JP2810626B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2810626B2
JP2810626B2 JP6125579A JP12557994A JP2810626B2 JP 2810626 B2 JP2810626 B2 JP 2810626B2 JP 6125579 A JP6125579 A JP 6125579A JP 12557994 A JP12557994 A JP 12557994A JP 2810626 B2 JP2810626 B2 JP 2810626B2
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義明 江本
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日鉄セミコンダクター株式会社
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特にLOC(Lead On
Chip)構造を有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】バスバーリードを備えたLOC構造を有
する半導体装置について、特開昭61−241959号
公報、あるいは特開平4−114438号公報等に、そ
の技術的内容が詳しく説明されている。上記の特開昭6
1−241959号公報等で開示されている半導体装置
は、半導体チップの表面中央部に形成されたボンディン
グパッドと半導体チップの表面に配置されるインナーリ
ードとを、同じく半導体チップの表面上に配置されるバ
スバーリードを跨ぐようにしてボンディングワイヤを用
いて結線し、これらの部材を樹脂によって封止する構造
になっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の半導体装置では、半導体装置の製造工程のうち、
ボンディングワイヤの結線工程、あるいは半導体装置を
構成する部材を樹脂によって封止する行程において、ボ
ンディングワイヤとバスバーリードとが接触し、電気的
に短絡することがある。この短絡を回避するために、バ
スバーリードとボンディングワイヤとの隙間を大きくす
るという方法が考えられるが、この方法を採用した場
合、半導体装置の厚みが増大することとなり、近年ます
ます高まっている半導体装置の小型化、薄型化の要求に
沿わないという問題がある。
【0004】本発明は上述する問題点に鑑みてなされた
もので、大型化、厚型化といった手段を用いること無
く、バスバーリードとボンディングワイヤとの電気的な
短絡を防止することのできる半導体装置の提供を目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体装
置は、上記問題を解決するために、表面中央部に複数の
ボンディングパッドが形成された半導体チップ上に、信
号を入出力するインナーリードと電源電圧および基準電
圧をそれぞれ供給するバスバーリードとが絶縁物を介し
て配置され、前記インナーリードとバスバーリードとが
ボンディングワイヤによりボンディングパッドに結線さ
れ、これらが樹脂によって封止されてなるリード・オン
・チップ構造の半導体装置であって、略同一厚さの前記
バスバーリードとインナーリードに対し、バスバーリー
ドの上面がインナーリードのボンディング面よりも低く
したことを特徴とする。
【0006】請求項2記載の半導体装置は、表面中央部
に複数のボンディングパッドが形成された半導体チップ
上に、信号を入出力するインナーリードと電源電圧およ
び基準電圧をそれぞれ供給するバスバーリードとが配置
され、前記インナーリードとバスバーリードとがボンデ
ィングワイヤによりボンディングパッドに結線され、こ
れらが樹脂によって封止されてなるリード・オン・チッ
プ構造の半導体装置において、前記バスバーリードの下
部の絶縁物をなくして、バスバーリードの上面をチップ
上に絶縁物を介して配置されたインナーリードのボンデ
ィング面よりも低くしたことを特徴とする。請求項3記
載の半導体装置は、表面中央部に複数のボンディングパ
ッドが形成された半導体チップ上に、信号を入出力する
インナーリードと電源電圧および基準電圧をそれぞれ供
給するバスバーリードとが絶縁物を介して配置され、前
記インナーリードとバスバーリードとがボンディングワ
イヤによりボンディングパッドに結線され、これらが樹
脂によって封止されてなるリード・オン・チップ構造の
半導体装置であって、 前記バスバーリードの下部の絶縁
物をインナーリードの下部の絶縁物よりも薄くして、バ
スバーリードの上面をインナーリードのボンディング面
よりも低くしたことを特徴とする。
【0007】
【作用】請求項1〜3に係わる半導体装置によれば、バ
スバーリードは、インナーリードに対して相対的に低く
設置されているため、バスバーリードとボンディングワ
イヤとの隙間が大きいため、バスバーリードとボンディ
ングワイヤとの短絡が防止できる。
【0008】
【実施例】図1から図4を参照して、本発明による半導
体装置の実施例を説明する。
【0009】〔実施例1〕図2は本実施例による半導体
装置Aの平面図である。また、図1はこの半導体装置A
におけるX−X’面の断面図、図3はY−Y’面の断面
図である。図において、2は半導体チップである。半導
体チップ2は、シリコン等の単結晶からなる平板な長方
形状のチップであり、内部に微細な電気回路が形成され
ている。3はボンディングパッドである。ボンディング
パッド3は、半導体チップ2に形成された電気回路を半
導体装置Aの外部回路と接続するための端子であり、半
導体チップ2の表面中央部に、長辺に平行して一列に多
数形成されている。
【0010】絶縁テープ5は、放射線の一種であるα線
に対して半導体チップ2に形成された電気回路を保護し
ており、半導体チップ2の表面とインナーリード6aの
先端部との間に介装され、例えば半導体チップ2の表面
とインナーリード6aの先端部とにそれぞれ接着されて
いる。
【0011】6はLSIリードである。LSIリード6
は、半導体チップ2の長辺に沿って2列に多数配置され
ており、半導体チップ2に形成された電気回路を半導体
装置1の外部回路と接続する。また、各々のLSIリー
ド6は、樹脂9によって封止されるインナーリード6a
と、外部に露出するアウターリード6bとに分けられ、
インナーリード6aの先端部は、半導体チップ2の表面
