JP2795642B2 - 5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造方法 - Google Patents
5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D409/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D333/38—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、5−フルオロ−6
−クロロ−2−オキシンドール−1−カルボキサミドと
4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸から5−フルオ
ロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−
2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造する方
法およびその変法に関する。
−クロロ−2−オキシンドール−1−カルボキサミドと
4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸から5−フルオ
ロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−
2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造する方
法およびその変法に関する。
【0002】
【従来の技術】4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸
は構造
は構造
【化5】 を有する。これは医薬化合物、例えばEhrgott等
の米国特許第5,047,554号の実施例72に記載
されている5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロ
ロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カルボ
キサミドの合成に重要な中間体である。
の米国特許第5,047,554号の実施例72に記載
されている5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロ
ロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カルボ
キサミドの合成に重要な中間体である。
【0003】4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸
(ここではまた都合上、″CTCA″と省略する)の合
成はJ.Iriarte等のJ.Heterocycl
icChem.、13、393(1976)に記されて
いる。そこでは、CTCAは相当する2−アルデヒドを
酸化銀で酸化することによって定量収率で粗製形で得ら
れたことが報告されている。粗製の酸は124−126
℃の融点を有すると報告されている。さらに、「メタノ
ールまたはジクロロメタンからの結晶化の繰り返し」の
後の生成物の融点は131−132℃であると記されて
いる。Iriarte等はまた、同じ文献で、エチル
4−クロロチオフェン−2−カルボキシレートをメタノ
ールカリ中でケン化することによって融点125−12
6℃のCTCAを製造し、カルボキシレートは塩化アル
ミニウムの存在下でのエチル チオフェン−2−カルボ
キシレートの直接塩素化によって製造したことを報告し
ている。
(ここではまた都合上、″CTCA″と省略する)の合
成はJ.Iriarte等のJ.Heterocycl
icChem.、13、393(1976)に記されて
いる。そこでは、CTCAは相当する2−アルデヒドを
酸化銀で酸化することによって定量収率で粗製形で得ら
れたことが報告されている。粗製の酸は124−126
℃の融点を有すると報告されている。さらに、「メタノ
ールまたはジクロロメタンからの結晶化の繰り返し」の
後の生成物の融点は131−132℃であると記されて
いる。Iriarte等はまた、同じ文献で、エチル
4−クロロチオフェン−2−カルボキシレートをメタノ
ールカリ中でケン化することによって融点125−12
6℃のCTCAを製造し、カルボキシレートは塩化アル
ミニウムの存在下でのエチル チオフェン−2−カルボ
キシレートの直接塩素化によって製造したことを報告し
ている。
【0004】Lemaire等、J.Electroa
nal.Chem.、281、293、(1990)で
は、とりわけ、グリニャール試薬を用いる方法によって
3−クロロ−2−トリメチルシリルチオフェンを製造
し、生成物はポリ(3−クロロチオフェン)を製造する
電子重合に用いることが報告されている。
nal.Chem.、281、293、(1990)で
は、とりわけ、グリニャール試薬を用いる方法によって
3−クロロ−2−トリメチルシリルチオフェンを製造
し、生成物はポリ(3−クロロチオフェン)を製造する
電子重合に用いることが報告されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等はこのたび、
潜在的に反応性の部位をブロックして副生成物の生成を
妨げる温度依存性部分選択法によって、CTCAを生成
することができることを見いだした。
潜在的に反応性の部位をブロックして副生成物の生成を
妨げる温度依存性部分選択法によって、CTCAを生成
することができることを見いだした。
【0006】本発明は式IVa
【化6】 (式中、各R基は(C1−C6)アルキル、ベンジルおよ
