JP2816049B2

JP2816049B2 - 感光材料乾燥装置の温度制御方法及び装置

Info

Publication number: JP2816049B2
Application number: JP9944992A
Authority: JP
Inventors: 栄一磯崎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1992-04-20
Filing date: 1992-04-20
Publication date: 1998-10-27
Anticipated expiration: 2013-10-27
Also published as: JPH05297555A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は少なくとも一方の面に乳
剤層が形成された感光材料の一方の面をヒートローラで
加熱し、他方の面に乾燥風を供給してこれを乾燥させる
感光材料乾燥装置の温度制御方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】画像が焼付けられ潜像が形成された感光
材料は、感光材料処理装置としての自動現像機等によっ
て潜像を顕像化される。この自動現像機には、現像槽、
定着槽及び水洗槽を備えたものがあり、それぞれ現像
液、定着液及び水洗水を貯留している。感光材料はこの
自動現像機内の各処理槽中を自動的に搬送されながら、
現像液、定着液及び水洗水に順次浸漬されて現像、定
着、水洗処理される。

【０００３】また、自動現像機には、さらに乾燥部を備
えたものがある。この乾燥部では、前述のような各処理
液によって処理され処理液中の水分によって膨潤した感
光材料を自動搬送しながら乾燥する。一般に乾燥部で
は、感光材料から水分を除去するために、感光材料に熱
風を吹き付け、乾燥させることが多用されている。しか
し、熱風による乾燥では、熱効率を考えて乾燥風を繰り
返し使用すると湿度が次第に上昇するので、結局乾燥に
時間を要していた。

【０００４】このため、感光材料を直接又は間接的に加
熱手段によって加熱して乾燥することが考えられてい
る。この乾燥部の加熱手段には、ヒートローラと乾燥風
とを併用するものが提案されている。すなわち、直接的
加熱手段（ヒートローラ）によって加熱された感光材料
から蒸発した水分を多量に含んだ空気を間接的加熱手段
（乾燥風）によって感光材料の表面近傍から取り除き感
光材料の乾燥を促進させるようになっている。これによ
り、乾燥時間を短縮することができる。

【０００５】このヒートローラの温度調節は、ヒートロ
ーラの表面温度を検出し設定温度に対する高低でヒータ
をオンオフしてヒートローラの表面温度が所定温度とな
るように制御している。また、感光材料を乾燥しない、
所謂待機中はヒートローラの表面温度を前記設定温度よ
りも低い温度に制御し、乾燥のために感光材料が乾燥部
へ挿入されヒートローラに接触するまでにヒーロロール
を前記設定温度まで立ち上げ、乾燥が終了した時点で待
機状態の設定温度へ立ち下げるようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ヒート
ローラの表面温度を待機温度から設定温度まで立ち上げ
る場合に前記乾燥風の送風を同時に作動させると、この
立ち上げ時の乾燥風の温度がヒートローラの設定温度よ
りも低い温度である場合、ヒートローラの表面温度の立
ち上げを妨げることになる。すなわち、温度変化率の傾
きが小さくなる。

【０００７】一方、ヒートローラの表面温度を設定温度
から待機温度まで立ち下げる場合に前記ヒートローラの
表面温度より低い温度の乾燥風の供給を継続している
と、ヒートローラの表面温度は早く低くなり、短いイン
タバルで次の感光材料が乾燥部へ送り込まれると、ヒー
トローラの表面温度が設定温度まで戻るのに時間がかか
ることになる。乾燥風の設定温度がヒートローラの待機
時の温度よりもさらに低い温度である場合には、この傾
向は著しい。

【０００８】すなわち、ヒートローラの立ち上げ時間は
早く、かつ立ち下げ時間を遅いのが理想であるにも拘ら
ず、乾燥風がこれに反する作用として機能するため、乾
燥時間の延長（インタバルが長い）等作業効率を悪くし
ていた。

【０００９】本発明は上記事実を考慮し、ヒートローラ
の表面温度の立ち上げ及び立ち下げ時の温度制御を立ち
上げ時間は早く、かつ立ち下げ時間は遅くなるように制
御し、乾燥作業効率を向上することができる感光材料処
理装置の温度制御方法及び装置を得ることが目的であ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、処理液によって処理した感光材料を表面温度が所定
温度に制御されたヒートローラに接触させながら搬送す
ると共に前記感光材料におけるヒートローラとは非接触
の面に乾燥風を吹き付けて水分の蒸発を促進して乾燥す
る感光材料乾燥装置に用いられ、前記ヒートローラの表
面温度を制御するための感光材料乾燥装置の温度制御方
法であって、ヒートローラの表面温度を前記所定温度よ
りも低い待機温度から前記所定温度まで立ち上げる期間
中に前記乾燥風の吹き付けを停止してヒートローラの表
面温度の変化率を大きくすることを特徴としている。

