KR100261649B1 - 광학디스크와 그의 제조방법 - Google Patents

Abstract

광학디스크는 광전송특성을 가지는 디스크형상 프라스틱기판의 한 표면상에 형성되는 기록막과, 그리고 반경이 사출성형의 결합위치와 센터사이의 거리인, 표면상의 전원주에 홈과 리지가 형성되고, 그리고 프라스틱기판이 사출성형으로 만들어지는데 광학빔이 적용되는 기판의 다른표면상에 형성되는 정전기 방지막과, 그리고 그의 제조방법을 포함한다.

Description

광학 디스크와 그의 제조방법

제1도는 본 발명에 따른 광 디스크의 요부를 나타낸 종단면도.

제2도는 제1도에 도시된 광 디스크의 일부를 나타낸 확대 종단면도.

제3도는 본 발명에 따른 또 다른 광 디스크의 요부를 나타낸 종단면도.

제4도는 본 발명에 따른 또 다른 광 디스크의 요부를 나타낸 종단면도.

제5도는 본 발명에 따른 또 다른 광 디스크의 요부를 나타낸 종단면도.

제6도는 종래의 광 디스크를 나타낸 개략적 종단면도.

제7도는 종래의 광 디스크의 요부를 나타낸 종단면도.

＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명＞

1 : 폴리카보네이트 기판 2a~2c : 대전방지층

3 : 센터 허브 5 : 도전성 접착층

6,7 : 홈 8 : 환형 돌기

10 : 도전성 필름

본 발명은 레이저빔을 사용하여 정보를 기록, 재생, 소거하는 광 메모리소자와 그의 제조방법에 관한 것으로, 특히, 대전방지 특성을 갖는 광 디스크와 그의 제조방법에 관한 것이다.

근래, 고기록밀도 및 대용량의 광 메모리소자에 대한 많은 연구와 개발이 이루어지고 있다. 광 메모리소자의 기판으로서 유리와 투명수지와 적합하고, 특히, 상기 수지들 중에서도 폴리카보네이트가 우수한 생산성과 내흡습성을 가지므로 더욱 적합하다.

그러나, 상기 폴리카보네이트 기판은 그 자체의 10¹⁶Ω/�에 이르는 높은 표면저항에 의해 하전되기 쉽기 때문에, 그 표면에 먼지가 쉽게 부착된다. 광 디스크 메모리에 있어서, 빔은 유리 또는 투명수지로 만들어진 대략 1.2mm 두께의 투명기판을 통과하여 μm의 차수로 기록막 상에 집광된다. 따라서, 집광된 빔은 투명기판 상의 먼지에 의해 영향을 받지 않는 것으로 일반적으로 생각되었다. 그러나, 실제로는, 이 먼지들은 상기한 바와 같이 콤팩트 디스크의 재생에는 거의 영향을 미치지 않지만, 광자기 디스크의 기록과 소거에는 상당한 영향을 미친다. 이것은 재생에 비해 기록과 소거에는 다량의 에너지가 소모되는데, 먼지들은 기판의 표면 상에서 빔을 산란시켜, 에너지 파워의 부족으로 인해 기록 또는/및 소거 오류를 유발하기 때문이다.

상기한 빔의 산란을 방지하기 위해, 제 6도에 도시한 것 같이, 아크릴 수지층에 도전층 충전제(filler)로서 금속 산화물이 분산된 대전방지층(42)으로 피복된 광 디스크가 제안되었다(참조: 일본국 특허공개 158643 /1989). 더구나, 폴리카보네이트 기판(41)의 이면에는 기록층(44)이 형성된다.

그러나, 제 6도는 단지 광 디스크를 나타낸 개략도로서, 실제로는, 폴리카보네이트 기판(41)의 양 표면은 제 7도에 도시된 것 같이 균일하지 않다. 즉, 주입성형장치용 몰드의 부품 사이의 접합부에 있는 간극 또는 융기부에 대응하여 환형 돌기(48)와 홈(46)이 폴리카보네이트 기판(41)의 표면 및 이면의 내주부에 각각 형성된다. 더구나, 상기 돌기(48)의 높이 및 홈(46)의 깊이는 원주방향으로 균일하지 않다. 센터허브(center hub)라 불리는 센터링(centering)(45)이 광 디스크의 내부 구멍(43) 위에 접착된다. 상기 돌기(48)와 홈(46)은 센터링 부재(45)의 외주부 근처에 형성된다.

