JP2794199B2 - パターンの修正方法 - Google Patents
パターンの修正方法Info
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/72—Repair or correction of mask defects
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、基板の一面に形成した、一部に欠陥をも
つパターンを修正する技術に関し、特に、パターンの厚
さが、たとえば0.5〜1.5μｍ程度、あるいはそれ以上の
比較的に厚いものの修正に有効に利用することができる
技術に関する。したがって、この発明は、半導体装置等
の製造に用いられるフォトマスクよりも、たとえば、カ
ラー液晶表示パネルにおけるカラーフィルタなどの修正
により好適な技術である。
つパターンを修正する技術に関し、特に、パターンの厚
さが、たとえば0.5〜1.5μｍ程度、あるいはそれ以上の
比較的に厚いものの修正に有効に利用することができる
技術に関する。したがって、この発明は、半導体装置等
の製造に用いられるフォトマスクよりも、たとえば、カ
ラー液晶表示パネルにおけるカラーフィルタなどの修正
により好適な技術である。
（従来の技術） 一般に、フォトマスク上の欠陥を修正するという考え
方は周知である。その修正の必要性は、フォトマスクが
大面積になるにつれて高くなっている。
方は周知である。その修正の必要性は、フォトマスクが
大面積になるにつれて高くなっている。
このフォトマスク上のパターンを修正するという考え
方は、また、関連する他の分野、たとえばカラー液晶表
示パネルにおけるカラーフィルタなどの修正にも適用さ
れている。しかし、それらの各技術は、基板の一面に形
成した、一部に欠陥をもつパターンの修正という点で、
いずれも共通している。
方は、また、関連する他の分野、たとえばカラー液晶表
示パネルにおけるカラーフィルタなどの修正にも適用さ
れている。しかし、それらの各技術は、基板の一面に形
成した、一部に欠陥をもつパターンの修正という点で、
いずれも共通している。
たとえば、特開昭54−32978号の公報では、主として
フォトマスクのパターン欠陥を修正するに際し、レーザ
光の照射に先立ち基板表面の少なくともパターン表面上
に保護膜を形成し、基板表面を保護した状態でレーザ光
の照射を行なうことによって、レーザ光によって除去し
たものが他の部分に飛散して付着し、新たな欠陥になる
ことを防止する技術を示している。また、特開昭62−19
1804号の公報では、カラーフィルタに付着している異物
を、波長１μｍ以下のレーザ光を照射することによっ
て、異物の近くのカラーフィルタの構成物質とともに除
去する技術を示している。
フォトマスクのパターン欠陥を修正するに際し、レーザ
光の照射に先立ち基板表面の少なくともパターン表面上
に保護膜を形成し、基板表面を保護した状態でレーザ光
の照射を行なうことによって、レーザ光によって除去し
たものが他の部分に飛散して付着し、新たな欠陥になる
ことを防止する技術を示している。また、特開昭62−19
1804号の公報では、カラーフィルタに付着している異物
を、波長１μｍ以下のレーザ光を照射することによっ
て、異物の近くのカラーフィルタの構成物質とともに除
去する技術を示している。
ところで、異物などを除去した部分をそのままにした
のでは、それが白抜け状態となって、別の欠陥になって
しまう。そのため、白抜けの部分をパターン材料あるい
はその他の修正用材料によって埋め込むことが必要であ
る。特に、カラーフィルタの修正においては、埋め込ん
だ修正用材料の膜厚を、元のパターンつまり本来のパタ
ーンの厚さと揃えることを考慮に入れなければならな
い。
のでは、それが白抜け状態となって、別の欠陥になって
しまう。そのため、白抜けの部分をパターン材料あるい
はその他の修正用材料によって埋め込むことが必要であ
る。特に、カラーフィルタの修正においては、埋め込ん
だ修正用材料の膜厚を、元のパターンつまり本来のパタ
ーンの厚さと揃えることを考慮に入れなければならな
い。
この点、特開昭61−122605号の公報は、カラーフィル
タの色素の欠落部を修正あるいは修復する技術として、
まず色素層を含む基板の全面にフォトレジストを塗布
し、ついでレーザの照射により色素の欠落部を含む色素
層の一部をフォトレジストと共に除去して基板を露出さ
せ、ついで基板に色素層を蒸着によって形成し、その後
残留フォトレジストを溶解除去する方法を示している。
この方法によれば、修正のための色素層を修正すべき元
の色素層と同じ条件で蒸着形成することによって、修正
した部分の色素層の厚さを、元のパターンの厚さとほぼ
同じにすることができる。
タの色素の欠落部を修正あるいは修復する技術として、
まず色素層を含む基板の全面にフォトレジストを塗布
し、ついでレーザの照射により色素の欠落部を含む色素
層の一部をフォトレジストと共に除去して基板を露出さ
せ、ついで基板に色素層を蒸着によって形成し、その後
残留フォトレジストを溶解除去する方法を示している。
この方法によれば、修正のための色素層を修正すべき元
の色素層と同じ条件で蒸着形成することによって、修正
した部分の色素層の厚さを、元のパターンの厚さとほぼ
同じにすることができる。
（発明が解決しようとする課題） しかし、そうしたカラーフィルタの修正技術では、色
