JP2834391B2 - 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク等の磁気記
録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録
媒体の製造方法に関する。
録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録
媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化に伴
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
【０００３】最近、ハードディスク装置の小型化と大容
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
【０００４】このため、媒体用基板として、特開平４−
２５５９０８号公報に開示されているように、前記Ａｌ
合金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代えて平坦性の良好なガラ
ス基板を用い、その上に機械的加工による方向性のある
テキスチャーに代えてＡｇ、Ａｌ等の低融点金属による
不連続な微小突起が形成されたものが使用されるように
なった。機械的加工により形成したテキスチャーには微
小なバリ状突起が形成され易く、これがヘッドの低浮上
化を困難にしていたからである。
２５５９０８号公報に開示されているように、前記Ａｌ
合金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代えて平坦性の良好なガラ
ス基板を用い、その上に機械的加工による方向性のある
テキスチャーに代えてＡｇ、Ａｌ等の低融点金属による
不連続な微小突起が形成されたものが使用されるように
なった。機械的加工により形成したテキスチャーには微
小なバリ状突起が形成され易く、これがヘッドの低浮上
化を困難にしていたからである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記不連続な媒体用基
板を用いることによりヘッドの低浮上化が図られるよう
になったが、突起の形状が比較的一様で、その高さが低
いため、ＣＳＳによる微小摩耗により漸次、接触面積が
増加し、摩擦係数が次第に増加し、耐摩耗性の向上に限
度があった。
板を用いることによりヘッドの低浮上化が図られるよう
になったが、突起の形状が比較的一様で、その高さが低
いため、ＣＳＳによる微小摩耗により漸次、接触面積が
増加し、摩擦係数が次第に増加し、耐摩耗性の向上に限
度があった。
【０００６】本発明は低浮上化のみならず、ＣＳＳ特性
にも優れた磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板
を用いた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的
とする。
にも優れた磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板
を用いた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】非磁性基盤の表面側に島
条に残存した凸部を形成させる磁気記録媒体用基板の製
造方法において、 前記非磁性基板の表面側に、Ａｌ−Ｃ
ｕ合金膜もしくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜を成膜させ、
その成膜させた合金膜のＡｌリッチ相を溶解除去させ
て、非磁性基板の表面側に、Ｃｕリッチ相部分からなる
島状に残存した凸部を形成させるという方法を採用し
た。
条に残存した凸部を形成させる磁気記録媒体用基板の製
造方法において、 前記非磁性基板の表面側に、Ａｌ−Ｃ
ｕ合金膜もしくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜を成膜させ、
その成膜させた合金膜のＡｌリッチ相を溶解除去させ
て、非磁性基板の表面側に、Ｃｕリッチ相部分からなる
島状に残存した凸部を形成させるという方法を採用し
た。
【０００８】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、前記製造方法で得られた磁気記録媒体用基板の上に
非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金か
らなる磁性層が同順序で積層成膜するという方法を採用
した。
は、前記製造方法で得られた磁気記録媒体用基板の上に
非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金か
らなる磁性層が同順序で積層成膜するという方法を採用
した。
【０００９】
【作用】非磁性基板に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜、Ａ
ｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜は、微細な結晶粒子で、Ａｌリッ
チな部分とＣｕリッチな部分に分相した状態となってい
る。該合金膜が積層成膜された非磁性基板を水酸化ナト
リウム溶液等のＡｌ溶解用溶液に浸漬すると、Ａｌリッ
チ相が選択的に溶解し、非磁性基板上にはＣｕリッチ相
からなる凸部が島状に残存する。この凸部すなわち島状
に残存したＣｕリッチ相部分は、Ａｌ合金膜の膜厚範囲
内で大小様々な大きさのものとなっている。
ｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜は、微細な結晶粒子で、Ａｌリッ
チな部分とＣｕリッチな部分に分相した状態となってい
る。該合金膜が積層成膜された非磁性基板を水酸化ナト
リウム溶液等のＡｌ溶解用溶液に浸漬すると、Ａｌリッ
チ相が選択的に溶解し、非磁性基板上にはＣｕリッチ相
からなる凸部が島状に残存する。この凸部すなわち島状
に残存したＣｕリッチ相部分は、Ａｌ合金膜の膜厚範囲
内で大小様々な大きさのものとなっている。
【００１０】
【実施例】本発明方法で製造された磁気記録媒体用基板
は、図１に示すように、非磁性基板１の上に成膜された
Ａｌ−Ｃｕ合金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜のＡ
ｌリッチ相のみを水酸化ナトリウム溶液を用いて溶解除
去することにより島状に残存したＣｕリッチ相部分から
なる凸部２が無数に形成されている。前記非磁性基板１
を構成する材質としては、ガラス、結晶化ガラス、炭
素、セラミック等の表面平滑性に優れ、変形抵抗の大き
いものがよい。
は、図１に示すように、非磁性基板１の上に成膜された
Ａｌ−Ｃｕ合金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜のＡ
ｌリッチ相のみを水酸化ナトリウム溶液を用いて溶解除
去することにより島状に残存したＣｕリッチ相部分から
なる凸部２が無数に形成されている。前記非磁性基板１
を構成する材質としては、ガラス、結晶化ガラス、炭
素、セラミック等の表面平滑性に優れ、変形抵抗の大き
いものがよい。
【００１１】該基板１の上に成膜されるＡｌ−Ｃｕ合金
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜（以下、特に断らな
い限り、両合金膜を区別せず単にＡｌ合金膜とする。）
としては、Ａｌリッチ相とＣｕリッチ相とに分相するも
のであれば、いずれの組成のものでも使用することがで
きるが、好ましくは、Ｃｕ：２〜２０％、ＲＥ：１０％
以下のものがよい。Ｃｕが２％未満あるいは２０％を越
えると分相し難く、また２％未満では分相してもＣｕリ
ッチ相が過少だからである。ＲＥは分相を促進する作用
があるが、１０％を越えると、各相が微細になり過ぎ、
Ｃｕリッチ相部分の間隔が小さくなる。ＲＥとしては、
Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｅ
ｒ，Ｌｕ，Ｙ，Ｓｃ等の希土類元素の中から１種以上を
適宜選択し、使用することができる。Ａｌ合金膜は、通
常、３００〜１０００（好ましくは５００〜６００）Å
程度成膜される。
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜（以下、特に断らな
い限り、両合金膜を区別せず単にＡｌ合金膜とする。）
としては、Ａｌリッチ相とＣｕリッチ相とに分相するも
のであれば、いずれの組成のものでも使用することがで
きるが、好ましくは、Ｃｕ：２〜２０％、ＲＥ：１０％
以下のものがよい。Ｃｕが２％未満あるいは２０％を越
えると分相し難く、また２％未満では分相してもＣｕリ
ッチ相が過少だからである。ＲＥは分相を促進する作用
があるが、１０％を越えると、各相が微細になり過ぎ、
Ｃｕリッチ相部分の間隔が小さくなる。ＲＥとしては、
Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｅ
ｒ，Ｌｕ，Ｙ，Ｓｃ等の希土類元素の中から１種以上を
適宜選択し、使用することができる。Ａｌ合金膜は、通
常、３００〜１０００（好ましくは５００〜６００）Å
程度成膜される。
【００１２】本発明方法で製造された磁気記録媒体は、
前記媒体用基板の上に、Ｃｒ若しくはＣｒと同様の結晶
構造を有するＣｒ合金からなる非磁性下地層が成膜され
ており、その上に一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金
からなる磁性層が成膜され、更にその上に非磁性保護層
が積層成膜されている。前記磁性層は、ＣｏＮｉＣｒ、
ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気異方性を
示すＣｏ合金であれば、いずれのものによっても形成す
ることができる。尚、磁性層は単層として形成したもの
に限らず、Ｃｏ合金層と、ＣｒやＣｒ合金からなる非磁
性中間層とを交互に積層形成したものでもよい。磁性層
の層厚（複層の場合、Ｃｏ合金層の合計厚）は通常１５
０〜８００Å程度である。
前記媒体用基板の上に、Ｃｒ若しくはＣｒと同様の結晶
構造を有するＣｒ合金からなる非磁性下地層が成膜され
ており、その上に一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金
からなる磁性層が成膜され、更にその上に非磁性保護層
が積層成膜されている。前記磁性層は、ＣｏＮｉＣｒ、
ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気異方性を
示すＣｏ合金であれば、いずれのものによっても形成す
ることができる。尚、磁性層は単層として形成したもの
に限らず、Ｃｏ合金層と、ＣｒやＣｒ合金からなる非磁
性中間層とを交互に積層形成したものでもよい。磁性層
の層厚（複層の場合、Ｃｏ合金層の合計厚）は通常１５
０〜８００Å程度である。
【００１３】前記非磁性保護層はＣ、ＳｉＯ2 等により
１００〜３００Å程度形成されており、通常、更にその
