JPH05120663A

JPH05120663A - 磁気記録媒体、その製造方法および製造装置

Info

Publication number: JPH05120663A
Application number: JP3277487A
Authority: JP
Inventors: Kiyoto Yamaguchi; 希世登山口; Katsumi Onodera; 克己小野寺
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1991-10-24
Filing date: 1991-10-24
Publication date: 1993-05-18
Also published as: DE4235497A1

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気記録媒体において、高い保磁力と低いノ
イズを兼ね備えた磁気記録媒体を実現し、記録装置の高
密度・大容量化を図る。【構成】下地金属層上に積層される薄膜磁性層が、Ｃ
ｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層からなる第１の磁性層と、この第
１の磁性層の上に積層されるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層か
らなる第２の磁性層とにより構成された層構造Ｂである
磁気記録媒体により、低ノイズを特徴とする第１の磁性
層以下の低ノイズと、高い保磁力Ｈｃを特徴とする第２
の磁性層以上の高保磁力を兼ね備えた磁気記録媒体を実
現することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク記憶
装置などに用いられ、非磁性基体上に、下地層と磁性層
とが形成された磁気記録媒体、その製造方法、および製
造装置に関するものであり、特に、その磁性層を２以上
の多層からなる多層磁性層により形成された磁気記録媒
体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータなどの情報処理装置
の外部記録装置として固定磁気ディスク装置が多く用い
られている。図６（ａ）および（ｂ）に、この固定磁気
ディスク装置に用いられている従来の磁気記録媒体の構
成を示してある。この磁気記録媒体は、非磁性基板１１
上に非磁性金属層１２を形成し、非磁性の基体１とし、
この基体１の上に、非磁性の金属下地層２を積層してあ
る。そして、この金属下地層２上に、強磁性合金体であ
るＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ（コバルト−クロム−タンタル）磁
性層３ａ、またはＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ（コバルト−クロム
−白金）磁性層３ｂなどのいずれかを薄膜状に積層形成
し、さらに、これらの磁性層上にアモルファスカーボン
保護層４を形成する。そして、この保護層４の上に、液
体潤滑剤からなる潤滑層５を設けて磁気記録媒体を形成
している。

【０００３】非磁性基板１１としては、Ａｌ合金材料か
らなり所要の平行度、平面度および表面粗さに仕上げ加
工された基板を用い、この表面に無電解メッキによりＮ
ｉ−Ｐ合金からなる非磁性合金層１２を形成する。そし
て、この表面を研磨して所要の表面粗さとし、非磁性の
基体１としている。この非磁性の基体１を２５０°Ｃに
加熱し、さらに、この基体１に２００Ｖの直流バイアス
を印加しながらＣｒからなる膜厚１０００Åの非磁性金
属下地層２、Ｃｏ８６ａｔ％、Ｃｒ１２ａｔ％およびＴ
ａ２ａｔ％からなる膜厚５００Åの磁性層３ａ、および
アモルファスカーボンからなる膜厚２００Åの保護層４
を順次スパッタ法により積層成形する。

【０００４】そして、保護層４上に、フロロカーボン系
の液体潤滑剤を膜厚２０Å塗布して潤滑層を形成し、磁
気記録媒体を製造する。このようにして作成された媒体
は、強度、寸法精度などの機械的特性は実用上支障な
く、良好であり、磁気特性も保磁力Ｈｃが１６００Ｏｅ
程度で、残留磁束密度と磁性層膜厚の積であるＢｒ・ｄ
が４５０Ｇ・μｍ程度と良好である。また、磁性層とし
てＣｏ８２ａｔ％、Ｃｒ１４．５ａｔ％およびＰｔ３．
５ａｔ％からなる磁性層３ｂを用いて磁気記録媒体を製
造した場合は、磁性層３ｂの膜厚が５６０Åのときに、
上記と同じ磁気特性を得ることができ、記録再生特性の
ノイズＮｗは３．１μＶ程度である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年の情報の多量化お
よび多様化が急激に進んだことにより、情報の大量処理
を行う必要性から固定磁気ディスク装置の高記録密度化
および大容量化が強く要望されている。従って、磁気デ
ィスク装置に用いられる磁気記録媒体においても、高記
録密度、大容量に対応するために保磁力Ｈｃをさらに高
め、また、高記録密度化に特に重要な因子である記録再
生特性時のノイズＮｗの低減が必要となっている。しか
しながら、例えば、高い保磁力を得ることの可能なＣｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層はノイズの低減が難しく、一方、ノ
イズの低い磁性層であるＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層では、
高い保磁力を得ることが困難であった。