素の欠落部の修正を各色ごと、すなわち、一色目のパタ
ーンを形成し、その後その一色目のパターンの修正、つ
いで二色目のパターンを形成し、その後その二色目のパ
ターンの修正、…というように、修正をも色の数だけ行
なわねばならない。
素の欠落部の修正を各色ごと、すなわち、一色目のパタ
ーンを形成し、その後その一色目のパターンの修正、つ
いで二色目のパターンを形成し、その後その二色目のパ
ターンの修正、…というように、修正をも色の数だけ行
なわねばならない。
本発明者等は、カラーフィルタのように複数種のパタ
ーンをもつものについての修正をより簡便に行なう方法
について種々検討した。
ーンをもつものについての修正をより簡便に行なう方法
について種々検討した。
その結果、複数種のパターンをすべて形成した後、そ
れらの各パターンについて一度に修正する方法に着目し
た。この一度に修正する方法では、修正すべき複数の部
分、それも場所によっては互いに異なる種類のパターン
部分に、各々部分的に修正用材料を埋める手法を採る。
れらの各パターンについて一度に修正する方法に着目し
た。この一度に修正する方法では、修正すべき複数の部
分、それも場所によっては互いに異なる種類のパターン
部分に、各々部分的に修正用材料を埋める手法を採る。
第２図は、異物などを除去し、基板１の一面が露出し
た修正すべき部分に、修正用材料２を塗布した状態を示
している。修正用材料２は、パターン３の欠陥部分を埋
めるとともに、一部は修正用保護膜４の内周および修正
用保護膜４の上面にも付着する。
た修正すべき部分に、修正用材料２を塗布した状態を示
している。修正用材料２は、パターン３の欠陥部分を埋
めるとともに、一部は修正用保護膜４の内周および修正
用保護膜４の上面にも付着する。
修正用保護膜４上の材料2aは、保護膜４を除去するこ
とによって取り除くことができるが、保護膜４の内周の
部分の材料2bは除去することが困難である。その結果、
その内周部分の材料2bが、欠陥部分を埋めた材料2cの周
縁部分に突起状に残り、新たな欠陥になるおそれがあ
る。この点は、修正用保護膜４を厚く、具体的には1.5
μｍ以上に形成した場合、内周部分に残る材料2bの高さ
が高くなるので、カラーフィルタのようにパターン３の
厚さ自体がフォトマスクの場合などに比べて厚いもので
はそうした問題がより顕著である。また、カラーフィル
タの場合には、そのような突起により表示品質の低下を
招き、その影響は大きい。
とによって取り除くことができるが、保護膜４の内周の
部分の材料2bは除去することが困難である。その結果、
その内周部分の材料2bが、欠陥部分を埋めた材料2cの周
縁部分に突起状に残り、新たな欠陥になるおそれがあ
る。この点は、修正用保護膜４を厚く、具体的には1.5
μｍ以上に形成した場合、内周部分に残る材料2bの高さ
が高くなるので、カラーフィルタのようにパターン３の
厚さ自体がフォトマスクの場合などに比べて厚いもので
はそうした問題がより顕著である。また、カラーフィル
タの場合には、そのような突起により表示品質の低下を
招き、その影響は大きい。
この発明は、以上の点を考慮してなされたものであ
り、修正のためパターンの欠陥部分に部分的に埋め込ん
だインキ等の修正用材料の周縁部分に突起状のものを生
じにくくし、修正を有効に行なうことができる技術を提
供することを目的とする。
り、修正のためパターンの欠陥部分に部分的に埋め込ん
だインキ等の修正用材料の周縁部分に突起状のものを生
じにくくし、修正を有効に行なうことができる技術を提
供することを目的とする。
（発明の概要） この発明では、一部に欠陥をもつパターンを修正する
方法として、 （ａ）パターンを含む基板の一面を修正用保護膜で被う
第１工程、 （ｂ）欠陥のある部分について、基板の一面を露出する
第２工程、 （ｃ）露出した基板の一面の部分を修正用材料で埋める
第３工程、 （ｄ）修正用保護膜を除去する第４工程、 を各々含み、しかも、修正用保護膜および修正用材料の
いずれか一方が水溶性材料で、他方が油溶性材料で形成
される、技術を採用する。
方法として、 （ａ）パターンを含む基板の一面を修正用保護膜で被う
第１工程、 （ｂ）欠陥のある部分について、基板の一面を露出する
第２工程、 （ｃ）露出した基板の一面の部分を修正用材料で埋める
第３工程、 （ｄ）修正用保護膜を除去する第４工程、 を各々含み、しかも、修正用保護膜および修正用材料の
いずれか一方が水溶性材料で、他方が油溶性材料で形成
される、技術を採用する。
そして、修正用保護膜および修正用材料が、たとえば
前者が撥油性が、後者が油溶性とした場合、修正用材料
を塗布すると、その材料が保護膜の内周に付着しにく
く、したがって、前記した突起状のものが残りにくくく
なる。
前者が撥油性が、後者が油溶性とした場合、修正用材料
を塗布すると、その材料が保護膜の内周に付着しにく
く、したがって、前記した突起状のものが残りにくくく
なる。
この際、修正用保護膜はできるだけ薄く形成すること
が望ましい。たとえば、カラーフィルタの修正において
は、保護膜がパターン上の全面を被うため、その膜厚を
0.5〜2.0μｍ、特に好ましくは0.5〜1.5μｍの範囲とす
るのが良い。この範囲にあれば、突起部分の高さを1.0
μｍ以下に抑えることが可能となる。
が望ましい。たとえば、カラーフィルタの修正において
