JPH0737236A - 磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁気記録媒体Info
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- JPH0737236A JPH0737236A JP5201228A JP20122893A JPH0737236A JP H0737236 A JPH0737236 A JP H0737236A JP 5201228 A JP5201228 A JP 5201228A JP 20122893 A JP20122893 A JP 20122893A JP H0737236 A JPH0737236 A JP H0737236A
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- JP
- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低浮上化のみならず、ＣＳＳ特性にも優れた
磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁気記録媒体
を提供する。 【構成】 本発明の磁気記録媒体用基板は、非磁性基板
１の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜若しくはＡｌ
−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合金膜のＡｌリッチ
相を溶解除去することにより島状に残存したＣｕリッチ
相部分からなる凸部２が形成されている。また、本発明
の磁気記録媒体は、前記媒体用基板の上に非磁性下地
層、一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金からなる磁性
層が同順序で積層成膜されている。
磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁気記録媒体
を提供する。 【構成】 本発明の磁気記録媒体用基板は、非磁性基板
１の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜若しくはＡｌ
−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合金膜のＡｌリッチ
相を溶解除去することにより島状に残存したＣｕリッチ
相部分からなる凸部２が形成されている。また、本発明
の磁気記録媒体は、前記媒体用基板の上に非磁性下地
層、一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金からなる磁性
層が同順序で積層成膜されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク等の磁気記
録媒体用基板及びその基板を用いた磁気記録媒体に関す
る。
録媒体用基板及びその基板を用いた磁気記録媒体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化に伴
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
って、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金からなる磁性層を非磁性基板上に
Ｃｒ下地層を介して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が
用いられている。従来、媒体用基板として、Ａ１合金板
上に非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が形成され、その表面にテ
キスチャーと呼ばれる微細凹凸が円周方向に沿って機械
的に加工されたものが使用されていた。機械的テキスチ
ャーは、ヘッド・媒体間の摩擦を軽減し、ＣＳＳ（コン
スタント・スタート・ストップ）特性を向上させると共
に、その表面側に形成されるＣｏ合金磁性層の周方向の
磁気的異方性を向上させ、保磁力を向上させる作用を有
する。一方、Ｃｒ下地層は、該下地層を構成するＣｒの
結晶構造が、その上に成膜されるＣｏ合金磁性層の磁気
異方性を示す結晶軸（Ｃ軸）を面内配向させるように作
用し、保磁力を向上させる作用を有する。
【０００３】最近、ハードディスク装置の小型化と大容
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
量化に拍車がかかり、それに応じた磁気記録媒体の開発
が求められている。磁気記録媒体の高密度記録化が進む
と、記録ビットサイズが小さくなるために、磁気ヘッド
の浮上量をできるだけ小さくして読み出し出力を上げな
ければならない。そのためには磁性層が成膜される媒体
用基板の平滑化を促進して、ヘッドの低浮上化を図る必
要がある。
【０００４】このため、媒体用基板として、特開平４−
２５５９０８号公報に開示されているように、前記Ａｌ
合金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代えて平坦性の良好なガラ
ス基板を用い、その上に機械的加工による方向性のある
テキスチャーに代えてＡｇ、Ａｌ等の低融点金属による