대전방지층은 폴리카보네이트 기판(41)의 표면에 스핀코팅된다. 상기 대전방지층의 밀도는 돌기(48)의 높이 또는 홈(46)의 깊이 분포에 대응하여 원주방향으로 변화한다. 그 결과, 대전방지층이 원주방향으로 그 두께가 변화하여, 집광된 광 빔의 오프셋을 편이시킴으로써, 기록, 재생 및 소거의 서보(servo) 신호를 교란시키고, 광 빔의 파워를 감소시킨다.

대전방지층의 막 두께의 넓은 분포를 방지하기 위해 제 7도에 도시한 것 같이 대전방지층(49)을 돌기(48)의 외부에 형성하면, 먼지는 대전방지층(49)이 존재하지 않는 노출부에 모아지게 된다. 상기 노출부(47)는 광 디스크가 드라이브 장치에 장착될 때 기준면을 제공하는 역할을 하는데, 먼지가 상기 노출부(47)에 존재하면, 이러한 기준면이 제공될 수가 없거나, 폴리카보네이트 기판(41)이 손상된다.

더구나, 상기 센터링 부재(45)와 폴리카보네이트 기판(41)은 그들의 접착상태가 열에 의해 서로 다른 팽창 또는 수축을 겪지 않도록 동일한 재료로 형성된다. 즉, 상기 센터링 부재(45)도 마찬가지로 폴리카보네이트로 이루어진다. 종래에는 대전방지 조치가 취해지지 않았기 때문에, 먼지가 상기 센터링 부재(45)에도 부착된다. 그 결과, 먼지는 디스크 진동 등에 의해 센터링 부재(45)로부터의 박리에 의해 광 디스크의 표면에 쌓여, 서보 신호를 교란시키고, 광 빔의 파워를 약화시킨다.

본 발명은, 투과성을 갖는 디스크 형태의 플라스틱 기판의 일면에 형성된 광자기 기록막 및 보호막과, 광 빔이 조사되는 타면에 형성된 대전방지막을 구비한 광 디스크와 그의 제조방법을 제공한다.

상기 플라스틱 기판은 사출성형에 의해 형성되고, 사출성형 몰드의 중심과 접합부 위치 사이의 거리와 동일한 반경을 갖는 전체 주면에 홈과 돌기는 형성된다.

상기 대전방지막은 인으로 도핑된 산화주석이 도전성 충전제로서 첨가된 합성수지로 형성되는 것이 바람직하다.

또한, U자 형태의 홈을 갖는 광 디스크 제조방법에 따르면, 액상 합성수지가 회전에 의해 기판 표면의 홈의 외주부에 코팅된 후, 부가적인 회전에 의해 홈의 내주부에 코팅되는데, 이때, 상기 외주부 코팅 중의 회전속도는 내주부 코팅 중의 회전속도보다 높다.

본 발명에 따른 광 디스크는 공지된 광자기 디스크, 콤팩트 디스크, 1회 기록형 디스크 및 포토크로매틱(phochromatic)형 디스크 중 어느 한가지이다.

이하, 광 디스크 상에 형성된 기록막, 보호막, 습기 투과를 방지하기 위한 습기방지막과 대전방지막에 대해 설명한다.

본 발명에 따른 투광성을 갖는 플라스틱 기판은 통상적인 사출성형을 사용하여 형성된다. 기판의 재질은 투과성을 갖고 잘 변형되지 않는 플라스틱이 적합하다. 일반적으로, 폴리카보네이트가 적합하다. 아크릴 수지나 에폭시 수지와 같은 다른 재료도 기판으로 적당하다. 상기 기판의 두께는 일반적으로 1.15~1.25mm이다.

