九め、
シャワー供給パイプ２から洗浄液を供給する。このとき
排水弁３は閉じておく。洗浄液が洗浄槽４内に満たされ
たとき、フィルターを通した清浄を空気を気体供給パイ
プ８から流し、その小さな孔９よ多気泡を発生させる。
洗浄液は絶えず供給し続けるが、液はオーバーフロード
レイン６を開にしているため、液面７以上に増加するこ
とがない。この方法によって洗浄液より比重の軽い塵埃
はオーバーフロードレイン６より流出する。また必要に
応じてモーター５を回転させればスクラブ用プラク１の
洗浄効果はさらに向上する。
レイン６を開にしているため、液面７以上に増加するこ
とがない。この方法によって洗浄液より比重の軽い塵埃
はオーバーフロードレイン６より流出する。また必要に
応じてモーター５を回転させればスクラブ用プラク１の
洗浄効果はさらに向上する。
一定時間、例えば−分間経過後シャワー供給パイプ２か
ら洗浄液の供給を止め、排水弁３を開にする。これによ
って洗浄液より重い塵埃は排水弁３より排出される。以
上の工程を２〜３回行なうことによってスクラブ用ブラ
シ１を完全に洗浄できることになる。このようにブラシ
の洗浄が完了後ホトマスクを２本のブラフの間に送り込
み、ブラシを回転させてスクラブ洗浄を行なうことにょ
シ、塵埃付着のない高品質のホトマスクが得られる。
ら洗浄液の供給を止め、排水弁３を開にする。これによ
って洗浄液より重い塵埃は排水弁３より排出される。以
上の工程を２〜３回行なうことによってスクラブ用ブラ
シ１を完全に洗浄できることになる。このようにブラシ
の洗浄が完了後ホトマスクを２本のブラフの間に送り込
み、ブラシを回転させてスクラブ洗浄を行なうことにょ
シ、塵埃付着のない高品質のホトマスクが得られる。
また、洗浄液としては界面活性剤やアンモニア水溶液な
どを使用すると効果があるが、フィルターを通した純水
、有機溶液でも良い。本実施例では空気のバブリングを
行なったが、炭酸ガス、窒素などを使用してもよい。ま
た洗浄液の供給手段としてプラクよシ上位にあるシャワ
ー供給パイプを利用したが、ブラシより下方に供給口を
設けてもよい。
どを使用すると効果があるが、フィルターを通した純水
、有機溶液でも良い。本実施例では空気のバブリングを
行なったが、炭酸ガス、窒素などを使用してもよい。ま
た洗浄液の供給手段としてプラクよシ上位にあるシャワ
ー供給パイプを利用したが、ブラシより下方に供給口を
設けてもよい。
第１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見
た断面図であり、第２図は側面方向から見た断面図であ
る。 １・・・・・・スクラブ用ブラフ、２・・・・・・７ヤ
ワー供給パイプ、３・・・・・・排水弁、４・・・・・
・洗浄槽、５・・・・・・モーｌ’ ＋、６・・団・オ
ーバーフロードレイン、７・・川・液面、８・・・・・
・気体供給パイプ、９・・・・・・小孔。 篤／図 茗 ２ 図
た断面図であり、第２図は側面方向から見た断面図であ
る。 １・・・・・・スクラブ用ブラフ、２・・・・・・７ヤ
ワー供給パイプ、３・・・・・・排水弁、４・・・・・
・洗浄槽、５・・・・・・モーｌ’ ＋、６・・団・オ
ーバーフロードレイン、７・・川・液面、８・・・・・
・気体供給パイプ、９・・・・・・小孔。 篤／図 茗 ２ 図
Claims (1)
- 半導体集積回路装置製造用ホトマスクを洗浄するために
スクラブ用ブラシを具備した洗浄装置において洗浄槽内
に洗浄液をクヤワー供給する機構と、洗浄液をオーバー
フロー及び底部排水させる機構と、洗浄液に気泡を発生
させる機構とを有し、スクラブ用プランを洗浄液に浸漬
させて該ブラシを気泡洗浄せしめる手段、さらに前記ス
クラブ用ブラシ洗浄後ホトマスクを洗浄槽内に搬送し、
前記洗浄液を供給して該ホトマスクをスクラブ洗浄せし
める手段とを備えたことを特徴とするホトマスク洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58070500A JPS59195651A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58070500A JPS59195651A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59195651A true JPS59195651A (ja) | 1984-11-06 |
Family
ID=13433299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58070500A Pending JPS59195651A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59195651A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6282733U (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-27 | ||
| JPH0353524A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| JPH03283535A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Tokyo Electron Ltd | ウエット洗浄装置 |
| EP2233191A1 (en) * | 2008-01-04 | 2010-09-29 | Freund Corporation | Filter cleaning apparatus and method of cleaning filter |
| CN103341463A (zh) * | 2013-07-01 | 2013-10-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 超声波清洁装置 |
| CN105013727A (zh) * | 2015-06-23 | 2015-11-04 | 中山明杰自动化科技有限公司 | 一种通风式喷雾清洗机 |
| CN107470206A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-12-15 | 芜湖中意液压科技股份有限责任公司 | 一种液压阀加工用清洗装置 |
-
1983
- 1983-04-21 JP JP58070500A patent/JPS59195651A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6282733U (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-27 | ||
| JPH0353524A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| JPH03283535A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Tokyo Electron Ltd | ウエット洗浄装置 |
| EP2233191A1 (en) * | 2008-01-04 | 2010-09-29 | Freund Corporation | Filter cleaning apparatus and method of cleaning filter |
| EP2233191A4 (en) * | 2008-01-04 | 2013-09-04 | Freund Corp | APPARATUS FOR CLEANING FILTERS AND METHOD FOR CLEANING FILTER |
| CN103341463A (zh) * | 2013-07-01 | 2013-10-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 超声波清洁装置 |
| CN105013727A (zh) * | 2015-06-23 | 2015-11-04 | 中山明杰自动化科技有限公司 | 一种通风式喷雾清洗机 |
| CN107470206A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-12-15 | 芜湖中意液压科技股份有限责任公司 | 一种液压阀加工用清洗装置 |
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