DE69225575T2

DE69225575T2 - Optische Scheibe und Verfahren zur Herstellung derselben

Info

Publication number: DE69225575T2
Application number: DE69225575T
Authority: DE
Inventors: Tetsuya Nara-Shi Nara-Ken Inui; Toshikazu Nara-Shi Nara-Ken Nagaura; Kenji Kitakatsuragi-Gun Nara-Ken Ohta
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1991-12-16
Filing date: 1992-12-16
Publication date: 1998-11-26
Anticipated expiration: 2012-12-17
Also published as: KR930014309A; JPH05166226A; EP0551744B1; KR100261649B1; EP0551744A1; DE69225575D1; CA2085383C; CA2085383A1; JP2768862B2

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

1. Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein optisches Speicherelement zum Aufzeichnen, Wiedergeben, Läschen von Information mittels eines Laserstrahles und auf dessen Herstellungsverfahren und insbesondere auf eine optische Platte bzw. Scheibe mit antistatischen Eigenschaften und deren Herstellungsverfahren.

2. Beschreibung des Standes der Technik

In jüngster Zeit gab es eine starke Forschung und Entwicklung für ein optisches Speicherelement einer hohen Aufzeichnungsdichte und einer großen Kapazität. Ein Glas und transparente Harze sind geeignet für Substrate des optischen Speicherelementes, und insbesondere Polycarbonat ist vorzugsweise unter den Harzen geeignet, da es eine gute Produktivität und Feuchtebeständigkeit hat.
Jedoch zieht das Polycarbonatsubstrat leicht Staub zu seiner Oberfläche an, da es leicht elektrisch aufgrund seines hohen Oberflächenwiderstandes von 10¹&sup6; Ω/ aufgeladen wird. In einem optischen Plattenspeicher wird ein Strahl auf einen Aufzeichnungsfilm in der Größenordnung von um durch das transparente Substrat einer Dicke von ungefähr 1,2 mm aus Glas oder transparenten Harzen fokussiert. Daher wird im allgemeinen angenommen, daß der fokussierte Strahl nicht durch den Staub auf dem transparenten Substrat beeinträchtigt wird. Tatsächlich bewirkt der Staub manches beim Aufzeichnen und Löschen einer magnetooptischen Platte, obwohl er wenig Einfluß auf das Abspielen einer kompakten Platte hat, wie dies oben erwähnt wurde. Dies beruht darauf, daß eine Menge an Energie beim Aufzeichnen und Löschen im Vergleich mit dem Abspielen verbraucht wird, und der Staub läßt den Strahl auf der Substratoberfläche streuen und einen Aufzeichnungs- oder/und Löschfehler als ein Ergebnis des Energieausfalles hervorrufen.
Um ein Streuen des Strahles zu verhindern, wie dies in Fig. 6 gezeigt ist, wird ein Bedecken einer optischen Platte mit einer antistatischen Schicht 42 vorgeschlagen, wobei ein Metalloxid als ein elektrisch leitender Füllstoff in einer Acrylharzschicht dispergiert ist (japanische ungeprüfte Patentpublikation Nr. 158643/1989). Zusätzlich wird eine Aufzeichnungsschicht 44 auf einer Rückseite des Polycarbonatsubstrates 41 gebildet.
Jedoch ist Fig. 6 eine schematische Darstellung, die die optische Platte zeigt. Tatsächlich sind beide Oberflächen des Polycarbonatsubstrates 41 nicht eben, wie dies in Fig. 7 gezeigt ist. Das heißt, ein ringförmiger Kamm 48 und eine Rille 46 sind an einem inneren Umfang auf den Vorder- und Rückflächen des Polycarbonatsubstrates 41 jeweils entsprechend einem Spalt oder einer Anschwellung in einer Verbindung zwischen Teilen einer Form für eine Injektionsmaschine gebildet. Zusätzlich sind die Höhe des Kammes 48 und die Tiefe der Rille 46 nicht gleichmäßig in der Umfangsrichtung. Ein Zentrierteil 45, der als Mittennabe bezeichnet wird, ist auf einem inneren Loch 43 der optischen Platte angebracht. Der Kamm 48 und die Rille 46 sind in der Nähe des Außenumfanges des Zentrierteiles 45 gebildet.
Eine antistatische Schicht ist auf die Oberfläche des Polycarbonatsubstrates 41 spin-geschichtet. Die Dichte der antistatischen Schicht ändert sich in der Umfangsrichtung entsprechend der Verteilung der Kammhöhe 48 oder der Rillentiefe 46. Als ein Ergebnis ändert die antistatische Schicht ihre Dicke in der Umfangsrichtung, was zu einem Verschieben der Versetzung des fokussierten optischen Strahles, einer Störung eines Servosignales für Aufzeichnen, Wiedergeben und Löschen und zu einer Abnahme der effektiven Leistung des optischen Strahles führt.
Wenn eine antistatische Schicht 49 außerhalb des Kammes 48 gebildet wird, wie dies in Fig. 7 gezeigt ist, um eine weite Verteilung der Filmdicke der antistatischen Schicht zu verhindern, wird Staub an einem freiliegenden Teil 47 gesammelt, wo die antistatische Schicht 49 nicht vorliegt. Obwohl der freiliegende Teil 47 dazu dient, eine Referenzoberfläche zu liefern, wenn die optische Platte an einem Antriebsgerät angebracht ist, kann die Referenzoberfläche nicht vorgesehen werden oder das Polycarbonatsubstrat 41 ist beschädigt, falls der Staub auf dem freiliegenden Teil 47 vorliegt.
Zusätzlich werden der Zentrierteil 45 und das Polycarbonatsubstrat 41 aus dem gleichen Material gebildet, so daß deren Haftzustand nicht unter einer verschiedenen Ausdehnung oder Schrumpfung durch Wärme leidet. Insbesondere wird der Zentrierteil 45 ebenfalls aus Polycarbonat gebildet. Da eine antistatische Einrichtung beim Stand der Technik nicht vorliegt, haftet der Staub auch an dem Zentrierteil 45. Als ein Ergebnis wird der Staub zusammen auf der Oberfläche der optischen Platte aufgrund eines Abschälens von dem Zentrierteil 45 durch Vibration der Platte oder dergleichen gesammelt und bewirkt eine Störung des Servosignales und eine Abnahme der effektiven Leistung des optischen Strahles.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung ist durch die beigefügten Patentansprüche definiert.

KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Fig. 1 ist eine vertikale Schnittdarsteilung, die einen Hauptteil einer optischen Platte gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt,
Fig. 2 ist eine gedehnte vertikale Schnittdarstellung, die einen Teil der in Fig. 1 gezeigten optischen Platte zeigt,
Fig. 3 ist eine vertikale Schnittdarstellung, die einen Hauptteil einer anderen optischen Platte gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt,
Fig. 4 ist eine vertikale Schnittdarstellung, die einen Hauptteil einer optischen Platte zeigt, die für das Verständnis der vorliegenden Erfindung nützlich ist,
Fig. 5 ist eine vertikale Schnittdarsteliung, die einen Hauptteil einer anderen optischen Platte zeigt, die für das Verständnis der vorliegenden Erfindung nützlich ist,
Fig. 6 ist eine schematische vertikale Schnittdarstellung, die eine herkömmliche optische Platte zeigt, und
Fig. 7 ist eine vertikale Schnittdarstellung, die einen Hauptteil der herkömmlichen optischen Platte zeigt.

DETAILBESCHREIBUNG DER ERFINDUNG

Die optische Platte gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine Platte aus einer magnetooptischen Platte, einer Kompaktplatte, einer Einmalschreibtyp-Platte und einer Platte des photochromen Typs sein, die alle gut bekannt sind.
Der Aufzeichnungsfilm, der Schutzfilm, der Feuchtewiderstandsfilm zum Schutz vor Feuchteübertragung und der antistatische Film, die auf der optischen Platte gebildet sind, werden im folgenden beschrieben.
Das Kunststoffsubstrat mit Lichtübertragungseigenschaften gemäß der vorliegenden Erfindung wird durch gewöhnliches Einspritz- bzw. Injektionsformen gebildet. Ein Material des Substrats kann Kunststoff sein, das Lichtdurchlaßeigenschaften hat und nicht leicht verzerrt wird. Insbesondere ist Polycarbonat geeignet. Ein anderes Material, wie beispielsweise Acrylharz oder Epoxyharz kann ebenfalls für das Substrat geeignet sein. Die Dicke des Substrates beträgt gewöhnlich 1,15 bis 1,25 mm.
Da das Kunststoffsubstrat durch Injektionsformen gebildet ist, wird eine Verbindung zwischen Teilen einer Form erzeugt. Obwohl sich eine Stelle der Verbindung mit einer Auslegung der Form verändert, beträgt sie gewöhnlich zwischen 1/10 und 4/5 des Radius des Substrates. Eine U-förmige Rille oder ein Kamm ist auf einem gesamten Umfang entsprechend der Lage der Verbindung gebildet. Die Rille oder der Kamm kann mittels einer Form gebildet werden, die ausgelegt ist, um diese bzw. diesen auf einer vorbestimmten Stelle zu erzeugen, oder sie bzw. er kann auf der Verbindungsstelle des Kunststoffsubstrates nach der Injektion geformt werden. In dem Fall der Rille liegt die Verbindung in der Mitte der Rille. Eine Abmessung der Rille im Querschnitt ist vorzugsweise wie folgt. Das heißt, eine Breite der Öffnung beträgt ungefähr 1,5 bis 2,5 mm, eine Breite des Bodens beträgt ungefähr 0,7 bis 1,3 mm, und eine Tiefe beträgt ungefähr 0,1 bis 0,2 mm. Außerdem ist eine Abmessung des Kammes im Querschnitt vorzugsweise wie folgt. Das heißt, eine Breite des Bodens beträgt vorzugsweise 1,5 bis 2,0 mm, eine Breite der Spitze beträgt vorzugsweise 0,7 bis 1,3 mm, und eine Höhe beträgt ungefähr 0,3 bis 0,7 mm.