【００１１】請求項２に記載の発明は、処理液によって
処理した感光材料を表面温度が所定温度に制御されたヒ
ートローラに接触させながら搬送すると共に前記感光材
料におけるヒートローラとは非接触の面に乾燥風を吹き
付けて水分の蒸発を促進して乾燥する感光材料乾燥装置
に用いられ、前記ヒートローラの表面温度を制御するた
めの感光材料乾燥装置の温度制御装置であって、前記搬
送路に沿って設けられた吹出ノズルを備え前記感光材料
へ吹き付ける乾燥風を供給する乾燥風供給手段と、前記
ヒートローラの表面温度を前記所定温度よりも低い待機
温度から前記所定温度まで立ち上げる期間中に前記乾燥
風供給手段による乾燥風の供給を停止する乾燥風制御手
段と、を有している。

【００１２】請求項３に記載の発明は、記乾燥風制御手
段は、前記立ち上げ時に前記ヒートローラの表面温度が
所定温度よりも若干低い温度となった時点で乾燥風の供
給を開始することを特徴としている。

【００１３】請求項４に記載の発明は、処理液によって
処理した感光材料を表面温度が所定温度に制御されたヒ
ートローラに接触させながら搬送すると共に前記感光材
料におけるヒートローラとは非接触の面に乾燥風を吹き
付けて水分の蒸発を促進して乾燥する感光材料乾燥装置
に用いられ、前記ヒートローラの表面温度を制御するた
めの感光材料乾燥装置の温度制御方法であって、ヒート
ローラの表面温度を前記所定温度から前記所定温度より
も低い待機温度まで立ち下げる期間中に前記乾燥風の吹
き付けを停止してヒートローラの表面温度の変化率を小
さくすることを特徴としている。

【００１４】請求項５に記載の発明は、処理液によって
処理した感光材料を表面温度が所定温度に制御されたヒ
ートローラに接触させながら搬送すると共に前記感光材
料におけるヒートローラとは非接触の面に乾燥風を吹き
付けて水分の蒸発を促進して乾燥する感光材料乾燥装置
に用いられ、前記ヒートローラの表面温度を制御するた
めの感光材料乾燥装置の温度制御装置であって、前記搬
送路に沿って設けられた吹出ノズルを備え前記感光材料
へ吹き付ける乾燥風を供給する乾燥風供給手段と、前記
ヒートローラの表面温度を前記所定温度から前記所定温
度よりも低い待機温度まで立ち下げる期間中に前記乾燥
風供給手段による乾燥風の供給を停止する乾燥風制御手
段と、を有している。

【００１５】

【作用】請求項１及び請求項２に記載の発明によれば、
ヒートローラの表面温度は設定温度に制御されており、
処理液によって処理が終了した感光材料は、このヒート
ローラに接触しながら搬送される。例えば、ヒートロー
ラを間隔をおいて複数個設け、感光材料の表裏面を順次
所定角度巻きかけて搬送する。

【００１６】これにより、ヒートローラと接触した面が
加熱されることにより、その反対側の面、すなわち非接
触の面から水分が蒸発する。ここで、この非接触面に
は、乾燥風が吹き付けられ、上記蒸発が促進される。

【００１７】感光材料の乾燥が継続されている間は、ヒ
ートローラの表面温度は設定温度に制御されているが、
感光材料が搬送されないときには、ヒートローラの表面
温度は消費電力節約のため前記設定温度よりも低い待機
温度に制御され、例えば、現像装置にて感光材料の処理
液による処理が開始された時点から感光材料が乾燥装置
に入るまでの間に設定温度まで立ち上げるようにしてい
る。

【００１８】すなわち、ヒートローラの立ち上げを妨げ
る働きをする乾燥風は、その立ち上げ時にヒートローラ
より、例えば、乾燥風のヒータの立ち上げが遅いときな
ど、乾燥風の温度が低いものである。従って、乾燥時の
乾燥風の温度には必ずしも関係ない。

