JP2008135138A - 磁気記録媒体、その製造方法及び、磁気記録媒体を持つ磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録媒体、その製造方法及び、磁気記録媒体を持つ磁気記録装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 データ記録層の結晶粒間にSiO2が存在しているグラニュラー媒体からなり、データ記録層が磁性体の有無でパターン形成されたディスクリートトラックレコーディング媒体において、データ記録層の前記パターン形成された磁性体は、パターン中心部とその側壁である磁性体パターン側壁部とからなり、磁性体パターン側壁部の磁性体中SiO2含有量が、前記パターン中心部の磁性体中SiO2含有量より少なく、パターン側壁部の磁性体中SiO2含有量が5mol%以下であることを特徴と磁気記録媒体。
【選択図】 図1
Description
更に、潤滑剤、埋め込み材等の密着性を上げることができ、トラック密度をつめながらオフトラック時のサイドライト現象を抑えることが可能な磁気記録媒体、その製造方法及び、磁気記録媒体を持つ磁気記録装置を提供することが可能となる。
本発明は、データ記録層の結晶粒間にSiO2が存在しているグラニュラー媒体からなり、前記データ記録層が磁性体102の有無でパターン形成されたディスクリートトラックレコーディング(DTR)媒体である。この磁性体102は、磁性体パターン中心部102aとその側壁である磁性体パターン側壁部102bからなっており、磁性体パターン側壁部102bの磁性体中SiO2含有量が、前記パターン中心部102aの磁性体中SiO2含有量より少なく、前記パターン側壁部の磁性体中SiO2含有量が5mol%以下である事を特徴とする磁気記録媒体となっている。
本発明は、インプリントでパターン転写を行い、ハロゲンガスを用いた異方性RIEでレジスト残渣剥離を行い、イオンミリング磁性体加工を行い、ハロゲンガスを用いた異方性の少ないRIEでレジストマスク剥離を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
図3を用いて本発明の磁気記録媒体の作製方法を詳述する。
図3(a)に示すように、基板303上、特に本発明では非磁性のガラス基板に磁性膜302を成膜する。基板303としては例えばリチウム系結晶化ガラス等を用いることができる。磁性膜302は例えば、高透磁率の軟磁性下地層上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体が挙げられる。軟磁性材料としては、例えばCoZr、CoZrNb、及びCoZrTa系合金などを挙げることができる。
図3(c)に示すように、凹凸比の違いによるレジスト残渣のばらつきや、サイドエッチングによるパターンの広がりを抑えるため、RIE装置を用いてハロゲンガスによる異方性エッチングを行い、レジスト残渣を除去し、磁性体のマスクとする。更に、磁性体302をイオンミリングでエッチングする。
次に、非磁性体からなる平坦化膜305の成膜(図3(e))、平坦化エッチバック(図3(f))を行い、最表面保護膜306の成膜後、潤滑層の塗布など、通常のDTR媒体製造方法に含まれる工程を行い、DTR媒体を作製する(図3(g))。平坦化膜には、スパッタやCVD(Chemical vapor Deposition)等によるドライ埋め込みや、スピンコート等を用いたウエット埋め込みがあるが、特に限定されない。図3(e)、(f)の平坦化埋め込み、エッチバックを行わずに図3(h)の保護膜成膜、潤滑層の塗布を行っても良い。
図5は、ヘッド34を1本もつ磁気ディスク装置の構成概念図であるが、本発明の磁気ディスク装置は、両面をDTR(discrete track recording)用に加工した垂直磁化2層膜の小径パターンドメディア32を1枚搭載し、これを2本のヘッド34で両面に記録再生するドライブで、上下面にダウンヘッド/アップヘッドがそれぞれ設けられている。
磁気ディスク装置は、ヘッド・ディスクアセンブリ(HDA)とも呼ばれる本体部と、PCBとも呼ばれるプリント回路基板とからなる。
(HDA)
HDAは、本発明の両面をDTRディスク32と、当該ディスクを回転させるスピンドルモータ(SPM33)と、ヘッド34と、ヘッド移動機構35、36、37と、図示しないヘッドアンプ(HIC)を有する。ヘッド34は、ヘッド34本体であるスライダ(ABS)に、リード素子(GMR素子)及びライト素子を有する磁気ヘッド素子が実装されたもので、ヘッド移動機構35、36、37に搭載されている。
PCBは、主として4つのシステムLSIを搭載している。ディスクコントローラ(HDC)、リード/ライトチャネルIC、MPU、及びモータドライバICである。
以下本発明の実施例を具体的に説明する。
(実施例1)
図3に示した本発明の方法を用いてDTR媒体を作製した。