は、保護膜がパターン上の全面を被うため、その膜厚を
0.5〜2.0μｍ、特に好ましくは0.5〜1.5μｍの範囲とす
るのが良い。この範囲にあれば、突起部分の高さを1.0
μｍ以下に抑えることが可能となる。
（発明の具体的な内容） 工程順に示す第１図を参照しながら、この発明をより
詳しく説明する。
詳しく説明する。
第１図（ａ）参照 修正すべき対象は、カラーフィルタ10である。カラー
フィルタ10は、透明なガラス板などからなる支持基板12
の平坦な一面に、三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の三色の色画素20（勿論、場合によって各色画素
の境の部分に黒色などの遮光パターンを含むこともあ
る。）を有する。
フィルタ10は、透明なガラス板などからなる支持基板12
の平坦な一面に、三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の三色の色画素20（勿論、場合によって各色画素
の境の部分に黒色などの遮光パターンを含むこともあ
る。）を有する。
色画素20には、三種類の欠陥が見られる。一つは、異
物による欠陥30であり、また一つは、混色による欠陥4
0、さらに一つは、白抜けの欠陥50である。第１の欠陥3
0の原因は異物22であり、この異物22は、カラーフィル
タ10の製造途中で入り込むちり、あるいは樹脂のかけら
などで、その大きさは数μｍ〜数十μｍである。これに
よる欠陥30があると、液晶表示パネルの表示品質が低下
したり、さらに、高さが液晶セルのギャップ以上になる
と、ショートの原因にもなる。また、第２の欠陥40は、
カラーフィルタの製造のためのフォトマスク、あるいは
印刷版の汚れなどにより、必要とする部分以外に他色が
転写されて生じる欠陥である。たとえば、赤（Ｒ）の色
画素20の上に、青（Ｂ）の色画素20が一部載った状態で
ある。こうした欠陥40が、たとえば径20μｍ以上のもの
になると、目視で確認することができ、それが大きけれ
ば大きいほど表示品質は低下する。さらに、第３の白抜
けの欠陥50は、カラーフィルタ用樹脂、あるいはフォト
レジストなどの転写不良によって生じる欠陥であり、こ
れも表示品質の低下をもたらす。
物による欠陥30であり、また一つは、混色による欠陥4
0、さらに一つは、白抜けの欠陥50である。第１の欠陥3
0の原因は異物22であり、この異物22は、カラーフィル
タ10の製造途中で入り込むちり、あるいは樹脂のかけら
などで、その大きさは数μｍ〜数十μｍである。これに
よる欠陥30があると、液晶表示パネルの表示品質が低下
したり、さらに、高さが液晶セルのギャップ以上になる
と、ショートの原因にもなる。また、第２の欠陥40は、
カラーフィルタの製造のためのフォトマスク、あるいは
印刷版の汚れなどにより、必要とする部分以外に他色が
転写されて生じる欠陥である。たとえば、赤（Ｒ）の色
画素20の上に、青（Ｂ）の色画素20が一部載った状態で
ある。こうした欠陥40が、たとえば径20μｍ以上のもの
になると、目視で確認することができ、それが大きけれ
ば大きいほど表示品質は低下する。さらに、第３の白抜
けの欠陥50は、カラーフィルタ用樹脂、あるいはフォト
レジストなどの転写不良によって生じる欠陥であり、こ
れも表示品質の低下をもたらす。
したがって、こうした欠陥30,40,50はカラーフィルタ
10の歩留まりを低下させる。そこで、歩留まりの向上の
ために、あるいは高品質の製品を得るために、修正の技
術が用いられる。なお、カラーフィルタ10は、高分子物
質からなる材料を、染料あるいは顔料で着色して作られ
たものであり、公知の各手法、たとえば染色法、印刷
法、あるいは着色層をパターン化する方法など、いずれ
の方法によって作られたものでも良い。
10の歩留まりを低下させる。そこで、歩留まりの向上の
ために、あるいは高品質の製品を得るために、修正の技
術が用いられる。なお、カラーフィルタ10は、高分子物
質からなる材料を、染料あるいは顔料で着色して作られ
たものであり、公知の各手法、たとえば染色法、印刷
法、あるいは着色層をパターン化する方法など、いずれ
の方法によって作られたものでも良い。
第１図（ｂ）参照 修正するに際し、まず、前記した各欠陥30,40,50を含
むカラーフィルタ10の表面を修正用保護膜60で被う。保
護膜60の材料として、後で述べる修正用材料（インキ）
に侵されないものを用いる。
むカラーフィルタ10の表面を修正用保護膜60で被う。保
護膜60の材料として、後で述べる修正用材料（インキ）
に侵されないものを用いる。
修正用材料として、油溶性の修正用インキを用いる場
合は、保護膜60には水溶性の樹脂を用いる。たとえば、
着色ポリイミド系の修正用インキを用いる場合、保護膜
60には、ゼラチン、カゼイン、PVA、アラビアゴマなど
が良い。溶剤タイプのフォトレジストは不適当である。
そして、この保護膜60を形成するための材料の中に、撥
油剤を添加することも効果的である。さらに、レーザ光
の感度あるいは吸収性を増すために、場合によって染
料、あるいは化合物を添加する。
合は、保護膜60には水溶性の樹脂を用いる。たとえば、
着色ポリイミド系の修正用インキを用いる場合、保護膜
60には、ゼラチン、カゼイン、PVA、アラビアゴマなど
が良い。溶剤タイプのフォトレジストは不適当である。
そして、この保護膜60を形成するための材料の中に、撥