상기 플라스틱 기판은 사출성형으로 형성되므로, 몰드 부품 사이에 접합부가 발생된다. 상기 접합부의 위치는 몰드의 설계에 따라 변하지만, 보통 기판 반지름의 1/10과 4/5 사이에 위치한다. 상기 접합부의 위치에 대응하는 전체 주면에 U자 형태의 홈 또는 돌기는 형성된다. 상기 홈과 돌기는 소정의 위치에 홈과 돌기를 사전에 설치한 몰드를 사용하여 형성하거나, 사출성형 후에 플라스틱 기판의 접합부 위에 형성할 수 있다. 홈의 경우에, 접합부는 홈의 중간에 위치한다. 바람직한 홈의 단면 치수는 다음과 같다: 즉, 개구의 폭은 약 1.5~2.5mm, 기저부의 폭은 약 0.7~1.3mm이고 깊이는 약 0.1~0.2mm이다. 한편, 바람직한 돌기의 단면 치수는 다음과 같다: 즉, 기저부의 폭은 약 1.5~2.0mm, 선단 폭은 약 0.7~1.3mm, 높이는 약 0.3~0.7mm이다.

상기 기록막은 스핀 코팅, 로울 코팅, 스퍼터링 또는 여타의 코팅방법을 사용하여 상기 플라스틱 기판의 일면에 형성된다. 상기 기록막의 구조는 종래기술에서 이미 알려져 있다. 일반적으로, AlN/GdTbFe/AlN/Al 또는 AlN/DyFeCo/AlN/Al과 같은 4층 구조 또는 SiN/TbFeCo/SiN 또는 SiAlON/TbFeCo/SiAlON과 같은 3층 구조가 존재한다. 그것의 막 두께는 일반적으로 150~300nm이다. 상기 기록막은 플라스틱 기판의 전체 표면에 형성되지만, 부분적으로 형성될 수도 있다.

또한, 상기 기록막은 광자기 매체로서 뿐만 아니라, 판독 전용, 1회 기록용, 상전이 또는 포토크로매틱 매체로서의 역할을 수행한다.

상기 보호막은 스핀 코팅, 로울 코팅 또는 기타 코팅방법을 사용하여 기록막 위에 형성된다. 보호막은 주로 기록막을 보호하는데, 이 보호막은 아크릴 우레탄 UV 경화수지, 폴리비닐리덴 클로라이드 수지, 폴리-트리플루오라이드 에틸렌 클로라이드 수지 등으로 형성된다. 이 보호막은 이들 수지를 코팅함으로써 형성된다. 그것의 막 두께는 보통 2~20μm이다.

더구나, 상기 습기 방지막은 스핀 코팅, 로울 코팅, 증착, 스퍼터링등을 사용하여 광 빔이 조사되는 플라스틱 기판의 타면에 선택적으로 형성된다. 상기 습기 방지막은 AlN, SiN, ZnS, Al₂O₃, SiO₂, SiAlON과 같은 무기 물질 또는 폴리비닐리덴 클로라이드 수지 또는 폴리트리플루오라이드 에틸렌클로라이드 수지와 같은 유기물질로 형성될 수 있다. 이들 중에서, AlN이 특히 바람직하다. 상기 막의 두께는 재질에 따라 변한다. 일반적으로, 무기물질로 형성된 막의 두께는 1~300nm의 범위를 갖고, 바람직하게는 1~200nm의 범위를 갖는다. 한편, 유기물질로 형성된 막의 두께는 2~20μm의 범위를 갖고, 바람직하게는 2~15μm의 범위를 갖는다. 예를 들면, AlN의 경우에, 막두께는 1~20nm의 범위를 갖는 것이 바람직하다. 상기한 막 두께의 범위 내에서는, 습도 변화에 따른 과도기적인 휘어짐 현상이 방지될 수 있고, 광 디스크의 간섭대역도 방지될 수 있다.

또한, 도전성 충전제와 혼합된 대전방지 수지막이 기판의 타면이나, 임의의 빔이 조사되는 타면에 선택적으로 형성된 습기 방지막 위에 형성된다. 도전성 충전제와 혼합된 상기 대전방지 수지막은, 합성수지 또는 그것의 원료를 투명한 도전성 충전제의 소정 비율로 혼합하고, 필요한 경우에는, 경도를 증진시키기 위하여 무기 충전제를 소량 가하여, 기판 상에 그것을 코팅함으로써 형성될 수 있다. 합성수지로는, 예를 들어, 아크릴 우레탄 UV 경화수지, 아크릴 UV 경화수지 등이 적합하다.

