JPS61122604A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS61122604A JPS61122604A JP59243221A JP24322184A JPS61122604A JP S61122604 A JPS61122604 A JP S61122604A JP 59243221 A JP59243221 A JP 59243221A JP 24322184 A JP24322184 A JP 24322184A JP S61122604 A JPS61122604 A JP S61122604A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- pattern
- resist
- dye
- color filter
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＣＣＤ （チャージ、カップルド、デバイス
）、ＢＢＤ（パケット、プリゲート、デバイス）、ＣＩ
Ｄ（チャージ、インジェクション、デバイス）、ＢＡＳ
ＩＳ（ベース、ストアータイプ、イメージ、センサー）
等のカラー固体撮像素子、密着型イメージセンサ−及び
カラーディスプレイ用等に用いられるカラーフィルター
の製造方法に関する。
）、ＢＢＤ（パケット、プリゲート、デバイス）、ＣＩ
Ｄ（チャージ、インジェクション、デバイス）、ＢＡＳ
ＩＳ（ベース、ストアータイプ、イメージ、センサー）
等のカラー固体撮像素子、密着型イメージセンサ−及び
カラーディスプレイ用等に用いられるカラーフィルター
の製造方法に関する。
カラーフィルターとしては、基板上に親水性高分子物質
からなる媒染層を設け、その媒染層を色素で染色して着
色層とする染色カラーフィルターが知られているが、こ
の種類のカラーフィルターは （１）媒染層が必要である。
からなる媒染層を設け、その媒染層を色素で染色して着
色層とする染色カラーフィルターが知られているが、こ
の種類のカラーフィルターは （１）媒染層が必要である。
（２） となり合う色層の混色を防ぐために媒染層の
上に防染用の中間層を設ける必要がある。
上に防染用の中間層を設ける必要がある。
（３）媒染層の染色により色を出す関係上、どうしても
層の厚さを厚くする必要がある。
層の厚さを厚くする必要がある。
（４＋ 染料による染色なので着色層の耐湿性、耐光
性が充分でなく退色し易い。
性が充分でなく退色し易い。
などの欠点がある。
これらの欠点のない他の形式のカラーフィルターとして
、色素層を例えば真空蒸着によって色素の蒸着薄膜とし
て形成したものがある。この種類のカラーフィルターの
製造方法として基板上に溶解可能なフォトレジストハタ
ーンを形成し、しかる後に色素層を形成し、次いで下部
の溶解可能なレジストパターンを溶解除去することによ
って、その上層に形成された不要な色素層をも同時に遊
離除去させるいわゆるリバースエツチング法（又はリフ
トオフ法）が、例えば特公昭４７−１６８１５号公報等
により知られている。このリバースエツチング法によれ
ば、後で溶解可能な物質、主にポジ型レジストを用いて
所望形状の着色層に対してネガティブな関係にあるパタ
ーンレジストを設けた後に例えば真空蒸着法による色素
層を設け、しかる後下層レジストパターンを溶解するこ
とによって所望形状の着色パターンを得ることになる。
、色素層を例えば真空蒸着によって色素の蒸着薄膜とし
て形成したものがある。この種類のカラーフィルターの
製造方法として基板上に溶解可能なフォトレジストハタ
ーンを形成し、しかる後に色素層を形成し、次いで下部
の溶解可能なレジストパターンを溶解除去することによ
って、その上層に形成された不要な色素層をも同時に遊
離除去させるいわゆるリバースエツチング法（又はリフ
トオフ法）が、例えば特公昭４７−１６８１５号公報等
により知られている。このリバースエツチング法によれ
ば、後で溶解可能な物質、主にポジ型レジストを用いて
所望形状の着色層に対してネガティブな関係にあるパタ
ーンレジストを設けた後に例えば真空蒸着法による色素
層を設け、しかる後下層レジストパターンを溶解するこ
とによって所望形状の着色パターンを得ることになる。
この方法によれば色素層のみの着色パターンが得られる
ため７ノプルな構成となる長所を有する。
ため７ノプルな構成となる長所を有する。
リバースエツチング法によるブルー、グリーン。
レッド３色のカラーフィルターの形成法の概要をへ
第２図を参照しながら欠配する。
基板１上に感光性樹脂（フォトレジスト）２を塗布し、