油剤を添加することも効果的である。さらに、レーザ光
の感度あるいは吸収性を増すために、場合によって染
料、あるいは化合物を添加する。
また、水溶性の修正用インキを用いる場合には、保護
膜60には油溶性の樹脂を用いる。たとえば、ゼラチン系
の染色カラーフィルタを染料を混入したゼラチンで修正
する場合、保護膜60には、OBC（東京応化社、商品
名）、あるいはSILITECT（Trylaner Technologies In
c.、商品名）などが良い。油溶性の保護膜のうち、特に
撥水性の高い材料としてSILITECTが良い。この場合に
も、保護膜60を形成する材料の中に、撥水剤を添加する
ことも効果的である。
膜60には油溶性の樹脂を用いる。たとえば、ゼラチン系
の染色カラーフィルタを染料を混入したゼラチンで修正
する場合、保護膜60には、OBC（東京応化社、商品
名）、あるいはSILITECT（Trylaner Technologies In
c.、商品名）などが良い。油溶性の保護膜のうち、特に
撥水性の高い材料としてSILITECTが良い。この場合に
も、保護膜60を形成する材料の中に、撥水剤を添加する
ことも効果的である。
修正用保護膜60は塗布によって形成することができ、
塗布方法として、スピンコーティング、ロールコーティ
ング、はけ塗り、印刷、あるいはスプレー吹き付けなど
種々の方法を利用することができる。また、保護膜60は
全面を被うようにしても良く、欠陥の周りを部分的に被
うようにしても良い。
塗布方法として、スピンコーティング、ロールコーティ
ング、はけ塗り、印刷、あるいはスプレー吹き付けなど
種々の方法を利用することができる。また、保護膜60は
全面を被うようにしても良く、欠陥の周りを部分的に被
うようにしても良い。
第１図（ｃ）参照 ついで、修正用保護膜60で被ったカラーフィルタ10の
上部から、レーザ光を照射することによって、各欠陥3
0,40,50の部分の支持基板12の表面、つまりガラスを露
出させる。
上部から、レーザ光を照射することによって、各欠陥3
0,40,50の部分の支持基板12の表面、つまりガラスを露
出させる。
これに用いるレーザとしては、炭酸ガスレーザ（波長
10.6μｍ）、または、YAG:Ndレーザの第二高調波（波長
0.53μｍ）あるいはキセノンレーザなどの可視域のレー
ザ、さらには、エキシマレーザなどの紫外域のレーザが
ある。これらの中でも、可視域および紫外域のレーザが
好ましい。炭酸ガスレーザの場合には、カラーフィルタ
10の支持基板12の表面部分でエネルギーが吸収されて熱
をもち、色画素20および修正用保護膜60が部分的に剥が
れる。これに対し、可視域および紫外域のレーザの場合
には、各色画素20がレーザ光のエネルギーを吸収しやす
く、色画素20および保護膜60の除去効率が良い。したが
って、修正用保護膜60としても、用いるレーザ光の波長
部分に吸収性を有するようにすることが良い。なお、異
物22による欠陥30の部分は、表面が異物22を中心に山状
になっているので、周辺部を含むかなり広い面積を取り
除くようにするのが好ましい。
10.6μｍ）、または、YAG:Ndレーザの第二高調波（波長
0.53μｍ）あるいはキセノンレーザなどの可視域のレー
ザ、さらには、エキシマレーザなどの紫外域のレーザが
ある。これらの中でも、可視域および紫外域のレーザが
好ましい。炭酸ガスレーザの場合には、カラーフィルタ
10の支持基板12の表面部分でエネルギーが吸収されて熱
をもち、色画素20および修正用保護膜60が部分的に剥が
れる。これに対し、可視域および紫外域のレーザの場合
には、各色画素20がレーザ光のエネルギーを吸収しやす
く、色画素20および保護膜60の除去効率が良い。したが
って、修正用保護膜60としても、用いるレーザ光の波長
部分に吸収性を有するようにすることが良い。なお、異
物22による欠陥30の部分は、表面が異物22を中心に山状
になっているので、周辺部を含むかなり広い面積を取り
除くようにするのが好ましい。
なお、レーザ光を用いる方法ほど高精度ではないが、
針などで物理的に取り除く方法も簡便な手法として利用
することができる。
針などで物理的に取り除く方法も簡便な手法として利用
することができる。
第１図（ｄ）参照 支持基板12の表面が露出した修正すべき部分に、赤、
緑、青などの修正用インキを塗布し、その部分を埋め
る。このとき、修正すべき部分はかなり小さい面積であ
るので、必然的に修正用保護膜60の上にも修正用インキ
の層70は形成される。しかし、修正用保護膜60を薄く形
成したり、あるいは修正用保護膜60の材料が修正用イン
キの層70を弾くような性質をもたせることによって、保
護膜60の内周部分のインキ付着量をかなり少なくするこ
とができる。また、支持基板12としてはガラス板が一般
的であるが、レーザ光で穴をあけた部分にただ修正用イ
ンキを埋めた場合、穴の底のガラス面と修正用保護膜60
の上とで修正用インキのぬれ性が異なるため、修正用イ
ンキが修正すべき部分に均一な厚さに付着しない場合も
ある。そういう場合には、修正用インキの塗布に先立
ち、修正用インキの希釈液、あるいは、修正用インキの
樹脂分を希釈した液、または、支持基板12と修正用イン
キとの接着性を向上させる樹脂の希釈液で前処理するよ
うにすると良い。
緑、青などの修正用インキを塗布し、その部分を埋め
