JP2003059034A - 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁性粒の微細化が可能な磁気記録媒体用ガラ
ス基板を提供することである。 【解決手段】 磁気記録媒体用ガラス基板であって、周
方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表
面を備えている。この表面は０．６ｎｍ以下の平均粗さ
を有し、溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深
さは２ｎｍ以下である。周方向の溝は加工テープと回転
するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散
させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ
加工によって形成されている。
ス基板を提供することである。 【解決手段】 磁気記録媒体用ガラス基板であって、周
方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表
面を備えている。この表面は０．６ｎｍ以下の平均粗さ
を有し、溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深
さは２ｎｍ以下である。周方向の溝は加工テープと回転
するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散
させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ
加工によって形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体用ガ
ラス基板及び該ガラス基板を使用した磁気記録媒体に関
する。
ラス基板及び該ガラス基板を使用した磁気記録媒体に関
する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク用基板材料としては、加工
性の良好なアルミニウム合金基板が長い間主に使用され
ていた。しかし最近になり、ノートブックパソコン等の
携帯用パソコンに内蔵されている２．５インチ磁気ディ
スク装置では、強化ガラス、又は結晶化ガラス等から形
成された強度が高いガラス基板を採用する傾向にある。
性の良好なアルミニウム合金基板が長い間主に使用され
ていた。しかし最近になり、ノートブックパソコン等の
携帯用パソコンに内蔵されている２．５インチ磁気ディ
スク装置では、強化ガラス、又は結晶化ガラス等から形
成された強度が高いガラス基板を採用する傾向にある。
【０００３】近年の高密度記録化及び磁気ヘッドの低浮
上化の要求に応じて、磁性粒の微細化、磁気異方性の向
上及び磁気ヘッドの吸着防止を主な目的として、ガラス
基板上にＮｉＰ層をスパッタリングで成膜した後に、Ｎ
ｉＰ層にメカニカルテクスチャ加工を行なっている。
上化の要求に応じて、磁性粒の微細化、磁気異方性の向
上及び磁気ヘッドの吸着防止を主な目的として、ガラス
基板上にＮｉＰ層をスパッタリングで成膜した後に、Ｎ
ｉＰ層にメカニカルテクスチャ加工を行なっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように、基板にガ
ラス基板を使用する場合には、ガラス基板上にＮｉＰ層
を成膜した後に、テクスチャ加工を行なうのが一般的で
ある。
ラス基板を使用する場合には、ガラス基板上にＮｉＰ層
を成膜した後に、テクスチャ加工を行なうのが一般的で
ある。
【０００５】しかしながら、ＮｉＰ層を成膜した後テク
スチャ加工を行なうためには、ガラス基板をスパッタリ
ング装置のチャンバー内から一旦取り出してテクスチャ
加工を行ない、再びチャンバー内に戻す必要があるた
め、磁気ディスクの製造コストが上昇する。このため、
テクスチャ加工を行なわずに磁性膜等を成膜した磁気デ
ィスクも市販されている。
スチャ加工を行なうためには、ガラス基板をスパッタリ
ング装置のチャンバー内から一旦取り出してテクスチャ
加工を行ない、再びチャンバー内に戻す必要があるた
め、磁気ディスクの製造コストが上昇する。このため、
テクスチャ加工を行なわずに磁性膜等を成膜した磁気デ
ィスクも市販されている。
【０００６】よって、本発明の目的は、磁性粒を微細化
して再生信号のＳ／Ｎを向上可能な磁気記録媒体用ガラ
ス基板を提供することである。
して再生信号のＳ／Ｎを向上可能な磁気記録媒体用ガラ
ス基板を提供することである。
【０００７】本発明の他の目的は、再生信号のＳ／Ｎを
向上可能なガラス基板を使用した磁気記録媒体を提供す
ることである。
向上可能なガラス基板を使用した磁気記録媒体を提供す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の一側面による
と、磁気記録媒体用ガラス基板であって、周方向に多数
の溝を有するようにテクスチャ加工された表面を備え、
該表面は０．４ｎｍ以下の平均粗さを有し、前記溝の数
は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ以下
であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板が提
供される。
と、磁気記録媒体用ガラス基板であって、周方向に多数
の溝を有するようにテクスチャ加工された表面を備え、
該表面は０．４ｎｍ以下の平均粗さを有し、前記溝の数
は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ以下
であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板が提