フォトリン技術で該フォトレジストをパターンニングし
て所望形状のフォトレジストパターンを形成した状態を
第２図（ａ＋に模式断面図として示しである。（ｂ）は
その全面に真空蒸着法等によりブルーの色素層３を設け
た状態を示す。次いで基板上に残存するレジストパター
ンを除去液で溶解すると、その上層の色素層も遊離除去
されて、（ｃｌに示すようなブルーの着色パターン４が
得られる。
フォトリン技術で該フォトレジストをパターンニングし
て所望形状のフォトレジストパターンを形成した状態を
第２図（ａ＋に模式断面図として示しである。（ｂ）は
その全面に真空蒸着法等によりブルーの色素層３を設け
た状態を示す。次いで基板上に残存するレジストパター
ンを除去液で溶解すると、その上層の色素層も遊離除去
されて、（ｃｌに示すようなブルーの着色パターン４が
得られる。
上記の工程をグリーン、レッドの色素についても繰返す
ことによって［ｄｌに示すような３色のカラーフィルタ
ーが形成される。
ことによって［ｄｌに示すような３色のカラーフィルタ
ーが形成される。
しかしながら第２図（ａｌに示すフォトレジストパター
ンを形成する工程で、フォトレジスト上には第８図（ａ
ｌに示すごとくレジストの欠け７やピンホール８などの
欠陥が生じ易い。したがって次の工程でレジストパター
ンの全面に真空蒸着法等によシ色素層を設けると、第３
図（ｂｌに示すごとく上述 １のレジストの欠けやピ
ンホール部分にも色素が侵入層着し、次いで基板上に残
存するフォトレジストをリフトオフ工程で除去しても、
欠けやピンホールに侵入し基板に直接固着した色素層は
、第３図（ｃｌの１１．１２の如く残留する。
ンを形成する工程で、フォトレジスト上には第８図（ａ
ｌに示すごとくレジストの欠け７やピンホール８などの
欠陥が生じ易い。したがって次の工程でレジストパター
ンの全面に真空蒸着法等によシ色素層を設けると、第３
図（ｂｌに示すごとく上述 １のレジストの欠けやピ
ンホール部分にも色素が侵入層着し、次いで基板上に残
存するフォトレジストをリフトオフ工程で除去しても、
欠けやピンホールに侵入し基板に直接固着した色素層は
、第３図（ｃｌの１１．１２の如く残留する。
さらに第３図に示す有効パターン部分面以外の有効外部
分Ｂの面積が相対的だ広く、リフトオフ工程で有効パタ
ーン部分の７オトレジストを完全に除去する条件下にお
いても、有効外部分Ｂのフォトレジストが、第３図（ｃ
ｌのごとく残留する場合もある。
分Ｂの面積が相対的だ広く、リフトオフ工程で有効パタ
ーン部分の７オトレジストを完全に除去する条件下にお
いても、有効外部分Ｂのフォトレジストが、第３図（ｃ
ｌのごとく残留する場合もある。
これらの残留層を除去することなく、次の色素パターン
を形成すれば当然パターンの撹乱、混色。
を形成すれば当然パターンの撹乱、混色。
等がおこり、所望の色素パターンを有するフィルターの
製造は不可能になる。
製造は不可能になる。
したがって上記残留層の除去は、前記カラーフィルター
製造における重大な問題点で、本問題を解決することが
本発明の目的である。
製造における重大な問題点で、本問題を解決することが
本発明の目的である。
本発明は、基板上にレジストマスクを形成し、ついで該
基板上に色素層を形成し、ついで色素層を層着したレジ
ストを溶解除去して所望の形状の色素パターンを形成す
るカラーフィルターの製造方法において、色素層を層着
したレジストの溶解除去後に、レーザーによる修正操作
を付加することを特徴とするカラーフィルターの′製造
方である。
基板上に色素層を形成し、ついで色素層を層着したレジ
ストを溶解除去して所望の形状の色素パターンを形成す
るカラーフィルターの製造方法において、色素層を層着
したレジストの溶解除去後に、レーザーによる修正操作
を付加することを特徴とするカラーフィルターの′製造
方である。
前述のごとく、リフトオフ工程で所定の除去液で溶解除
去操作後に基板上に残留する不要の色素層又は色素層を
層着したレジストは、その形状は不定であシ、これら残
留層を除去することなく次の色素パターンを形成するこ
とは徒らに不良品を製造することになるので、不要残留
層の除去は必要不可欠である。本発明で修正操作とは、
上述の不要残留層の除去操作を言う。この不要残留層は
、必要な色素層と連続して存在する場合もあシ、また必
要な色素層と全く独立に存在する場合もあるが、何れに
しても微小面積上の層を完全に除去する必要がある。さ
らに除去すべき残留層が必要な色素層と連続して在存す
る場合は、必要な色素層との境界を画然とカットする必
要がある。
去操作後に基板上に残留する不要の色素層又は色素層を