びフェニルから独立して選ばれる)の化合物からシリル
基Si(R)3を除くことより製造した、4−クロロ−
2−チオフェンカルボン酸と5−フルオロ−6−クロロ
−2−オキシンドール−1−カルボキサミドとを反応さ
せることからなる5−フルオロ−6−クロロ−3−(4
−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−
カルボキサミドの製造方法(方法A)を提供するもので
ある。
びフェニルから独立して選ばれる)の化合物からシリル
基Si(R)3を除くことより製造した、4−クロロ−
2−チオフェンカルボン酸と5−フルオロ−6−クロロ
−2−オキシンドール−1−カルボキサミドとを反応さ
せることからなる5−フルオロ−6−クロロ−3−(4
−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−
カルボキサミドの製造方法(方法A)を提供するもので
ある。
【0007】さらに詳しくは、4−クロロ−2−チオフ
ェンカルボン酸の製法は次の段階よりなる: 1) 3−クロロチオフェンを約−50℃未満の温度に
て塩基で処理し、次に、式(R)3SiX(式中、Xは
脱離基であり、各R基は(C1−C6)アルキル、ベンジ
ルおよびフェニルから独立して選ばれる)のシリル化合
物で処理して、式
ェンカルボン酸の製法は次の段階よりなる: 1) 3−クロロチオフェンを約−50℃未満の温度に
て塩基で処理し、次に、式(R)3SiX(式中、Xは
脱離基であり、各R基は(C1−C6)アルキル、ベンジ
ルおよびフェニルから独立して選ばれる)のシリル化合
物で処理して、式
【化7】 の化合物を形成し; 2) 段階(1)の生成物を約−50℃未満の温度に
て、クロロチオフェン環の5位置で脱プロトン化するの
に十分な塩基で処理して、対応するように式IIa
て、クロロチオフェン環の5位置で脱プロトン化するの
に十分な塩基で処理して、対応するように式IIa
【化8】 のアニオンを形成し; 3) 段階(2)の生成物を−50℃未満の温度にて、
二酸化炭素で処理して対応するように式IIIa
二酸化炭素で処理して対応するように式IIIa
【化9】 のモノカルボキシレートを形成し; 4) 段階(3)の生成物を相当する酸(すなわち、式
IVa)に変え;そして 5) シリル基Si(R)3を除く。
IVa)に変え;そして 5) シリル基Si(R)3を除く。
【0008】脱離基″X″としては、クロロ、ブロモお
よびヨードを含めたハロゲノ基、トリフルオロメタンス
ルホネート、トリフルオロアセテート、アセトアミド、
トリフルオロアセトアミド、1,2,4−トリアゾール
並びにイミダゾールが、当業界で公知の他のものと共に
有用である。広く市販されているので、クロロおよびト
リフルオロメタンスルホネートが好ましい。
よびヨードを含めたハロゲノ基、トリフルオロメタンス
ルホネート、トリフルオロアセテート、アセトアミド、
トリフルオロアセトアミド、1,2,4−トリアゾール
並びにイミダゾールが、当業界で公知の他のものと共に
有用である。広く市販されているので、クロロおよびト
リフルオロメタンスルホネートが好ましい。
【0009】(C1−C6)アルキルのようなRの具体的
なものには、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチルおよびn−
ヘキシルがある。
なものには、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチルおよびn−
ヘキシルがある。
【0010】上記のプロセスで生成されるCTCAは実
質的に純粋であると思われ、融点は138℃であり、こ
れは再結晶を繰り返した後でも融点がただ131−13
2℃を示す従来の生成物よりずっと純粋であることを示
している。
質的に純粋であると思われ、融点は138℃であり、こ
れは再結晶を繰り返した後でも融点がただ131−13
2℃を示す従来の生成物よりずっと純粋であることを示
している。
【0011】本発明は、5−フルオロ−6−クロロ−3
−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール
−1−カルボキサミド(構造VIII、下記スキームI)の
製法(これらは変形である)であって、塩基の存在下
で、5−フルオロ−6−クロロ−2−オキシンドール
(構造VII、下記スキームI)を上記の方法のいずれかに
従って生成された4−クロロ−2−チオフェンカルボン
の活性化形(例えば、酸塩化物、アシルイミダゾールま
たはメチルエステル)と反応させることよりなる上記の
方法を提供する。CTCAとカルボニルジイミダゾール
との反応によって生成された活性化アシルイミダゾー
ル、またはCTCAと塩化チオニルとの反応によって生
成された酸塩化物のいずれかを用いるのが好ましい。こ
れらの好ましい活性化誘導体はいずれも一般的な方法で
形成することができる。
−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール
−1−カルボキサミド(構造VIII、下記スキームI)の
製法(これらは変形である)であって、塩基の存在下
で、5−フルオロ−6−クロロ−2−オキシンドール
(構造VII、下記スキームI)を上記の方法のいずれかに
従って生成された4−クロロ−2−チオフェンカルボン
の活性化形(例えば、酸塩化物、アシルイミダゾールま
たはメチルエステル)と反応させることよりなる上記の
方法を提供する。CTCAとカルボニルジイミダゾール
との反応によって生成された活性化アシルイミダゾー
ル、またはCTCAと塩化チオニルとの反応によって生
成された酸塩化物のいずれかを用いるのが好ましい。こ