供される。
【０００９】好ましくは、周方向の溝は、加工テープと
回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を
分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクス
チャ加工によって形成される。
回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を
分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクス
チャ加工によって形成される。
【００１０】本発明の他の側面によると、磁気記録媒体
であって、周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ
加工された表面を有し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ
以下であり、前記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝
の平均深さは２ｎｍ以下であるガラス基板と；前記ガラ
ス基板上に積層された非磁性金属層と；前記非磁性金属
層上に積層された下地層と；前記下地層上に積層された
中間層と；前記中間層上に積層されたＣｏ合金磁性層
と；前記Ｃｏ合金磁性層上に成膜された保護膜と；を具
備したことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
であって、周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ
加工された表面を有し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ
以下であり、前記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝
の平均深さは２ｎｍ以下であるガラス基板と；前記ガラ
ス基板上に積層された非磁性金属層と；前記非磁性金属
層上に積層された下地層と；前記下地層上に積層された
中間層と；前記中間層上に積層されたＣｏ合金磁性層
と；前記Ｃｏ合金磁性層上に成膜された保護膜と；を具
備したことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
【００１１】好ましくは、ガラス基板と非磁性金属層の
間に介装されたＣｒ密着層を更に具備しており、非磁性
金属層はＮｉＰから構成される。好ましくは、Ｃｒ密着
層と非磁性金属層の膜厚の合計は５０ｎｍ以下である。
ガラス基板は内部に埋め込まれた金属層を有していても
良い。
間に介装されたＣｒ密着層を更に具備しており、非磁性
金属層はＮｉＰから構成される。好ましくは、Ｃｒ密着
層と非磁性金属層の膜厚の合計は５０ｎｍ以下である。
ガラス基板は内部に埋め込まれた金属層を有していても
良い。
【００１２】本発明の更に他の側面によると、周方向に
多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表面を有
し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ以下であり、前記溝
の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ
以下であるガラス基板上に成膜された磁気記録媒体の製
造方法であって、該ガラス基板上にＮｉＰ層を成膜し、
該ＮｉＰ層を酸化してから、該ＮｉＰ層上にＣｒを主成
分とする下地層を成膜し、該下地層上に中間層を成膜
し、該中間層上にＣｏ合金磁性層を成膜し、該Ｃｏ合金
磁性層上に保護膜を成膜する、ことを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法が提供される。
多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表面を有
し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ以下であり、前記溝
の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ
以下であるガラス基板上に成膜された磁気記録媒体の製
造方法であって、該ガラス基板上にＮｉＰ層を成膜し、
該ＮｉＰ層を酸化してから、該ＮｉＰ層上にＣｒを主成
分とする下地層を成膜し、該下地層上に中間層を成膜
し、該中間層上にＣｏ合金磁性層を成膜し、該Ｃｏ合金
磁性層上に保護膜を成膜する、ことを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１を参照すると、ガラス基板表
面にテクスチャ加工を行なうテクスチャ加工装置１０の
正面図が示されている。図２は図１の左側面図である。
符号１２はガラス基板であり、強化ガラス又は結晶化ガ
ラス等から形成され、十分な強度を有している。
面にテクスチャ加工を行なうテクスチャ加工装置１０の
正面図が示されている。図２は図１の左側面図である。
符号１２はガラス基板であり、強化ガラス又は結晶化ガ
ラス等から形成され、十分な強度を有している。
【００１４】テクスチャ加工装置１０は、ガラス基板１
２の両側に配置された一対のコンタクトローラ１４と、
各コンタクトローラ１４に掛けまわされた加工テープ１
６と、加工液供給部１８を有している。
２の両側に配置された一対のコンタクトローラ１４と、
各コンタクトローラ１４に掛けまわされた加工テープ１
６と、加工液供給部１８を有している。
【００１５】加工液２０は水中に微細ダイヤモンド砥粒
等が分散されて構成されている。ダイヤモンド砥粒は約