不連続な微小突起が形成されたものが使用されるように
なった。機械的加工により形成したテキスチャーには微
小なバリ状突起が形成され易く、これがヘッドの低浮上
化を困難にしていたからである。
２５５９０８号公報に開示されているように、前記Ａｌ
合金／Ｎｉ−Ｐメッキ基板に代えて平坦性の良好なガラ
ス基板を用い、その上に機械的加工による方向性のある
テキスチャーに代えてＡｇ、Ａｌ等の低融点金属による
不連続な微小突起が形成されたものが使用されるように
なった。機械的加工により形成したテキスチャーには微
小なバリ状突起が形成され易く、これがヘッドの低浮上
化を困難にしていたからである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記不連続な媒体用基
板を用いることによりヘッドの低浮上化が図られるよう
になったが、突起の形状が比較的一様で、その高さが低
いため、ＣＳＳによる微小摩耗により漸次、接触面積が
増加し、摩擦係数が次第に増加し、耐摩耗性の向上に限
度があった。
板を用いることによりヘッドの低浮上化が図られるよう
になったが、突起の形状が比較的一様で、その高さが低
いため、ＣＳＳによる微小摩耗により漸次、接触面積が
増加し、摩擦係数が次第に増加し、耐摩耗性の向上に限
度があった。
【０００６】本発明は低浮上化のみならず、ＣＳＳ特性
にも優れた磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
にも優れた磁気記録媒体用基板および該基板を用いた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体用
基板は、非磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合
金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合
金膜のＡｌリッチ相を溶解除去することにより島状に残
存したＣｕリッチ相部分からなる凸部が形成されてい
る。
基板は、非磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合
金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合
金膜のＡｌリッチ相を溶解除去することにより島状に残
存したＣｕリッチ相部分からなる凸部が形成されてい
る。
【０００８】また、本発明の磁気記録媒体は、前記媒体
用基板の上に非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を有す
るＣｏ合金からなる磁性層が同順序で積層成膜されてい
る。
用基板の上に非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を有す
るＣｏ合金からなる磁性層が同順序で積層成膜されてい
る。
【０００９】
【作用】非磁性基板に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜、Ａ
ｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜は、微細な結晶粒子で、Ａｌリッ
チな部分とＣｕリッチな部分に分相した状態となってい
る。該合金膜が積層成膜された非磁性基板を水酸化ナト
リウム溶液等のＡｌ溶解用溶液に浸漬すると、Ａｌリッ
チ相が選択的に溶解し、非磁性基板上にはＣｕリッチ相
からなる凸部が島状に残存する。この凸部すなわち島状
に残存したＣｕリッチ相部分は、Ａｌ合金膜の膜厚範囲
内で大小様々な大きさのものとなっている。
ｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜は、微細な結晶粒子で、Ａｌリッ
チな部分とＣｕリッチな部分に分相した状態となってい
る。該合金膜が積層成膜された非磁性基板を水酸化ナト
リウム溶液等のＡｌ溶解用溶液に浸漬すると、Ａｌリッ
チ相が選択的に溶解し、非磁性基板上にはＣｕリッチ相
からなる凸部が島状に残存する。この凸部すなわち島状
に残存したＣｕリッチ相部分は、Ａｌ合金膜の膜厚範囲
内で大小様々な大きさのものとなっている。
【００１０】
【実施例】本発明の磁気記録媒体用基板は、図１に示す
ように、非磁性基板１の上に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜のＡｌリッチ相のみ
を水酸化ナトリウム溶液を用いて溶解除去することによ
り島状に残存したＣｕリッチ相部分からなる凸部２が無
数に形成されている。前記非磁性基板１を構成する材質
としては、ガラス、結晶化ガラス、炭素、セラミック等
の表面平滑性に優れ、変形抵抗の大きいものがよい。
ように、非磁性基板１の上に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜のＡｌリッチ相のみ
を水酸化ナトリウム溶液を用いて溶解除去することによ
り島状に残存したＣｕリッチ相部分からなる凸部２が無
数に形成されている。前記非磁性基板１を構成する材質
としては、ガラス、結晶化ガラス、炭素、セラミック等
の表面平滑性に優れ、変形抵抗の大きいものがよい。
【００１１】該基板１の上に成膜されるＡｌ−Ｃｕ合金