れらの好ましい活性化誘導体はいずれも一般的な方法で
形成することができる。
【0012】本発明の5−フルオロ−6−クロロ−3−
(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−
1−カルボキサミドの別の製法(方法B)は次の段階よ
りなる: 1) 塩基の存在下で、5−フルオロ−6−クロロ−2
−オキシンドール−1−カルボキサミドを式IVc
(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−
1−カルボキサミドの別の製法(方法B)は次の段階よ
りなる: 1) 塩基の存在下で、5−フルオロ−6−クロロ−2
−オキシンドール−1−カルボキサミドを式IVc
【化10】 (式中、Yはクロロ、イミダゾール−1−イルまたはメ
チルである)の活性化モノカルボン酸と反応させて対応
するように式Va
チルである)の活性化モノカルボン酸と反応させて対応
するように式Va
【化11】 の5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−3−
トリ置換シリル−2−テノイル)−2−オキシンドール
−1−カルボキサミドを形成し;そして 2) シリル基Si(R)3を除く。
トリ置換シリル−2−テノイル)−2−オキシンドール
−1−カルボキサミドを形成し;そして 2) シリル基Si(R)3を除く。
【0013】本発明の化学は、説明のために式(R)3
SiXのシランを用いて、次のような一般化したフロー
チャートの形で要約することができる:
SiXのシランを用いて、次のような一般化したフロー
チャートの形で要約することができる:
【化12】
【0014】
【発明の実施の形態】あらかじめ、以下に記載のすべて
の反応は不活性雰囲気下で行うものとし、アルゴンまた
は窒素が好ましいことを述べておく。都合上、シリルブ
ロッキング基(R)3Si−は次の記載において単に”
ブロッキング剤”と示し、シリル化合物(R)3SiX
は”ブロッキング試薬”と示す。さらに、温度が約−5
0℃未満、好ましくは−70℃未満と詳しく記載されて
いるとき、これをドライアイス/アセトン浴で簡単に行
うために−78℃が好ましいことを述べておく。これよ
り低い温度、例えば−94℃の温度を用いることもで
き、これは液体窒素でヘキサン浴を冷却することによっ
て行うことができる。しかしながら、これによって有意
な利点は得られない。
の反応は不活性雰囲気下で行うものとし、アルゴンまた
は窒素が好ましいことを述べておく。都合上、シリルブ
ロッキング基(R)3Si−は次の記載において単に”
ブロッキング剤”と示し、シリル化合物(R)3SiX
は”ブロッキング試薬”と示す。さらに、温度が約−5
0℃未満、好ましくは−70℃未満と詳しく記載されて
いるとき、これをドライアイス/アセトン浴で簡単に行
うために−78℃が好ましいことを述べておく。これよ
り低い温度、例えば−94℃の温度を用いることもで
き、これは液体窒素でヘキサン浴を冷却することによっ
て行うことができる。しかしながら、これによって有意
な利点は得られない。
【0015】2位置でブロックされた3−クロロチオフ
ェンは、まず3−クロロチオフェンを当量の強塩基、例
えばアルキルリチウムで−50℃未満、好ましくは−7
0℃未満の温度で処理すると、脱プロトン化は部分選択
的となり、2位置を好む。商業的に容易に入手しうるた
め、n−ブチルリチウムが塩基として好ましい。3−ク
ロロチオフェンおよび塩基は不活性溶剤(”不活性”は
使用反応条件に関して用いられる)、例えばそれぞれテ
トラヒドロフラン(THF)およびヘキサンに溶解す
る。反応混合物は、30分ないし数時間撹拌する。この
時点で、ブロッキング剤を当量でまたは少し(10%ま
で)過剰に加えることができる。数分ないし数時間後、
反応混合物を温めた後、水および/またはブラインを添
加することによってほぼ室温以下に急冷することができ
る。次に、ブロックされた生成物を酢酸エチルのような
適当な有機溶剤に一般的な方法で抽出し、乾燥し、そし
て蒸発によるような一般的な方法で単離する。
ェンは、まず3−クロロチオフェンを当量の強塩基、例
えばアルキルリチウムで−50℃未満、好ましくは−7
0℃未満の温度で処理すると、脱プロトン化は部分選択
的となり、2位置を好む。商業的に容易に入手しうるた
め、n−ブチルリチウムが塩基として好ましい。3−ク
ロロチオフェンおよび塩基は不活性溶剤(”不活性”は
使用反応条件に関して用いられる)、例えばそれぞれテ
トラヒドロフラン(THF)およびヘキサンに溶解す
る。反応混合物は、30分ないし数時間撹拌する。この
時点で、ブロッキング剤を当量でまたは少し(10%ま
で)過剰に加えることができる。数分ないし数時間後、
反応混合物を温めた後、水および/またはブラインを添
加することによってほぼ室温以下に急冷することができ
る。次に、ブロックされた生成物を酢酸エチルのような
適当な有機溶剤に一般的な方法で抽出し、乾燥し、そし
て蒸発によるような一般的な方法で単離する。
【0016】2−ブロックされた3−クロロチオフェン
を次に、THFのような適当な乾燥溶剤中で、塩基(当
量または少し過剰)と−50℃未満、好ましくは−70
℃未満の温度にて反応させて、チオフェン硫黄原子に隣
接する残りの非ブロック炭素原子において選択的に脱プ
ロトン化する。温度を−50℃未満に維持しながら、二
酸化炭素ガスを用いて脱プロトン化中間体を処理し、そ
してこれによって二酸化炭素捕捉を行うと、式IIIaの
4−クロロ−5−ブロック−2−チオフェンカルボキシ
レートが得られる。当業者には、ブロッキング試薬より