【００１９】このヒートローラの表面温度を待機温度か
ら所定温度までの立上げる時にこの表面温度上昇を妨げ
る働きをする乾燥風の吹き付けを停止する。これによ
り、乾燥風によるヒートローラの表面から熱を奪われる
ことがないから表面温度の上昇変化率が大きくなり、表
面温度を短時間で設定温度に到達させることができる。

【００２０】請求項３に記載の発明によれば、前記立ち
上げ時に前記ヒートローラの表面温度が設定温度よりも
若干低い温度、或いは丁度設定温度となった時点で乾燥
風の供給を再開する。これにより、温度上昇が緩やかと
なり、オーバーシュートを防止することができる。

【００２１】請求項４及び請求項５に記載の発明によれ
ば、ヒートローラの表面温度を所定温度から待機温度へ
低下させる場合、乾燥風の供給が継続されていると、ヒ
ータのオフによる表面温度の自然冷却に比べて温度低下
が促進されるため、温度低下途中で、感光材料を乾燥処
理する必要が生じたとき、速やかに設定温度に上げるこ
とができない。

【００２２】このため、ヒートローラの表面温度の所定
温度から待機温度までの立ち下げ時に、この表面温度低
下を促進する乾燥風の吹き付けを停止する。これによ
り、温度低下が緩やかとなり、温度低下途中で再度設定
温度に上げる必要が生じた場合にも、短時間で設定温度
とすることができる。

【００２３】

【実施例】図１には、感光材料処理装置である自動現像
機１０の概略構造図が示されている。

【００２４】自動現像機１０には、そのケーシング１２
の図１紙面左側面（上流側端部）に感光材料１４を挿入
する挿入口１６が設けられている。この挿入口１６の近
傍には、感光材料１４の有無を検出するセンサ１７が設
けられている。このセンサ１７の信号線は制御装置１０
０に接続されている。

【００２５】また、挿入口１６の内方には、一対のロー
ラ１８が備えられており、図示しない駆動手段で回転す
るようになっている。このため、挿入口１６から挿入さ
れた感光材料１４は、一対のローラ１８の駆動力によっ
て自動現像機１０の内部に設置された処理部２０へと案
内される。

【００２６】処理部２０には、図１の紙面左側から現像
槽２４、リンス槽２６、定着槽２８、リンス槽３０及び
水洗槽３２の順に配置されている。現像槽２４、定着槽
２６、水洗槽３２（以下総称する場合は「処理槽」と言
う）には、それぞれ現像液、定着液、水洗水が蓄えられ
ている。また、リンス槽２６には洗浄水（例えば水また
は酢酸水溶液）、リンス槽３０には洗浄水（例えば水）
が図示しないそれぞれの貯留タンクからポンプを介して
管路により供給され、余剰となった洗浄水は、リンス槽
２６、３０から図示しないオーバーフロー槽へオーバー
フローするようになっている。なお、洗浄水が水の場合
には、貯留タンクを用いずに上水道から直接ソレノイド
バルブを介してリンス槽２６、３０への管路を設け、リ
ンス槽２６、３０の各々へ水道水を供給してもよい。

【００２７】処理槽２４、２８、３２内には、各々ラッ
ク３４が配置され、感光材料１４を挟持して、所定の搬
送路に沿って搬送する複数対のローラ３６が設けられて
いる。各処理槽の上方には、、リンスラックを備えたク
ロスオーバーラック４６が配置されている。このクロス
オーバーラック４６には、そのリンス槽２６、３０の上
方にローラ３８、４０が設けられ、感光材料１４を挟持
して隣接する処理槽へ案内すると共に、感光材料１４に
付着した処理液が除かれる。

【００２８】また、現像槽２４及び定着槽２８には、そ
れぞれヒータ６０、６２が配設されている。これらのヒ
ータ６０、６２は、ステンレス合金（例えばＳＵＳ３１
６）製の筒体とこの筒体に収容された熱源としてのコイ
ル状ヒータ本体（図示省略）とで構成され、各処理槽２
４、２８の側壁から処理槽２４、２８内に挿入して配設
されている。このヒータ６０、６２により現像液及び定
着液は加熱され、自動現像機１０の稼働立ち上げ時に
は、感光材料１４を処理可能な温度とし、立ち上げ後
は、感光材料１４を処理可能な温度に維持するようにな
っている。