基板303として直径が1.8インチのリチウム系結晶化ガラス基板を用いた。基板303を洗浄後、スパッタ装置に導入し、軟磁性下地層、中間層、記録層を順に積層させ磁性層302を成膜した。軟磁性下地層および中間層には上述の材料を用いた。記録層にはCoCrPt-SiO2を用いた。
処理を行ったスタンパ304をレジスト(SOG)301に対して、2000barで1分間プレスすることによって、レジスト301にそのパターンを転写した。パターン転写後のレジスト301の凹部の高さは60〜70nm、レジスト残渣の厚さは約60nmであった。
磁性膜加工後、CF4ガスを用いたRIEにより、レジスト301であるSOGを除去した。RIEは前記ICPエッチング装置を用いて20mTorr程度の高圧とし、基板側にバイアスを印加せずにエッチングを行った。
次に、比較例として図4に示すように、レジストマスク剥離の際に、ICPエッチング装置の圧力を2mTorr程度の低圧とし、基板側にバイアスを100W印加して、レジストマスクを除去したこと以外、上記と同様の方法を用いてDTR媒体を作製した。
102…磁性体パターン
102a…磁性体パターン中心部
102b…磁性体パターン側壁部
103…記録再生ヘッド
201…非磁性基板
202…磁性体パターン
203…レジスト剥離処理
205…レジスト薄利処理
301,401…レジスト
302,402…磁性膜
303,403…基板
304,404…スタンパ
305,405…平坦化膜
306,406…最表面保護膜
307,407…潤滑膜
308,408…レジスト剥離処理
34…磁気ヘッド
35…ヘッドアクチュエータ
36…回転軸
37…ボイスコイルモータ
Claims (4)
- データ記録層の結晶粒間にSiO2が存在しているグラニュラー媒体からなり、前記データ記録層が磁性体の有無でパターン形成されたディスクリートトラックレコーディング媒体において、
前記データ記録層の前記パターン形成された磁性体は、パターン中心部とその側壁である磁性体パターン側壁部とからなり、
前記磁性体パターン側壁部の磁性体中SiO2含有量が、前記パターン中心部の磁性体中SiO2含有量より少なく、前記パターン側壁部の磁性体中SiO2含有量が5mol%以下である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記磁性体パターン内部よりも前記磁性体パターン側壁部の保持力が500Oe以上高い
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 - インプリントでパターン転写を行い、ハロゲンガスを用いた異方性の反応性イオンエッチングでレジスト残渣剥離を行い、イオンミリング磁性体加工を行い、ハロゲンガスを用いた異方性の少ない反応性イオンエッチングでレジストマスク剥離を行うこと
を特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 少なくとも、磁気記録媒体、スライダによって浮上する記録再生ヘッド、スピンドル、アクチエータからなり、前記磁気記録媒体が請求項1に記載の磁気記録媒体からなることを特徴とする磁気記録装置。
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JP2006322033A JP2008135138A (ja) | 2006-11-29 | 2006-11-29 | 磁気記録媒体、その製造方法及び、磁気記録媒体を持つ磁気記録装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009169998A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 |
JP2011141913A (ja) * | 2010-01-05 | 2011-07-21 | Hitachi Ltd | パターンドメディアおよびその製造方法 |
JP2011150764A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Tdk Corp | 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2014154204A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Hgst Netherlands B V | ビットパターン媒体における隣接トラックエラーの低減 |
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2006
- 2006-11-29 JP JP2006322033A patent/JP2008135138A/ja active Pending
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