０．０２〜１μｍの直径を有している。
等が分散されて構成されている。ダイヤモンド砥粒は約
０．０２〜１μｍの直径を有している。
【００１６】加工液供給部１８から加工液２０をガラス
基板１２表面に滴下しながらガラス基板１２を矢印Ａ方
向に回転し加工テープ１６を矢印Ｂ方向に回転して、ガ
ラス基板１２のテクスチャ加工を行なう。これにより、
ガラス基板１２両面の円周方向に多数の溝が形成され
る。
基板１２表面に滴下しながらガラス基板１２を矢印Ａ方
向に回転し加工テープ１６を矢印Ｂ方向に回転して、ガ
ラス基板１２のテクスチャ加工を行なう。これにより、
ガラス基板１２両面の円周方向に多数の溝が形成され
る。
【００１７】磁気ヘッドの低浮上化に対応するために、
テクスチャ加工されたガラス基板１２の表面は０．４ｎ
ｍ以下の平均粗さ（Ｒａ）を有している必要があり、溝
の平均深さは２ｎｍ以下に抑える必要がある。さらに、
磁性粒の十分な微細化を達成するためには、１μｍあた
り１５分以上の溝を形成する必要があり、３０本以上の
溝を形成するのが好ましい。
テクスチャ加工されたガラス基板１２の表面は０．４ｎ
ｍ以下の平均粗さ（Ｒａ）を有している必要があり、溝
の平均深さは２ｎｍ以下に抑える必要がある。さらに、
磁性粒の十分な微細化を達成するためには、１μｍあた
り１５分以上の溝を形成する必要があり、３０本以上の
溝を形成するのが好ましい。
【００１８】ここで平均粗さ（Ｒａ）の決定は、原子間
力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して、１０μｍ×１０μｍの
範囲を測定して粗さの平均をとったものである。また、
溝本数の定義は、ＡＦＭで１μｍ×１μｍの範囲を測定
してその断面の谷数をカウントした値であり、溝の平均
深さはその谷の平均深さを計算した値である。
力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して、１０μｍ×１０μｍの
範囲を測定して粗さの平均をとったものである。また、
溝本数の定義は、ＡＦＭで１μｍ×１μｍの範囲を測定
してその断面の谷数をカウントした値であり、溝の平均
深さはその谷の平均深さを計算した値である。
【００１９】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に原子間力顕微
鏡で撮像した画像を示す。図３（Ａ）は比較的拡大率の
低い画像であり、図３（Ｂ）は比較的拡大率の高い画像
を示している。これらの拡大像から分かるように、ガラ
ス基板１２の表面には円周方向に伸長した無数の溝が形
成されている。
鏡で撮像した画像を示す。図３（Ａ）は比較的拡大率の
低い画像であり、図３（Ｂ）は比較的拡大率の高い画像
を示している。これらの拡大像から分かるように、ガラ
ス基板１２の表面には円周方向に伸長した無数の溝が形
成されている。
【００２０】図４を参照すると、本発明１実施形態の磁
気記録媒体の模式的断面図が示されている。ガラス基板
１２の表面上にはテクスチャ加工が施されて円周方向の
複数の溝２２が形成されている。
気記録媒体の模式的断面図が示されている。ガラス基板
１２の表面上にはテクスチャ加工が施されて円周方向の
複数の溝２２が形成されている。
【００２１】ガラス基板１２をスパッタリング装置のチ
ャンバー内にセットし、ガラス基板１２上にＣｒ等から
構成される密着層２４、ＮｉＰ等から構成される非磁性
金属層２６を成膜する。
ャンバー内にセットし、ガラス基板１２上にＣｒ等から
構成される密着層２４、ＮｉＰ等から構成される非磁性
金属層２６を成膜する。
【００２２】この非磁性金属層２６がないと、非磁性金
属層２６上に下地層、磁性層等を成膜する際にガラス基
板１２の温度が急激に低下してしまうので、非磁性金属
層２６は必須である。ガラス基板１２の温度低下を抑え
るために、予めガラス基板１２内にＡｌ，Ｃｕ等の金属
層を埋め込んでおいても良い。
属層２６上に下地層、磁性層等を成膜する際にガラス基
板１２の温度が急激に低下してしまうので、非磁性金属
層２６は必須である。ガラス基板１２の温度低下を抑え
るために、予めガラス基板１２内にＡｌ，Ｃｕ等の金属
層を埋め込んでおいても良い。
【００２３】密着層２４と非磁性金属層２６の膜厚の合
計は５０ｎｍ以下であり、好ましくは２〜３０ｎｍの範
囲内である。本実施形態では３０ｎｍである。
計は５０ｎｍ以下であり、好ましくは２〜３０ｎｍの範
囲内である。本実施形態では３０ｎｍである。
【００２４】次いで、ＮｉＰ等の非磁性金属層２６を酸
化する。この非磁性金属層２６の酸化は、スパッタリン
グ装置のチャンバー内で酸素を流しながら行なうのが好
ましい。
化する。この非磁性金属層２６の酸化は、スパッタリン
グ装置のチャンバー内で酸素を流しながら行なうのが好
ましい。
【００２５】次いで、非磁性金属層２６上にＣｒを主成
分とする１層又は複数層の下地層２８を成膜する。好ま
しくは、下地層２８はＣｒを主成分とし、Ｍｏ，Ｗ及び
Ｔｉを含有する合金から構成される。
分とする１層又は複数層の下地層２８を成膜する。好ま
しくは、下地層２８はＣｒを主成分とし、Ｍｏ，Ｗ及び
Ｔｉを含有する合金から構成される。
【００２６】下地層２８上に中間層３０を成膜し、中間
層３０上に一層又は複数層のＣｏ合金磁性層３２を成膜
する。Ｃｏ合金磁性層３２を複数層成膜するときには、
交換結合層としてのＲｕ層をＣｏ合金磁性層の間に挿入
してもよい。
層３０上に一層又は複数層のＣｏ合金磁性層３２を成膜
する。Ｃｏ合金磁性層３２を複数層成膜するときには、
交換結合層としてのＲｕ層をＣｏ合金磁性層の間に挿入
してもよい。
【００２７】Ｃｏ合金磁性層３２上には保護膜３４が成
膜されている。保護膜３４はＣｏ合金磁性層３２の磨耗
防止と腐食防止の機能を有している。保護膜３４上には