もすぐれた親核性をもたらさない塩基、従ってチオフェ
ン環にすでに付いているブロッキング基を攻撃および置
換しない塩基を用いるのが望ましいことは明らかであろ
う。この段階に有用な塩基には、アルキルリチウム化合
物とジアルキルアミンとの反応によってその場で都合よ
く発生させることのできるリチウムジアルキルアミドが
含まれる。例えば、p−ブチルリチウムは、先の工程で
形成された2−ブロック−3−クロロチオフェンを導入
する前に、約0℃でTHF中で当量のジアルキルアミ
ン、例えばジイソプロピルアミンで処理すると、リチウ
ムジイソプロピルアミドを形成することができる。次
に、温度を適当に−50℃未満に下げ、二酸化炭素の捕
捉を行う。反応を水性酸、例えば水性塩酸で急冷するこ
とによってカルボキシレートを酸に変える。次いで、有
機層を分離し、水性部分を抽出し(例えば、酢酸エチル
を用いて)、酸を単離する。
を次に、THFのような適当な乾燥溶剤中で、塩基(当
量または少し過剰)と−50℃未満、好ましくは−70
℃未満の温度にて反応させて、チオフェン硫黄原子に隣
接する残りの非ブロック炭素原子において選択的に脱プ
ロトン化する。温度を−50℃未満に維持しながら、二
酸化炭素ガスを用いて脱プロトン化中間体を処理し、そ
してこれによって二酸化炭素捕捉を行うと、式IIIaの
4−クロロ−5−ブロック−2−チオフェンカルボキシ
レートが得られる。当業者には、ブロッキング試薬より
もすぐれた親核性をもたらさない塩基、従ってチオフェ
ン環にすでに付いているブロッキング基を攻撃および置
換しない塩基を用いるのが望ましいことは明らかであろ
う。この段階に有用な塩基には、アルキルリチウム化合
物とジアルキルアミンとの反応によってその場で都合よ
く発生させることのできるリチウムジアルキルアミドが
含まれる。例えば、p−ブチルリチウムは、先の工程で
形成された2−ブロック−3−クロロチオフェンを導入
する前に、約0℃でTHF中で当量のジアルキルアミ
ン、例えばジイソプロピルアミンで処理すると、リチウ
ムジイソプロピルアミドを形成することができる。次
に、温度を適当に−50℃未満に下げ、二酸化炭素の捕
捉を行う。反応を水性酸、例えば水性塩酸で急冷するこ
とによってカルボキシレートを酸に変える。次いで、有
機層を分離し、水性部分を抽出し(例えば、酢酸エチル
を用いて)、酸を単離する。
【0017】この時点で、生成物を弗化物で処理するこ
とによってブロッキング基を除くと4−クロロ−2−チ
オフェンカルボン酸が得られる。次に、酸を活性化し、
5−フルオロ−6−クロロ−2−オキシンドール−1−
カルボキサミド(ここでは”カルボキサミド先駆体”と
も呼ぶ)と反応させると、医薬生成物5−フルオロ−6
−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オ
キシンドール−1−カルボキサミドが得られる。
とによってブロッキング基を除くと4−クロロ−2−チ
オフェンカルボン酸が得られる。次に、酸を活性化し、
5−フルオロ−6−クロロ−2−オキシンドール−1−
カルボキサミド(ここでは”カルボキサミド先駆体”と
も呼ぶ)と反応させると、医薬生成物5−フルオロ−6
−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オ
キシンドール−1−カルボキサミドが得られる。
【0018】あるいは、ブロッキング基を除く必要はな
く、ブロックされた酸を活性化し、直接カルボキサミド
先駆体と反応させると、相当するブロックされた医薬生
成物(Va)が得られる。
く、ブロックされた酸を活性化し、直接カルボキサミド
先駆体と反応させると、相当するブロックされた医薬生
成物(Va)が得られる。
【0019】いずれの場合でも、上記のように、ブロッ
キング基は弗化物アニオンで処理することによって除く
ことができ、最終医薬生成物は反応を水性酸(例えば、
塩酸)で急冷すると単離される。弗化物イオン源は限定
されず、比較的広範囲の弗化物含有試薬を用いることが
でき、それらにはアルカリ金属弗化物(例えば、弗化ナ
トリウム、カリウム、リチウムおよびセシウム)、アル
カリ土類金属弗化物(例えば、弗化マグネシウムおよび
カルシウム)、弗化水素の遊離した(HF)および結合
した(例えば、弗化水素酸ピリジニウム)形のもの、並
びにテトラ−低級アルキルアンモニウム弗化物が含まれ
る。テトラ−低級アルキルアンモニウム弗化物が好まし
く、商業的に容易に入手しうる弗化テトラ−n−ブチル
アンモニウムが特に好ましい。例えば2−3当量の過剰
な弗化物を用いると、反応が促進される。
キング基は弗化物アニオンで処理することによって除く
ことができ、最終医薬生成物は反応を水性酸(例えば、
塩酸)で急冷すると単離される。弗化物イオン源は限定
されず、比較的広範囲の弗化物含有試薬を用いることが
でき、それらにはアルカリ金属弗化物(例えば、弗化ナ
トリウム、カリウム、リチウムおよびセシウム)、アル
カリ土類金属弗化物(例えば、弗化マグネシウムおよび
カルシウム)、弗化水素の遊離した(HF)および結合
した(例えば、弗化水素酸ピリジニウム)形のもの、並
びにテトラ−低級アルキルアンモニウム弗化物が含まれ
る。テトラ−低級アルキルアンモニウム弗化物が好まし
く、商業的に容易に入手しうる弗化テトラ−n−ブチル
アンモニウムが特に好ましい。例えば2−3当量の過剰
な弗化物を用いると、反応が促進される。
【0020】5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−ク
ロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カル
ボキサミドを用いる方法は、Ehrgottの米国特許