Der Aufzeichnungsfilm wird auf einer Oberfläche des Kunststoffsubstrates durch Spin-Beschichten, Roll-Beschichten, Sputtern bzw. Zerstäuben oder andere Beschichtungsmethoden gebildet. Die Struktur des Aufzeichnungsfilmes ist aus dem Stand der Technik bekannt. Insbesondere ist es eine Vierschichtstruktur, wie beispielsweise AlN/GdTbFe/AlN/Al oder AlN/DyFeCo/AlN/Al oder eine Dreischichtstruktur, wie beispielsweise SiN/TbFeCo/SiN oder SiAlON/TbFeCo/SiAlON. Die Filmdicke hiervon beträgt gewöhnlich 150 bis 300 nm. Obwohl der Aufzeichnungsfilm auf der gesamten Oberfläche des Kunststoffsubstrates gebildet ist, kann er darauf auch teilweise angeordnet werden.
Zusätzlich dient der Aufzeichnungsfilm als nicht nur das magnetooptische Medium, sondern auch als ein Medium des Typs für lediglich Lesen, Einmalschreiben, Phasenübergang oder des photochromen Typs.
Der Schutzfilm wird auf dem Aufzeichnungsfilm durch Spinbzw. Schleuderbeschichten, Rollbeschichten oder andere Beschichtungsmethoden gebildet. Der Schutzfilm schützt hauptsächlich den Aufzeichnungsfilm, der aus Acryl-Urethan-UV- härtbarem Harz&sub1; Polyvinyliden-Chloridharz, Polytrifluoridethylen-Chloridharz oder dergl. gebildet sein kann. Der Film wird durch Beschichten von diesen gebildet. Seine Filmdicke beträgt gewöhnlich 2 bis 20 um.
Zusätzlich wird der Feuchtigkeitswiderstandsfilm bedarfsweise auf der gesamten Oberfläche des Kunststoffsubstrates, auf die der optsche Strahl einwirkt, durch Spin- bzw. Schleuderbeschichten, Rollbeschichten, Dampfabscheidung, Sputtern oder dergl. gebildet. Der Feuchtigkeitswiderstandsfilm kann aus einem anorganischen Material, wie beispielsweise AlN, SiN, ZnS, Al&sub2;O&sub3;, SiO&sub2;, SiAlON oder einem organischen Material, wie beispielsweise Polyvinyliden-Chloridharz oder Polytrifluoridethylen-Chloridharz gebildet sein. Unter diesen ist insbesondere AlN vorteilhaft. Die Dicke von diesem Film ändert sich mit dem Material. Im allgemeinen reicht die Dicke des aus dem anorganischen Material gebildeten Filmes von 1 bis 300 nm, vorzugsweise von 1 bis 200 nm. Alternativ reicht die Dicke des aus dem organischen Material gebildeten Filmes von 2 bis 20 um, vorzugsweise 2 bis 15 um. Beispielsweise reicht sie in dem Fall von AlN vorzugsweise von 1 bis 20 nm. Bei dem obigen Bereich der Filmdicke kann eine transiente bzw. kurzzeitige Formänderung aufgrund einer Veränderung in der Feuchtigkeit verhindert werden, und auch ein Interferenzband der optischen Platte kann vermieden werden.
Zusätzlich ist der antistatische Harzfilm, der mit einem elektrisch leitenden Füllstoff gemischt ist, auf der anderen Oberfläche des Substrates oder dem Feuchtigkeitswiderstandsfilm, der bedarfsweise auf der anderen Oberfläche ausgeführt ist, auf die der optische Strahl einwirkt, gebildet. Der antistatische Harzfilm, der mit einem elektrisch leitenden Füllstoff gemischt ist, kann durch Mischen eines Kunstharzes oder dessen Rohmaterial mit dem transparenten, elektrisch leitenden Füllstoff in einem vorbestimmten Verhältnis und, bei Bedarf, durch Zusetzen eines anorganischen Füllstoffes in geringer Menge zur Verbesserung der Härte und durch Beschichten von diesen auf das Substrat erzeugt werden. Als das Kunstharz sind beispielsweise ein Acryl-Urethan-UV-härtbares Harz, Acryl-UV-härtbares Harz oder dergl. geeignet.