潤滑剤３６が塗布されている。
膜されている。保護膜３４はＣｏ合金磁性層３２の磨耗
防止と腐食防止の機能を有している。保護膜３４上には
潤滑剤３６が塗布されている。
【００２８】本実施形態の磁気記録媒体では、ＡＦＭで
測定したガラス基板１２の平均粗さ（Ｒａ）は０．３７
ｎｍ、溝本数は１μｍあたり２６本、平均溝深さは０．
６ｎｍであった。
測定したガラス基板１２の平均粗さ（Ｒａ）は０．３７
ｎｍ、溝本数は１μｍあたり２６本、平均溝深さは０．
６ｎｍであった。
【００２９】本実施形態の磁気記録媒体の効果を確認す
るために、比較例として以下の磁気記録媒体を製造し
た。即ち、ガラス基板に周方向の溝を形成せずに、ガラ
ス基板上にＣｒ密着層、ＮｉＰ層、下地層、中間層、Ｃ
ｏ合金磁性層、保護膜を順次成膜して磁気記録媒体を製
造した。
るために、比較例として以下の磁気記録媒体を製造し
た。即ち、ガラス基板に周方向の溝を形成せずに、ガラ
ス基板上にＣｒ密着層、ＮｉＰ層、下地層、中間層、Ｃ
ｏ合金磁性層、保護膜を順次成膜して磁気記録媒体を製
造した。
【００３０】本発明の磁気記録媒体では、Ｃｏ合金磁性
層３２の磁性粒の粒径が比較例と比較して９％小さくな
ったことが確認された。その結果、再生信号のＳ／Ｎは
比較例より０．６ｄＢ上昇した。
層３２の磁性粒の粒径が比較例と比較して９％小さくな
ったことが確認された。その結果、再生信号のＳ／Ｎは
比較例より０．６ｄＢ上昇した。
【００３１】本発明は以下の付記を含むものである。
【００３２】（付記１） 磁気記録媒体用ガラス基板で
あって、周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加
工された表面を備え、該表面は０．４ｎｍ以下の平均粗
さを有し、前記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の
平均深さは２ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録
媒体用ガラス基板。
あって、周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加
工された表面を備え、該表面は０．４ｎｍ以下の平均粗
さを有し、前記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の
平均深さは２ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録
媒体用ガラス基板。
【００３３】（付記２） 前記周方向の溝は、加工テー
プと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥
粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテ
クスチャ加工によって形成されたことを特徴とする付記
１記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
プと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥
粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテ
クスチャ加工によって形成されたことを特徴とする付記
１記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
【００３４】（付記３） 磁気記録媒体であって、周方
向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表面
を有し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ以下であり、前
記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２
ｎｍであるガラス基板と；前記ガラス基板上に積層され
た非磁性金属層と；前記非磁性金属層上に積層された下
地層と；前記下地層上に積層された中間層と；前記中間
層上に積層されたＣｏ合金磁性層と；前記Ｃｏ合金磁性
層上に成膜された保護膜と；を具備したことを特徴とす
る磁気記録媒体。
向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された表面
を有し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ以下であり、前
記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２
ｎｍであるガラス基板と；前記ガラス基板上に積層され
た非磁性金属層と；前記非磁性金属層上に積層された下
地層と；前記下地層上に積層された中間層と；前記中間
層上に積層されたＣｏ合金磁性層と；前記Ｃｏ合金磁性
層上に成膜された保護膜と；を具備したことを特徴とす
る磁気記録媒体。
【００３５】（付記４） 前記ガラス基板と前記非磁性
金属層の間に介在されたＣｒ密着層を更に具備した付記
３記載の磁気記録媒体。
金属層の間に介在されたＣｒ密着層を更に具備した付記
３記載の磁気記録媒体。
【００３６】（付記５） 前記非磁性金属層はＮｉＰか
ら構成される付記３記載の磁気記録媒体。
ら構成される付記３記載の磁気記録媒体。
【００３７】（付記６） 前記Ｃｒ密着層と前記非磁性
金属層の膜厚の合計が５０ｎｍ以下である付記４記載の
磁気記録媒体。
金属層の膜厚の合計が５０ｎｍ以下である付記４記載の
磁気記録媒体。
【００３８】（付記７） 前記ガラス基板は内部に埋め
込まれた金属層を有する付記３記載の磁気記録媒体。
込まれた金属層を有する付記３記載の磁気記録媒体。