【０００６】そこで、本発明においては、上記の問題に
鑑みて、上記のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層、およびＣｏ−
Ｃｒ−Ｔａ磁性層を用いた多層の磁性層を用いて高保磁
力、高角形比、さらに、記録再生特性におけるノイズの
低い磁気記録媒体を実現することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明者は幾つかの実験を繰り返し、その結果、
下地金属層の上に積層される第１の磁性層としてＣｏ−
Ｃｒ−Ｔａ磁性層、その上に積層される第２の磁性層と
してＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層を用いることにより保持力
が高く、同時に記録再生特性におけるノイズの低減され
た磁気記録媒体を実現できることを見出した。すなわ
ち、本発明に係る非磁性の基体上に、非磁性の下地金属
層と、強磁性合金の薄膜磁性層とが順次積層された磁気
記録媒体においては、薄膜磁性層が下地金属層の上に積
層されたＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層からなる第１の磁性層
と、この第１の磁性層の上に積層されたＣｏ−Ｃｒ−Ｐ
ｔ磁性層からなる第２の磁性層とを少なくとも備えた多
層薄膜磁性層であることを特徴としている。

【０００８】この磁気記録媒体において、第１の磁性層
の厚みをｄ₁、第２の磁性層の厚みをｄ₂とした場合
に、ｄ₁／ｄ₂を１／９〜７／３の範囲とすることが有
効である。

【０００９】そして、このような非磁性の基体上に形成
された非磁性の下地金属層に、第１の磁性層と第２の磁
性層とを少なくとも備えた多層薄膜磁性層を積層して磁
気記録媒体を製造する製造方法においては、第１の磁性
層をスパッタ法により形成するスパッタ段階を、下地金
属層の形成後、第１の設定時間以内に開始する第１磁性
層形成工程と、第２の磁性層をスパッタ法により形成す
るスパッタ段階を、第１の磁性層形成後、第２の設定時
間以内に開始する第２磁性層形成工程とを有することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法を用いることが有効
である。また、第１の磁性層がＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層
である場合は、第１の設定時間を略１５秒とし、第２の
磁性層がＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層である場合は、第２の
設定時間を略１０秒とすることが望ましい。

【００１０】さらに、非磁性の基体上に、非磁性の下地
金属層および少なくとも一層の薄膜磁性層をスパッタ法
により順次積層形成可能なスパッタ手段を少なくとも有
する磁気記録媒体の製造装置であって、薄膜磁性層に先
立ち形成された下地金属層または薄膜磁性層の形成後か
ら、その下地金属層または薄膜磁性層に積層される薄膜
磁性層の形成開始までの時間が設定可能なスパッタ間隔
設定手段を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造
装置を用いて磁気記録媒体を製造することが有効であ
る。

【００１１】

【作用】上記のような構成の磁気記録媒体は、下層とな
る第１の磁性層に低ノイズを特徴とする薄膜磁性層を採
用し、上層となる第２の磁性層に高保磁力を特徴とする
薄膜磁性層を採用した多層薄膜磁性層を用いて構成され
ており、高い保磁力と低ノイズを同時に実現できる磁気
記録媒体となる。従って、高記録密度化の際に用いられ
る狭ギャップ幅のベッドにより記録・再生する場合にお
いて、低ノイズ性を保持しつつ高保磁力化に対応可能な
磁気記録媒体を得ることができる。