上にフッ素化ポリエーテル等の液体潤滑剤が２０〜５０
Å程度（単分子厚程度）塗布される。尚、前記保護層や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。Ａｌ合金層、非
磁性下地層、磁性層、非磁性保護層は、公知の蒸着法や
スパッタリングにより成膜される。スパッタリング条件
は、通常、Ａｒガスあるいは混合ガス圧１〜３０ｍＴｏ
ｒｒ、基板温度２５０〜３００℃程度とされる。
１００〜３００Å程度形成されており、通常、更にその
上にフッ素化ポリエーテル等の液体潤滑剤が２０〜５０
Å程度（単分子厚程度）塗布される。尚、前記保護層や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。Ａｌ合金層、非
磁性下地層、磁性層、非磁性保護層は、公知の蒸着法や
スパッタリングにより成膜される。スパッタリング条件
は、通常、Ａｒガスあるいは混合ガス圧１〜３０ｍＴｏ
ｒｒ、基板温度２５０〜３００℃程度とされる。
【００１４】次に本発明製造方法の具体的実施例を掲げ
る。 (1) ガラス基板の上に、基板温度２５０℃で、Ａｌ−
５at％Ｃｕ−５at％Ｙ合金を５００Å成膜した。成膜
後、０．２Ｎ濃度のＮａＯＨ溶液に基板を浸漬し、Ａｌ
リッチ相を選択的に溶解し、基板表面にＣｕリッチ相部
分が島状に点在する基板を得た。その表面を原子間力顕
微鏡により観察した。観察された基板表面組織プロファ
イルを図２に示す。同図より平均粗さＲａ＝３０Å、最
大粗さ＝２００Åが測定された。 (2) この基板を洗浄した後、Ｃｒ下地層：６００Å、
ＣｏＣｒＴａ合金磁性層：４００Å、Ｃ保護層：１５０
Åを順次積層成膜し、その上にフッソ系潤滑膜を２５Å
成膜して、直径２．５インチの磁気記録媒体を得た。ス
パッタリング条件は、基板温度２７０℃、Ａｒガス圧８
ｍＴｏｒｒであり、成膜装置として、ＤＣマグネトロン
スパッタ装置を用いた。 (3) 比較のため、従来例方法として、ガラス基板に７
５ÅのＡｌ不連続膜を成膜することにより、Ａｌ突起を
島状に形成し、前記(2) と同様にして磁気記録媒体を製
作した。原子間力顕微鏡により観察されたＡｌ突起を有
する基板の表面組織プロファイルを図３に示す。これよ
り、被覆率＝３２％、平均粗さＲａ＝２０Å、最大粗さ
＝１５０Åが測定された。 (4) 本発明実施例、従来例の各製法で得られた媒体及
び薄膜ヘッドを用いて、グライドハイト及びＣＳＳ回数
に対する摩擦係数を測定した。その結果を図４及び図５
に示す。同図より、両者はグライド性能が略同じである
にもかかわらず、またスタート時の摩擦係数が同一であ
るにもかかわらず、本発明実施例の媒体はＣＳＳ回数が
大きくなっても摩擦係数の増加はほとんどなく、耐摩耗
性に優れていることが分かる。
る。 (1) ガラス基板の上に、基板温度２５０℃で、Ａｌ−
５at％Ｃｕ−５at％Ｙ合金を５００Å成膜した。成膜
後、０．２Ｎ濃度のＮａＯＨ溶液に基板を浸漬し、Ａｌ
リッチ相を選択的に溶解し、基板表面にＣｕリッチ相部
分が島状に点在する基板を得た。その表面を原子間力顕
微鏡により観察した。観察された基板表面組織プロファ
イルを図２に示す。同図より平均粗さＲａ＝３０Å、最
大粗さ＝２００Åが測定された。 (2) この基板を洗浄した後、Ｃｒ下地層：６００Å、
ＣｏＣｒＴａ合金磁性層：４００Å、Ｃ保護層：１５０
Åを順次積層成膜し、その上にフッソ系潤滑膜を２５Å
成膜して、直径２．５インチの磁気記録媒体を得た。ス
パッタリング条件は、基板温度２７０℃、Ａｒガス圧８
ｍＴｏｒｒであり、成膜装置として、ＤＣマグネトロン
スパッタ装置を用いた。 (3) 比較のため、従来例方法として、ガラス基板に７
５ÅのＡｌ不連続膜を成膜することにより、Ａｌ突起を
島状に形成し、前記(2) と同様にして磁気記録媒体を製
作した。原子間力顕微鏡により観察されたＡｌ突起を有
する基板の表面組織プロファイルを図３に示す。これよ
り、被覆率＝３２％、平均粗さＲａ＝２０Å、最大粗さ
＝１５０Åが測定された。 (4) 本発明実施例、従来例の各製法で得られた媒体及
び薄膜ヘッドを用いて、グライドハイト及びＣＳＳ回数
に対する摩擦係数を測定した。その結果を図４及び図５
に示す。同図より、両者はグライド性能が略同じである
にもかかわらず、またスタート時の摩擦係数が同一であ
るにもかかわらず、本発明実施例の媒体はＣＳＳ回数が
大きくなっても摩擦係数の増加はほとんどなく、耐摩耗
性に優れていることが分かる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の製造方法に
よれば、非磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合
金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合
金膜のＡｌリッチ相を溶解除去することにより、非磁性
基板上にＡｌ合金膜厚下の範囲で大小様々なＣｕリッチ
相部分からなる島状の凸部が形成され、従来の低融点金
属突起に比してグライド高さを損なうことなく、耐摩耗
性を向上させることができる。
よれば、非磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合
金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合
金膜のＡｌリッチ相を溶解除去することにより、非磁性
基板上にＡｌ合金膜厚下の範囲で大小様々なＣｕリッチ
相部分からなる島状の凸部が形成され、従来の低融点金
属突起に比してグライド高さを損なうことなく、耐摩耗