Der Film wird durch Beschichten auf dem Substrat durch beispielsweise Spin- bzw. Schleuderbeschichten, Härten mittels UV-Einstrahlung, Erwärmen und Abkühlen gebildet. Das Verfahren zum Erzeugen des Filmes kann gemäß dem verwendeten Kunstharz verändert werden. In einem Fall, in welchem die U-förmige Rille in dem Substrat vorgesehen ist, wird ein flüssiges Kunstharz auf die Außenumfangsfläche der Rille auf der Substratoberfläche durch Rotation beschichtet, dann auf die Innenumfangsfläche der Rille auf der Substratoberfläche durch weitere Rotation beschichtet, und schließlich wird die Rille aufgefüllt, um nahezu eben zu sein. Es ist vorzuziehen, daß die Drehzahl, während das flüssige Kunstharz auf die Außenumfangsfläche geschichtet wird, nahezu 2000 bis 4000 U/min beträgt, während die Drehzahl bei Beschichten der Innenumfangsfläche ungefähr 300 bis 800 U/min mißt und die Drehzahl bei Auffüllen der Rille etwa 20 bis 80 U/min ist. Zu dieser Zeit hat die Drehzahl während des Beschichtens auf den Innenumfang niedriger zu sein als diejenige während des Beschichtens auf den Außenumfang. Falls die Drehzahl während des Beschichtens auf den Innenumfang höher als diejenige während des Beschichtens auf den Außenumfang ist, fließt das flüssige Kunstharz für den Innenumfang über den Außenumfang jenseits der Rille, was einen schlechten Einfluß auf die Gleichmäßigkeit der Dikke des antistatischen Filmes ausübt.
Die Filmdicke beträgt vorzugsweise 1 bis 20 um. Der antistatische Harzfilm enthält einen transparenten, elektrisch leitenden Füllstoff und verhindert, daß Staub auf der Oberfläche der optischen Platte angebracht ist, und vermeidet auch das Auftre-en einer Beschädigung, und es wird bevorzugt, daß dessen Filmoberfläche eine hohe Härte und einen relativ niedrigen Oberflächenwiderstand hat. Die Härte ist vorzugsweise HB oder mehr in Bleistifthärte. Zusätzlich beträgt der Oberflächenwiderstand vorzugsweise ungefähr 10¹³ Ω/ oder weniger.
Der transparente, elektrisch leitende Füllstoff umfaßt vorzugsweise mit Phosphor dotiertes Zinnoxid, da Lichtübertragungselgenschaften und Stabilität gleichzeitig gewährleistet werden können. Zusätzlich wird ein Dotieren von Phosphor, wie beispielsweise Phosphorsäure oder Natriumphosphat, zu dem Zinnoxid durch Mitfällung und Sintern aus der flüssigen Phase durchgeführt. Die Dotiermenge in das Zinnoxid beträgt vorzugsweise 3 bis 7 Gew.-% der Gesamtmenge des elektrisch leitenden Füllstoffes. Falls die Dotiermenge kleiner als 3 Gew.- % ist, wird die elektrische Leitfähigkeit gering, und die Stabilität hiervon wird ebenfalls schwach. Es ist vorzuziehen, daß der Inhalt des elektrisch leitenden Füllstoffes in dem antistatischen Film etwa 25 bis 45 Gew.-% beträgt und der mittlere Teilchendurchmesser des Füllstoffes 0,15 um oder weniger izt, Falls der Inhalt des Füllstoffes weniger als 25 Gew.-% ist, überschreitet der Oberflächenwiderstand 10¹³ Ω/ , so daß ein ausreichendes antistatisches Verhalten nicht erzielt werden kann. Wenn der Inhalt des Füllstoffes 45 Gew.-% überschreitet oder der mittlere Teilchendurchmesser größer als 0,15 um ist, nimmt die Oberflächenrauhigkeit des Filmes zu, und sodann werden die Lichtübertragungseigenschaften ebenfalls niedrig.
Obwohl die optische Platte gemäß der vorliegenden Erfindung insbesondere eine magnetooptische Platte ist, kann sie eine Kompaktplatte, eine Platte des Einmalschreibtyps und eine Platte des photochromen Typs unter Verwendung eines photochromen Materials als dem Aufzeichnungsfilm sein.