【００２９】水洗槽３２で水洗処理された感光材料１４
は、一対の搬送ローラ４２によって処理部２０に隣接さ
れた乾燥部４５へと搬送されるようになっている。この
乾燥部４５では水洗水で水洗処理が終了した感光材料１
４を乾燥処理する。

【００３０】図２に示されるように乾燥部４５の乾燥室
４５Ａ内には、乾燥室挿入口４４から感光材料１４が挿
入される。乾燥室４５Ａ内には、挿入された感光材料１
４の搬送路に沿って２対のスクイズローラ４８、２本の
ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂ及び排出ローラ５２が備え
られ、一対の側板の間に掛け渡されて軸支されている。
これらのスクイズローラ４８、ヒートローラ５０Ａ、５
０Ｂ及び排出ローラ５２は、図示しない駆動手段の駆動
力が伝達され感光材料１４を一定速度で搬送するように
なっている。

【００３１】感光材料１４はスクイズローラ４８によっ
て挟持搬送されながら表面に付着した水分がスクイズさ
れ、さらに、これらのスクイズローラ４８の下流側に設
けられたガイド７４によって一方のヒートローラ５０Ａ
の外周周縁へと案内される。

【００３２】２本のヒートローラ５０Ａ、５０Ｂは、略
上下に配置され外周面に感光材料１４を巻掛けて搬送す
る。

【００３３】これらのヒートローラ５０Ａ、５０Ｂは円
筒状であり、各々の軸心部には、ヒートローラ５０Ａ、
５０Ｂの外周部（表面）を加熱するハロゲンランプ等で
構成される熱源５６が同軸的に配設されている。この熱
源５６によって、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの外周が
加熱されることになる。

【００３４】熱源５６は、制御装置１００に接続され、
この制御装置１００からの信号によってオン又はオフさ
れる。

【００３５】また、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの周囲
には、複数のニップローラ５８が配設されており、ヒー
トローラ５０Ａ、５０Ｂに巻掛けられた感光材料１４を
ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの外周面との間で挟持する
ようになっている。感光材料１４は、熱源５６に加熱さ
れたヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの外周面に接触し、ヒ
ートローラ５０Ａ、５０Ｂから熱伝導によって加熱され
る。

【００３６】各々のヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの感光
材料１４の搬送方向下流側には、一端がヒートローラ５
０Ａ、５０Ｂの外周面に摺接し、他端部が側板６４に軸
支された剥離ガイド６６が配設されており、ヒートロー
ラ５０Ａ、５０Ｂに巻掛けられた感光材料１４を所定の
位置でヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの外周面から剥離す
るようになっている。また、剥離ガイド６６の中間部
は、感光材料１４の搬送方向下流側へ向けて突出してお
り、ヒートローラ５０から剥離した感光材料１４を搬送
方向下流側へ案内する。

【００３７】各々のヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの下流
側及び排出ローラ５２の間には、ガイド７２が配置され
ている。スクイズローラ４８、ヒートローラ５０Ａ、５
０Ｂあるいは、排出ローラ５２で送られる感光材料１４
は、ガイド７２によって各々の下流側へと案内される。

【００３８】ガイド７２のガイド本体８６は、長手方向
の一端が開放されて開口が形成され他端が閉塞されて内
部が中空とされた略矩形状断面の筒体であり、チャンバ
ーを構成している。ガイド７２は、ガイド本体８６の長
手方向が感光材料１４の幅方向（図２にて紙面に垂直方
向）となるように配設され乾燥室の側板に固定される
（図示省略）。ガイド本体８６には、感光材料１４の搬
送路側の面に、その搬送方向に平行な複数のリブ９０
と、ガイド本体の長手方向に沿って（感光材料１４の幅
方向に）スリット７４が穿設されている。

【００３９】図２に示すように、乾燥室５４Ａ内には、
ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂへの感光材料１４の巻掛側
とは反対側に内部が中空の吹出パイプ６８が備えられて
いる。これらの吹出パイプ６８の感光材料搬送路側の面
に、内部と連通するスリット７０が感光材料１４の幅方
向に沿って形成されている。この吹出パイプ６８には、
前記ガイド７２と共に乾燥室４５Ａの下方に配設された
乾燥風供給手段としてのファン１０２及びヒータ１０４
の駆動によって図示しないダクトを介して乾燥風が供給
されるようになっている。