【００１２】

【実施例】以下に図面を参照して本発明の実施例を説明
する。

【００１３】図１に、本実施例に係る磁気記録媒体の構
成を示してある。本例の磁気記録媒体は、図１（ａ）に
示すものは磁性層が、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金層３ｂの上
にＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金層３ａを積層した層構造Ａの２
層磁性層を採用しており、図１（ｂ）に示すものは磁性
層が、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金層３ａの上にＣｏ−Ｃｒ−
Ｐｔ合金層３ｂを積層した層構造Ｂの２層磁性層を採用
をしている。この他の構成については先に説明した従来
の磁気記録媒体と同様につき、共通する部分においては
同じ符号を付して説明を省略する。

【００１４】本例の磁気記録媒体は、先ず、内外径加工
および面切削を施したＡｌ合金からなるディスク上の基
板１１の表面に、無電解メッキによりＮｉ−Ｐ合金から
なる非磁性金属層１２を形成する。そして、この非磁性
金属層１２の表面を超精密平面研磨して表面粗さを中心
線平均粗さＲａで約６０Åとし、さらに、テクスチャ加
工を施し、所要の表面形状を有する基体１を製作する。
この基体１を精密洗浄し、ホルダーにセットした後イン
ライン方式のマグネトロンスパッタ装置の仕込み室へ送
り込む。そして、この仕込み室を５×１０^-6Ｔｏｒｒ以
下の真空度まで排気し、基体１の温度を２００°Ｃまで
加熱する。続いて、基体１のセットされたホルダーを成
膜室へ搬送し、この成膜室を圧力が５ｍＴｏｒｒのＡｒ
ガス雰囲気中とする。次に、この成膜室において、基体
１に２００Ｖの直流バイアスを印加しながら、Ｃｒから
なり膜厚が１０００Åの非磁性金属下地層２、続いてＣ
ｏ₈₆Ｃｒ₁₂Ｔａ₂合金からなる膜厚ｄ₁の磁性層３ａを
第１の磁性層、Ｃｏ₈₂Ｃｒ₁₄Ｐｔ₄合金からなる膜厚ｄ
₂の磁性層３ｂを第２の磁性層、アモルファスカーボン
からなる膜厚２００Åの保護層４を順次ＤＣスパッタ法
により成膜する。これにより、層構成Ｂとなる磁気記録
媒体の成膜が完成する。一方、層構成Ａの磁気記録媒体
においては、上記の磁性層３ｂを第１の磁性層として、
また、磁性層３ａを第２の磁性層とすることにより、同
様のプロセスにより成膜できる。そして、この過程にお
いて、非磁性金属下地層２の積層プロセス終了から第１
の磁性層の積層プロセスの開始までの時間間隔をｔ₁、
第１の磁性層の積層プロセスの終了から第２の磁性層の
積層プロセスの開始までの時間間隔をｔ₂として成膜す
る。これらの成膜が全て終了した後、ホルダーを取外し
室に搬送し、大気圧下において成膜された基体１をホル
ダーより外す。そして、アモルファスカーボン保護層４
の表面に、フロロカーボン系の液体潤滑剤を塗布して膜
厚２０Åの潤滑層５を形成し、磁気記録媒体とする。

【００１５】図２ないし図４に、上記にて製造された磁
気記録媒体の磁気特性と、記録再生特性を測定した結果
を示してある。層構造ＡおよびＢの両者において測定を
実施しており、また、それぞれの層構造においてＣｏ−
Ｃｒ−Ｔａ合金系の膜厚ｄ₁と、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金
系の膜厚ｄ₂とを、ｄ₁＋ｄ₂＝５００Åの関係内で変
化させて製造した磁気記録媒体について測定している。
図２は保磁力Ｈｃを、図３は残留磁束密度Ｂｒと磁性層
膜厚ｄ（ｄ₁＋ｄ₂＝５００Å）との積から算出される
Ｂｒ・ｄを、また、図４は記録再生特性としてノイズＮ
ｗを表している。そして、それぞれの図はｄ₁とｄ₂の
比を（ｄ₁／（ｄ₁＋ｄ₂））×１０として表した横軸
に対し、上記の測定値を示してある。従って、横軸が０
の媒体はＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ単層の媒体に、また、横軸が
１０の媒体はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ単層の媒体に対応する。
また、記録再生特性は、ギャップ長０．５μｍ、ギャッ
プ幅１０μｍのＭＩＧヘッドを用い、ディスク周速が
９．９ｍ／ｓｅｃ、ヘッド浮上量が０．１μｍ、ＬＦ／
ＨＦが２ＭＨｚ／８ＭＨｚとして測定した。