BEISPIEL

Beispiel 1

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anhand der Fig. 1 und 2 beschrieben.
Ein Bezugszeichen 1 bezeichnet ein aus Polycarbonat gebildetes Substrat, ein Bezugszeichen 2a bezeichnet einen äußeren Umfangsteil eines antistatischen Filmes, ein Bezugszeichen 2b bezeichnet einen inneren Umfangsteil des antistatischen Filmes, ein Bezugszeichen 2c bezeichnet den auf der Rille gebildeten antistatischen Film, ein Bezugszeichen 3 bezeichnet einen Justierteil, ein Bezugszeichen 4 bezeichnet einen anderen antistatischen Film, ein Bezugszeichen 5 bezeichnet eine Haftschicht, ein Bezugszeichen 6 bezeichnet eine kleine Rille, die durch eine Verbindung auf der anderen Oberfläche des Polycarbonatsubstrates erzeugt ist, ein Bezugszeichen 7 bezeichnet eine U-förmige Rille auf einer Oberfläche des Polycarbonatsubstrates gemäß der vorliegenden Erfindung, und ein Bezugszeichen 8 bezeichnet einen Kamm bzw. eine Erhöhung, der bzw. die durch die Verbindung auf einer Oberfläche des Polycarbonatsubstrates erzeugt ist.
Wie in Fig. 1 gezeigt ist, sind die antistatischen Schichten 2a bis 2c auf einer Oberfläche des Polycarbonatsubstrates 1 gebildet, auf welche ein Laserstrahl, der zum Aufzeichnen, Wiedergeben und Löschen verwendet ist, einwirkt, und eine (nicht gezeigte) Aufzeichnungsschicht ist auf der anderen Seite des Substrates gebildet. Die kleine Rille 6 und die U- förmige Rille 7 sind auf der Rückseite bzw. auf der Vorderseite des Polycarbonatsubstrates 1 an einer Stelle entsprechend der Verbindung zwischen Teilen der Form gebildet, die zur Injektion bzw. zum Einspritzen des Polycarbonatsubstrates 1 verwendet ist. Eine Breite einer Öffnung der Rille 7 beträgt ungefähr 2 mm, eine Breite bzw. Weite eines Bodens hiervon beträgt etwa 1 mm, und eine Tiefe hiervon ist etwa 0,1 bis 0,2 mm. Zusätzlich ist der kleine Kamm bzw. die kleine Erhebung 8 durch die Verbindung im Boden hiervon gebildet, wie dies in Fig. 2 gezeigt ist.
Schritte zum Herstellen der antistatischen Schichten 2a bis 2c werden im folgenden beschrieben. Zunächst wird ein antistatisches Mittel außerhalb der Rille 7 durch Schleudern aufgetragen, um die antistatische Schicht 2a zu bilden. Die Drehzahl kann hoch eingestellt werden, beispielsweise auf 3000 U/min, um die dünne und gleichmäßige antistatische Schicht 2a zu bilden. Zusätzlich wird ein Gemisch aus UV- härtbarem Harz und einem Füllstoff von mit Phosphor dotiertem Zinnoxid als das antistatische Mittel verwendet.
Dann wird das antistatische Mittel innerhalb der Rille 7 durch Schleudern beschichtet, um die antistatische Schicht 2b zu bilden. Da es wichtig ist, daß die antistatische Schicht 2b nicht über die große Rille 7 überfließt, sondern daß diese vielmehr gleichmäßig gebildet wird, wird die Drehzahl zu dieser Zeit niedrig eingestellt, auf beispielsweise 500 U/min.
Schließlich wird das antistatische Mittel in die Rille 7 mit beträchtlich hoher Geschwindigkeit geschichtet, d.h. einigen zehn U/min, um die antistatische Schicht 2c zu bilden, wodurch die antistatische Schicht 2a und die antistatische Schicht 2b eben gemacht werden, indem die antistatische Schicht 2c auf die Rille 7 geschichtet wird, und dann sind sie elektrisch leitend. Somit spielt die Rille 7 einen aktiven Teil als eine Sperre des antistatischen Fluidmittels.
In dem obigen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung muß die antistatische Schicht 2a geschichtet werden, bevor die anthstatische Schicht 2b geschichtet wird. Das heißt, wenn die antistatische Schicht 2b geschichtet wird, überfließt das antistatische Mittel teilweise über die große Rille 7. Wenn die antistatische Schicht 2a auf die überflossene Schicht geschichtet wird, ist die Filmdicke der antistatischen Schicht 2a nicht gleichmäßig, was eine Störung eines Servomechanismus verursacht.
Dann wird die Mittennabe 3 aus Polycarbonat mit der antistatischen Schicht 4 als dem gleichen Material wie die antistatischen Schichten 2a bis 2c bedeckt und mit der antistatischen Schicht 2b durch die elektrisch leitende Haftschicht 5 gebunden. Als die elektrisch leitende Haftschicht 5 kann ein elektrisch leitender Haftstoff, in welchem Zinnoxid mit dem UV-härtbaren Harz gemischt ist (ELCOM p3555, hergestellt durch CATALYSTS & CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD.), verwendet werden.
Da, wie oben beschrieben ist, der kleine Kamm 8 in der Rille 7 als das Ergebnis der Verbindung gebildet wird und die antistatischen Schichten 2a, 2b und 2c in dieser Reihenfolge gebildet werden, kann die antistatische Schicht 2a, auf die der optische Strahl für Aufzeichnen, Wiedergeben und Löschen einwirkt, gleichmäßig gebildet werden. Da weiterhin die antistatische Schicht 2b auf einer Referenzoberfläche gebildet wird, wenn die optische Platte auf einem Antriebsgerät angebracht ist, ist Staub nicht auf der Referenzoberfläche aufgetragen.
Wenn das antistatische Mittel mit Phosphor dotiert wird, wird die Transparenz der antistatischen Schichten verbessert, und der Oberflächenwiderstand der antistatischen Schicht wird klein (ungefähr 10¹&sup0; Ω/ ). Wenn insbesondere das UV-härtbare Harz als das antistatische Mittel verwendet wird, ist dessen Transparenz von Bedeutung, und ein Dotieren von Phosphor ist wirksam.