性を向上させることができる。
【図１】本発明方法で得られた磁気記録媒体用基板の要
部断面模式図である。
部断面模式図である。
【図２】本発明実施例方法で得られた磁気記録媒体用基
板の表面の金属組織写真である。
板の表面の金属組織写真である。
【図３】従来例方法で得られた磁気記録媒体用基板の表
面の金属組織写真である。
面の金属組織写真である。
【図４】本発明実施例方法及び従来例方法により得られ
た磁気記録媒体について、中心からの半径方向位置とグ
ライド高さとの関係を示すグラフである。
た磁気記録媒体について、中心からの半径方向位置とグ
ライド高さとの関係を示すグラフである。
【図５】本発明実施例方法及び従来例方法により得られ
た磁気記録媒体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関
係を示すグラフである。
た磁気記録媒体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関
係を示すグラフである。
１ 非磁性基板 ２ 凸部
フロントページの続き (72)発明者 倉高 伸雄 大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47 号 株式会社クボタ内 (72)発明者 壺井 茂 大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47 号 株式会社クボタ内 (56)参考文献 特開 昭64−8511（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−221428（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−255909（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/84 G11B 5/66
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性基盤の表面側に島条に残存した凸
部を形成させる磁気記録媒体用基板の製造方法におい
て、 前記非磁性基板の表面側に、Ａｌ−Ｃｕ合金膜もしくは
Ａｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜を成膜させ、その成膜させた合
金膜のＡｌリッチ相を溶解除去させて、非磁性基板の表
面側に、Ｃｕリッチ相部分からなる島状に残存した凸部
を形成させることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製
造方法。 - 【請求項２】 請求項１の製造方法で得られた磁気記録
媒体用基板の上に非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を
有するＣｏ合金からなる磁性層を同順序で積層成膜する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20122893A JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20122893A JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737236A JPH0737236A (ja) | 1995-02-07 |
| JP2834391B2 true JP2834391B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=16437462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20122893A Expired - Fee Related JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2834391B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012698A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Support de disque magnetique, tete magnetique, appareil a disque magnetique les utilisant et procede servant a fabriquer cet appareil |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210389A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池モジュール用充填材層および太陽電池モジュール |
| JP5100630B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2012-12-19 | 電気化学工業株式会社 | 太陽電池封止材 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP20122893A patent/JP2834391B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0737236A (ja) | 1995-02-07 |
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