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜（以下、特に断らな
い限り、両合金膜を区別せず単にＡｌ合金膜とする。）
としては、Ａｌリッチ相とＣｕリッチ相とに分相するも
のであれば、いずれの組成のものでも使用することがで
きるが、好ましくは、Ｃｕ：２〜２０％、ＲＥ：１０％
以下のものがよい。Ｃｕが２％未満あるいは２０％を越
えると分相し難く、また２％未満では分相してもＣｕリ
ッチ相が過少だからである。ＲＥは分相を促進する作用
があるが、１０％を越えると、各相が微細になり過ぎ、
Ｃｕリッチ相部分の間隔が小さくなる。ＲＥとしては、
Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｅ
ｒ，Ｌｕ，Ｙ，Ｓｃ等の希土類元素の中から１種以上を
適宜選択し、使用することができる。Ａｌ合金膜は、通
常、３００〜１０００（好ましくは５００〜６００）Å
程度成膜される。
膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜（以下、特に断らな
い限り、両合金膜を区別せず単にＡｌ合金膜とする。）
としては、Ａｌリッチ相とＣｕリッチ相とに分相するも
のであれば、いずれの組成のものでも使用することがで
きるが、好ましくは、Ｃｕ：２〜２０％、ＲＥ：１０％
以下のものがよい。Ｃｕが２％未満あるいは２０％を越
えると分相し難く、また２％未満では分相してもＣｕリ
ッチ相が過少だからである。ＲＥは分相を促進する作用
があるが、１０％を越えると、各相が微細になり過ぎ、
Ｃｕリッチ相部分の間隔が小さくなる。ＲＥとしては、
Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｅ
ｒ，Ｌｕ，Ｙ，Ｓｃ等の希土類元素の中から１種以上を
適宜選択し、使用することができる。Ａｌ合金膜は、通
常、３００〜１０００（好ましくは５００〜６００）Å
程度成膜される。
【００１２】本発明に係る磁気記録媒体は、前記媒体用
基板の上に、Ｃｒ若しくはＣｒと同様の結晶構造を有す
るＣｒ合金からなる非磁性下地層が成膜されており、そ
の上に一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金からなる磁
性層が成膜され、更にその上に非磁性保護層が積層成膜
されている。前記磁性層は、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴ
ａ、ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気異方性を示すＣｏ合
金であれば、いずれのものによっても形成することがで
きる。尚、磁性層は単層として形成したものに限らず、
Ｃｏ合金層と、ＣｒやＣｒ合金からなる非磁性中間層と
を交互に積層形成したものでもよい。磁性層の層厚（複
層の場合、Ｃｏ合金層の合計厚）は通常１５０〜８００
Å程度である。
基板の上に、Ｃｒ若しくはＣｒと同様の結晶構造を有す
るＣｒ合金からなる非磁性下地層が成膜されており、そ
の上に一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ合金からなる磁
性層が成膜され、更にその上に非磁性保護層が積層成膜
されている。前記磁性層は、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴ
ａ、ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気異方性を示すＣｏ合
金であれば、いずれのものによっても形成することがで
きる。尚、磁性層は単層として形成したものに限らず、
Ｃｏ合金層と、ＣｒやＣｒ合金からなる非磁性中間層と
を交互に積層形成したものでもよい。磁性層の層厚（複
層の場合、Ｃｏ合金層の合計厚）は通常１５０〜８００
Å程度である。
【００１３】前記非磁性保護層はＣ、ＳｉＯ2 等により
１００〜３００Å程度形成されており、通常、更にその
上にフッ素化ポリエーテル等の液体潤滑剤が２０〜５０
Å程度（単分子厚程度）塗布される。尚、前記保護層や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。Ａｌ合金層、非
磁性下地層、磁性層、非磁性保護層は、公知の蒸着法や
スパッタリングにより成膜される。スパッタリング条件
は、通常、Ａｒガスあるいは混合ガス圧１〜３０ｍＴｏ
ｒｒ、基板温度２５０〜３００℃程度とされる。
１００〜３００Å程度形成されており、通常、更にその
上にフッ素化ポリエーテル等の液体潤滑剤が２０〜５０
Å程度（単分子厚程度）塗布される。尚、前記保護層や
潤滑層は必要に応じて形成すればよい。Ａｌ合金層、非
磁性下地層、磁性層、非磁性保護層は、公知の蒸着法や
スパッタリングにより成膜される。スパッタリング条件
は、通常、Ａｒガスあるいは混合ガス圧１〜３０ｍＴｏ
ｒｒ、基板温度２５０〜３００℃程度とされる。
【００１４】次に具体的実施例を掲げる。 (1) ガラス基板の上に、基板温度２５０℃で、Ａｌ−
５at％Ｃｕ−５at％Ｙ合金を５００Å成膜した。成膜
後、０．２Ｎ濃度のＮａＯＨ溶液に基板を浸漬し、Ａｌ
リッチ相を選択的に溶解し、基板表面にＣｕリッチ相部
分が島状に点在する基板を得た。その表面を原子間力顕
微鏡により観察した。観察された基板表面組織プロファ