Beispiel 2

Ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden anhand der Fig. 3 beschrieben. Teile mit den gleichen Funktionen wie in dem obigen Ausführungsbeispiel sind mit den gleichen Bezugszeichen wie oben versehen, und deren Beschreibung wird weggelassen. Ein Bezugszeichen 9 bezeichnet eine Erhebung bzw. einen Kamm.
Der U-förmige Kamm 9 ist auf der Oberfläche des Polycarbonatsubstrates 1 an einem Teil entsprechend der Verbindung der Form gebildet, wie dies in Fig. 3 gezeigt ist. Die Breite des Kammes beträgt ungefähr 1 mm, und die Höhe hiervon ist ungefähr 0,5 mm. Die antistatischen Schichten 2a, 2b und 2c sind auf den äußeren und den inneren Umfang und auf den Kamm 9 jeweils durch Schleudern geschichtet. Die Bedingungen des obigen Beschichtens sind die gleichen, wie diese in Beispiel 1 beschrieben sind.
Wie oben beschrieben ist, dient der Kamm 9 als eine Barriere, um zu verhindern, daß Fluid der antistatischen Schicht 2b zu der antistatischen Schicht 2a überfließt, wenn die antistatische Schicht 2b geschichtet wird. Ahnlich zu dem Beispiel 1 sind die antistatischen Schichten 2a und 2b elektrisch leitend durch die antistatische Schicht 2c.
Wenn der Oberflächenwiderstand der antistatischen Schichten 2a bis 2c gemäß der vorliegenden Erfindung ungefähr 10¹³ Ω/ beträgt, beeinträchtigt dies nicht deren antistatische Fähigkeit, selbst wenn die antistatische Schicht 2c nicht vorgesehen ist. Wenn jedoch der Oberflächenwiderstand in der Größenordnung von 10¹&sup0; Ω/ ist, wird deren antistatische Fähigkeit schwach, falls die antistatische Schicht 2c nicht vorhanden ist, um einen elektrisch leitenden Durchgang zu der Außenseite durch die Mittennabe 3 zu schaffen.
Um einen elektrisch leitenden Durchgang zu der Außenseite zu schaffen, ist eine Hülse zum Aufnehmen der optischen Platte aus elektrisch leitendem Polycarbonat gebildet, und die antistatischen Schichten 2a bis 2c sind auf der optischen Platte vorgesehen, wodurch die gesamte Oberfläche elektrisch leitend ist. Somit besteht hier keine Potentialdifferenz zwischen der optischen Platte und der Außenseite, wenn die Hülse getragen wird.
Obwohl die optische Platte gewöhnlich während einer Drehung durch die Antriebseinheit erdfrei ist bzw. "schwimmt", wird die Potentialdifferenz zwischen der optischen Platte und der Außenseite durch die Mittennabe 3 ausgeglichen.
Wenn weiterhin eine elektrisch leitende Bürste innerhalb der Hülse in Berührung mit der Oberfläche der optischen Platte während einer Drehung vorgesehen wird, wird der antistatische Effekt noch deutlicher.
Wenn zusätzlich die antistatische Schicht 2b durch die Bürste geschichtet oder durch einen Siebdruckprozeß auf dem Innenumfang gebildet wird, nachdem die antistatische Schicht 2a durch Schleudern gemäß den Beispielen 1 und 2 geschichtet wurde, können, obwohl Gleichmäßigkeit der antistatischen Schicht 2b nicht erzielt wird, ausreichende Eigenschaften als die antistatische Schicht gemäß der vorliegenden Erfindung erreicht werden.