【００４０】吹出パイプ６８及びガイド７２に供給され
る乾燥風は、スリット７０、７４から感光材料１４の表
面へ向けて吐出される。これらの乾燥風によって、ヒー
トローラ５０Ａ、５０Ｂで加熱された感光材料１４の表
面近傍の水分を多量に含んだ空気が除去される。

【００４１】この乾燥室４５Ａには、各ヒートローラ５
０Ａ、５０Ｂの外周周縁の近傍に温度センサ７６が配設
されている。これらの温度センサ７６によって各ヒート
ローラ５０Ａ、５０Ｂの外周部の表面温度、すなわち、
感光材料１４への加熱温度が測定される。温度センサ７
６は制御装置１００に接続されており、制御装置１００
では、温度センサ７６によって検出された温度に基づい
て、前記熱源５６のオンオフ状態を制御する。これによ
って、ヒーロトーラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度を予め定
められた設定温度に制御するすることができる。なお、
本実施例では、上記温度制御は現在の温度、現在までの
温度経緯等から熱源５６のオン又はオフ時間を決定す
る、所謂ＰＩＤ制御で行われているが、設定温度θ_Sを
しきい値として、これを超えた場合は熱源５６をオフ、
下回った場合は熱源５６をオンとする所謂オンオフ制御
であってもよい。

【００４２】また、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂは、感
光材料１４が処理されていない時期には、設定温度より
も低い待機温度に制御されて待機されるようになってい
る。

【００４３】乾燥室４５Ａ内で乾燥処理された感光材料
１４は、排出口７８から自動現像機１０の機外へ排出さ
れる。

【００４４】図３に示される如く、制御装置１００は、
マイクロコンピュータ１０６を含んで構成されている。
マイクロコンピュータ１０６は、ＣＰＵ１０８、ＲＡＭ
１１０、ＲＯＭ１１２、入出力ポート１１４及びこれら
を接続するデータバスやコントロールバス等のバス１１
６で構成されている。

【００４５】入出力ポート１１４には、感光材料１４を
処理装置内で搬送させるための搬送系を制御する信号線
１１８が接続されている。また、入出力ポート１１４に
は、ドライバ１２０、１２２、１２４、１２６、１２８
を介してそれぞれヒータ６０、６２、ファン１０２、ヒ
ータ１０４、熱源５６が接続されると共に感光材料１４
の有無を検出するセンサ１７、ヒートローラ５０Ａ、５
０Ｂの表面温度を検出する温度センサ７６が接続されて
いる。

【００４６】また、ＲＡＭ１１０には、ヒートローラ５
０Ａ、５０Ｂの表面温度の処理可能温度である設定温度
θ_Sと、待機温度θ_Tとが記憶されている。

【００４７】ここで、本実施例の制御装置１００では、
ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度の待機温度θ_T
から設定温度θ_Sまでの立ち上げ時及び設定温度θ_Sか
ら待機温度θ_Tまで立ち下げ時にファン１０２、ヒータ
１０４の駆動をオフさせる制御を行っている。なお、フ
ァン１０２とヒータ１０４を必ずしも同時にオンオフす
る必要はない。例えば、ファン１０２の停止だけでもよ
い構成も考えられる。

【００４８】すなわち、ファン１０２、ヒータ１０４の
駆動を常に継続していることによって、立ち上げ時にヒ
ートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度が上がり難くなる
こと、及び立ち下げ時にヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの
表面温度が下がり易くなることを防止している。

【００４９】次に、本実施例の作用を説明する。感光材
料１４が挿入口１６から自動現像機１０の内部へ挿入さ
れると、搬送ローラ１８によって感光材料１４が引き入
れられクロスオーバーラック４６のガイド面に案内さ
れ、現像槽２４内へ搬送される。現像槽２４内では、感
光材料１４がラック３４に設けられたローラ３６に挟持
され、現像液中を略Ｕ字状に搬送されながら現像液によ
って現像処理され下流側へ排出される。

【００５０】現像槽２４から排出された感光材料１４
は、リンス槽２６のローラ３８に搬送されながらリンス
槽２６の洗浄水によって洗浄された後、クロスオーバー
ラック４６のガイド面に案内されて定着槽２８へ送られ
る。定着槽２８内では、感光材料１４がラック３４に設
けられたローラ３６に挟持され、定着液中を略Ｕ字状に
搬送されて定着液によって定着処理され下流側へ排出さ
れる。