る。このとき、修正すべき部分はかなり小さい面積であ
るので、必然的に修正用保護膜60の上にも修正用インキ
の層70は形成される。しかし、修正用保護膜60を薄く形
成したり、あるいは修正用保護膜60の材料が修正用イン
キの層70を弾くような性質をもたせることによって、保
護膜60の内周部分のインキ付着量をかなり少なくするこ
とができる。また、支持基板12としてはガラス板が一般
的であるが、レーザ光で穴をあけた部分にただ修正用イ
ンキを埋めた場合、穴の底のガラス面と修正用保護膜60
の上とで修正用インキのぬれ性が異なるため、修正用イ
ンキが修正すべき部分に均一な厚さに付着しない場合も
ある。そういう場合には、修正用インキの塗布に先立
ち、修正用インキの希釈液、あるいは、修正用インキの
樹脂分を希釈した液、または、支持基板12と修正用イン
キとの接着性を向上させる樹脂の希釈液で前処理するよ
うにすると良い。
修正用材料であるインキとしては、基本的に、修正す
べき各色画素20と同材質のものを選ぶのが良い。しか
し、材質は必ずしも同じものに限らない。色もできるだ
け同一にするのが好ましいが、ほぼ同じようにすれば問
題はない。複数個所ある修正部分を、たとえばブラック
系の一色のインキ、あるいはクロムなどの金属で埋める
ことによって、修正工程を簡略化することもできる。
べき各色画素20と同材質のものを選ぶのが良い。しか
し、材質は必ずしも同じものに限らない。色もできるだ
け同一にするのが好ましいが、ほぼ同じようにすれば問
題はない。複数個所ある修正部分を、たとえばブラック
系の一色のインキ、あるいはクロムなどの金属で埋める
ことによって、修正工程を簡略化することもできる。
修正用インキの埋め込み法としては、はけ塗り、印
刷、スプレー、あるいはスピンコーティングなど種々の
方法を用いることができる。その中でも、スピンコーテ
ィング法は、埋め込み部分の膜厚を色画素20の厚さと揃
えることができる点で最も適している。このスピンコー
ティング法では、たとえば注射針などを用いて埋め込み
部分に所定量の修正用インキを滴下した後、支持基板12
を回転させることによって、埋め込み部分の修正用イン
キの厚さを色画素20の厚さと揃えるようにする。なお、
修正部分はごく小さい領域であるので、修正用インキは
部分的に塗布することができ、したがって数色を一度に
処理することもできる。勿論、色画素20の大きさに比べ
て面積が小さく、品質上問題とならないような部分は、
修正を必要としない。
刷、スプレー、あるいはスピンコーティングなど種々の
方法を用いることができる。その中でも、スピンコーテ
ィング法は、埋め込み部分の膜厚を色画素20の厚さと揃
えることができる点で最も適している。このスピンコー
ティング法では、たとえば注射針などを用いて埋め込み
部分に所定量の修正用インキを滴下した後、支持基板12
を回転させることによって、埋め込み部分の修正用イン
キの厚さを色画素20の厚さと揃えるようにする。なお、
修正部分はごく小さい領域であるので、修正用インキは
部分的に塗布することができ、したがって数色を一度に
処理することもできる。勿論、色画素20の大きさに比べ
て面積が小さく、品質上問題とならないような部分は、
修正を必要としない。
第１図（ｅ）参照 そして、修正用保護膜60を除去することによって、修
正すべき部分にのみ修正用インキ70を残す。保護膜60を
除去する方法としては、溶剤あるいは水で洗い落とす方
法、あるいは物理的な手段で表面から引き剥がす方法な
どを用いることができる。
正すべき部分にのみ修正用インキ70を残す。保護膜60を
除去する方法としては、溶剤あるいは水で洗い落とす方
法、あるいは物理的な手段で表面から引き剥がす方法な
どを用いることができる。
また、レーザ光の照射によって支持基板12の表面を露
出させるとき、エッジ部分が盛り上がり、場合によって
は修正部分のエッジの高さが液晶パネルのセルギャッ
プ、たとえば５μｍを超えるようになってしまうことが
ある。そのような場合には、エッジの高い部分に再度レ
ーザ光を照射し、高い部分を取り除くようにするのが良
い。レーザ光をたとえば２〜３μｍ程度のスポットに絞
り込めば、レーザ光による除去面積も小さく、実用上何
ら問題はない。
出させるとき、エッジ部分が盛り上がり、場合によって
は修正部分のエッジの高さが液晶パネルのセルギャッ
プ、たとえば５μｍを超えるようになってしまうことが
ある。そのような場合には、エッジの高い部分に再度レ
ーザ光を照射し、高い部分を取り除くようにするのが良
い。レーザ光をたとえば２〜３μｍ程度のスポットに絞
り込めば、レーザ光による除去面積も小さく、実用上何
ら問題はない。
なお、修正用材料として被染色性の感光性樹脂を用い
ることもできる。その場合、修正すべき個所に埋め込ん
だ感光性樹脂をスポット露光することによって、欠陥部
分にのみ感光性樹脂を残すことができる。その後、残し
た感光性樹脂を染色し、ついで修正用保護膜を除去する
ことによって修正を完了する。
ることもできる。その場合、修正すべき個所に埋め込ん
だ感光性樹脂をスポット露光することによって、欠陥部
分にのみ感光性樹脂を残すことができる。その後、残し
た感光性樹脂を染色し、ついで修正用保護膜を除去する
ことによって修正を完了する。
さらに、ポリイミド等の樹脂の中に染料、顔料等の着
色材を混入したものをパターン材料および修正用材料と