Beispiel 3

Gemäß diesem Beispiel, das kein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist, wird ein elektrisch leitender Film anstelle der in den obigen Beispielen 1 und 2 verwendeten antistatischen Schicht benutzt. Fig. 4 und 5 zeigen ein Beispiel. Die gleichen Bezugszeichen wie oben sind hier nicht näher beschrieben. Ein Bezugszeichen 10 bezeichnet einen elektrisch leitenden Film, ein Bezugszeichen 11 bezeichnet eine elektrisch leitende Haftschicht, und ein Bezugszeichen 15 bezeichnet einen Teil entsprechend der Verbindung zwischen Teilen der Form. Wie in Fig. 4 gezeigt ist, kann anstelle der antistatischen Schicht 2b der elektrisch leitende Film 10 an einem Bereich innerhalb des kleinen Kammes 8 durch die elektrisch leitende Haftschicht 11 haften. Der elektrisch leitende Film 10 wird durch ein ITO (Oxid von Indlum und Zinn, dessen Dicke etwa 0,07 um beträgt) auf einem Polyesterfilm (dessen Dicke etwa 50 um ist) gebildet. Für die elektrisch leitende Haftschicht 11 wird ein elektrisch leitender Haftstoff, der der gleiche wie der in dem Beispiel 1 verwendete elektrisch leitende Haftstoff ist, in welchem Zinnoxid mit UV-härtbarem Harz gemischt ist (ELCOM p3555, hergestellt durch CATALYSTS & CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD.), verwendet.
Die Mittennabe 3 an dem inneren Umfang der optischen Platte gemäß den Beispielen 1 bis 3 kann durch Injizieren bzw. Einspritzen von Harz, in welchem ein kationisches antistatisches Mittel in Polycarbonat gemischt ist, gebildet werden. Wenn in diesem Fall der Kamm auf einer Haftoberfläche der Mittennabe 3 vorgesehen ist und die Mittennabe 3 mit der optischen Platte durch eine Ultraschallwelle verschweißt ist, kann die elektrisch leitende Haftschicht 5 weggelassen werden.
Da der In Fig. 4 gezeigte kleine Kamm 8 so klein ist, kann der Teil 15 entsprechend der Verbindung nahezu eben gemacht werden, indem dieser nur mit Aluminiumoxid von 0,5 um einige mal gerieben wird, wie dies in Fig. 5 gezeigt ist. Dann wird das antistatische Mittel von dem inneren Umfang durch Schleudem aufgetragen. Somit wird die gleichmäßige antistatische Schicht gebildet.
Wie oben beschrieben ist, wird gemäß der optischen Patte eine Rille oder ein Kamm an einer Stelle auf einem Kunststoffsubstrat entsprechend der Verbindung gebildet, um einen aktiven Teil als eine Barriere bzw. Sperre eines flüssigen Fluidmaterials zu übernehmen, das auf das Kunststoffsubstrat geschichtet ist.
Da weiterhin die Oberfläche des Kunststoffsubstrates in einen äußeren und einen inneren Umfangsbereich durch die Rille oder den Kamm getrennt ist, kann das flüssige Material auf jeden Bereich geschichtet werden, ohne durch die Verbindung zwischen Teilen der Einspritzform beeinträchtigt zu sein. Da zusätzlich die Rille einen aktiven Teil als eine Barriere oder Sperre des flüssigen Fluidmaterials spielt, wenn das flüssige Material auf den inneren Umfangsbereich durch beispielsweise Spin- bzw. Schleuderbeschichten geschichtet wird, wird verhindert, daß das auf den inneren Umfangsbereich geschichtete flüssige Material zu dem äußeren Umfangsbereich überfließt.
Weiterhin wird verhindert, daß Staub an der Oberfläche des Positionier- bzw. Justierteiles angebracht ist, wodurch die Aufzeichnungs- und Wiedergabezuverlässigkeit der optischen Platte verbessert werden kann. Außerdem kann die Transparenz der antistatischen Schicht durch Dotieren des Zinnoxid-Füllstoffes mit Phosphor verbessert werden.

Claims

11. Optische Speicherplatte mit einem lichtdurchlässigen plattenförmigen Substrat (1) eines Injektionsform-Kunststoffmaterials einem Aufzeichnungsfilm, der auf einer Oberfläche des Substrates gebildet ist, und einem antistatischen Film (2), der auf der anderen Oberfläche des Substrates gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die andere Oberfläche eine Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) umfaßt, die bewußt auf dem Substrat an der Stelle einer Verbindung zwischen verschiedenen Teilen der Form gebildet ist. wo eine defekte Erhöhung (8) sonst in der anderen Oberfläche gebildet wird, wobei der antistatische Film erste und zweite Teile (2a, 2b) aufweist, die getrennt auf jeweiligen Teilen der anderen Oberfläche geschichtet sind, radial nach außen und innen von der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) gelegen, und wobei die antistatischen Filmteile wenigstens einen vorbestimmten Oberflächenwiderstand für die Platte haben, um eine wirksame antistatische Fähigkeit zu zeigen.

2. Optische Platte nach Anspruch 1, bei der die ersten und zweiten Teile (2a, 2b) des antistatischen Filmes sich hinauf bis zu der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) erstrecken und bei der ein dritter Teil (2c) des antistatischen Filmes getrennt in der Rille (7) oder auf der Erhöhung (9) ausgebildet und in Berührung mit dem radial inneren Rand des ersten Teiles (2a) und mit dem radial äußeren Rand des zweiten Teiles (2b) ist.

3. Optische Speicherpiatte mit einem lichtdurchlässigen plattenförmigen Substrat (1) aus Injektionsform-Kunststoffmaterial, einem Aufzeichnungsfilm, der auf einer Oberfläche des Substrates gebildet ist, und einem antistatischen Film (2), der auf der anderen Oberfläche des Substrates gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die andere Oberfläche eine Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9), die bewußt auf dem Substrat an der Stelle einer Verbindung zwischen verschiedenen Teilen der Form gebildet Ist, wo eine defekte Erhöhung (8) sonst in der anderen Oberfläche gebildet wird, wobei der antistatische Film erste und zweite Teile (2a, 2b) aufweist, die getrennt auf jeweiligen Teilen der anderen Oberfläche geschichtet sind, radial nach außen und innen von der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) gelegen, und wobei ein dritter Teil (2c) des antistatischen Filmes getrennt in der Rille (7) oder auf der Erhöhung (9) gebildet und in Berührung mit dem radial inneren Rand des ersten Teiles (2a) und mit dem radial äußeren Rand des zweiten Teiles (2b) ist.