상기 막은, 예를 들어, UV 광선 조사, 가열 및 냉각 등의 수단을 사용한 스핀 코팅, 경화에 의해 기판 위에 코팅함으로써 형성된다. 상기 막 형성 방법은 사용된 합성수지에 따라 변화될 수 있다. U자 형태의 홈이 기판에 설치되는 경우에는, 액상 합성수지가 회전에 의해 기판 표면 상에 있는 홈의 외주부에 코팅된 후, 부가적인 회전에 의해 기판 표면 상의 홈의 내주부에 피복된 다음, 최종적으로 상기 홈은 거의 평평하게 채워진다.

상기 액상 합성수지가 외주부에 코팅되는 동안의 회전속도는 약 2,000~4,000rpm이고, 내주부에 코팅되는 동안의 회전속도는 약 300~800rpm이며, 홈이 완전히 채워지는 동안의 회전속도는 약 20~80rpm이다. 이때, 내주부에 코팅하는 동안의 회전속도는 외주부에 코팅하는 동안의 회전속도보다 작아야 한다. 만일, 내주부에 코팅하는 동안의 회전속도가 외주부에 코팅하는 동안의 회전속도보다 크면, 내주부의 액상 합성수지는 홈을 넘어 외주부로 넘쳐흘러, 대전방지막 두께의 균일성에 악영향을 일으킬 수 있다.

상기 막 두께는 1~20㎛인 것이 바람직하다. 상기 대전방지 수지막은 투명한 도전성 충전제를 함유하여, 광 디스크의 표면에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 동시에, 손상이 일어나는 것을 방지하는데, 그것의 막 표면은 높은 경도와 비교적 낮은 표면저항을 갖는 것이 바람직하다. 바람직한 경도는 연필경도로 HB 또는 그 이상이다. 또한, 상기 표면저항은 약 10¹³Ω/� 또는 그 이하인 것이 바람직하다.

상기 투명 도전성 충전제는 인으로 도핑된 산화주석을 함유하는 것이 바람직한데, 이는 투광성과 안정성이 동시에 제공될 수 있기 때문이다. 또한, 산화주석에 대한 인산 또는 인산 나트륨과 같은 인의 도핑은 액상에서의 공침 및 소성에 의해 수행된다. 산화주석 내부에의 도핑량은 도전성 충전제 전체양의 3~7wt%인 것이 바람직하다. 도핑량이 3wt% 미만이면, 도전성이 떨어지고, 그것의 안정성은 나빠진다. 상기 대전방지막 내부의 도전성 충전제의 양은 약 25~45wt%인 것이 바람직하고, 그 충전제의 평균입경은 0.15μm 또는 그 이하인 것이 바람직하다. 만일, 상기 충전제의 양이 25wt% 이하이면, 표면저항은 10¹³Ω/�을 초과하여, 충분한 대전방지 성능을 얻을 수 없다. 만일, 충전제의 양이 45wt%을 초과하거나, 평균입경이 0.15μm보다 크면, 막의 표면거칠기가 증가하고 투광성이 떨어진다.

본 발명에 따른 광 디스크의 대표적인 예는 광자기 디스크이지만, 콤팩트 디스크, 1회 기록형 디스크 및 기록막으로서 포토크로매틱 물질을 사용한 포토크로매틱 디스크가 사용될 수 있다.

[실시예]

[제 1 실시예]

이하, 본 발명의 실시예를 제 1도와 제 2도를 참조하여 설명한다.

도면부호 1은 폴리카보네이트로 이루어진 기판을 나타내고, 도면부호 2a는 대전방지막의 외주부 부분을 나타내며, 도면부호 2b는 대전방지막의 내주부 부분을 나타내고, 도면부호 2c는 홈에 형성된 대전방지막을 나타내며, 도면부호 3은 위치 지정부이고, 도면부호 4는 또 다른 대전방지막이며, 도면부호 5는 접착층이고, 도면부호 6은 폴리카보네이트 기판의 타면에 있는 접합부에 의해 발생된 작은 홈이고, 도면부호 7은 본 발명에 따라 폴리카보네이트 기판의 일면에 위치한 U자 형태의 홈이며, 도면부호 8은 폴리카보네이트 기판의 일면에 있는 접합부에 의해 생성된 돌기를 나타낸다.