【００５１】定着槽２８から排出された感光材料１４は
リンス槽３０のローラ４０に搬送されながら洗浄水によ
って洗浄され、水洗槽３４へと至り、ラック３４によっ
て水洗水中を搬送されて水洗処理がなされる。ここで、
現像槽２４、定着槽２８に貯留された現像液及び定着液
は、ヒータ６０、６２によって感光材料１４を処理可能
な所定の温度まで加熱され、この温度が維持される。

【００５２】水洗槽３２で水洗処理が完了した感光材料
１４は、乾燥部４５の乾燥室４５Ａ内へ挿入され、乾燥
室４５Ａ内を搬送されて乾燥処理される。

【００５３】乾燥室４５Ａ内に挿入された感光材料１４
は、スクイズローラ４８によってスクイズされ、ガイド
７２のリブ９０に案内されて、上流側のヒートローラ５
０Ａへ巻き掛けられる。感光材料１４はヒートローラ５
０Ａに巻き掛けられながら搬送され、熱源５６で加熱さ
れたヒートローラ５０Ａの外周部から熱伝導によって内
部まで熱が伝達され加熱される。また、ヒートローラ５
０Ａとは非接触側の面、すなわちバック面には、ファン
１０２によって発生した乾燥風の一部がガイド７２及び
吹出パイプ６８から吹き付けられる。このため、感光材
料１４は、バック面から水分が蒸発する。

【００５４】次に、感光材料１４は下流側のヒートロー
ラ５０Ｂに巻掛けられるが、このときはバック面がヒー
トローラ５０Ｂとの接触面となる。このため、バック面
が加熱されると共に乳剤面側に乾燥風が吹き付けられ、
乳剤面側からの水分の蒸発が進められながら、ガイド７
２に案内され、排出ローラ５２によって挟持搬送され、
排出口７８から自動現像機１０の機外へ排出される。

【００５５】以上のように、感光材料１４の一対のヒー
トローラ５０に表裏面交互に巻掛けることにより、表裏
面を均一に乾燥することができ、表裏不均一乾燥による
カールの発生等を防止することができる。

【００５６】ここで、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂは、
上記の如く処理中は設定温度θ_Sに制御（本実施例では
ＰＩＤ制御）されているが、感光材料１４が処理されな
い状態では、表面温度が待機温度θ_Tに制御され、無駄
な加熱を防止すると共に乾燥部の必要以上の温度上昇が
防止される。また、センサ１７によって感光材料１４を
検出すると、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度を
設定温度θ_Sに立ち上げるようにしている。

【００５７】以下にヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面
温度の温度制御を図４乃至図６のフローチャートに従い
説明する。

【００５８】まず、図４に従い、温度制御メインルーチ
ンを説明する。ステップ１５０では、待機温度制御が行
われる。すなわち、装置稼働開始のための準備であり、
熱源５６、ファン１０２及びヒータ１０４を駆動して、
ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度を待機温度θ_T
とする。

【００５９】次のステップ１５２では、センサ１７によ
って感光材料１４を検出したか否かが判断され、肯定判
定された場合は、ステップ１５４で立ち上げ制御がなさ
れる。この立ち上げ制御では、ヒートローラ５０Ａ、５
０Ｂの表面温度を待機温度θ _Tから設定温度θ_Sに立ち
上げる。なお、立ち上げ制御の詳細は後述する。

【００６０】ステップ１５４において、ヒートローラ５
０Ａ、５０Ｂの表面温度が設定温度θ_Sとなると、ステ
ップ１５６において、この設定温度θ_Sが維持される
（ＰＩＤ制御）。

【００６１】次のステップ１５８では、感光材料１４が
乾燥部４５から排出されたか否かが判断され、否定判定
の場合はステップ１５６へ戻り、温度制御が継続され、
肯定判定された場合はステップ１６０へ移行する。

【００６２】ステップ１６０では、処理を継続するか否
かが判断され、否定判定の場合はステップ１６２で熱源
５６、ファン１０２、ヒータ１０４の駆動を停止して、
処理は終了する。なお、このステップ１６２において、
熱源５６とヒータ１０４との駆動を先に停止させ、ファ
ン１０２のみを暫く駆動させることにより、余熱を速や
かに減少させることができる。