して用いる場合、修正用保護膜の材料として、有機−無
機系の透明コーティング材、たとえばJHR（日本合成ゴ
ム株式会社、商品名）を用いることができる。このJHR
は、基板のガラスに対して密着性が良いのに対し、着色
ポリイミド等に対しては密着性が悪い。そこで、修正用
材料を埋め込んだ後、粘着テープなどを用いて修正用保
護膜をきれいに除去することができる。
色材を混入したものをパターン材料および修正用材料と
して用いる場合、修正用保護膜の材料として、有機−無
機系の透明コーティング材、たとえばJHR（日本合成ゴ
ム株式会社、商品名）を用いることができる。このJHR
は、基板のガラスに対して密着性が良いのに対し、着色
ポリイミド等に対しては密着性が悪い。そこで、修正用
材料を埋め込んだ後、粘着テープなどを用いて修正用保
護膜をきれいに除去することができる。
（発明の効果） この発明によれば、修正用保護膜60および修正用材料
70のいずれか一方が水溶性材料で、他方が油溶性材料で
形成されているので、修正部分に埋め込んだインキ等の
修正用材料の周縁部分に、背の高い突起状のものを残す
ことがなく修正部分の膜厚を自由に調整してパターンを
有効に修正することができる。特に、この発明は、パタ
ーンの膜厚が大きいもの、たとえば、カラー液晶表示パ
ネルに用いるカラーフイルタに適用することによって、
より顕著な効果を得ることができる。そしてまた、この
発明は、カラーフィルタのように複数種のパターンをも
つものの修正に適用した場合、複数種のパターンを一度
の修正処理により同時に修正することができるという効
果をも得る。
70のいずれか一方が水溶性材料で、他方が油溶性材料で
形成されているので、修正部分に埋め込んだインキ等の
修正用材料の周縁部分に、背の高い突起状のものを残す
ことがなく修正部分の膜厚を自由に調整してパターンを
有効に修正することができる。特に、この発明は、パタ
ーンの膜厚が大きいもの、たとえば、カラー液晶表示パ
ネルに用いるカラーフイルタに適用することによって、
より顕著な効果を得ることができる。そしてまた、この
発明は、カラーフィルタのように複数種のパターンをも
つものの修正に適用した場合、複数種のパターンを一度
の修正処理により同時に修正することができるという効
果をも得る。
（実施例１）…着色ポリイミドを用いたカラーフィルタ
の修正 カラーフィルタ上に、少量のアシッドローダミンＢを
溶解させたPVA（ポリビニルアルコール）の10％水溶液
をスピンコーティングにより塗布し、つづいて、それを
120℃で５分間ベーキングすることによって、1.5μｍの
厚さの修正用保護膜を形成した。
の修正 カラーフィルタ上に、少量のアシッドローダミンＢを
溶解させたPVA（ポリビニルアルコール）の10％水溶液
をスピンコーティングにより塗布し、つづいて、それを
120℃で５分間ベーキングすることによって、1.5μｍの
厚さの修正用保護膜を形成した。
この後、欠陥のある修正部分に、YAG:Ndレーザの第二
高調波をパルス照射し、修正用保護膜およびカラーフィ
ルタに穴をあけガラス面を露出させた。その部分に赤用
のポリイミド系の油溶性の修正用インキを一滴たらし、
スピンコーティングにとって平滑にした。つづいて、15
0℃でベーキングして修正用インキを硬化させた後、水
洗した。すると、修正個所だけに平滑な赤のインキ層が
残り、他の部分は保護膜とともに洗い流された。これを
さらに250℃でベーキングすることによって、ポリイミ
ドの修正部分を完全に硬化させ、修正作業を終了した。
高調波をパルス照射し、修正用保護膜およびカラーフィ
ルタに穴をあけガラス面を露出させた。その部分に赤用
のポリイミド系の油溶性の修正用インキを一滴たらし、
スピンコーティングにとって平滑にした。つづいて、15
0℃でベーキングして修正用インキを硬化させた後、水
洗した。すると、修正個所だけに平滑な赤のインキ層が
残り、他の部分は保護膜とともに洗い流された。これを
さらに250℃でベーキングすることによって、ポリイミ
ドの修正部分を完全に硬化させ、修正作業を終了した。
（実施例２）…ゼラチン系の染色カラーフィルタの修正 カラーフィルタ上に、SILITECTをスプレーで塗り付け
た。その後、欠陥のある修正部分に、キセノンレーザを
照射して穴をあけ、ガラスの面を露出させた。
た。その後、欠陥のある修正部分に、キセノンレーザを
照射して穴をあけ、ガラスの面を露出させた。
その部分に、ゼラチン水溶液に青の染料を加えた青用
の修正用インキの層をスピンコーティングにより形成し
た。風乾後、SILITECTの層を粘着テープを用いてカラー
フィルタの層上から剥離した。この剥離時、余分なイン
キ層も一緒に取り除かれた。そして、160℃でベーキン
グすることによって修正用インキを硬化させ、修正作業
を終了した。
の修正用インキの層をスピンコーティングにより形成し
た。風乾後、SILITECTの層を粘着テープを用いてカラー
フィルタの層上から剥離した。この剥離時、余分なイン
キ層も一緒に取り除かれた。そして、160℃でベーキン
グすることによって修正用インキを硬化させ、修正作業
を終了した。
この際、SILITECTはスプレー法で塗布したため、膜厚
がかなり厚くなったが、SILITECT自体が撥水性を有する
ため、修正パターンの周縁部分での突起の問題は生じな
かった。
がかなり厚くなったが、SILITECT自体が撥水性を有する