【００１６】図２に示すＨｃに着目すると、層構造Ｂに
おいては、ｄ₁の増加に伴いＨｃが増加し、（ｄ₁／
（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が１〜３のときに最大値とな
る。そして、さらに、ｄ₁が増加すると緩やかにＨｃが
減少する傾向を示すが、この層構造Ｂにおいては、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ単層あるいはＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ単層の磁気
記録媒体と比較し全範囲において高いＨｃを示し、特
に、（ｄ₁／（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が１〜７の範囲に
おいてＨｃがほぼ１８００Ｏｅ以上と高い値を示す。

【００１７】一方、層構造Ａにおいては、ｄ₁の増加に
つれて、Ｈｃは単調に減少していく。

【００１８】このとき、両層構造Ａ、Ｂにおいて図３に
示すＢｒ・ｄの値は、全範囲に亘って４５０Ｇ・μｍ程
度であり、層構造Ａ、Ｂに限らず大きな変化はなく、良
好な値である。

【００１９】図４に示すノイズＮｗに着目してみると、
層構造Ｂの媒体において、ノイズＮｗがｄ₁の増加につ
れて急減し、（ｄ₁／（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が３〜５
の範囲において最低値となり、その後ｄ₁の増加と共に
徐々に増加している。そして、（ｄ₁／（ｄ₁＋
ｄ₂））×１０が１以上において、低ノイズが特徴であ
るＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ単層（横軸が１０に対応）と比較し
ても低いＮｗ値を示している。一方、層構造ＡのＮｗ値
は、全範囲に亘ってほぼ変わりなく、むしろ（ｄ₁／
（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が１０の側において若干増加す
る傾向を示す。

【００２０】以上の結果より、層構造Ｂの磁気記録媒体
において、（ｄ₁／（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が１〜７の
範囲、すなわちｄ₁／ｄ₂が１／９〜７／３の範囲で高
い保磁力Ｈｃと、低いノイズＮｗという２つの特性を同
時に兼ね備えた磁気記録媒体を実現できることが分か
る。そして、（ｄ₁／（ｄ₁＋ｄ₂））×１０が３〜５
の範囲、すなわちｄ₁／ｄ₂が３／７〜５／５の範囲に
おいては、特に、高い保磁力Ｈｃと、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ
単層より低いノイズＮｗ特性という優れた特性を有する
磁気記録媒体を実現できることが分かる。従って、この
ような膜厚の関係を有し、Ｃｒ金属下地層の上に、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａ磁性層、そして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層
と積層された多層構造の磁性層の形成された磁気記録媒
体を用いることにより、高密度、低ノイズの磁気記録装
置を実現することができる。

【００２１】また、図５に、スパッタ間隔が磁性層の特
性に及ぼす影響について測定した結果を示してある。ス
パッタ間隔の影響は、図２ないし４においても、横軸が
０または１０の媒体の特性が一致しないことに現れてい
る。そして、図５に、これを詳細に測定した結果を示し
てある。本図に示した結果は、高密度、低ノイズを実現
できる層構造Ｂの媒体について測定した結果である。