【００３９】（付記８） 前記下地層はＣｒを主成分と
し、Ｍｏ，Ｗ及びＴｉを含有する合金から構成される付
記３記載の磁気記録媒体。
し、Ｍｏ，Ｗ及びＴｉを含有する合金から構成される付
記３記載の磁気記録媒体。
【００４０】（付記９） 周方向に多数の溝を有するよ
うにテクスチャ加工された表面を有し、該表面の平均粗
さは０．４ｎｍ以下であり、前記溝の数は１μｍあたり
１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ以下であるガラス基
板上に成膜された磁気記録媒体の製造方法であって、該
ガラス基板上にＮｉＰ層を成膜し、該ＮｉＰ層を酸化し
てから、該ＮｉＰ層上にＣｒを主成分とする下地層を成
膜し、該下地層上に中間層を成膜し、該中間層上にＣｏ
合金磁性層を成膜し、該Ｃｏ合金磁性層上に保護膜を成
膜する、ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
うにテクスチャ加工された表面を有し、該表面の平均粗
さは０．４ｎｍ以下であり、前記溝の数は１μｍあたり
１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ以下であるガラス基
板上に成膜された磁気記録媒体の製造方法であって、該
ガラス基板上にＮｉＰ層を成膜し、該ＮｉＰ層を酸化し
てから、該ＮｉＰ層上にＣｒを主成分とする下地層を成
膜し、該下地層上に中間層を成膜し、該中間層上にＣｏ
合金磁性層を成膜し、該Ｃｏ合金磁性層上に保護膜を成
膜する、ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００４１】（付記１０） 前記ＮｉＰ層の酸化は、ス
パッタリング装置のチャンバー内で酸素を流しながら行
なうことを特徴とする付記９記載の磁気記録媒体の製造
方法。
パッタリング装置のチャンバー内で酸素を流しながら行
なうことを特徴とする付記９記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【００４２】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は以
上詳述したように構成したので、磁性粒を微細化して再
生信号のＳ／Ｎを向上させるという効果を奏する。
上詳述したように構成したので、磁性粒を微細化して再
生信号のＳ／Ｎを向上させるという効果を奏する。
【図１】テクスチャ加工装置の正面図である。
【図２】テクスチャ加工装置の側面図である。
【図３】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は原子間力顕微鏡像
を示す図である。
を示す図である。
【図４】本発明実施形態の磁気記録媒体の断面構成図で
ある。
ある。
１０ テクスチャ加工装置
１２ ガラス基板
１４ コンタクトローラ
１６ 加工テープ
１８ 加工液供給部
２０ 加工液
２２ 溝
２４ 密着層
２６ 非磁性金属層
２８ 下地層
３０ 中間層
３２ Ｃｏ合金磁性層
３４ 保護膜
３６ 潤滑剤
─────────────────────────────────────────────────────
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(72)発明者 鈴木 政也
神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番
１号 富士通株式会社内
Ｆターム(参考） 5D006 BB01 CA01 CA05 CB06 CB07
DA04
5D112 AA02 AA03 AA05 BA03 BD03
BD04 FA04 GA05 GA09
Claims (5)
- 【請求項１】 磁気記録媒体用ガラス基板であって、 周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された
表面を備え、 該表面は０．４ｎｍ以下の平均粗さを有し、前記溝の数
は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深さは２ｎｍ以下
であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項２】 前記周方向の溝は、加工テープと回転す
るガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散さ
せた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加
工によって形成されたことを特徴とする請求項１記載の
磁気記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項３】 磁気記録媒体であって、 周方向に多数の溝を有するようにテクスチャ加工された
表面を有し、該表面の平均粗さは０．４ｎｍ以下であ
り、前記溝の数は１μｍあたり１５本以上、溝の平均深
さは２ｎｍであるガラス基板と；前記ガラス基板上に積
層された非磁性金属層と；前記非磁性金属層上に積層さ
れた下地層と；前記下地層上に積層された中間層と；前
記中間層上に積層されたＣｏ合金磁性層と；前記Ｃｏ合
金磁性層上に成膜された保護膜と；を具備したことを特
徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】 前記ガラス基板は内部に埋め込まれた金
属層を有する請求項３記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 周方向に多数の溝を有するようにテクス
チャ加工された表面を有し、該表面の平均粗さは０．４
ｎｍ以下であり、前記溝の数は１μｍあたり１５本以