層着したレジストは、その形状は不定であシ、これら残
留層を除去することなく次の色素パターンを形成するこ
とは徒らに不良品を製造することになるので、不要残留
層の除去は必要不可欠である。本発明で修正操作とは、
上述の不要残留層の除去操作を言う。この不要残留層は
、必要な色素層と連続して存在する場合もあシ、また必
要な色素層と全く独立に存在する場合もあるが、何れに
しても微小面積上の層を完全に除去する必要がある。さ
らに除去すべき残留層が必要な色素層と連続して在存す
る場合は、必要な色素層との境界を画然とカットする必
要がある。
これらの条件を満たす除去方法を種々検討の結果、レー
ザー光の照射が好適であることを見出しだ。使用するレ
ーザーはパルス励起Ｎａ：ＹＡＧが好ましくビームパラ
メーターの一例としては、波長１．０６μｍ、出力２０
ｍｗ／７−４０ ｍ ｗ／ｃｍが望ましい。
ザー光の照射が好適であることを見出しだ。使用するレ
ーザーはパルス励起Ｎａ：ＹＡＧが好ましくビームパラ
メーターの一例としては、波長１．０６μｍ、出力２０
ｍｗ／７−４０ ｍ ｗ／ｃｍが望ましい。
上述のレーザー光で除去可能な色素材料はカラーフィル
ターに慣用されるすべての顔料および染料であり、また
レジストの種類にも制限はない。
ターに慣用されるすべての顔料および染料であり、また
レジストの種類にも制限はない。
また基板についても通常カラーフィルター用基板として
使用される材料すなわち例えばガラス板；光学用樹脂板
；ゼラチン；ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチル
セルロース、ホリメチルメタクリレート、ポリエステル
、ポリビニルブチラール、ポリアミドなどの樹脂フィル
ム；さらにはパターン状の色素層をカラーフィルターと
して利用できる機材を直接基板として用いる場合等にも
制限なく水沫が適用できる。
使用される材料すなわち例えばガラス板；光学用樹脂板
；ゼラチン；ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチル
セルロース、ホリメチルメタクリレート、ポリエステル
、ポリビニルブチラール、ポリアミドなどの樹脂フィル
ム；さらにはパターン状の色素層をカラーフィルターと
して利用できる機材を直接基板として用いる場合等にも
制限なく水沫が適用できる。
したがってブラウン管表示面、撮像管の受光面。
へ
ＣＣＤ、ＢＢＤ、ＣＩＤ、ＢＡ、９Ｉ３等の固体撮像素
子が形成されたウェハー、薄膜半導体を用いた密着型イ
メージセンサ−１液晶デイ°スプレ一面。
子が形成されたウェハー、薄膜半導体を用いた密着型イ
メージセンサ−１液晶デイ°スプレ一面。
カラー重子写真用感光体等に直接色素層をカラーフィル
ターとして層着させる場合においても末法が適用できる
。
ターとして層着させる場合においても末法が適用できる
。
レーザー光の照射に当り、第１図に示す如くスリット９
を用いることが好ましく、スリットを移動しながらスリ
ット内にレーザー光を照射すると、レーザー光受光によ
る発熱でスリット内の不要残留層１０は次々に飛散して
除去の目的が達せられると共に、必要色素層との境界も
画然とカントされ第２図（ｃｌのとき色素パターンが得
られる。
を用いることが好ましく、スリットを移動しながらスリ
ット内にレーザー光を照射すると、レーザー光受光によ
る発熱でスリット内の不要残留層１０は次々に飛散して
除去の目的が達せられると共に、必要色素層との境界も
画然とカントされ第２図（ｃｌのとき色素パターンが得
られる。
ガラス基板（コーニング社製＄７０５９）上に東京応化
製のフォトレジスト０ＦＰＲ７８を塗布し、フオｌ−Ｉ
Ｊソ技術で所望のパターン形状に形成したところ第３図
（ａｌに模式的に示したごとき欠け７ピンホール８を生
じた。この基板上に真空蒸着法でＣｕフタロシアニン顔
料を蒸着し、該レジストの専用除去液でレジストを溶解
除去したところ ：第３図（ｃ）に模式的に示した
ごとき欠けによる不要残留層１１．ピンホールによる不
要残留層１２゜色素層を層着した不溶解残留レジスト層
１３が欠陥部分として残存した。
製のフォトレジスト０ＦＰＲ７８を塗布し、フオｌ−Ｉ
Ｊソ技術で所望のパターン形状に形成したところ第３図
（ａｌに模式的に示したごとき欠け７ピンホール８を生
じた。この基板上に真空蒸着法でＣｕフタロシアニン顔
料を蒸着し、該レジストの専用除去液でレジストを溶解
除去したところ ：第３図（ｃ）に模式的に示した
ごとき欠けによる不要残留層１１．ピンホールによる不
要残留層１２゜色素層を層着した不溶解残留レジスト層
１３が欠陥部分として残存した。
これら欠陥部分に対し２０３ｍＸ２Ｑ１１ｍの長方形の
ステンレス製のスリットを用い、Ｎａ：ＹＡＧレーザー
光を照射して不要残留層を除去した。
ステンレス製のスリットを用い、Ｎａ：ＹＡＧレーザー
光を照射して不要残留層を除去した。
照射条件は色素層のみの除去の場合レーザー波長１，０
６μｍで除去面積１−当り５分の速さで完全に除去でき
、色素層を層着したレジスト部の除去の場合も同じレー
ザー波長で同じ速さで完全に除去できた。
６μｍで除去面積１−当り５分の速さで完全に除去でき
、色素層を層着したレジスト部の除去の場合も同じレー
ザー波長で同じ速さで完全に除去できた。
したがって次の色素パターンの層着は支障なく行われ、
上記と同様の操作をくりかえすことにより欠陥のないカ
ラーフィルターが得られた。
上記と同様の操作をくりかえすことにより欠陥のないカ
ラーフィルターが得られた。
以上詳細に説明したように、本発明の方法によれば欠陥
のない、パターン精度の良い、信頼性の高いカラーフィ
ルターが製造できる。したがって製品の歩留りも向上し
、経済的効果はきわめて太きい。
のない、パターン精度の良い、信頼性の高いカラーフィ
ルターが製造できる。したがって製品の歩留りも向上し
、経済的効果はきわめて太きい。
第１図は本発明の詳細な説明するための平面図、第２図
はカラーフィルターの製造方法の一例を示す断面図、第
３図はカラーフィルター製造時発生する欠陥の状況を示
す断面図である。 １・・・基板、２・・・フォトレジスト、３・・・色素
層。 ４・・・ブルーの着色パターン、５・・・グリーンの着
色パターン、６・・・レッドの着色パターン、７・・・
レジストの欠け、８・・・ピンホール、９・・・スリッ
ト。 １０・・・不要残留層、１１・・・欠けによる不要残留
層。 １ｚ・・・ピンホールによる不要残留層、１３・・・不
溶解残留レジスト層
はカラーフィルターの製造方法の一例を示す断面図、第
３図はカラーフィルター製造時発生する欠陥の状況を示
す断面図である。 １・・・基板、２・・・フォトレジスト、３・・・色素
層。 ４・・・ブルーの着色パターン、５・・・グリーンの着
色パターン、６・・・レッドの着色パターン、７・・・
レジストの欠け、８・・・ピンホール、９・・・スリッ
ト。 １０・・・不要残留層、１１・・・欠けによる不要残留
層。 １ｚ・・・ピンホールによる不要残留層、１３・・・不
溶解残留レジスト層
Claims (1)
- 基板上にレジストマスクを形成し、ついで該基板上に
色素層を形成し、ついで色素層を層着したレジストを溶
解除去して所望の形状の色素パターンを形成するカラー
フィルターの製造方法において、色素層を層着したレジ
ストの溶解除去後に、レーザーによる修正操作を付加す
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59243221A JPS61122604A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59243221A JPS61122604A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61122604A true JPS61122604A (ja) | 1986-06-10 |
Family
ID=17100628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59243221A Pending JPS61122604A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61122604A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1099041C (zh) * | 1994-03-31 | 2003-01-15 | 佳能株式会社 | 滤色器、其修复方法及设备及采用其的液晶显示装置 |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59243221A patent/JPS61122604A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1099041C (zh) * | 1994-03-31 | 2003-01-15 | 佳能株式会社 | 滤色器、其修复方法及设备及采用其的液晶显示装置 |
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