【００２２】図５は、下地金属層２であるＣｒと、第１
の磁性層であるＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層３ａとのスパッ
タ間隔ｔ₁の保磁力Ｈｃへの影響、およびこの第１の磁
性層と第２の磁性層であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層３ｂ
とのスパッタ間隔ｔ₂の保持力Ｈｃへの影響を示してあ
る。スパッタ間隔ｔ₁、ｔ₂は、その磁性層に対し先立
って形成された下地金属層または磁性層の積層プロセス
終了から、その磁性層の積層プロセス開始までの時間を
示している。すなわち、スパッタ間隔ｔ₁は下地金属層
２の積層プロセス終了から第１の磁性層であるＣｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ磁性層３ａの積層プロセス開始までの時間を示
し、スパッタ間隔ｔ₂はこの第１の磁性層の積層プロセ
ス終了から第２の磁性層であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層
３ｂの積層プロセス開始までの時間を示す。そして、ス
パッタ間隔ｔ₁を変化させて保磁力Ｈｃへの影響を測定
する場合は、スパッタ間隔ｔ₂を２秒に固定している。
また、スパッタ間隔ｔ₂を変化させて保磁力Ｈｃへの影
響を測定する場合は、スパッタ間隔ｔ₁を２秒に固定し
ている。さらに、保磁力Ｈｃへの、スパッタ間隔ｔ₁、
ｔ₂の影響を明確に示すため、図５の縦軸には、保磁力
Ｈｃをスパッタ間隔ｔ₁またはｔ₂が２秒の時の値Ｈｃ
（２）により規格化した値、すなわち、Ｈｃ（ｔ）／Ｈ
ｃ（２）により示してある。また、本図は、層構造Ｂの
媒体であって、高密度、低ノイズの実現可能な（ｄ₁／
（ｄ₁＋ｄ₂））×１０の値が３となるように製造され
た媒体について測定した結果を示してある。

【００２３】本図にて分かるように、Ｈｃ（ｔ）／Ｈｃ
（２）は、スパッタ間隔ｔ₁、ｔ₂が増加するにつれて
減少してしまう。特に、スパッタ間隔ｔ₁の影響につい
ては、１６〜７秒を越えるとＨｃ（ｔ）／Ｈｃ（２）の
減少は著しく、また、スパッタ間隔ｔ₂の影響について
は、〜１０秒を越えるとＨｃ（ｔ）／Ｈｃ（２）の減少
が著しい。本測定結果から分かるように、Ｈｃ（ｔ）／
Ｈｃ（２）は、スパッタ間隔ｔ₁、ｔ₂に依存するの
で、高い保磁力を得るためには、スパッタ間隔ｔ₁、ｔ
₂を規定時間内に保つ必要がある。そして、図２に示し
た高保磁力を維持するためには、Ｈｃ（ｔ）／Ｈｃ
（２）が０．９以上であることが望ましく、この値は、
スパッタ間隔ｔ₁が略１５秒以内、スパッタ間隔ｔ₂が
略１０秒以内であれば達成できる。

【００２４】このように、高い保磁力を備えた磁気記録
媒体を製造する上において、スパッタ間隔を設定時間内
に保持することが重要な要素であることが分かる。この
スパッタ間隔が磁気記録媒体の磁気特性に及ぼす影響
は、本例のような多層の磁性層を備えた磁気記録媒体に
限らず、一層の磁性層からなる磁気記録媒体においても
同様である。従って、高い保磁力を備えた良好な磁気記
録媒体の製造においては、スパッタ間隔を設定できる製
造装置を用いることが有効である。そして、スパッタ間
隔の設定は、成膜室内におけるホルダーの搬送速度など
の幾つかの要素を調整することにより実現できる。

【００２５】上記の測定に示したように、本実施例にお
いては、Ｃｒ下地金属層上に直接形成した磁性層によっ
てのみ良好な面内磁化膜を製造できるという従来の磁気
記録媒体の構成と異なり、複数の磁性層を積層すること
により、磁気特性の良好な磁化膜を備えた磁気記録媒体
を実現している。そして、この複数の磁性層として下層
に低ノイズの特徴を具備する磁性層（Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ
磁性層）を用い、上層に高保磁力の特徴を具備する磁性
層（Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層）を用いることにより、高
保磁力の特徴を具備する磁性層以上の高保磁力と、低ノ
イズの特徴を具備する磁性層以下の低ノイズという優れ
た磁気特性を同時に備えた磁気記録媒体が実現できる。
このような優れた磁気特性は、本例のようなＡｌ基板に
限らずガラス基板などにおいても実現でき、また、下地
金属層としてＣｒに限らずＴｉなどを用いた媒体におい
ても実現できる。さらに、磁性層上に形成される保護層
の有無、保護層として酸化ケイ素などの異なる材料を用
いたものであっても同様の磁気特性を得ることができ
る。