14. Optische Platte nach einem der Anspruche 1 bis 3, weiterhin mit einer zentralen Nabe (3), die an dem zweiten Teil (2b) des antistatischen Filmes auf dem radial inneren Teil der anderen Oberfläche haftet.

5. Optische Platte nach Anspruch 4, bei der die zentrale Nabe (3) ebenfalls mit einem antistatischen Film (4) beschichtet und mit dem zweiten Teil (2b) des zuerst erwähnten antistatischen Filmes verbunden ist.

6. Optische Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der der antistatische Film (2, 4) aus einem Kunstharz gebildet ist, dem mit Phosphor dotiertes Zlnnoxid als ein elektrisch leitender Füllstoff beigefügt ist.

7. Optische Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der eine Öffnungsbreite der Umfangsrille (7) 1,5 bis 2,5 mm beträgt, eine Bodenbrelte hiervon durch 0,7 bis 1,3 mm gegeben ist und eine Tiefe hiervon 0,1 bis 0,2 mm hat.

8. Optische Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der eine Bodenbreite der Umfangsrille (9) 1,5 bis 2 mm ist, eine Oberseitenbreite hiervon 0,7 bis 1,3 mm beträgt und eine Höhe hiervon 0,3 bis 0,7 mm hat.

9. Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte unter Verwendung eines lichtdurchlässigen plattenförmigen Substrates (1) eines Injektionsform- Kunststoffmaterials, wobei das Verfahren ein Erzeugen eines Aufzelchnungsfilmes auf einer Oberfläche des Substrates und ein Erzeugen eines antistatischen Filmes (2) auf der anderen Oberfläche umfaßt, die andere Oberfläche eine Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) hat, die bewußt auf dem Substrat an der Stelle einer Verbindung zwischen verschiedenen Teilen der Form gebildet ist, wo sonst eine defekte Erhöhung (8) in der anderen Oberfläche gebildet wird, wobei die Erzeugung des antistatischen Filmes ein getrenntes Beschichten eines flüssigen Kunstharzes auf jeweilige Teile der anderen Oberfläche, radial nach außen und innen von der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) gelegen, durch einen Prozeß umfaßt, der die Rille oder Erhöhung als eine Sperre für das Streuen des flüssigen Kunstharzes ausnutzt, um jeweilige antistatische Fumteile (2a, 2b) zu bilden, die jeweils wenigstens einen vorbestimmten Oberflächenwiderstand haben.

10. Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte unter Verwendung eines lichtdurchlässigen plattenförmigen Substrates (1) eines Injektionsform-Kunststoffmaterials, wobei das Verfahren ein Erzeugen eines Aufzeichnungsfilmes auf einer Oberfläche des Substrates und ein Erzeugen eines antistatischen Filmes (2) auf der anderen Oberfläche umfaßt, die andere Oberfläche eine Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) aufweist, die bewußt auf dem Substrat an der Stelle einer Verbindung zwischen verschiedenen Teilen der Form gebildet ist, wo eine defekte Erhöhung (8) sonst In der anderen Oberfläche gebildet wird, wobei die Erzeugung des antistatischen Filmes ein getrenntes Beschichten des flüssigen Kunstharzes (2a, 2b) auf jeweilige Teile der anderen Oberfläche, radial nach außen und innen von der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) gelegen, durch einen Prozeß umfaßt, der die Rille oder Erhöhung als eine Sperre für das Streuen des flüssigen Harzes verwendet, und auch ein Beschichten mit einem flüssigen Kunstharz (2c) aufweist, um die Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) zu bedekken.

11. Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte nach Anspruch 9 oder Anspruch 10, bei dem der Prozeß Beschichten des flüssigen Kunstharzes (2a, 2b) auf den Teil der anderen Oberfläche, der radlal außerhalb der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) ist, durch Drehung des Substrates und dann ein Beschichten des flüssigen Kunstharz (2b) auf den Teil der anderen Oberfläche, der radlal nach Innen von der Umfangsrille (7) oder -erhöhung (9) durch Drehung umfaßt, wobei die Drehzahl während des Beschichtens auf dem inneren Teil niedriger als die diejenige während des Deschichtens auf dem äußeren Teil ist.

12. Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte nach einem der Ansprüche 9 bis 11, bei dem die Drehzahl während des Beschichtens auf den inneren Teil 300 bis 800 U/min und die Drehzahl während des Beschichtens auf den äußeren Teil 2000 bis 4000 U/min betragen.