ため、修正パターンの周縁部分での突起の問題は生じな
かった。
第１図は、この発明の一実施例を示すプロセス図、 第２図は、この発明が解決する問題点を説明するための
部分的な断面図である。 10……カラーフィルタ、12支持基板（基板）、20……色
画素（パターン）、30……異物による欠陥、40……混色
による欠陥、50……白抜けの欠陥、60……修正用保護
膜、70……修正用インキ（修正用材料）。
部分的な断面図である。 10……カラーフィルタ、12支持基板（基板）、20……色
画素（パターン）、30……異物による欠陥、40……混色
による欠陥、50……白抜けの欠陥、60……修正用保護
膜、70……修正用インキ（修正用材料）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−122605（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−181569（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/20 - 5/28 G03F 1/00 - 1/16
Claims (14)
- 【請求項１】基板の一面に形成した、一部に欠陥をもつ
パターンの修正方法であって、 （ａ）パターンを含む基板の一面を修正用保護膜で被う
第１工程、 （ｂ）欠陥のある部分について、基板の一面を露出する
第２工程、 （ｃ）露出した基板の一面の部分を修正用材料で埋める
第３工程、 （ｄ）修正用保護膜を除去する第４工程、 を各々含み、しかも、修正用保護膜および修正用材料の
いずれか一方が水溶性材料で、他方が油溶性材料で形成
されていることを特徴とする、パターンの修正方法。 - 【請求項２】修正用保護膜を形成する水溶性材料が撥油
性を有する、請求項１に記載したパターンの修正方法。 - 【請求項３】修正用保護膜を形成する油溶性材料が撥水
性を有する、請求項１に記載したパターンの修正方法。 - 【請求項４】修正用保護膜を形成する水溶性材料を撥油
剤を含む材料によって形成し、しかも、修正用材料とし
て油溶性のものを用いる、請求項１に記載したパターン
の修正方法。 - 【請求項５】修正用保護膜を形成する油溶性材料を撥水
剤を含む材料によって形成する、請求項１に記載したパ
ターンの修正方法。 - 【請求項６】第３工程を、修正用材料を部分的に塗布す
ることによって行なう、請求項１に記載したパターンの
修正方法。 - 【請求項７】修正用材料を塗布する場合、まず、修正用
材料を基板の所定部分に付着させ、ついで、基板を回転
させることによって、付着させた修正用材料の厚さを制
御する、請求項６に記載したパターンの修正方法。 - 【請求項８】修正用材料を塗布する前に、露出した基板
の一面の部分に対し、修正用材料と基板との接着性を増
す前処理を施す、請求項６に記載したパターンの修正方
法。 - 【請求項９】修正用保護膜の膜厚が0.5〜2.0μｍの範囲
である、請求項１〜８のいずれかに記載したパターンの
修正方法。 - 【請求項１０】第２工程を、修正用保護膜の上部から、
その修正用保護膜が吸収する波長をもつレーザ光を照射
することによって行なう、請求項１に記載したパターン
の修正方法。 - 【請求項１１】基板がカラーフィルタの支持基板であっ
て、修正すべきパターンがカラーフィルタの色画素であ
る、請求項１に記載したパターンの修正方法。 - 【請求項１２】前記パターンを修正するための修正用材
料は、複数色を含む前記カラーフィルタの色画素に対
し、それぞれ同一の色とする、請求項11に記載したパタ
ーンの修正方法。 - 【請求項１３】前記パターンを修正するための修正用材
料は、複数色を含む前記カラーフィルタの色画素に対
し、一色とする、請求項11に記載したパターンの修正方
法。 - 【請求項１４】露出した基板の一面の部分を修正用材料
で埋める第３工程の時、複数色を含む色画素について同
時に処理する、請求項11に記載したパターンの修正方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17849189A JP2794199B2 (ja) | 1988-11-08 | 1989-07-11 | パターンの修正方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-282083 | 1988-11-08 | ||
| JP28208388 | 1988-11-08 | ||
| JP17849189A JP2794199B2 (ja) | 1988-11-08 | 1989-07-11 | パターンの修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02262603A JPH02262603A (ja) | 1990-10-25 |
| JP2794199B2 true JP2794199B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=17647904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17849189A Expired - Fee Related JP2794199B2 (ja) | 1988-11-08 | 1989-07-11 | パターンの修正方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0396768B1 (ja) |