第5,047,554号に教示されている。
ロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カル
ボキサミドを用いる方法は、Ehrgottの米国特許
第5,047,554号に教示されている。
【0021】
【実施例】次の実施例は本発明の様々な態様を示すもの
であるが、本発明の範囲を限定するものではない。実施
例において、NMRデータはブロルッカーAM250お
よびブルッカーAM300の装置から得た。1H(プロ
トン)NMRスペクトルに用いた周波数は250MHz
または300MHzであった。13C NMRスペクトル
は62.5MHzまたは75MHzで得た。
であるが、本発明の範囲を限定するものではない。実施
例において、NMRデータはブロルッカーAM250お
よびブルッカーAM300の装置から得た。1H(プロ
トン)NMRスペクトルに用いた周波数は250MHz
または300MHzであった。13C NMRスペクトル
は62.5MHzまたは75MHzで得た。
【0022】実施例1a 2−トリメチルシリル−3−クロロチオフェン
【化13】 −72℃で撹拌している50mlのテトラヒドロフラン
に溶解した3−クロロチオフェン(5.0g、42.1
6mmol)に、n−ブチルリチウムの2.5Mヘキサン溶
液16.8mlを15分間にわたって加えた。添加の
間、反応温度を−70℃未満に維持した。n−ブチルリ
チウムの添加完了後すぐに白色沈殿物が形成された。−
70℃未満で撹拌して40分後に、5.88mlのクロ
ロトリメチルシランを5分間徐々に加えた。添加後、溶
液は瞬間透明になり、その後、塩化リチウム副生成物の
形成によって再び曇ってきた。10分後、反応溶液を0
℃に温めた。0℃で、5mlの水を、次に25mlのブ
ラインを加えて、反応を急冷した。次に、水溶液を酢酸
エチル(2×30ml)で抽出した。有機抽出物を乾燥
し(Na2SO4)、濾過し、蒸発すると、8.0gの表
題化合物が透明な油として得られた。
に溶解した3−クロロチオフェン(5.0g、42.1
6mmol)に、n−ブチルリチウムの2.5Mヘキサン溶
液16.8mlを15分間にわたって加えた。添加の
間、反応温度を−70℃未満に維持した。n−ブチルリ
チウムの添加完了後すぐに白色沈殿物が形成された。−
70℃未満で撹拌して40分後に、5.88mlのクロ
ロトリメチルシランを5分間徐々に加えた。添加後、溶
液は瞬間透明になり、その後、塩化リチウム副生成物の
形成によって再び曇ってきた。10分後、反応溶液を0
℃に温めた。0℃で、5mlの水を、次に25mlのブ
ラインを加えて、反応を急冷した。次に、水溶液を酢酸
エチル(2×30ml)で抽出した。有機抽出物を乾燥
し(Na2SO4)、濾過し、蒸発すると、8.0gの表
題化合物が透明な油として得られた。
【0023】物理的特性: 質量スペクトル(EIM
S)m/z=192(M++2,14%),190
(M+,36%),177(M++2−CH3,41%)
および175(M+−CH3,100%); 1H NMR
(CDCl3)δ7.49(1H,q,J=4.7H
z),7.07(1H,d,J=4.7Hz)および
0.46(9H,s);13C NMR(CDCl3)δ
132.0,130.2,130.1,129.8およ
び−0.7。
S)m/z=192(M++2,14%),190
(M+,36%),177(M++2−CH3,41%)
および175(M+−CH3,100%); 1H NMR
(CDCl3)δ7.49(1H,q,J=4.7H
z),7.07(1H,d,J=4.7Hz)および
0.46(9H,s);13C NMR(CDCl3)δ
132.0,130.2,130.1,129.8およ
び−0.7。
【0024】実施例1b 4−クロロ−5−トリメチルシリル−2−チオフェンカ
ルボン酸
ルボン酸
【化14】 ジフェニル酢酸の少量(4mg)の試料を50mlのテ
トラヒロフランに溶解し、室温で撹拌した。この溶液
に、n−ブチルリチウムを2.5Mヘキサン溶液とし
て、溶液がジフェニル酢酸ジアニオンから淡黄色になる
まで、徐々に滴加した。この方法であると、溶液は確実
に乾燥する。この時点で、溶液を−72℃に冷却した
(アセトン/ドライアイス)。この温度でn−ブチルリ
チウムの2.5Mヘキサン溶液4.62ml(11.5
42mmol)を加え、次に、1.76ml(12.592
mmol)のジイソプロピルアミンを加えた。リチウムジイ
ソプロピルアミドの形成の間、反応溶液は0℃(氷浴)
に20分間上げ、次いで再び−72℃に下げた。冷反応
溶液に、2.0g(10.493mmol)の2−トリメチ
ルシリル−3−クロロチオフェンを5mlのテトラヒド
ロフラン溶液として20分間にわたって加えた。反応が
ま温度は−70℃未満に維持して、部分選択的脱プロト
ン化を確実にした。30分の反応時間のに、二酸化炭素
ガスを黄色溶液にゆっくり泡立たせた。泡立っている
間、反応温度は−55℃未満に保った。二酸化炭素処理
は全体で10分続けた。二酸化炭素添加の後に、溶液を
徐々に0℃に温め、この時点で反応を50mlの1N塩
酸で急冷すると、いくらかのガスが発生した。酸性溶液
を加えると、反応は室温になった。50ml体積のブラ
インも加えた。有機層を分離し、水性層を酢酸エチル
(2×50ml)で抽出した。有機抽出物を合わせ、ブ
ライン(1×50ml)で洗浄し、乾燥し(硫酸ナトリ
ウム)、濾過し、そして蒸発させると2.38gの白色
固体が得られた。粗生成物をヘプタンで再結晶すると、
1.67gの純粋な表題化合物が融点206−210℃
の小さな白色の針状結晶として得られた。
トラヒロフランに溶解し、室温で撹拌した。この溶液