【００２６】また、この実施例により、高保磁力などの
優れた磁気特性を備えた磁気記録媒体を製造する上にお
いて、スパッタ間隔を制御することが重要であることを
明らかにしており、磁性層の形成初期段階における下地
状態が磁気特性に与える影響が大きいのではないかと考
えられる。従って、優れた磁気特性を備えた磁気記録媒
体を製造するには、スパッタ間隔を設定、あるいは制御
可能な装置を用いることが有用であることが判明した。

【００２７】

【発明の効果】以上において説明したように、本発明に
おいては、磁気記録媒体の磁性層として下地金属層上
に、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層
を順次積層した多層薄膜磁性層を用いており、従来の単
層の磁性層からなる磁気記録媒体と比較し、高保磁力で
同時に低ノイズの磁気記録媒体を実現することができ
る。

【００２８】また、このような優れた磁気特性は、磁性
層を成膜するスパッタ間隔を設定制御することにより発
揮することができる。

【００２９】従って、本発明に係る磁気記録媒体を用い
ることにより、磁気ディスク記憶装置などの記録装置に
おいて低ノイズ状態で記録密度の向上を図ることが可能
となり、情報記憶量の大きな大容量記憶装置を実現する
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例の測定に用いた磁気記録媒体の構成を
示す断面図である。

【図２】磁性層の厚さの比に対し保磁力Ｈｃの測定結果
を示すグラフ図である。

【図３】磁性層の厚さの比に対し残留磁束密度Ｂｒと磁
性層膜厚ｄとの積から算出されるＢｒ・ｄを示すグラフ
図である。

【図４】磁性層の厚さの比に対し記録再生特性における
ノイズＮｗを示すグラフ図である。

【図５】スパッタ間隔が保磁力に与える影響を示すグラ
フ図である。

【図６】従来の磁気記録媒体の構成を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１・・・非磁性の基体２・・・非磁性下地金属層３・・・磁性層４・・・保護層５・・・潤滑層１１・・・非磁性基板１２・・・非磁性金属層Ｈｃ・・・保磁力Ｂｒ・ｄ・・・残留磁束密度Ｂｒと磁性層膜厚ｄとの
積Ｎｗ・・・ノイズｄ₁、ｄ₂・・・磁性層の厚みｔ₁、ｔ₂・・・スパッタ時間

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性の基体上に、非磁性の下地金属層
と、強磁性合金の薄膜磁性層とが順次積層された磁気記
録媒体において、前記薄膜磁性層が前記下地金属層の上
に積層されたＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層からなる第１の磁
性層と、この第１の磁性層の上に積層されたＣｏ−Ｃｒ
−Ｐｔ磁性層からなる第２の磁性層とを少なくとも備え
た多層薄膜磁性層であることを特徴とする磁気記録媒
体。
【請求項２】請求項１において、前記第１の磁性層の
厚みをｄ₁、前記第２の磁性層の厚みをｄ₂とした場合
に、ｄ₁／ｄ₂が１／９〜７／３であることを特徴とす
る磁気記録媒体。
【請求項３】非磁性の基体上に形成された非磁性の下
地金属層に、第１の磁性層と第２の磁性層とを少なくと
も備えた多層薄膜磁性層を積層して磁気記録媒体を製造
する製造方法であって、前記第１の磁性層をスパッタ法
により形成するスパッタ段階を、前記下地金属層の形成
後、第１の設定時間以内に開始する第１磁性層形成工程
と、前記第２の磁性層をスパッタ法により形成するスパ
ッタ段階を、前記第１の磁性層形成後、第２の設定時間
以内に開始する第２磁性層形成工程とを有することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】請求項３において、前記第１の磁性層は
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ磁性層であり、前記第１の設定時間は
略１５秒であり、前記第２の磁性層はＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ
磁性層であり、前記第２の設定時間は略１０秒であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】非磁性の基体上に、非磁性の下地金属層
および少なくとも一層の薄膜磁性層をスパッタ法により
順次積層形成可能なスパッタ手段を少なくとも有する磁
気記録媒体の製造装置であって、前記薄膜磁性層に先立
ち形成された前記下地金属層または薄膜磁性層の形成後
から、その下地金属層または薄膜磁性層に積層される薄
膜磁性層の形成開始までの時間が設定可能なスパッタ間
隔設定手段を有することを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置。