【００６３】ステップ１６０において、肯定判定すなわ
ち処理を継続すると判定された場合は、ステップ１６４
へ移行して、センサ１７によって次の感光材料１４を検
出したか否かが判断され、肯定判定の場合は乾燥部４５
の温度制御を継続する必要があるので、ステップ１５６
へ移行する。また、ステップ１６４で否定判定された場
合は、次の感光材料１４が乾燥部４５に至るまでに相当
の時間があるため、ステップ１６６へ移行してヒートロ
ーラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度を待機温度θ_Tに立ち下
げる制御を行い、ステップ１５０へ移行する。なお、ス
テップ１６６の立ち下げ制御については後述する。

【００６４】次に図５に従い、図４のステップ１５４の
立ち上げ制御について説明する。感光材料１４が処理槽
に搬入されたことが検出されると（図４のステップ１５
２）、ステップ１７０では、ファン１０２、ヒータ１０
４をオフとして乾燥風の供給を中止する。これにより、
待機温度θ_Tから設定温度θ_Sまでの温度上昇変化率が
大きく（傾きが大きく）することができる。

【００６５】すなわち、乾燥風の温度は比較的低く、フ
ァン１０２、ヒータ１０４の駆動を継続していると、ヒ
ートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度上昇に反する働き
となるため、従来の温度上昇変化率（図７の鎖線参照）
は小さかった（傾きが小さかった）。しかし、本実施例
では乾燥風の供給を中止したので、図７の実線で示され
る如く、温度上昇変化率（傾き）を大きくとることがで
き、その分時間の短縮が図れる。

【００６６】ここで、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表
面温度が設定温度θ_Sよりも若干低い温度θ₂となった
時点で（ステップ１７２）、ファン１０２、ヒータ１０
４の再度駆動させ（ステップ１７４）、乾燥風を送り込
む。これにより、温度変化が緩やかとなり、オーバシュ
ートが防止され、以後の温度制御が容易となる。

【００６７】ステップ１７６でヒートローラ５０Ａ、５
０Ｂの表面温度が設定温度θ_Sとなった時点でメインル
ーチンにリターンする。

【００６８】すなわち、処理槽に搬入されてから乾燥部
４５へ至る時間を短縮し、処理時間を短くしても、確実
にヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度は設定温度θ
_Sに戻るため、作業効率を向上することができる。

【００６９】次に図６に従い、立ち下げ制御について説
明する。立ち下げ時にファン１０２、ヒータ１０４の駆
動が継続されていると、図８の一点鎖線で示される如
く、乾燥風がヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度を
下げる方向に働くので、熱源５６をオフした時点で、ヒ
ートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度は急激に下がるこ
とになる（温度下降変化率が大きくなる）。

【００７０】そこで、本実施例では、この立ち下げ時に
おいても、ヒートローラ５０Ａ、５０Ｂの表面温度の設
定温度θ_Sよりも若干低い温度θ₁となった時点で（ス
テップ１８０）、ファン１０２、ヒータ１０４の駆動を
停止し（ステップ１８２）、乾燥風の供給を中止するよ
うにしている。この乾燥風の供給中止によって温度低下
の傾きが小さくなり（図８の実線参照）、温度変化が緩
やかとなる。これにより、この立ち下げ中に感光材料１
４の処理槽への搬入が認識されて、再度設定温度θ_Sま
で上昇させる場合に、短時間で立ち上げを行うことがで
きる。

【００７１】ステップ１８４において、ヒートローラ５
０Ａ、５０Ｂの表面温度が待機温度θ_Tと設定温度θ_S
のほぼ中間の温度θ₃となったことが判定されると、ス
テップ１８６でファン１０２、ヒータ１０４の駆動を再
開し、次いでステップ１８８で表面温度が待機温度θ_T
となった時点でリターンする。これにより、ステップ１
５０（図４参照）で表面温度θ_Tで温度制御が継続され
る。

【００７２】このように、本実施例では、立ち上げ時及
び立ち下げ時にファン１０２、ヒータ１０４の駆動を停
止して、乾燥風の供給を停止させたため、温度変化の傾
きを適正に変更することができる。また、ファン１０
２、ヒータ１０４をオン又はオフするのみであるため、
制御系も簡単であり、特に立ち上げ時に設定温度θ_Sよ
りも若干低い温度でファン１０２、ヒータ１０４の駆動
を再開させることにより、オーバーシュートも防止する
ことができる。