に、n−ブチルリチウムを2.5Mヘキサン溶液とし
て、溶液がジフェニル酢酸ジアニオンから淡黄色になる
まで、徐々に滴加した。この方法であると、溶液は確実
に乾燥する。この時点で、溶液を−72℃に冷却した
(アセトン/ドライアイス)。この温度でn−ブチルリ
チウムの2.5Mヘキサン溶液4.62ml(11.5
42mmol)を加え、次に、1.76ml(12.592
mmol)のジイソプロピルアミンを加えた。リチウムジイ
ソプロピルアミドの形成の間、反応溶液は0℃(氷浴)
に20分間上げ、次いで再び−72℃に下げた。冷反応
溶液に、2.0g(10.493mmol)の2−トリメチ
ルシリル−3−クロロチオフェンを5mlのテトラヒド
ロフラン溶液として20分間にわたって加えた。反応が
ま温度は−70℃未満に維持して、部分選択的脱プロト
ン化を確実にした。30分の反応時間のに、二酸化炭素
ガスを黄色溶液にゆっくり泡立たせた。泡立っている
間、反応温度は−55℃未満に保った。二酸化炭素処理
は全体で10分続けた。二酸化炭素添加の後に、溶液を
徐々に0℃に温め、この時点で反応を50mlの1N塩
酸で急冷すると、いくらかのガスが発生した。酸性溶液
を加えると、反応は室温になった。50ml体積のブラ
インも加えた。有機層を分離し、水性層を酢酸エチル
(2×50ml)で抽出した。有機抽出物を合わせ、ブ
ライン(1×50ml)で洗浄し、乾燥し(硫酸ナトリ
ウム)、濾過し、そして蒸発させると2.38gの白色
固体が得られた。粗生成物をヘプタンで再結晶すると、
1.67gの純粋な表題化合物が融点206−210℃
の小さな白色の針状結晶として得られた。
【0025】物理的特性:質量スペクトル(LSIM
S)m/z=237(M+H++2,12%)および2
35(M+H+,10%); 1H NMR(CDCl3)
δ7.74(1H,s)および0.41(9H,s);
13C NMR(CDCl3+CD3OD)δ163.1,
141.2,137.8,134.7,131.6およ
び−1.4。
S)m/z=237(M+H++2,12%)および2
35(M+H+,10%); 1H NMR(CDCl3)
δ7.74(1H,s)および0.41(9H,s);
13C NMR(CDCl3+CD3OD)δ163.1,
141.2,137.8,134.7,131.6およ
び−1.4。
【0026】実施例1c 4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸
【化15】 4−クロロ−3−トリメチルシリル−2−チオフェンカ
ルボン酸の300mg(1.278mmol)試料を0.3
mlの水を含む10mlのテトラヒドロフランに溶解
し、−5℃に冷却した(氷/ブライン浴)。弗化テトラ
−n−ブチルアンモニウムの1Mテトラヒドロフラン溶
液の2.6mlアリコートを、反応溶液にゆっくりと加
えた。4時間後、反応混合物を50mlの5%水性炭酸
水素ナトリウムに注いだ。全反応溶液を分液漏斗に移
し、酢酸エチル(2×25ml)で洗浄した。塩基性水
溶液を濃塩酸でpH2の酸性にし、次に、酢酸エチル
(3×30ml)で抽出した。有機抽出物を次に乾燥し
(硫酸ナトリウム)、濾過し、そして蒸発させると、2
16mgの生成物が白色固体として得られた。熱ヘプタ
ンを用いて再結晶すると、85mgの融点138℃の純
粋な結晶性生成物が得られた。
ルボン酸の300mg(1.278mmol)試料を0.3
mlの水を含む10mlのテトラヒドロフランに溶解
し、−5℃に冷却した(氷/ブライン浴)。弗化テトラ
−n−ブチルアンモニウムの1Mテトラヒドロフラン溶
液の2.6mlアリコートを、反応溶液にゆっくりと加
えた。4時間後、反応混合物を50mlの5%水性炭酸
水素ナトリウムに注いだ。全反応溶液を分液漏斗に移
し、酢酸エチル(2×25ml)で洗浄した。塩基性水
溶液を濃塩酸でpH2の酸性にし、次に、酢酸エチル
(3×30ml)で抽出した。有機抽出物を次に乾燥し
(硫酸ナトリウム)、濾過し、そして蒸発させると、2
16mgの生成物が白色固体として得られた。熱ヘプタ
ンを用いて再結晶すると、85mgの融点138℃の純
粋な結晶性生成物が得られた。
【0027】物理的特性:質量スペクトル(EIMS)
m/z 164(M++2,30%)および162
(M+,100%); 1H NMR(CDCl3)δ1
0.9(1H,br s,交換可能),7.74(1
H,d,J=1.5Hz)および7.43(1H,d,
J=1.5Hz);13C NMR(CDCl3)δ16
6.1,134.6,133.2,128.3および1
26.5
m/z 164(M++2,30%)および162
(M+,100%); 1H NMR(CDCl3)δ1
0.9(1H,br s,交換可能),7.74(1
H,d,J=1.5Hz)および7.43(1H,d,
J=1.5Hz);13C NMR(CDCl3)δ16
6.1,134.6,133.2,128.3および1
26.5
【0028】実施例2a 5−フルオロ−6−クロロ−2,3−ジヒドロ−3−
[ヒドロキシ−2−(4−クロロ−5−トリメチルシリ
ルチエニル)メチレン]−2−オキソ−1H−インドー
ル−1−カルボキサミド
[ヒドロキシ−2−(4−クロロ−5−トリメチルシリ
ルチエニル)メチレン]−2−オキソ−1H−インドー
ル−1−カルボキサミド
【化16】 4−クロロ−5−トリメチルシリル−2−チオフェンカ
ルボン酸の375mg(1.60mmol)の試料を5ml
の塩化チオニルと合わせ、還流加熱した。1.5時間
後、反応は完了した。フラスコを室温にゆっくり冷却
し、過剰の塩化チエニルを蒸発させると、予想された酸
塩化物が褐色油として得られた。褐色油を0℃で撹拌し