제 1도에 도시한 것 같이, 대전방지층(2a~2c)이 기록, 재생 및 소거를 위해 사용되는 레이저빔이 조사되는 폴리카보네이트 기판(1)의 일면 상에 형성되고, 기록층(미도시)이 상기 기판의 타면에 형성된다. 작은 홈(6)과 U자 형태의 홈(7)은 폴리카보네이트 기판(1)의 사출성형에 사용된 몰드의 부품 사이의 접합부에 대응하는 위치에, 폴리카보네이트 기판(1)의 이면과 표면에 각각 형성된다. 상기 홈(7)의 개구 폭은 약 2mm이고, 그것의 기저부의 폭은 약 1mm이며, 깊이는 약 0.1~0.2mm이다. 또한, 작은 돌기(8)가 제 2도에 도시된 것과 같이 그것이 기저부에 있는 접합부에 의해 형성된다.

이하, 상기 대전방지층(2a~2c)을 형성하는 단계를 설명한다. 먼저, 홈(7)의 외부에 스피너에 의해 대전방지제를 가하여 대전방지층(2a)을 형성한다. 얇고 균일한 대전방지층(2a)을 형성하기 위해, 예를 들면 3000rpm으로 회전속도를 높게 설정한다. 또한, 상기 대전방지제로서는 UV 경화수지와, 인으로 도핑된 산화주석의 충전제의 혼합물이 사용된다.

그후, 상기 홈(7)의 내측에 스피너에 의해 대전방지제를 코팅하여 대전방지층(2b)을 형성한다. 상기 대전방지층(2b)은 균일하게 형성하는 것 보다는 큰 홈(7)을 넘어 넘쳐흐르지 않도록 하는 것이 중요하므로, 이때의 회전 속도는 예를 들어 500rpm으로 낮게 설정한다.

마지막으로, 상기 대전방지제는 비교적 낮은 속도로, 즉 수십 rpm으로 홈(7) 내부에 코팅되고, 이때, 홈(7) 위에 대전방지층(7c)이 코팅됨으로써 대전방지층(2a)과 대전방지층(2b)은 평탄화가 이루어져, 그것들은 통전된다. 이에 따라, 상기 홈(7)은 대전방지제 액체의 장벽으로서의 활성 부분을 갖는다.

상기한 본 발명의 실시예에 있어서, 상기 대전방지층(2a)은 대전방지층(2b)이 코팅되기 이전에 코팅되어야 한다. 즉, 대전방지층(2b)이 먼저 코팅되는 경우에는, 대전방지제는 종종 큰 홈(7)을 넘어 일부가 넘쳐흐른다. 상기 대전방지층(2a)이 넘쳐흐른 층 위에 코팅되는 경우에는, 대전방지층(2a)의 막 두께가 균일해지지 않아, 서보기구를 교란시킨다.

그후, 폴리카보네이트로 이루어진 센터 허브(3)는 상기 대전방지층(2a~2c)과 동일한 재질인 대전방지층(4)으로 덮히고, 도전성 접착층(5)을 개재하여 대전방지층(2b)에 접착된다. 상기 도전성 접착층(5)으로서, UV 경화수지에 산화주석이 혼합된 도전성 접착제(CATALYSTS ＆ CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD의 ELCOM p3555)를 사용한다.

상기한 것 같이, 작은 돌기(8)가 접합부에 의해 홈(7) 내부에 형성되고, 대전방지층(2a,2b,2c)이 이 순서로 형성되는 것에 의해, 기록, 재생 및 소거용 광 빔이 조사되는 대전방지층(2a)이 균일하게 형성될 수 있다. 더우기, 상기 광 디스크가 드라이브 장치에 부착될 때 정전기층(2b)이 기준면 위에 형성되므로, 먼지가 기준면 위에 부착되지 않는다.

대전방지제가 인으로 도핑되면, 대전방지층의 투명도가 향상되고, 대전방지층의 표면저항이 작아진다(약 10¹⁰Ω/�). 특히, 대전방지제로서 UV 경화수지가 사용되는 경우에는, 그것의 투명도가 중요한데, 인으로 도핑하는 것이 효과적이다.

[제 2 실시예]

이하, 본 발명의 또 다른 실시예를 제 3도를 참조하여 설명한다. 상기 실시예에서와 동일한 기능을 갖는 부분에는 상기한 것과 동일한 도면부호를 붙이고 그것에 대한 설명은 생략한다. 도면부호 9는 돌기를 나타낸다.