イルを図２に示す。同図より平均粗さＲａ＝３０Å、最
大粗さ＝２００Åが測定された。 (2) この基板を洗浄した後、Ｃｒ下地層：６００Å、
ＣｏＣｒＴａ合金磁性層：４００Å、Ｃ保護層：１５０
Åを順次積層成膜し、その上にフッソ系潤滑膜を２５Å
成膜して、直径２．５インチの磁気記録媒体を得た。ス
パッタリング条件は、基板温度２７０℃、Ａｒガス圧８
ｍＴｏｒｒであり、成膜装置として、ＤＣマグネトロン
スパッタ装置を用いた。 (3) 比較のため、従来例として、ガラス基板に７５Å
のＡｌ不連続膜を成膜することにより、Ａｌ突起を島状
に形成し、前記(2) と同様にして磁気記録媒体を製作し
た。原子間力顕微鏡により観察されたＡｌ突起を有する
基板の表面組織プロファイルを図３に示す。これより、
被覆率＝３２％、平均粗さＲａ＝２０Å、最大粗さ＝１
５０Åが測定された。 (4) 実施例、従来例の媒体及び薄膜ヘッドを用いて、
グライドハイト及びＣＳＳ回数に対する摩擦係数を測定
した。その結果を図４及び図５に示す。同図より、両者
はグライド性能が略同じであるにもかかわらず、またス
タート時の摩擦係数が同一であるにもかかわらず、実施
例の媒体はＣＳＳ回数が大きくなっても摩擦係数の増加
はほとんどなく、耐摩耗性に優れていることが分かる。
５at％Ｃｕ−５at％Ｙ合金を５００Å成膜した。成膜
後、０．２Ｎ濃度のＮａＯＨ溶液に基板を浸漬し、Ａｌ
リッチ相を選択的に溶解し、基板表面にＣｕリッチ相部
分が島状に点在する基板を得た。その表面を原子間力顕
微鏡により観察した。観察された基板表面組織プロファ
イルを図２に示す。同図より平均粗さＲａ＝３０Å、最
大粗さ＝２００Åが測定された。 (2) この基板を洗浄した後、Ｃｒ下地層：６００Å、
ＣｏＣｒＴａ合金磁性層：４００Å、Ｃ保護層：１５０
Åを順次積層成膜し、その上にフッソ系潤滑膜を２５Å
成膜して、直径２．５インチの磁気記録媒体を得た。ス
パッタリング条件は、基板温度２７０℃、Ａｒガス圧８
ｍＴｏｒｒであり、成膜装置として、ＤＣマグネトロン
スパッタ装置を用いた。 (3) 比較のため、従来例として、ガラス基板に７５Å
のＡｌ不連続膜を成膜することにより、Ａｌ突起を島状
に形成し、前記(2) と同様にして磁気記録媒体を製作し
た。原子間力顕微鏡により観察されたＡｌ突起を有する
基板の表面組織プロファイルを図３に示す。これより、
被覆率＝３２％、平均粗さＲａ＝２０Å、最大粗さ＝１
５０Åが測定された。 (4) 実施例、従来例の媒体及び薄膜ヘッドを用いて、
グライドハイト及びＣＳＳ回数に対する摩擦係数を測定
した。その結果を図４及び図５に示す。同図より、両者
はグライド性能が略同じであるにもかかわらず、またス
タート時の摩擦係数が同一であるにもかかわらず、実施
例の媒体はＣＳＳ回数が大きくなっても摩擦係数の増加
はほとんどなく、耐摩耗性に優れていることが分かる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、非
磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜若しく
はＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合金膜のＡｌ
リッチ相を溶解除去することにより、非磁性基板上にＡ
ｌ合金膜厚下の範囲で大小様々なＣｕリッチ相部分から
なる島状の凸部が形成され、従来の低融点金属突起に比
してグライド高さを損なうことなく、耐摩耗性を向上さ
せることができる。
磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−Ｃｕ合金膜若しく
はＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ（ＲＥ：希土類元素）合金膜のＡｌ
リッチ相を溶解除去することにより、非磁性基板上にＡ
ｌ合金膜厚下の範囲で大小様々なＣｕリッチ相部分から
なる島状の凸部が形成され、従来の低融点金属突起に比
してグライド高さを損なうことなく、耐摩耗性を向上さ
せることができる。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体用基板の要部断面模
式図である。
式図である。
【図２】実施例に係る磁気記録媒体用基板の表面組織写
真である。
真である。
【図３】従来例に係る磁気記録媒体用基板の表面組織写
真である。
真である。
【図４】実施例（本発明）及び従来例に係る磁気記録媒
体について、中心からの半径方向位置とグライド高さと
の関係を示すグラフである。
体について、中心からの半径方向位置とグライド高さと
の関係を示すグラフである。
【図５】実施例（本発明）及び従来例に係る磁気記録媒
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
１ 非磁性基板 ２ 凸部
【手続補正書】
【提出日】平成６年１月７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体用基板の要部断面模
式図である。
式図である。
【図２】実施例に係る磁気記録媒体用基板の表面の金属
組織写真である。
組織写真である。
【図３】従来例に係る磁気記録媒体用基板の表面の金属
組織写真である。
組織写真である。
【図４】実施例（本発明）及び従来例に係る磁気記録媒