上に絶縁テープ5を介して、それぞれ配置されている。
【0012】また、7はバスバーリードである。バスバ
ーリード7は、電源に接続される2本のLSIリード6
の各インナーリード6aをボンディングパッド3に沿っ
て引き伸ばした形状であり、図3に示すように絶縁テー
プ5の厚み分だけ折り曲げて、半導体チップ2の表面上
に配置されている。また、バスバーリード7には、絶縁
テープ5上に乗り上げるようにボンディングワイヤ8が
接続される突起部7aが複数設けられている。基準電圧
(GND)に接続される2本のLSIリード6について
も同様の形状で、半導体チップ2の表面上に配置されて
いる。
【0013】8はボンディングワイヤである。ボンディ
ングワイヤ8は、バスバーリード7の突起部7aとボン
ディングパッド3、および各インナーリード6aとボン
ディングパッド3の各上面(ボンディング面)とを電気
的に接続し、各インナーリード6aとボンディングパッ
ド3とを電気的に接続する場合、バスバーリード7を跨
ぐようにして接続される。ボンディングワイヤ8は、例
えば熱圧着による超音波振動を併用したボンディング法
を用いて接続される。また、9は樹脂である。樹脂9
は、例えばシリコンフィラーを添加したエポキシ系樹脂
からなり、半導体装置Aが置かれる周囲環境に対して、
半導体装置Aを構成する上記各部材を封止している。
【0014】上記構成の半導体装置によれば、絶縁テー
プ5の厚さの分バスバーリード7の上面とボンディング
ワイヤ8との隙間が増えていることにより、ボンディン
グワイヤ8の結線工程、あるいは半導体装置を構成する
部材を樹脂によって封止する工程でボンディングワイヤ
8とバスバーリード7とが接触して電気的に短絡するこ
とが防止できる。
【0015】〔実施例2〕図4は本実施例による半導体
装置Bの要部断面図である。なお、実施例1と構成の同
一部分には同一符号を付して説明を省略する。
【0016】本実施例の半導体装置Bでは、インナーリ
ード6aの先端部は、半導体チップ2の表面上に例えば
2枚の絶縁テープ5とを介して、配置される構成とす
る。そして、バスバーリード7は、半導体チップ2の表
面上に1枚の絶縁テープ5を介して、配置される構成と
する。あるいは、インナーリード6aの先端部が配置さ
れる部分に対して、バスバーリード7が配置される部分
をエッチング加工等を加えて薄くした絶縁テープ5を用
いる。
【0017】こうすることにより、半導体チップの表面
に対してバスバーリード7の上面の高さは、インナーリ
ード6aの先端部およびバスバーリード7の先端部7a
のボンディング面の高さよりも絶縁テープ5の1枚分だ
け低くなる。よって、バスバーリード7とボンディング
ワイヤ8との隙間が増えて、ボンディングワイヤ8とバ
スバーリード7とが接触して電気的に短絡することが防
止できる。
【0018】
【発明の効果】本発明に係わる半導体装置によれば、バ
スバーリードは、インナーリードに対して相対的に低く
されているので、バスバーリードとボンディングワイヤ
の接触によるショートを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図2に示す本発明による半導体装置におけるX
−X’面の断面図である。
【図2】本発明による実施例1の半導体装置の平面図で
ある。
【図3】図2に示す本発明による半導体装置におけるY
−Y’面の断面図である。
【図4】本発明による実施例2の半導体装置の要部断面
図である。
【符号の説明】
A、B 半導体装置 2 半導体チップ 3 ボンディングパッド 5 絶縁テープ 6 LSIリード 6a インナーリード 6b アウターリード 7 バスバーリード 8 ボンディングワイヤ 9 樹脂

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面中央部に複数のボンディングパッド
    が形成された半導体チップ上に、信号を入出力するイン
    ナーリードと電源電圧および基準電圧をそれぞれ供給す
    るバスバーリードとが絶縁物を介して配置され、前記イ
    ンナーリードとバスバーリードとがボンディングワイヤ
    によりボンディングパッドに結線され、これらが樹脂に
    よって封止されてなるリード・オン・チップ構造の半導
    体装置であって、略同一厚さの前記バスバーリードとインナーリードに対
    し、バスバーリードの上面をインナーリードのボンディ
    ング面よりも低くした ことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 表面中央部に複数のボンディングパッド
    が形成された半導体チップ上に、信号を入出力するイン
    ナーリードと電源電圧および基準電圧をそれぞれ供給す
    るバスバーリードとが配置され、前記インナーリードと
    バスバーリードとがボンディングワイヤによりボンディ
    ングパッドに結線され、これらが樹脂によって封止され
    てなるリード・オン・チップ構造の半導体装置であっ
    て、 前記バスバーリードの下部の絶縁物をなくして、バスバ
    ーリードの上面をチップ上に絶縁物を介して配置された
    インナーリードのボンディング面よりも低くした ことを
    特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 表面中央部に複数のボンディングパッド
    が形成された半導体チップ上に、信号を入出力するイン
    ナーリードと電源電圧および基準電圧をそれぞれ供給す
    るバスバーリードとが絶縁物を介して配置され、前記イ
    ンナーリードとバスバーリードとがボンディングワイヤ
    によりボンディングパッドに結線され、これらが樹脂に
    よって封止されてなるリード・オン・チップ構造の半導
    体装置であって、 前記バスバーリードの下部の絶縁物をインナーリードの
    下部の絶縁物よりも薄くして、バスバーリードの上面を
    インナーリードのボンディング面よりも低くしたことを
    特徴とする半導体装置。
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JPH10214933A (ja) * 1997-01-29 1998-08-11 Toshiba Corp 半導体装置とその製造方法
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