제 3도에 도시된 것 같이 몰드의 접합부에 대응하는 부분의 폴리카보네이트 기판(1)의 표면에 U자 형태의 돌기(9)가 형성된다. 상기 돌기의 폭은 약 1mm이고, 높이는 약 0.5mm이다. 대전방지층(2a,2b,2c)은 스피너를 사용하여 외주부와 내주부 및 돌기(9) 위에 각각 코팅된다. 상기 코팅 조건은 상기한 실시예 1에서 설명한 것과 동일하다.

상기한 것 같이, 돌기(9)는 대전방지층(2b)이 코팅될 때 대전방지층(2b)의 유동이 대전방지층(2a)을 향해 넘쳐흐르는 것을 방지하는 장벽으로서의 역할을 한다. 상기 실시예 1과 마찬가지로, 대전방지층(2a,2b)은 대전방지층(2c)을 통해 통전된다.

본 발명에 따른 대전방지층(2a~2c)의 표면저항이 약 10¹³Ω/�인 경우에는, 대전방지층(2c)이 설치되지 않더라도, 그것의 대전방지 기능에 영향을 미치지 않는다. 그러나, 표면저항이 10¹⁰Ω/�의 차수를 가질 때에는, 센터 허브(3)를 통해 외부로의 통전 통로를 제공하는 대전방지층(2c)이 설치되지 않으면, 그들의 대전방지 기능이 저하된다.

외부로의 통전 통로를 만들기 위해, 광 디스크를 수납하는 카드릿지를 도전성 폴리카보네이트로 형성하고, 대전방지층(2a~2c)을 광 디스크 위에 설치하여, 전체 표면이 도전성이 되도록 한다. 이에 따라, 카드릿지를 운반할때, 광 디스크와 외부와의 전위차가 없어진다.

광 디스크는 보통 드라이브 장치에 의해 회전하는 동안 부유하게 되는데, 광 디스크와 외부와의 전위차는 센터 허브(3)를 통해 해소된다.

더우기, 도전성 블러쉬가 광 디스크가 회전하는 동안 광 디스크의 표면과 접촉하도록 카드릿지 내부에 설치되는 경우에는, 대전방지 효과가 더욱 현저하게 된다.

또한, 상기 제 1 실시예 및 제 2 실시예에 따른 스핀닝에 의해 대전 방지층(2a)이 코팅된 후 대전방지층(2b)이 내주부에 블러쉬에 의해 코팅되거나 스크린 인쇄공정에 의해 형성되는 경우에는, 대전방지층(2b)의 균일성은 얻어지지 않지만, 본 발명에 따른 대전방지층으로서의 충분한 특성을 얻을 수 있다.

[제 3 실시예]

본 실시예에 따르면, 상기 제 1 실시예 및 제 2 실시예에서 사용된 대전방지층 대신에 도전성 필름을 사용한다. 제 4도와 제 5도는 이러한 실시예를 도시한 것이다. 상기한 것과 동일한 같은 도면부호에 대해서는 설명을 생략한다. 도면부호 10은 도전성 필름을 나타내고, 도면부호 11은 도전성 접착층을 나타내며, 도면부호 15는 몰드 부품 사이의 접합부에 대응하는 부분을 나타낸다. 제 4도에 도시한 것 같이, 상기 대전방지층(2b) 대신에 도전성 필름(10)이 도전성 접착층(11)을 개재하여 작은 돌기(8) 내부의 영역에 부착된다. 상기 도전성 필름(10)은 폴리에스터 필름(두께는 약 50μm) 위에 ITO(두께가 약 0.07μm인 인듐과 주석의 산화물)를 형성하여 얻어진다. 상기 도전성 접착층(11)으로서는, 산화주석이 UV 경화수지(CATALYSTS ＆ CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD의 ELCOM p3555)와 혼합된 상기 제 1 실시예에서 사용된 것과 도전성 접착제와 동일한 도전성 접착제가 사용된다.

상기 제 1 실시예 내지 제 3 실시예에 따른 광 디스크의 내주부에 위치한 센터 허브(3)는 폴리카보네이트 내부에 양이온성 대전방지제가 혼입된 수지를 사출성형함으로써 형성될 수 있다. 이때, 돌기가 센터 허브(3)의 접착면 상에 설치되고 센터 허브(3)가 초음파에 의해 광 디스크에 용착되는 경우에는, 상기 도전성 접착층(5)은 생략가능하다.