体について、中心からの半径方向位置とグライド高さと
の関係を示すグラフである。
体について、中心からの半径方向位置とグライド高さと
の関係を示すグラフである。
【図５】実施例（本発明）及び従来例に係る磁気記録媒
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
体について、ＣＳＳ回数と摩擦係数との関係を示すグラ
フである。
【符号の説明】 １ 非磁性基板 ２ 凸部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 倉高 伸雄 大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47号 株式会社クボタ内 (72)発明者 壺井 茂 大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47号 株式会社クボタ内
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性基板の表面側に成膜されたＡｌ−
Ｃｕ合金膜若しくはＡｌ−Ｃｕ−ＲＥ合金膜のＡｌリッ
チ相を溶解除去することにより島状に残存したＣｕリッ
チ相部分からなる凸部が形成されていることを特徴とす
る磁気記録媒体用基板。 - 【請求項２】 請求項１に記載した磁気記録媒体用基板
の上に非磁性下地層、一軸結晶磁気異方性を有するＣｏ
合金からなる磁性層が同順序で積層成膜されたことを特
徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20122893A JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20122893A JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737236A true JPH0737236A (ja) | 1995-02-07 |
| JP2834391B2 JP2834391B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=16437462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20122893A Expired - Fee Related JP2834391B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 磁気記録媒体用基板の製造方法と、前記基板を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2834391B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012698A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Support de disque magnetique, tete magnetique, appareil a disque magnetique les utilisant et procede servant a fabriquer cet appareil |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210389A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池モジュール用充填材層および太陽電池モジュール |
| JP2010150442A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 太陽電池封止材 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP20122893A patent/JP2834391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210389A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池モジュール用充填材層および太陽電池モジュール |
| JP2010150442A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 太陽電池封止材 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012698A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Support de disque magnetique, tete magnetique, appareil a disque magnetique les utilisant et procede servant a fabriquer cet appareil |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2834391B2 (ja) | 1998-12-09 |
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