【００７３】以上の説明では、乾燥風をヒータ１０４に
より加温する例で説明したが、加温せず風だけを送る乾
燥方法にも本発明は適用可能である。

【００７４】

【発明の効果】以上説明した如く本発明に係る感光材料
処理装置の温度制御方法及び装置は、ヒートローラの表
面温度の立ち上げ及び立ち下げ時の温度制御を立ち上げ
時間は早く、かつ立ち下げ時間は遅くなるように制御
し、乾燥作業効率を向上することができるという優れた
効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係る感光材料処理装置を概略構成を
示す側面図である。

【図２】乾燥装置の概略構成を示す側面図である。

【図３】制御ブロック図である。

【図４】温度制御メインルーチンを示す制御フローチャ
ートである。

【図５】立ち上げ時の温度制御ルーチンを示す制御フロ
ーチャートである。

【図６】立ち下げ時の温度制御ルーチンを示す制御フロ
ーチャートである。

【図７】立ち上げ時の温度特性図である。

【図８】立ち下げ時の温度特性図である。

【符号の説明】

１０自動現像機１４感光材料１７センサ５０Ａ５０Ｂヒートローラ５６熱源１００制御装置１０２ファン１０４ヒータ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】処理液によって処理した感光材料を表面
温度が所定温度に制御されたヒートローラに接触させな
がら搬送すると共に前記感光材料におけるヒートローラ
とは非接触の面に乾燥風を吹き付けて水分の蒸発を促進
して乾燥する感光材料乾燥装置に用いられ、前記ヒート
ローラの表面温度を制御するための感光材料乾燥装置の
温度制御方法であって、ヒートローラの表面温度を前記
所定温度よりも低い待機温度から前記所定温度まで立ち
上げる期間中に前記乾燥風の吹き付けを停止してヒート
ローラの表面温度の変化率を大きくすることを特徴とす
る感光材料乾燥装置の温度制御方法。
【請求項２】処理液によって処理した感光材料を表面
温度が所定温度に制御されたヒートローラに接触させな
がら搬送すると共に前記感光材料におけるヒートローラ
とは非接触の面に乾燥風を吹き付けて水分の蒸発を促進
して乾燥する感光材料乾燥装置に用いられ、前記ヒート
ローラの表面温度を制御するための感光材料乾燥装置の
温度制御装置であって、前記搬送路に沿って設けられた
吹出ノズルを備え前記感光材料へ吹き付ける乾燥風を供
給する乾燥風供給手段と、前記ヒートローラの表面温度
を前記所定温度よりも低い待機温度から前記所定温度ま
で立ち上げる期間中に前記乾燥風供給手段による乾燥風
の供給を停止する乾燥風制御手段と、を有する感光材料
乾燥装置の温度制御装置。
【請求項３】前記乾燥風制御手段は、前記立ち上げ時
に前記ヒートローラの表面温度が所定温度よりも若干低
い温度となった時点で乾燥風の供給を開始することを特
徴とする請求項２記載の感光材料乾燥装置の温度制御装
置。
【請求項４】処理液によって処理した感光材料を表面
温度が所定温度に制御されたヒートローラに接触させな
がら搬送すると共に前記感光材料におけるヒートローラ
とは非接触の面に乾燥風を吹き付けて水分の蒸発を促進
して乾燥する感光材料乾燥装置に用いられ、前記ヒート
ローラの表面温度を制御するための感光材料乾燥装置の
温度制御方法であって、ヒートローラの表面温度を前記
所定温度から前記所定温度よりも低い待機温度まで立ち
下げる期間中に前記乾燥風の吹き付けを停止してヒート
ローラの表面温度の変化率を小さくすることを特徴とす
る感光材料乾燥装置の温度制御方法。
【請求項５】処理液によって処理した感光材料を表面
温度が所定温度に制御されたヒートローラに接触させな
がら搬送すると共に前記感光材料におけるヒートローラ
とは非接触の面に乾燥風を吹き付けて水分の蒸発を促進
して乾燥する感光材料乾燥装置に用いられ、前記ヒート
ローラの表面温度を制御するための感光材料乾燥装置の
温度制御装置であって、前記搬送路に沿って設けられた
吹出ノズルを備え前記感光材料へ吹き付ける乾燥風を供
給する乾燥風供給手段と、前記ヒートローラの表面温度
を前記所定温度から前記所定温度よりも低い待機温度ま
で立ち下げる期間中に前記乾燥風供給手段による乾燥風
の供給を停止する乾燥風制御手段と、を有する感光材料
乾燥装置の温度制御装置。