ながら、5mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解
し、5−フルオロ−6−クロロ−2,3−ジヒドロ−2
−オキソ−1H−インドール−1−カルボキサミド(5
00mg、2.24mmol)および4−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ピリジン(708mg、5.80mmol)の
N,N−ジメチルホルムアミド溶液15mlのに徐々に
加えた。1時間後、反応混合物を30mlの1N塩酸に
注ぐと、生成物がえび茶色の固体として沈殿した。粗製
固体を濾過し、熱酢酸から最結晶すると、307mg
(0.69mmol)の純粋な表題化合物が融点200℃の
黄色結晶性固体として得られた。
ルボン酸の375mg(1.60mmol)の試料を5ml
の塩化チオニルと合わせ、還流加熱した。1.5時間
後、反応は完了した。フラスコを室温にゆっくり冷却
し、過剰の塩化チエニルを蒸発させると、予想された酸
塩化物が褐色油として得られた。褐色油を0℃で撹拌し
ながら、5mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解
し、5−フルオロ−6−クロロ−2,3−ジヒドロ−2
−オキソ−1H−インドール−1−カルボキサミド(5
00mg、2.24mmol)および4−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ピリジン(708mg、5.80mmol)の
N,N−ジメチルホルムアミド溶液15mlのに徐々に
加えた。1時間後、反応混合物を30mlの1N塩酸に
注ぐと、生成物がえび茶色の固体として沈殿した。粗製
固体を濾過し、熱酢酸から最結晶すると、307mg
(0.69mmol)の純粋な表題化合物が融点200℃の
黄色結晶性固体として得られた。
【0029】物理的特性: 質量スペクトル(LSIM
S)m/z 470(M−H++Na+ +4,4%),
468(M−H++Na++2,16%),466(M−
H++Na+,21%),488(M++4,17%),
446(M++2,74%),444(M+,100
%),405(M+−CONH+4,8%),403
(M+−CONH+2,28%)および401(M+−C
ONH,39%); 1H NMR(DMSO−d6)δ
8.97(1H,交換可能),8.51(1H,s),
8.11(1H,d,JH-F=7.3Hz),7.96
(1H,d,JH-F=1,1.0Hz),7.30(1
H,交換可能),6.21(1H,交換可能)および
0.37(9H,s)。
S)m/z 470(M−H++Na+ +4,4%),
468(M−H++Na++2,16%),466(M−
H++Na+,21%),488(M++4,17%),
446(M++2,74%),444(M+,100
%),405(M+−CONH+4,8%),403
(M+−CONH+2,28%)および401(M+−C
ONH,39%); 1H NMR(DMSO−d6)δ
8.97(1H,交換可能),8.51(1H,s),
8.11(1H,d,JH-F=7.3Hz),7.96
(1H,d,JH-F=1,1.0Hz),7.30(1
H,交換可能),6.21(1H,交換可能)および
0.37(9H,s)。
【0030】実施例2b 5−フルオロ−6−クロロ−2,3−ジヒドロ−3−
[ヒドロキシ−2−(4−クロロチエニル)メチレン]
−2−オキソ−1H−インドール−1−カルボキサミド
[ヒドロキシ−2−(4−クロロチエニル)メチレン]
−2−オキソ−1H−インドール−1−カルボキサミド
【化17】 5−フルオロ−6−クロロ−2,3−ジヒドロ−3−
[ヒドロキシ−2−(4−クロロ−5−トリメチルシリ
ルチエニル)メチレン]−2−オキソ−1H−インドー
ル−1−カルボキサミドの50mg(0.11mmol)の
試料を2mlのテトラヒドロフランに溶解し、5℃に冷
却した。塩化テトラ−n−ブチルアンモニウムの1Mテ
トラヒドロフラン溶液の少量の0.56mlアリコート
を注射器によって、インドール基質の撹拌冷溶液に加え
た。1時間後、0.25mlの水を反応混合物に加え
た。さらに30分後、5mlの1N塩酸を加えることに
よって反応を急冷した。次に、反応の内容物を15ml
の水に注いだ。これによって生成物が沈殿した。濾過す
ると、25mgの希望の表題生成物が黄色固体として得
られた。これを酢酸から再結晶すると融点234−23
7℃の結晶性生成物が得られた。
[ヒドロキシ−2−(4−クロロ−5−トリメチルシリ
ルチエニル)メチレン]−2−オキソ−1H−インドー
ル−1−カルボキサミドの50mg(0.11mmol)の
試料を2mlのテトラヒドロフランに溶解し、5℃に冷
却した。塩化テトラ−n−ブチルアンモニウムの1Mテ
トラヒドロフラン溶液の少量の0.56mlアリコート
を注射器によって、インドール基質の撹拌冷溶液に加え
た。1時間後、0.25mlの水を反応混合物に加え
た。さらに30分後、5mlの1N塩酸を加えることに
よって反応を急冷した。次に、反応の内容物を15ml
の水に注いだ。これによって生成物が沈殿した。濾過す
ると、25mgの希望の表題生成物が黄色固体として得
られた。これを酢酸から再結晶すると融点234−23
7℃の結晶性生成物が得られた。
【0031】物理的特性: 1H NMR(DMSO−d
6)δ9.10(1H,交換可能),8.69(1H,
d,J=1.5Hz),8.10(1H,d,JH-F=
7.4Hz),8.06(1H,d,JH-F=11.4
Hz),7.65(1H,d,J=1.5Hz)および
7.26(1H,交換可能)。
6)δ9.10(1H,交換可能),8.69(1H,