上、溝の平均深さは２ｎｍ以下であるガラス基板上に成
膜された磁気記録媒体の製造方法であって、 該ガラス基板上にＮｉＰ層を成膜し、 該ＮｉＰ層を酸化してから、該ＮｉＰ層上にＣｒを主成
分とする下地層を成膜し、 該下地層上に中間層を成膜し、 該中間層上にＣｏ合金磁性層を成膜し、 該Ｃｏ合金磁性層上に保護膜を成膜する、 ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001252217A JP2003059034A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
| US10/097,152 US6833175B2 (en) | 2001-08-23 | 2002-03-13 | Glass substrate for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001252217A JP2003059034A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003059034A true JP2003059034A (ja) | 2003-02-28 |
Family
ID=19080728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001252217A Pending JP2003059034A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6833175B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003059034A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9343096B2 (en) | 2013-12-03 | 2016-05-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular magnetic recording medium |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855439B1 (en) * | 2003-09-16 | 2005-02-15 | Seagate Technology Llc | Highly oriented longitudinal magnetic media on direct textured glass substrates |
| KR102635897B1 (ko) * | 2017-02-21 | 2024-02-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 전자 장치의 제조 방법 |
| US11192822B2 (en) | 2018-11-08 | 2021-12-07 | Western Digital Technologies, Inc. | Enhanced nickel plating process |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0148842B1 (ko) * | 1993-07-22 | 1998-10-15 | 가나이 쯔또무 | 자기기록매체 및 그의 제조방법과 자기기록 시스템 |
| US5871621A (en) * | 1994-09-27 | 1999-02-16 | Komag, Incorporated | Method of fabricating a textured magnetic storage disk |
| JP2736869B2 (ja) * | 1994-11-16 | 1998-04-02 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク基板の製造方法 |
| US5980997A (en) * | 1996-06-03 | 1999-11-09 | Komag, Incorporated | Method for preparing a substrate for a magnetic disk |
| JPH11219511A (ja) | 1997-11-19 | 1999-08-10 | Mitsubishi Chemical Corp | 磁気記録媒体および磁気記録装置 |
| JP3657196B2 (ja) * | 1998-11-09 | 2005-06-08 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気ディスク装置 |
-
2001
- 2001-08-23 JP JP2001252217A patent/JP2003059034A/ja active Pending
-
2002
- 2002-03-13 US US10/097,152 patent/US6833175B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US9343096B2 (en) | 2013-12-03 | 2016-05-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030039862A1 (en) | 2003-02-27 |
| US6833175B2 (en) | 2004-12-21 |
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|
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