| JP (1) | JP2794199B2 (ja) |
| KR (1) | KR0149497B1 (ja) |
| AU (1) | AU612286B2 (ja) |
| CA (1) | CA2001910A1 (ja) |
| DE (1) | DE68928200T2 (ja) |
| WO (1) | WO1990005326A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08114711A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-05-07 | Shinto Paint Co Ltd | 平坦性が損なわれたカラーフィルターの修正方法、修正されたカラーフィルターおよびそのカラーフィルターを有する多色表示装置 |
| JP4930740B2 (ja) * | 2001-02-26 | 2012-05-16 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
| JP4118082B2 (ja) * | 2002-05-08 | 2008-07-16 | 株式会社きもと | フォトマスク用保護膜修正方法 |
| JP2006258873A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターの修正方法およびカラーフィルター |
| JP4617236B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2011-01-19 | シャープ株式会社 | カラーフィルターの修正方法 |
| KR101536767B1 (ko) * | 2014-05-29 | 2015-07-15 | 주식회사 루미스탈 | 반도체 기판의 표면 상에 존재하는 결함의 선택적 커버링 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4200668A (en) * | 1978-09-05 | 1980-04-29 | Western Electric Company, Inc. | Method of repairing a defective photomask |
| JPS61122605A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-10 | Canon Inc | カラ−フイルタ−の修復方法 |
| JPS63313158A (ja) * | 1987-06-16 | 1988-12-21 | Nec Corp | レチクルの修正方法 |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP17849189A patent/JP2794199B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-11 DE DE68928200T patent/DE68928200T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-11 KR KR1019900700538A patent/KR0149497B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-10-11 EP EP89911406A patent/EP0396768B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-11 AU AU43491/89A patent/AU612286B2/en not_active Ceased
- 1989-10-11 WO PCT/JP1989/001041 patent/WO1990005326A1/ja active IP Right Grant
- 1989-10-31 CA CA002001910A patent/CA2001910A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02262603A (ja) | 1990-10-25 |
| AU612286B2 (en) | 1991-07-04 |
| CA2001910A1 (en) | 1990-05-08 |
| EP0396768A4 (en) | 1991-07-17 |
| AU4349189A (en) | 1990-05-28 |
| KR900702562A (ko) | 1990-12-07 |
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| KR0149497B1 (ko) | 1998-12-01 |
| EP0396768A1 (en) | 1990-11-14 |
| DE68928200D1 (de) | 1997-09-04 |
| EP0396768B1 (en) | 1997-07-23 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |