JP2768862B2 - 光ディスクおよびその表面処理方法 - Google Patents

光ディスクおよびその表面処理方法

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JP2768862B2
JP2768862B2 JP3331805A JP33180591A JP2768862B2 JP 2768862 B2 JP2768862 B2 JP 2768862B2 JP 3331805 A JP3331805 A JP 3331805A JP 33180591 A JP33180591 A JP 33180591A JP 2768862 B2 JP2768862 B2 JP 2768862B2
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哲也 乾
歳一 長浦
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光を用いて情報の記
録、再生、消去等を行う光メモリ素子とその製造方法に
関し、特に、帯電防止特性を有する光メモリ素子とその
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、高記録密度・大容量の記録媒体と
して、光メモリ素子が研究、開発されている。光メモリ
素子の透明基板材料として、ガラスや樹脂が適している
が、樹脂の中でも、とりわけポリカーボネートは、生産
性に優れ、吸湿等も少ないことによりよく利用されてい
る。
【0003】しかしながら、ポリカーボネート基板を使
用した光メモリ素子は、その表面抵抗が1016Ω/□と
高いために静電気を帯びやすい。この結果、基板表面に
塵埃が付着しやすい。
【0004】光メモリ素子の内、例えば光ディスクメモ
リでは、1.2mm程度の厚みを有するガラス製または樹
脂製の透明基板を通過した光は、記録膜上にμmオーダ
で集光される。このため、透明基板上の塵埃は、光の集
光状態にあまり影響を与えないとされている。しかし、
実際には、塵埃の影響が少ないのはCD等の再生専用デ
ィスクの場合であって、記録および消去が可能な光磁気
ディスク等の場合には問題が生じる。すなわち、記録や
消去は、再生よりも大きなエネルギを必要とするため、
基板表面に付着した塵埃により光が散乱され、エネルギ
が失われると、パワー不足による記録エラーや消し残り
が発生するのである。
【0005】上記の問題点に対して、図に示すよう
に、金属酸化物を導電性フィラとして分散させたアクリ
ル樹脂層42をポリカーボネート基板41の表面に形成
した光ディスクが提案されている(特開平1−1586
43号公報)。なお、ポリカーボネート基板41の裏面
には、記録層44が形成されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図に示す
光ディスクは、あくまでも模式図であって、実際には、
に示すように、ポリカーボネート基板41の表面お
よび裏面は平坦ではない。すなわち、ポリカーボネート
基板41の表面および裏面の内周部には、射出成形にお
ける金型の継目に対応して、環状の凸部48および凹部
46がそれぞれ形成されている。しかも、凸部48の高
さ、および凹部46の深さは、周方向で均一ではない。
光ディスクの内穴43には、センタハブと呼ばれる芯出
し部材45が接着されており、凸部48および凹部46
の形成位置は、芯出し部材45の外周近傍となってい
る。
【0007】上記アクリル樹脂層42を形成する導電性
材料は、スピンナーによってポリカーボネート基板41
の表面に塗布されるが、上記凸部48の高さ(または凹
部46の深さ)が周方向に不均一であることに対応し
て、導電性材料の流れが不均一になる。その結果、塗布
された導電性材料の膜厚に周方向の分布が生じ、記録、
再生、消去時の光ビームの集光状態を制御するサーボ信
号が乱れたり、光ビームのパワー不足が起きたりすると
いう問題が生ずる。
【0008】また、導電性材料の膜厚に周方向の分布が
生じないようにするため、図に示すように、凸部48
の形成位置より外側に導電性樹脂層49を設けると、導
電性樹脂層49が存在しない露出部47に塵埃が集中す
る。露出部47は、光ディスクをドライブ装置に取り付
ける際の基準面を提供する役割も担っているのだが、露
出部47に付着した塵埃のために基準が出なかったり、
ポリカーボネート基板41に擦り傷がついたりするとい
う問題が発生する。
【0009】さらに、芯出し部材45とポリカーボネー
ト基板41との接着状態が、熱による膨張や収縮の影響
を受けないように、互いに同一材料が用いられている。
すなわち、芯出し部材45もポリカーボネートから成っ
ており、従来、帯電防止措置が講じられていないため、
芯出し部材45にも塵埃が付着する。この結果、光ディ
スクの振動等により芯出し部材45から剥離した塵埃が
光ディスク表面に付着し、サーボ乱れや光ビームのパワ
ー不足を誘発することも大きな問題となる。
【0010】本発明の目的は、光メモリ素子の帯電防止
機能を有する導電性樹脂層が、少なくとも記録再生領域
において均一に形成され、かつ、全面に導電性を持たせ
た光メモリ素子とその製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る光
ディスクは、上記の課題を解決するために、射出成形で
形成された樹脂基板(例えば、ポリカーボネート基板)
を備えている光ディスクにおいて、上記樹脂基板上にお
ける射出成形用金型の継目に対応する半径位置に、上記
樹脂基板上に塗布される液状物質(例えば、燐ドープ酸
化錫のフィラを紫外線硬化樹脂に混合した帯電防止剤)
の液溜めとなる環状の溝を形成し、上記溝の内周側と外
周側とにそれぞれ上記液状物質を塗布して帯電防止層を
形成するとともに、上記溝上にも液状物質を塗布し、上
記溝の内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止層とを電
気的に導通することを特徴としている。
【0012】請求項2の発明に係る光ディスクは、上記
の課題を解決するために、射出成形で形成された樹脂基
板(例えば、ポリカーボネート基板)を備えている光デ
ィスクにおいて、上記樹脂基板上における射出成形用金
型の継目に対応する半径位置に、上記樹脂基板上に塗布
される液状物質の障壁となる環状の突部を形成し、上記
突部と外周側とそれぞれ上記液状物質(例え
ば、燐ドープ酸化錫のフィラを紫外線硬化樹脂に混合し
た帯電防止剤)を塗布して帯電防止層を形成す るととも
に、上記突部上にも液状物質を塗布し、上記突部の内周
側の帯電防止層と外周側の帯電防止層とを電気的に導通
することを特徴としている。
【0013】請求項3の発明に係る光ディスクは、上記
の課題を解決するために、光ディスクの中心周辺に、光
ディスクのセンタリングに供される樹脂製の位置決め部
材(例えば、ポリカーボネート製のセンタハブ)が設け
られた光ディスクにおいて、上記位置決め部材の表面
に、燐ドープした酸化錫フィラを混入した帯電防止層が
形成されていることを特徴としている。
【0014】請求項4の発明に係る光ディスクの表面処
理方法は、上記の課題を解決するために、以下のことを
特徴としている。すなわち、 (1) 記録層が形成される第1面と、上記第1面と反対側
の第2面とを有する樹脂基板(例えば、ポリカーボネー
ト基板)を備えている光ディスクの表面処理方法である
こと、 (2) 第1工程にて、上記光ディスクを回転させながら、
上記光ディスクの記録有効領域および上記光ディスクを
光ディスク装置に装着する際の基準面となる領域双方に
対応するように、上記第2面上に液状物質を均一に塗布
することにより第1の塗布膜を先に形成すること、 (3) 第2工程にて、上記双方の領域より内周側の領域に
対応するように、上記第2面上に液状物質を塗布するこ
とにより第2の塗布膜を後で形成すること、 (4) 上記第2の塗布膜が上記第1の塗布膜に重ならない
ように、上記第2工程における光ディスクを上記第1工
程より低速で回転させること。
【0015】
【作用】請求項1の構成により、上記環状に形成された
溝によって、上記樹脂基板上の表面は外周側領域と内周
側領域とに分けられるので、射出成形用金型の継目に対
応する部位に影響されることなく、各領域毎に、帯電防
止層を形成する液状物質を均一に塗布することができ
る。また、上記内周側領域に例えばスピンコート法で液
状物質を塗布する際に、上記溝は液状物質の液溜めとな
るので、上記内周側領域に塗布された液状物質が、上記
外周側領域に侵入することを防止することができる。
して、上記溝上に塗布された液状物質によって、該溝の
内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止層とが電気的に
導通されるので、光ディスクに全面導電性を持たせるこ
とができ、上記内周側の帯電防止層の電位を外界と等し
くするだけで、光ディスク全面への塵埃の付着を防止す
ることができる。
【0016】請求項2の構成により、上記環状に形成さ
れた突部によって、上記樹脂基板上の表面は外周側領域
と内周側領域とに分けられるので、射出成形用金型の継
目に対応する部位に影響されることなく、各領域毎に、
帯電防止層を形成する液状物質を均一に塗布することが
できる。また、上記内周側領域に例えばスピンコート法
で液状物質を塗布する際に、上記突部は液状物質の流れ
を堰き止めるので、上記内周側領域に塗布された液状物
質が、上記外周側領域に侵入することを防止することが
できる。そして、上記突部上に塗布された液状物質によ
って、該突部の内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止
層とが電気的に導通されるので、光ディスクに全面導電
性を持たせることができ、上記内周側の帯電防止層の電
位を外界と等しくするだけで、光ディスク全面への塵埃
の付着を防止することができる。
【0017】請求項3の構成により、上記位置決め部材
の表面に帯電防止層を形成したので、塵埃が位置決め部
材の表面に付着することを防止し、光ディスクの記録再
生の信頼性を向上させることができる。また、酸化錫フ
ィラに燐ドープすることによって、帯電防止層の透明性
を改善することができる。このことは、帯電防止層の主
材料に紫外線硬化樹脂を用いる場合に特に重要となる。
【0018】請求項4の構成により、上記光ディスクの
回転速度を、上記第1の塗布膜の形成時に速く、上記第
2の塗布膜の形成時に遅くしたので、光ディスクにとっ
て重要な少なくとも記録有効領域に対して、上記第1の
塗布膜を均一に形成することができる。さらに、上記第
2の塗布膜が上記第1の塗布膜に重なることが防止され
る。また、上記第2の塗布膜の形成領域は、主として、
光ディスク装置に対する装着領域となるので、第2の塗
布膜の均一性はあまり問題としなくてよい。
【0019】
【実施例】〔実施例1〕 本発明の一実施例を図1および図2に基づいて説明すれ
ば、以下のとおりである。
【0020】図1に示すように、ポリカーボネート基板
1の表面側には、記録、再生、消去に用いるレーザ光が
導入されると共に、帯電防止層2a〜2cが設けられ、
その裏面側には、図示しない記録層が設けられる。ポリ
カーボネート基板1の射出成形に使用される金型の継目
に対応する半径位置において、ポリカーボネート基板1
の裏面には継目による小凹部6が形成され、表面にはリ
ング状の大凹部7が設けられている。大凹部7の開口幅
は約2mm、底部の幅は約1mm、深さは約0.1〜
0.2mmに設定されている。なお、その底部には、図
2に示すように、金型の継目による小凸部8が形成され
ている。
【0021】上記帯電防止層2a〜2cの形成工程を以
下に説明する。まず、大凹部7より外側の領域にスピン
ナーで帯電防止剤を塗布し、帯電防止層2aを設ける。
帯電防止層2aは薄く均一に形成する必要があるので、
塗布時の回転数を3000rpmの高速に設定する。な
お、帯電防止剤には、燐ドープ酸化錫のフィラを紫外線
硬化樹脂に混合した物を使用する。
【0022】次に、大凹部7より内側の領域にスピンナ
ーで帯電防止剤を塗布し、帯電防止層2bを設ける。帯
電防止層2bは、均一性よりむしろ、大凹部7の外側に
はみ出ないことの方が重要なので、塗布時の回転数を5
00rpmの低速に設定すればよい。
【0023】最後に、大凹部7上に数10rpmの超低
速で帯電防止剤を塗布し、帯電防止層2cを設ける。こ
れによって、帯電防止層2aと帯電防止層2bとは、大
凹部7に塗布された帯電防止層2cにより導通される。
このように、大凹部7は、帯電防止剤の液溜めとなる。
【0024】本実施例において、帯電防止層2aを先に
塗布し、その次に帯電防止層2bを塗布することが重要
である。帯電防止層2bを塗布するとき、帯電防止剤が
大凹部7の外側に部分的に乗り上げることがあるが、そ
の上に帯電防止層2aを塗布しようとすると、帯電防止
層2aの膜厚が一定にならず、サーボを乱す原因になる
からである。
【0025】また、ポリカーボネート製のセンタハブ3
の周囲を帯電防止層2a〜2cと同じ帯電防止剤から成
る帯電防止層4で覆い、先に形成した帯電防止層2bに
対して導電性接着層5を介して接着する。導電性接着層
5には、紫外線硬化樹脂に酸化錫を混合した導電性接着
剤を用いた。
【0026】以上のように、金型の継目による小凸部8
が大凹部7内に形成されていることと、帯電防止層2
a、2b、2cの順で3段階に分けて塗布することとに
よって、記録、再生、消去用の光ビームが導かれる帯電
防止層2aが均一に形成される。また、光ディスクをド
ライブ装置に取り付ける際の基準面には、帯電防止層2
bが設けられているので、基準面に塵埃が付着すること
がなくなる。
【0027】なお、帯電防止剤に燐をドープすることに
より、帯電防止層の透明性が改善されると共に、帯電防
止層の表面抵抗が下がる(約1010Ω/□)という効果
が生まれる。特に、帯電防止剤に紫外線硬化樹脂を用い
る場合には、その透明性が重要であり、燐をドープする
効果が大きい。
【0028】〔実施例2〕 本発明の他の実施例を図3ないし図5に基づいて説明す
れば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前記
の実施例の図面に示した部材と同一の機能を有する部材
には、同一の符号を付記して、その説明を省略する。
【0029】ポリカーボネート基板1の表面における金
型の継目に対応する部位を、図3に示す凸部9のよう
に、リング状の凸形状に形成した。凸部9の幅は約1m
mであり、高さは約0.5mmである。凸部9より外周部
に、帯電防止層2aが、また凸部9より内周部に帯電防
止層2bが、凸部9上に帯電防止層2cが、それぞれス
ピンナーで塗布される。塗布の方法は、実施例1に記載
したとおりである。
【0030】このように、凸部9は、帯電防止層2bの
塗布時に、帯電防止層2bが帯電防止層2aの方へ乗り
越えることを防止するバリヤの役目をする。実施例1と
同様に、帯電防止層2a・2bは、帯電防止層2cによ
って導通される。
【0031】本発明の帯電防止層2a〜2cの表面抵抗
が1013Ω/□程度であれば、実施例1および2におけ
る帯電防止層2cは無くても、帯電防止機能にあまり影
響がない。しかし、表面抵抗が1010Ω/□のオーダに
なると、帯電防止層2cを設け、センタハブ3から外界
への導通をとることは効果的である。
【0032】外界との導通をとるには、光ディスクを収
納するカートリッジケースを導電性ポリカーボネートで
成形し、光ディスクには帯電防止層2a〜2cを設ける
ことによって全面導電性を持たせる。こうすると、カー
トリッジケースを持ち運びするときに光ディスクと外界
との電位差が解消される。
【0033】また、ドライブ装置による回転駆動中に
は、通常、光ディスクは浮いているが、センタハブ3を
通じて外界との電位差が解消される。
【0034】なお、回転中の光ディスクの表面に接触す
る導電性ブラシをカートリッジケースの内側に設ける
と、帯電防止の効果がより顕著になった。
【0035】また、実施例1および2における帯電防止
層2aをスピンナーで塗布した後、内周側の帯電防止層
2bを刷毛で塗布したり、スクリーン印刷で形成したり
する場合、帯電防止層2bの均一性は得られないもの
の、本発明の帯電防止層としては充分な特性を示すこと
がわかった。
【0036】さらに、上記の各実施例で光ディスクの内
周部に設けられるセンタハブ3を、ポリカーボネートに
カチオン系帯電防止剤を混入した樹脂を射出成形するこ
とで作製してもよい。この場合、センタハブ3の光ディ
スクとの接着面にリブを設け、超音波を用いてセンタハ
ブ3を光ディスクに溶着させる構成とすれば、導電性接
着層5を省略することができる。
【0037】
【発明の効果】請求項1の発明に係る光ディスクは、以
上のように、樹脂基板上における射出成形用金型の継目
に対応する半径位置に環状の溝を形成し、上記溝の内周
側と外周側とにそれぞれ上記液状物質を塗布して帯電防
止層を形成するとともに、上記溝上にも液状物質を塗布
し、上記溝の内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止層
とを電気的に導通するようにした構成である。
【0038】それゆえ、上記環状に形成された溝によっ
て、上記樹脂基板上の表面は外周側領域と内周側領域と
に分けられるので、射出成形用金型の継目に対応する部
位に影響されることなく、各領域毎に、均一に液状物質
を塗布することができる。また、上記内周側領域に例え
ばスピンコート法で液状物質を塗布する際に、上記溝は
液状物質の液溜めとなるので、上記内周側領域に塗布さ
れた液状物質が、上記外周側領域に侵入することを防止
することができる。そして、上記溝上に塗布された液状
物質によって光ディスクに全面導電性を持たせることが
でき、上記内周側の帯電防止層の電位を外界と等しくす
るだけで、光ディスク全面への塵埃の付着を防止するこ
とができるという効果を奏する。
【0039】請求項2の発明に係る光ディスクは、以上
のように、樹脂基板上における射出成形用金型の継目に
対応する半径位置に環状の突部を形成し、上記突部
と外周側とそれぞれ上記液状物質を塗布して帯電
防止層を形成するとともに、 上記突部上にも液状物質を
塗布し、上記突部の内周側の帯電防止層と外周側の帯電
防止層とを電気的に導通するようにした構成である。
【0040】それゆえ、上記環状に形成された突部によ
って、上記樹脂基板上の表面は外周側領域と内周側領域
とに分けられるので、射出成形用金型の継目に対応する
部位に影響されることなく、各領域毎に、均一に液状物
質を塗布することができる。また、上記内周側領域に例
えばスピンコート法で液状物質を塗布する際に、上記突
部は液状物質の流れを堰き止めるので、上記内周側領域
に塗布された液状物質が、上記外周側領域に侵入するこ
とを防止することができる。そして、上記突部上に塗布
された液状物質によって光ディスクに全面導電性を持た
せることができ、上記内周側の帯電防止層の電位を外界
と等しくするだけで、光ディスク全面への塵埃の付着を
防止することができるという効果を奏する。
【0041】請求項3の発明に係る光ディスクは、以上
のように、位置決め部材の表面に、燐ドープした酸化錫
フィラを混入した帯電防止層が形成されている構成であ
る。
【0042】それゆえ、塵埃が位置決め部材の表面に付
着することを防止し、光ディスクの記録再生の信頼性を
向上させることができる。また、酸化錫フィラに燐ドー
プすることによって、帯電防止層の透明性を改善するこ
とができるという効果を奏する。
【0043】請求項4の発明に係る光ディスクは、以上
のように、記録層が形成される第1面と、上記第1面と
反対側の第2面とを有する樹脂基板を備えている光ディ
スクの表面処理方法であって、上記光ディスクを回転さ
せながら、上記光ディスクの記録有効領域および上記光
ディスクを光ディスク装置に装着する際の基準面となる
領域双方に対応するように、上記第2面上に液状物質を
均一に塗布することにより第1の塗布膜を先に形成する
第1工程と、上記双方の領域より内周側の領域に対応す
るように、上記第2面上に液状物質を塗布することによ
り第2の塗布膜を後で形成する第2工程とを含み、上記
第2の塗布膜が上記第1の塗布膜に重ならないように、
上記第2工程における光ディスクを上記第1工程より低
速で回転させる構成である。
【0044】それゆえ、光ディスクにとって重要な少な
くとも記録有効領域に対して、上記第1の塗布膜を均一
に形成することができる。さらに、上記第2の塗布膜が
上記第1の塗布膜に重なることを防止することができる
という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ディスクの要部を示す縦断面図
である。
【図2】図1の光ディスクの一部を拡大して示す縦断面
図である。
【図3】本発明に係る他の光ディスクの要部を示す縦断
面図である。
【図4】従来の光ディスクを模式的に示す縦断面図であ
る。
【図5】従来の光ディスクの要部を示す縦断面図であ
る。
【符号の説明】
1 ポリカーボネート基板(樹脂基板) 2a 帯電防止層(第1の塗布膜) 2b 帯電防止層(第2の塗布膜) 3 センタハブ(位置決め部材) 4 帯電防止層 7 大凹部(溝) 9 凸部(突部)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 19/00 501 G11B 19/00 501D 23/00 601 23/00 601C (56)参考文献 特開 昭62−222449(JP,A) 特開 昭64−92938(JP,A) 特開 平2−35333(JP,A) 特開 昭59−77645(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/24 531 G11B 7/24 534 G11B 7/24 535 G11B 7/24 571 G11B 23/00 601

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】射出成形で形成された樹脂基板を備えてい
    る光ディスクにおいて、 上記樹脂基板上における射出成形用金型の継目に対応す
    る半径位置に、上記樹脂基板上に塗布される液状物質の
    液溜めとなる環状の溝を形成し、上記溝の内周側と外周
    側とにそれぞれ上記液状物質を塗布して帯電防止層を形
    成するとともに、上記溝上にも液状物質を塗布し、上記
    溝の内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止層とを電気
    的に導通することを特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】射出成形で形成された樹脂基板を備えてい
    る光ディスクにおいて、 上記樹脂基板上における射出成形用金型の継目に対応す
    る半径位置に、上記樹脂基板上に塗布される液状物質の
    障壁となる環状の突部を形成し、上記突部と外
    周側とそれぞれ上記液状物質を塗布して帯電防止層を
    形成するとともに、上記突部上にも液状物質を塗布し
    上記突部の内周側の帯電防止層と外周側の帯電防止層と
    を電気的に導通することを特徴とする光ディスク。
  3. 【請求項3】光ディスクの中心周辺に、光ディスクのセ
    ンタリングに供される樹脂製の位置決め部材が設けられ
    た光ディスクにおいて、 上記位置決め部材の表面に、燐ドープした酸化錫フィラ
    を混入した帯電防止層が形成されていることを特徴とす
    請求項1または2記載の光ディスク。
  4. 【請求項4】記録層が形成される第1面と、上記第1面
    と反対側の第2面とを有する樹脂基板を備えている光デ
    ィスクの表面処理方法であって、 上記光ディスクを回転させながら、上記光ディスクの記
    録有効領域および上記光ディスクを光ディスク装置に装
    着する際の基準面となる領域双方に対応するように、上
    記第2面上に液状物質を均一に塗布することにより第1
    の塗布膜を先に形成する第1工程と、 上記双方の領域より内周側の領域に対応するように、上
    記第2面上に液状物質を塗布することにより第2の塗布
    膜を後で形成する第2工程とを含み、 上記第2の塗布膜が上記第1の塗布膜に重ならないよう
    に、上記第2工程における光ディスクを上記第1工程よ
    り低速で回転させることを特徴とする光ディスクの表面
    処理方法。
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