제 4도에 도시된 작은 돌기(8)가 크기가 작기 때문에, 접합부에 대응하는 부분(15)을 제 5도에 도시한 것과 같이 0.5μm의 알루미나로 수회 연마함으로써 거의 평탄하게 만들 수 있다. 그후, 대전방지제를 스피너를 사용하여 내주부로부터 가한다. 이에 따라, 균일한 대전방지층이 형성된다.

상기한 것 같이, 본 발명의 광 디스크에 따르면, 플라스틱 기판에 코팅된 액상 물질의 유동에 대한 장벽으로서의 활성 부분을 갖도록 접합부에 대응하는 플라스틱 기판 상의 위치에 홈이 형성된다.

이에 따라, 플라스틱 기판의 표면이 홈 또는 돌기에 의해 외주부와 내주부 영역으로 분리되므로, 사출성형용 몰드의 부품 사이의 접합부에 의해 영향을 받지 않으면서 액상 물질이 각 영역에 코팅될 수 있다. 더구나, 액상 물질이 예를 들어 스핀코팅에 의해 내주부 영역에 코팅될 때 상기 홈은 그 액상 물질의 유동에 대한 장벽으로서의 활성 부분을 가지므로, 내주부 영역에 코팅된 액상 물질은 외주부 영역으로 넘쳐흐르는 것을 방지한다.

더우기, 먼지가 위치지정 부품의 표면에 부착되는 것이 방지되므로, 광 디스크의 기록과 재생에 대한 신뢰성이 향상된다. 또한, 인으로 산화주석 충전제를 도핑함으로써 대전방지층의 투명도가 향상된다.

비록, 바람직한 실시예를 통해 본 발명을 상세히 설명하였으나, 본 발명이 속한 기술분야의 당업자에게 자명한 것 같이, 첨부된 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범주를 벗어나지 않으면서 다양한 변형 및 변화가 이루어질 수 있다.

Claims (6)

1. 투과성을 갖는 디스크 형태의 플라스틱 기판의 일면에 형성된 기록막과, 광 빔이 조사되는 상기 기판의 타면에 형성된 대전방지막을 구비한 광디스크에 있어서, 상기 플라스틱 기판은 사출성형으로 제조되고, 사출성형 몰드의 중심과 접합부 위치 사이의 거리와 동일한 반경을 갖는 상기 플라스틱 기판 표면 상의 전제 주면에 홈 또는 돌기가 형성된 것을 특징으로 하는 광 디스크.
2. 제1항에 있어서, 상기 대전방지막은 인으로 도핑된 산화주석이 도전성 충전제로서 첨가된 합성수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 광 디스크.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 홈의 개구 폭은 1.5~2.5mm이고, 그것의 기저부 폭은 0.7~1.3mm이며, 깊이는 0.1~0.2mm인 것을 특징으로 하는 광 디스크.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 돌기의 기저부 폭은 1.5~2.0mm이고, 그것의 선단 폭은 0.7~1.3mm이며, 높이는 0.3~0.7mm인 것을 특징으로 하는 광 디스크.
5. 투과성을 갖는 디스크 형태의 플라스틱 기판의 일면에 기록막이 형성되고, 광 빔이 조사되는 상기 기판의 타면에 도전성 충전제가 첨가된 액상 합성수지에 의해 대전방지막이 코팅형성된 광 디스크 제조방법에 있어서, 사출성형으로 플라스틱 기판을 형성하는 단계와, 사출성형 몰드의 중심과 접합부 위치 사이의 거리와 동일한 반경을 갖는 상기 플라스틱 기판 표면 상의 전체 주면에 U자 형태의 홈을 형성하는 단계와, 상기 기판 표면에 형성된 홈의 내주부 위에 코팅이 이루어지는 동안의 회전 속도를 외주부에 코팅이 이루어지는 동안의 회전속도보다 낮게 유지하면서, 액상 합성수지를 회전에 의해 상기 기판 표면의 홈의 외주부에 코팅한 후, 상기 액상 합성수지를 부가적인 회전에 의해 상기 기판 표면의 홈의 내주부에 코팅하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 광 디스크의 제조방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 내주부에 코팅이 이루어지는 동안의 회전속도는 300~800rpm이고, 외주부에 코팅이 이루어지는 동안의 회전속도는 2000~4000rpm인 것을 특징으로 하는 광 디스크의 제조방법.