d,J=1.5Hz),8.10(1H,d,JH-F=
7.4Hz),8.06(1H,d,JH-F=11.4
Hz),7.65(1H,d,J=1.5Hz)および
7.26(1H,交換可能)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュルト,ゲイリー・アール アメリカ合衆国コネチカット州06378, ストニントン,ウィリアムズ・ストリー ト 6 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 409/00 - 409/14
Claims (2)
- 【請求項1】 1) 3−クロロチオフェンを−50℃
未満の温度にて塩基で処理し、次に、式(R)3SiX
(式中、Xは脱離基であり、各R基は(C1−C6)アル
キル、ベンジルおよびフェニルから独立して選ばれる)
のシリル化合物で処理して、式 【化1】 の化合物を形成し; 2) 段階(1)の生成物を、−50℃未満の温度に
て、クロロチオフェン環の5位置で脱プロトン化するの
に十分な塩基で処理して、対応するように式IIa 【化2】 のアニオンを形成し; 3) 段階(2)の生成物を−50℃未満の温度にて、
二酸化炭素で処理して、対応するようにモノカルボキシ
レート 【化3】 を形成し; 4) 式IIIaの生成物を相当する酸に変え;そして 5) シリル基Si(R)3を除くことにより製造された
4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸を塩基の存在下
で、5−フルオロ−6−クロロ−2−オキシンドール−
1−カルボキサミドと反応させることよりなる、5−フ
ルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイ
ル)−2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造
方法。 - 【請求項2】 下記の段階よりなる、5−フルオロ−6
−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オ
キシンドール−1−カルボキサミドの製造方法: 1) 塩基の存在下で、5−フルオロ−6−クロロ−2
−オキシンドール−1−カルボキサミドを式 【化4】 のモノカルボン酸と反応させて、対応するように5−フ
ルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−3−トリ置換
シリル−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カ
ルボキサミドを形成し;そして 2) シリル基Si(R)3を除く。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US97998392A | 1992-11-23 | 1992-11-23 | |
US979983 | 1992-11-23 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6513105A Division JP2706573B2 (ja) | 1992-11-23 | 1993-09-17 | 4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸の部分選択合成 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1081683A JPH1081683A (ja) | 1998-03-31 |
JP2795642B2 true JP2795642B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=25527268
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6513105A Expired - Lifetime JP2706573B2 (ja) | 1992-11-23 | 1993-09-17 | 4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸の部分選択合成 |
JP9176977A Expired - Lifetime JP2795642B2 (ja) | 1992-11-23 | 1997-07-02 | 5−フルオロ−6−クロロ−3−(4−クロロ−2−テノイル)−2−オキシンドール−1−カルボキサミドの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6513105A Expired - Lifetime JP2706573B2 (ja) | 1992-11-23 | 1993-09-17 | 4−クロロ−2−チオフェンカルボン酸の部分選択合成 |
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Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0669924B1 (ja) |
JP (2) | JP2706573B2 (ja) |
KR (1) | KR950704727A (ja) |
CN (4) | CN1036001C (ja) |
AT (1) | ATE146181T1 (ja) |
AU (1) | AU670454B2 (ja) |
BR (1) | BR9307503A (ja) |
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